KR20110015364A - 인쇄 방법과 그것에 이용하는 용제 흡수체 - Google Patents

Abstract

(과제) 용제를 흡수하는 능력이 우수하여, 상기 용제를 효율적으로 신속하게 게다가 다량으로 흡수할 수 있기 때문에 용제 흡수의 시간을 단축할 수 있고, 또한 교환이나 용제 제거의 조작을 빈번하게 행할 필요가 없는 용제 흡수체를 이용함으로써, 실리콘 블랭킷을 이용한 인쇄의 택트 타임을 단축시켜 제품의 생산성을 향상시킬 수 있는 신규 인쇄 방법과, 상기 인쇄 방법에 이용하는, 상기 각 특성이 우수한 신규 용제 흡수체를 제공한다.
(해결수단) 인쇄 방법은, 상기 용제 흡수체로서, 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시키는 면을, 실리콘 고무와, 상기 실리콘 고무 100 질량부당 10 질량부 이상, 200 질량부 이하의 실리콘 겔을 포함하는 조성물에 의해 형성한 것을 이용하여 용제를 흡수하는 공정을 포함한다. 용제 흡수체는, 기재의 적어도 한면에, 상기 조성물로 이루어진 흡수층을 포함한다.

Description

인쇄 방법과 그것에 이용하는 용제 흡수체{PRINTING METHOD AND SOLVENT ABSORBER USED THEREFOR}

본 발명은, 실리콘 블랭킷의 표면에 담지시킨 잉크를 피인쇄체의 표면에 전사하여 상기 표면에 상기 잉크로 이루어진 미리 정해진 패턴을 인쇄하기 위한 인쇄 방법과, 상기 인쇄 방법에 있어서, 상기 잉크 중에 포함되며, 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를 흡수하여 제거하기 위해 이용하는 용제 흡수체에 관한 것이다.

오프셋 인쇄 방법은, 잉크 패턴을 간편하게, 그리고 적은 공정수로 효율적으로 다량으로, 게다가 저렴하게 형성할 수 있는 이점을 갖고 있고, 또한 최근에 이르러 인쇄 정밀도의 향상이 도모되고 있기 때문에, 특히 일렉트로닉스 분야에서 이용이 확대되고 있다.

예를 들어 전기 배선의 패턴이나 형광체의 패턴, 또는 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)이나 액정 디스플레이 패널(LCD)의 구성 부품 등에서의 각종 패턴과 같은, 미세하고 정밀도가 높은 패턴의 형성이 요구되는 분야에서 상기 오프셋 인쇄 방법이 보급되어 오고 있다.

오프셋 인쇄 방법에서는, 판의 표면에 패턴 형성한 잉크를 블랭킷의 표면에 전사한 후, 피인쇄체로서의 기판의 표면에 재전사함으로써, 상기 기판의 표면에 미리 정해진 패턴이 인쇄된다.

블랭킷으로는, 적어도 그 표면을, 잉크에 대한 이형성이 우수한 실리콘 고무에 의해 형성된 실리콘 블랭킷이 널리 이용된다.

실리콘 블랭킷은 잉크와 반복하여 접촉하기 때문에, 인쇄를 반복하는 동안에 상기 잉크 중에 포함되는 용제가 함침되어 서서히 팽윤하고, 그에 따라 잉크에 대한 실리콘 블랭킷의 표면의 습윤성이 서서히 상승한다. 그 때문에, 인쇄 초기부터 장기간에 걸쳐 인쇄의 정밀도를 높은 레벨로 계속 유지하기는 어렵다.

실리콘 고무를 거의 팽윤시키지 않는 습윤성이 낮은 용제를 포함하는 잉크를 사용하면, 인쇄를 반복하더라도 상기 습윤성은 거의 변화하지 않기 때문에, 안정된 인쇄를 행할 수 있을 것처럼 생각된다. 그러나 습윤성이 낮은 용제를 포함하는 잉크는, 판의 표면으로부터 실리콘 블랭킷의 표면으로의 전사성이 낮기 때문에, 특히 세선의 패턴에서 단선이 생기기 쉽다.

단선은 가장 회피해야 할 불량이며, 그것을 방지하기 위해서는, 실리콘 블랭킷을 어느 정도는 팽윤시킬 수 있는 용제를 사용해야 한다. 그런데 상기 용제를 포함하는 잉크를 사용하여 인쇄를 반복하면 실리콘 블랭킷이 서서히 팽윤하여, 잉크에 대한 습윤성이 서서히 상승한다. 그리고 그에 따라 잉크가 쉽게 번지게 되어, 특히 세선의 패턴의 선폭이 서서히 넓어지거나, 판 표면의 미소한 오염을 전사하게 되거나, 실리콘 블랭킷으로부터 기판으로의 잉크의 전사성이 서서히 저하되거나 하여 인쇄의 정밀도가 서서히 저하된다.

예를 들어, 실리콘 블랭킷을 가열하여 팽윤된 용제를 제거하는 것을 생각할 수 있다. 그러나, 그것을 위해서는 실리콘 블랭킷을 대략 40∼200℃ 정도까지 가열해야 하고, 가열 직후의 표면 온도가 높은 실리콘 블랭킷을 판에 접촉시키면, 상기 판이 열팽창하여 인쇄의 정밀도가 저하된다는 문제가 있다.

실리콘 블랭킷의 표면에, 용제를 흡수하는 기능을 갖는 용제 흡수체를 접촉시켜 팽윤된 용제를 제거하는 것이 제안되어 있다(특허문헌 1 등 참조). 상기 용제 흡수체를 사용하면, 실리콘 블랭킷을 가열하지 않고 용제를 제거할 수 있기 때문에, 인쇄의 정밀도를 높은 레벨로 유지할 수 있다.

상기 용제 흡수체로는, 적어도 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시키는 면을 실리콘 고무에 의해 형성한 것 등이 이용된다. 구체적으로는, 예를 들어 필름형 또는 시트형의 기재(基材)와, 상기 기재의 적어도 한면에 형성한, 실리콘 고무로 이루어진 흡수층을 포함하는 벨트형의 것 등을 들 수 있다. 용제 흡수체에 의한 용제의 제거는, 1회 내지 수회의 인쇄마다 실시된다.

특허문헌 1 : 일본 특허 공개 2006-35769호 공보

상기 용제 흡수체는, 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시켜 용제를 흡수하는 조작을 반복하여 행하는 동안, 흡수한 용제에 의해, 흡수층을 형성하는 실리콘 고무 그 자체가 서서히 팽윤하여 용제를 흡수하는 능력이 서서히 저하되는 경향이 있다.

그 때문에, 예를 들어 용제 흡수체의 사용 횟수를 미리 설정해 두고, 미리 정해진 사용 횟수에 도달한 시점에서 새로운 용제 흡수체로 교환하는 것 등을 생각할 수 있다.

구체적으로는, 예를 들어 용제 흡수체를 길이가 긴 벨트형으로 형성하여 롤형상으로 감아 두고, 상기 롤로부터 풀어낸 용제 흡수체의 미리 정해진 길이의 영역을 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시켜 용제를 흡수시키는 조작을, 동일한 영역을 이용하여 1회 내지 수회 행하고, 상기 미리 정해진 횟수의 조작을 행할 때마다, 상기 롤로부터 용제 흡수체의 새로운 영역을 풀어내어, 동일하게 용제 흡수에 사용하는 것 등이 검토되고 있다.

또한, 상기 특허문헌 1에는 용제 흡수체를 무단(無端) 벨트형으로 형성하고, 상기 용제 흡수체를 회전시키면서 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시켜 용제를 흡수시키는 조작을 1회 내지 수회 행할 때마다, 용제 흡수체를 가열하거나 하여 흡수한 용제를 제거하면서, 상기 용제 흡수체를 용제 흡수에 반복하여 사용하는 것이 기재되어 있다.

그러나, 원래 종래의 용제 흡수체의 흡수층은, 실리콘 블랭킷과 거의 동등한 실리콘 고무에 의해 형성되어 있어, 용제를 흡수하는 능력도 실리콘 블랭킷과 거의 동등한 것으로, 단순히 함침되어 있는 용제의 농도차에 기초하여 용제를 흡수하고 있는 것에 불과하다.

그 때문에, 종래의 용제 흡수체를 이용한 용제 흡수에는 시간이 걸린다. 뿐만 아니라, 상기와 같이 인쇄의 도중에 용제 흡수체를 교환하거나, 벨트형의 용제 흡수체를 풀어내거나, 또는 용제 흡수체를 가열하여 용제를 제거하거나 하는 조작도 빈번하게 행해야 한다.

따라서, 이러한 것이 오프셋 인쇄 방법의 택트 타임, 즉 오프셋 인쇄기에 기판을 셋팅하고, 앞서 설명한 순서에 따라서 상기 기판의 표면에 잉크를 인쇄하여 패턴을 형성한 후 오프셋 인쇄기에 새로운 기판을 셋팅할 때까지 요하는 평균 시간을 길게 하는 원인이 되어, 오프셋 인쇄 방법으로 제조되는 제품의 생산성을 저하시킨다는 문제가 있다.

또한, 상기와 같이 용제 흡수체를 교환하거나, 가열하여 용제를 제거하거나 하는 조작을 빈번하게 행하는 것은 자원 절약, 에너지 절약의 관점에서도 결코 바람직한 것이 아니다.

본 발명의 목적은, 종래에 비하여 용제를 흡수하는 능력이 우수하여, 상기 용제를 효율적으로 신속하게, 게다가 다량으로 흡수할 수 있기 때문에 용제 흡수의 시간을 단축할 수 있고, 또한 교환이나 용제 제거의 조작을 빈번하게 행할 필요가 없는 용제 흡수체를 이용함으로써, 상기 인쇄의 택트 타임을 단축시켜 제품의 생산성을 향상시킬 수 있는 신규 인쇄 방법과, 상기 인쇄 방법에 이용하는, 상기 각 특성이 우수한 신규 용제 흡수체를 제공하는 것에 있다.

본 발명은, 적어도 표면을 실리콘 고무에 의해 형성한 실리콘 블랭킷의 상기 표면에 담지시킨 잉크를 피인쇄체의 표면에 전사하여, 상기 피인쇄체의 표면에 상기 잉크로 이루어진 패턴을 인쇄하는 인쇄 방법으로서, 상기 실리콘 블랭킷의 표면에 용제 흡수체를 접촉시킴으로써, 상기 잉크 중에 포함되며, 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를 상기 용제 흡수체에 의해 흡수하여 제거하는 공정을 포함하고, 상기 용제 흡수체로서, 적어도 상기 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시키는 면을, 실리콘 고무와, 상기 실리콘 고무 100 질량부당 10 질량부 이상, 200 질량부 이하의 실리콘 겔을 포함하는 조성물에 의해 형성한 것을 이용하는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법이다.

상기 실리콘 겔은, 용제 흡수체나 실리콘 블랭킷을 구성하는 실리콘 고무에 비하여 가교도가 낮기 때문에 용제를 흡수하는 능력이 우수하여, 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를 지금까지보다 효율적으로 신속하게 게다가 다량으로 흡수할 수 있다.

따라서 본 발명에 의하면, 상기 실리콘 겔을 포함하는 용제 흡수체를 이용함으로써, 상기 용제 흡수체를 교환하거나, 가열 등에 의해 용제를 제거하거나 하는 조작을 하는 빈도를 지금까지보다도 적게 할 수 있을 뿐만 아니라, 1회의 용제 흡수에 요하는 시간도 단축할 수 있고, 그 결과 인쇄의 택트 타임을 단축시켜 제품의 생산성을 향상시키는 것이 가능해진다.

또한, 상기 용제 흡수체의 적어도 표면을 구성하는 실리콘 고무 및 실리콘 겔은, 모두 실리콘 블랭킷과 동일한 실리콘계의 재료이므로, 상기 실리콘 블랭킷의 표면에 존재하는 실록산 등에 영향을 미쳐 상기 표면의 습윤성 등을 변동시키거나 할 우려도 없다.

본 발명은, 필름형 또는 시트형의 기재와, 상기 기재의 적어도 한면에 형성한, 실리콘 고무와, 상기 실리콘 고무 100 질량부당 10 질량부 이상, 200 질량부 이하의 실리콘 겔을 포함하는 조성물로 이루어진 흡수층을 포함하는 것을 특징으로 하는 용제 흡수체이다.

본 발명에 의하면, 상기 필름형 또는 시트형의 기재에 의해 용제 흡수체 전체의 강도를 유지하고, 양호한 취급성을 확보하면서, 상기 기재의 적어도 한면에 형성된, 상기와 같이 용제를 흡수하는 능력이 우수한 실리콘 겔을 포함하는 흡수층을 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시킴으로써, 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를 지금까지보다 효율적으로 신속하게 게다가 다량으로 흡수할 수 있다.

상기 용제 흡수체는 벨트형(무단 벨트형을 포함)으로 형성함으로써, 종래의, 상기 벨트형 등의 용제 흡수체를 이용하는 오프셋 인쇄기에 그대로 적용할 수 있다. 또한 상기 용제 흡수체의 흡수층이, 상기와 같이 용제를 흡수하는 능력이 우수하기 때문에, 상기 종래의 오프셋 인쇄기를 이용하여 본 발명의 인쇄 방법을 실시할 수 있어, 인쇄의 택트 타임을 단축시켜 제품의 생산성을 향상시키는 것이 가능해진다.

본 발명에 의하면, 종래에 비하여 용제를 흡수하는 능력이 우수하여, 상기 용제를 효율적으로 신속하게 게다가 다량으로 흡수할 수 있기 때문에 용제 흡수의 시간을 단축할 수 있고, 또한 교환이나 용제 제거의 조작을 빈번하게 행할 필요가 없는 용제 흡수체를 이용함으로써, 상기 인쇄의 택트 타임을 단축시켜 제품의 생산성을 향상시킬 수 있는 신규 인쇄 방법과, 상기 인쇄 방법에 이용하는 상기 각 특성이 우수한 신규 용제 흡수체를 제공할 수 있다.

본 발명은, 적어도 표면을 실리콘 고무에 의해 형성한 실리콘 블랭킷의 상기 표면에 담지시킨 잉크를 피인쇄체의 표면에 전사하여, 상기 피인쇄체의 표면에 상기 잉크로 이루어진 패턴을 인쇄하는 인쇄 방법으로서, 상기 실리콘 블랭킷의 표면에 용제 흡수체를 접촉시킴으로써, 상기 잉크 중에 포함되며, 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를 상기 용제 흡수체에 의해 흡수하여 제거하는 공정을 포함하고, 상기 용제 흡수체로서, 적어도 상기 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시키는 면을, 실리콘 고무와, 상기 실리콘 고무 100 질량부당 10 질량부 이상, 200 질량부 이하의 실리콘 겔을 포함하는 조성물에 의해 형성한 것을 이용하는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 본 발명의 인쇄 방법에 이용하는 본 발명의 용제 흡수체는, 필름형 또는 시트형의 기재와, 상기 기재의 적어도 한면에 형성된, 실리콘 고무와, 상기 실리콘 고무 100 질량부당 10 질량부 이상, 200 질량부 이하의 실리콘 겔을 포함하는 조성물로 이루어진 흡수층을 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 흡수층을 구성하는 실리콘 고무로는, 특히 디메틸실리콘 고무가 바람직하다. 디메틸실리콘 고무는, 실리콘 블랭킷의 표면을 오염시키거나 할 우려가 없을 뿐만 아니라, 상기 디메틸실리콘 고무로 이루어진 흡수층은, 상기 실리콘 블랭킷의 표면에 대하여 양호한 밀착성을 갖고 있어, 상기 표면에 가능한 한 간극없이 밀착되어, 용제를 효율적으로 흡수할 수 있다.

또한 상기 실리콘 고무로는, 미경화시에 액상 내지 페이스트상을 나타내는 액상의 실리콘 고무가 바람직하다. 상기 액상의 실리콘 고무는, 기재 상에 도포되고, 경화시켜 흡수층을 형성할 때, 상기 흡수층의 표면을, 소위 셀프 레벨링 효과에 의해 평활화할 수 있다. 그 때문에 실리콘 블랭킷의 표면에 간극없이 밀착시켜 용제를 흡수할 수 있는, 표면 거칠기가 작은 흡수층을 포함하는 용제 흡수체를, 연마 등의 공정을 거치지 않고 양호한 생산성으로 제조할 수 있다. 필요에 따라 흡수층의 표면을 연마해도 되는 것은 물론이다.

또한 상기 실리콘 고무로는, 실온 경화형(RTV)의 실리콘 고무가 바람직하다. 상기 실온 경화형의 실리콘 고무는, 그 이름 그대로 가열하지 않아도 실온(5∼35℃)에서 경화시키는 것이 가능하므로, 용제 흡수체의 제조 공정 및 제조를 위한 설비를 간략화할 수 있을 뿐만 아니라, 가열에 의한 팽창과 냉각시의 수축을 거치지 않기 때문에, 흡수층의 두께의 정밀도를 향상시킬 수 있다.

또한 상기 실리콘 고무로는, 주제와 경화제의 2성분으로 이루어지고, 상기 양자를 부가 반응에 의해 경화시킬 수 있는 이액(二液) 부가 반응형의 실리콘 고무가 바람직하다.

상기 이액 부가 반응형의 실리콘 고무는, 경화 반응시에 저분자량의 성분(부생성물)이 발생하지 않기 때문에, 흡수층의 치수 정밀도를 향상시키고, 상기 부생성물에 기초하는 기포 등을 포함하지 않는 균일한 흡수층을 형성할 수 있다.

상기 실온 경화형이며 이액 부가형인 액상 디메틸실리콘 고무로는, 예를 들어 신에츠화학공업(주) 제조의 품번 KE1600, KE1603, KE1606, KE1310ST, KE1300T, KE1314, KE1241, KE106, KE103, 모멘티브 퍼포먼스 마테리알즈사 제조의 품번 TSE3402, TSE3453, TSE3455T, TSE3457, TSE3466 등을 들 수 있다.

흡수층에 함유시키는 실리콘 겔이란, 기본적으로 실리콘 고무와 동일한 폴리실록산 구조를 갖지만, 가교 반응후의 가교 밀도가 실리콘 고무보다 작아, 통상의 고무 경도계로 측정할 수 없을 정도의 부드러운 겔상으로 경화시키는 것을 말한다.

상기 실리콘 겔로는, 주쇄를 구성하는 폴리실록산의 종류에 따라 분류되는 디메틸실리콘 겔, 메틸페닐실리콘 겔 등의 여러가지 실리콘 겔을 사용할 수 있고, 그 중에서도 상기 실리콘 겔과 함께 흡수층을 구성하는 실리콘 고무와의 상용성, 친화성이 우수한 실리콘 겔, 특히 실리콘 고무와 동일한 계통의 실리콘 겔을 선택하여 이용하는 것이 바람직하다. 예를 들어 흡수층을 구성하는 실리콘 고무가 디메틸실리콘 고무인 경우에는, 디메틸실리콘 겔을 조합하여 사용하는 것이 바람직하다.

또한 상기 실리콘 겔로는, 앞서 설명한 셀프 레벨링 효과에 의해 평활한 흡수층을 형성하는 것을 고려하면 액상의 실리콘 겔이 바람직하다.

또한 상기 실리콘 겔로는, 일액형, 이액형의 여러가지 실리콘 겔을 모두 사용할 수 있지만, 실리콘 고무로서 앞서 설명한 이액 부가 반응형의 것을 사용하는 경우, 조합하는 실리콘 겔로는, 상기 실리콘 고무의 경화 반응을 저해하는 것을 방지하기 위해, 역시 주제와 경화제의 2성분으로 이루어지고, 상기 양자를 부가 반응에 의해 경화시킬 수 있는 이액 부가 반응형의 실리콘 겔을 이용하는 것이 바람직하다.

또한 상기 실리콘 겔로서, 예를 들어 실온 경화형이며 이액 부가 반응형인 실리콘 겔을 사용하는 경우에는, 상기 도포액을 기재 상에 도포하여 흡수층을 형성할 때의 작업성을 향상시키는 것을 고려하면, 그 포트라이프, 즉 실리콘 겔의 주제와 경화제를 배합하고 나서 점도가 상승을 시작하기까지의 시간이 30분 이상인 것을 이용하는 것이 바람직하다.

상기 포트라이프의 시간을 만족하는, 실온 경화형이며 이액 부가형인 액상 디메틸실리콘 겔로는, 예를 들어 신에츠화학공업(주) 제조의 품번 KE1052, KE1051J, 모멘티브 퍼포먼스 마테리알즈사 제조의 품번 TSE3062, TSE3070, YE5818, TSE3080, TSE3081 등을 들 수 있다.

또한 실리콘 겔로는 가열 경화형인 것을 이용하고, 상기 가열 경화형의 실리콘 겔을 실온 경화형의 실리콘 고무와 병용하여, 실리콘 고무의 경화후에, 적정한 물성을 얻기 위해 가열하여 실리콘 겔을 경화시키도록 해도 된다.

상기 가열 경화형이며 이액 부가형인 액상 디메틸실리콘 겔로는, 예를 들어 신에츠화학공업(주) 제조의 품번 KE104, KE110, 모멘티브 퍼포먼스 마테리알즈사 제조의 품번 TSJ3175 등을 들 수 있다.

상기 실리콘 겔의 함유 비율은, 앞서 설명한 바와 같이 실리콘 고무 100 질량부당 10 질량부 이상, 200 질량부 이하로 한정된다.

함유 비율이 상기 범위 미만이면, 상기 실리콘 겔을 함유시키는 것에 의한, 흡수층의 용제를 흡수하는 능력을 향상시키는 효과를 얻을 수 없다. 그 때문에, 실리콘 블랭킷 중에 함침된 용제를 충분히 흡수시켜 제거하기 위해서는 1회의 용제 흡수에 요하는 시간을 길게 해야 할 뿐만 아니라, 용제 흡수체에 흡수할 수 있는 용제의 양도 한정되기 때문에, 상기 용제 흡수체를 교환하거나, 가열 등에 의해 용제를 제거하거나 하는 조작을 빈번하게 행해야 하므로, 인쇄의 택트 타임을 단축시켜 제품의 생산성을 향상시킬 수 없다.

한편, 함유 비율이 상기 범위를 초과하는 경우에는, 흡수층이 지나치게 부드러워져 강도가 저하되거나, 상기 흡수층의 표면의 점착성이 강해지거나 한다.

그 때문에, 예를 들어 용제 흡수체를 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시킨 후에 떼어내기 어려워지거나, 벨트형으로 하여 롤형으로 감은 용제 흡수체를 풀어내는 것이 어려워지거나, 상기 접촉후에 떼어내거나 풀어낼 때 흡수층이 부분적으로 박리되거나, 또는 박리된 흡수층이 실리콘 블랭킷 등의 표면에 부착되거나 하기 쉬워진다.

또한 부분적으로 박리된 흡수층이 실리콘 블랭킷의 표면에 부착됨으로써, 피인쇄체의 표면에 인쇄되는 패턴의 상태가 악화된다는 문제도 생긴다.

실리콘 겔의 함유 비율은, 흡수층의, 용제를 흡수하는 능력을 더욱 향상시키는 것 등을 고려하면, 상기 범위 내에서도 30 질량부 이상인 것이 바람직하다. 또한 흡수층의 강도의 저하나 점착성을 억제하는 것 등을 고려하면, 상기 범위 내에서도 150 질량부 이하인 것이 바람직하다.

상기 흡수층에는, 상기 실리콘 고무 및 실리콘 겔에 더하여, 실리카, 탄산칼슘 등의 충전제나, 경화 촉진제, 경화 지연제 등의 여러가지 첨가제를 더 함유시켜도 된다.

상기 흡수층의 두께는 0.05 mm 이상, 2 mm 이하인 것이 바람직하다.

두께가 상기 범위 미만인 얇은 흡수층에는 충분한 양의 용제를 흡수시킬 수 없기 때문에, 용제 흡수체를 교환하거나, 가열 등에 의해 용제를 제거하거나 하는 조작을 하는 빈도를 적게 하여 인쇄의 택트 타임을 단축시켜 효과가 불충분해질 우려가 있다.

또한 두께가 상기 범위를 초과하는 경우에는, 용제 흡수체 전체로서의 유연성과, 그에 따른 실리콘 블랭킷의 표면에의 추종성이 저하되어, 예를 들어 블랭킷 본체의 외측 둘레에 감기는 등의 상태로 사용되는 실리콘 블랭킷의 표면에, 상기 흡수층을 가능한 한 간극없이 접촉시킨 상태로 용제를 흡수시킬 수 없을 우려가 있다.

흡수층의 경도는, 실리콘 블랭킷의 표면에 양호하게 추종시켜 간극없이 접촉시키는 것을 고려하면, 상기 실리콘 블랭킷의 표면의 경도와 동등하거나 또는 그 이하인 것이 바람직하다.

흡수층의 경도를, 실리콘 블랭킷의 표면의 경도 이하로 하기 위해서는, 예를 들어 흡수층을 구성하는 실리콘 고무로서, 경화후의 경도가 실리콘 블랭킷의 표면의 경도와 동등 또는 그 이하인 것을 선택하여 이용하고, 상기 실리콘 고무보다 유연하고, 흡수층을 부드럽게 하는 작용을 하는 실리콘 겔의 함유 비율을 상기 범위 내에서 조정하면 된다. 이것에 의해, 흡수층의 경도를 실리콘 고무의 표면보다 부드럽게 할 수 있다.

흡수층의 경도의 구체적인 범위는, 상기와 같이 실리콘 블랭킷의 표면의 경도 이하이면 되고, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 일본 공업 규격 JIS K6253 : 2006 「가황 고무 및 열가소성 고무-경도를 구하는 방법」에서 규정된 타입 A 듀로미터 경도로 나타내어 A5/S 이상, A50/S 이하, 특히 A10/S 이상, A30/S 이하 정도인 것이 바람직하다.

또한 흡수층의 표면은, 실리콘 블랭킷의 표면에 간극없이 밀착시키기 위해 가능한 한 평활한 것이 바람직하다. 단, 흡수층은 상기와 같이 유연하므로, 실리콘 블랭킷의 표면만큼 평탄하지 않아도, 상기 표면에 충분히 간극없이 밀착시키는 것은 가능하다.

상기 흡수층의 표면 거칠기의 구체적인 범위는, 특별히 한정되지 않지만, 일본 공업 규격 JIS B0601 : 2001 「제품의 기하 특성 사양(GPS)-표면 성상 : 윤곽 곡선 방식-용어, 정의 및 표면 성상 파라미터」의 부속서 1에 규정된 십점 평균 거칠기 Rz_JIS94로 나타내어 0.01 ㎛ 이상, 5 ㎛ 이하, 특히 0.05 ㎛ 이상, 1 ㎛ 이하 정도인 것이 바람직하다.

기재로는, 다양한 수지의 필름 또는 시트나, 금속의 박판 등을 들 수 있다. 그 중 수지의 필름 또는 시트로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리염화비닐, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌 및 그 공중합물, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알콜, 불소 수지, 폴리카보네이트, 셀룰로오스아세테이트, 폴리아미드, 폴리이미드, 변성 폴리페닐렌에테르, 폴리술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르술폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르이미드, 폴리페닐렌술파이드, TPX 폴리머 및 폴리파라크실렌 등의 수지로 이루어진 필름 또는 시트를 들 수 있다.

또한 금속의 박판으로는 구리 또는 그 합금, 알루미늄 또는 그 합금, 스테인리스강, 니켈 등의 금속으로 이루어진 박판이 바람직하다.

특히 임의의 두께 및 표면 거칠기를 갖는 필름형 또는 시트형으로 가공하기 쉬울 뿐만 아니라, 치수 안정성이 우수한 PET의 필름 또는 시트를 기재로서 이용하는 것이 바람직하다.

기재의 두께는 0.1 mm 이상, 0.5 mm 이하인 것이 바람직하다.

기재의 두께가 상기 범위 미만이면, 상기 기재에 의한, 흡수층의 지지체로서 용제 흡수체 전체의 강도를 유지하고, 양호한 취급성을 확보하는 효과를 충분히 얻을 수 없을 우려가 있다.

또한 두께가 상기 범위를 초과하는 경우에는, 용제 흡수체 전체로서의 유연성과, 그에 따른 실리콘 블랭킷의 표면에의 추종성이 저하되어, 예를 들어 블랭킷 본체의 외측 둘레에 감기는 등의 상태로 사용되는 실리콘 블랭킷의 표면에, 상기 흡수층을 가능한 한 간극없이 접촉시킨 상태로 용제를 흡수시킬 수 없을 우려가 있다.

흡수층을 형성하기 전의 기재의 표면에는, 상기 흡수층의 밀착성을 높이기 위해, 예를 들어 플라즈마 처리, 프레임 처리 등의 전처리를 하거나, 임의의 하지층(下地層)을 형성하거나 해도 된다.

본 발명의 용제 흡수체는, 예를 들어 앞서 설명한 액상의 도포액을, 기재의 적어도 한면에, 닥터나이프, 바코터, 롤코터 등을 이용하여 미리 정해진 두께가 되도록 도포한 후, 상기 도포액을 셀프 레벨링시키면서, 도포액 중에 포함되는 실리콘 고무와 실리콘 겔을 경화시켜 흡수층을 형성함으로써 제조할 수 있다.

흡수층은, 기재의 한면에 형성해도 되고, 양면에 형성해도 된다. 양면에 흡수층을 형성한 용제 흡수체는, 한면의 흡수층을 용제의 흡수에 사용한 후, 뒤집어 반대면의 흡수층을 용제의 흡수에 사용할 수 있다.

상기 용제 흡수체는, 인쇄 방법을 실시하는 인쇄기의 구조 등에 따라 임의의 형상으로 형성할 수 있고, 특히 벨트형(무단 벨트형을 포함)으로 형성하는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 종래의 상기 벨트형 등의 용제 흡수체를 이용하는 오프셋 인쇄기에 그대로 적용할 수 있다.

예를 들어 용제 흡수체를 길이가 긴 벨트형으로 형성하여 롤형으로 감아 두고, 상기 롤로부터 풀어낸 용제 흡수체의 미리 정해진 길이의 영역을 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시켜 용제를 흡수시키는 조작을, 동일한 영역을 이용하여 1회 내지 수회 행하고, 상기 미리 정해진 횟수의 조작을 행할 때마다, 상기 롤로부터 용제 흡수체의 새로운 영역을 풀어내어, 마찬가지로 용제 흡수에 사용할 수 있다.

또한 용제 흡수체를 무단 벨트형으로 형성하고, 상기 용제 흡수체를 회전시키면서 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시켜 용제를 흡수시키는 조작을 1회 내지 수회 행할 때마다, 용제 흡수체를 가열하거나 하여 흡수한 용제를 제거하면서, 상기 용제 흡수체를 용제 흡수에 반복하여 사용할 수 있다.

또한 상기 어느 경우에도, 용제 흡수체의 흡수층이 상기와 같이 용제를 흡수하는 능력이 우수하기 때문에, 상기 종래의 오프셋 인쇄기를 이용하여 본 발명의 인쇄 방법을 실시했을 때에도 인쇄의 택트 타임을 단축시켜 제품의 생산성을 향상하는 것이 가능해진다.

본 발명의 인쇄 방법은, 예를 들어

(1) 오목판, 평판 등의 판의 표면에 패턴 형성한 잉크를 실리콘 블랭킷의 표면에 전사한 후, 피인쇄체로서의 기판의 표면에 재전사하는 오프셋 인쇄 방법,

(2) 실리콘 블랭킷의 표면의 전체면에 잉크를 도포한 후 오목판과 접촉시킴으로써, 상기 오목판의 오목부 이외의 영역과 접촉한 잉크를 선택적으로 실리콘 블랭킷의 표면에서 제거하여 상기 표면의 잉크층을 패턴 형성한 후, 상기 기판의 표면에 전사하는 반전 인쇄 방법,

(3) 실리콘 블랭킷의 표면에 직접 잉크 패턴을 묘화한 후, 상기 기판의 표면에 전사하는 인쇄 방법

등의 실리콘 블랭킷을 이용하는 여러가지 인쇄 방법에 적용할 수 있다.

상기 각종 인쇄 방법에서, 인쇄 중간에, 실리콘 블랭킷의 표면에 용제 흡수체를 접촉시킴으로써, 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를 상기 용제 흡수체에 의해 흡수하여 제거하는 공정을, 상기 용제 흡수체로서 실리콘 겔을 상기 미리 정해진 비율로 포함하는 것을 이용하여 실시할 수 있다. 이것에 의해, 인쇄의 택트 타임을 단축시켜 제품의 생산성을 향상시킬 수 있다.

실리콘 블랭킷으로는, 적어도 그 표면이 실리콘 고무에 의해 형성된 다양한 실리콘 블랭킷을 모두 사용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 필름형 또는 시트형의 기재와, 상기 기재의 한면에 형성된, 적어도 실리콘 고무를 포함하는 조성물로 이루어진 표면 고무층을 포함하는 실리콘 블랭킷이 바람직하다.

상기 표면 고무층을 구성하는 실리콘 고무로는, 미경화시에 액상 내지 페이스트상을 나타내는 액상의 실리콘 고무가 바람직하다. 상기 액상의 실리콘 고무는, 기재 상에 도포하고, 경화시켜 표면 고무층을 형성할 때, 상기 표면 고무층의 표면을 상기 셀프 레벨링 효과에 의해 평활화할 수 있다. 그 때문에 피인쇄체로서의 기판의 표면에, 미세하고 정밀도 높은 패턴을 형성하기에 적합한, 표면 평활성이 우수한 표면 고무층을 갖는 실리콘 블랭킷을, 연마 등의 공정을 거치지 않고 양호한 생산성으로 제조할 수 있다. 필요에 따라 표면 고무층의 표면을 연마해도 되는 것은 물론이다.

또한 상기 실리콘 고무로는, 역시 실온 경화형(RTV)의 실리콘 고무가 바람직하다. 상기 실온 경화형의 실리콘 고무는 가열하지 않아도 실온에서 경화시키는 것이 가능하므로, 실리콘 블랭킷의 제조 공정 및 제조를 위한 설비를 간략화할 수 있을 뿐만 아니라, 가열에 의한 팽창과 냉각시의 수축을 거치지 않기 때문에, 표면 고무층의 두께의 정밀도를 향상시킬 수 있다.

또한 상기 실리콘 고무로는, 주제와 경화제의 2성분으로 이루어지고, 상기 양자를 부가 반응에 의해 경화시킬 수 있는 이액 부가 반응형의 실리콘 고무가 바람직하다.

상기 이액 부가 반응형의 실리콘 고무는, 경화 반응시에 저분자량의 성분(부생성물)이 발생하지 않기 때문에, 표면 고무층의 치수 정밀도를 향상시키고, 상기 부생성물에 기초하는 기포 등을 포함하지 않는 균일한 표면 고무층을 형성할 수 있다.

상기 실온 경화형이며 이액 부가형인 액상 실리콘 고무로는, 예를 들어 앞서 언급한 신에츠화학공업(주) 제조의 품번 KE1600, KE1603, KE1606, KE1310ST, KE1300T, KE1314, KE1241, KE106, KE103, 모멘티브 퍼포먼스 마테리알즈사 제조의 품번 TSE3402, TSE3453, TSE3455T, TSE3457, TSE3466 등을 들 수 있다.

표면 고무층의 두께는, 특히 앞서 설명한 PDP나 LCD의 패턴 등의 높은 인쇄 정밀도가 요구되는 정밀 인쇄용의 실리콘 블랭킷의 경우는 0.01 mm 이상, 0.5 mm 이하 정도인 것이 바람직하다.

기재로는, 앞서 설명한 용제 흡수체에서 사용한 것과 동일한 다양한 수지의 필름 또는 시트, 또한 금속의 박판 등을 들 수 있고, 특히 임의의 두께 및 표면 거칠기를 갖는 필름형 또는 시트형으로 가공하기 쉬울 뿐만 아니라, 치수 안정성이 우수한 PET의 필름 또는 시트가 바람직하다.

기재의 두께는, 상기 정밀 인쇄용의 실리콘 블랭킷의 경우는 0.01 mm 이상,

0.4 mm 이하 정도인 것이 바람직하다.

표면 고무층을 형성하기 전의 기재의 표면에는, 상기 표면 고무층의 밀착성을 높이기 위해, 예를 들어 플라즈마 처리, 프레임 처리 등의 전처리를 하거나, 임의의 하지층을 형성하거나 해도 된다.

실리콘 블랭킷은, 예를 들어 상기 액상의 실리콘 고무를 적어도 포함하는 도포액을, 기재의 적어도 한면에, 닥터나이프, 바코터, 롤코터 등을 이용하여 미리 정해진 두께가 되도록 도포한 후, 상기 도포액을 셀프 레벨링시키면서, 도포액 중에 포함되는 실리콘 고무와 실리콘 겔을 경화시켜 표면 고무층을 형성함으로써 제조할 수 있다.

또한 상기 도포액을, 기재를 셋팅한 금형 내에 주입하여, 표면 고무층의 형상으로 성형하면서 경화시켜 실리콘 블랭킷을 제조해도 된다.

표면 고무층의 경도는, 상기 JIS K6253 : 2006에서 규정된 타입 A 듀로미터 경도로 나타내어 A10/S 이상, A70/S 이하, 특히 A30/S 이상, A60/S 이하 정도인 것이 바람직하다.

또한 실리콘 블랭킷의 표면 상태는, 잉크 패턴이 미세해질수록 그 정밀도에 영향을 미치기 때문에, 가능한 한 평탄한 것이 바람직하다. 예를 들어 상기 정밀 인쇄용의 실리콘 블랭킷의 표면 거칠기는, 상기 JIS B0601 : 2001 「제품의 기하 특성 사양(GPS)-표면 성상 : 윤곽 곡선 방식-용어, 정의 및 표면 성상 파라미터」의 부속서 1에 규정된 십점 평균 거칠기 Rz_JIS94로 나타내어 0.01 ㎛ 이상, 1 ㎛ 이하 정도인 것이 바람직하다.

(실시예)

이하의 실시예, 비교예의 용제 흡수체의 제조, 측정 및 시험을, 특별히 기재한 것 이외에는 온도 23±1℃, 상대 습도 55±1%의 환경하에 실시했다.

<실시예 1>

실온 경화형이며 이액 부가 반응형인 액상 디메틸실리콘 고무[신에츠화학공업(주) 제조의 품번 KE1603, 경화후의 타입 A 듀로미터 경도(JIS K6253 : 2006 준거)가 A30/S인 것]의 주제와 경화제, 및 마찬가지로 실온 경화형이며 이액 부가 반응형인 액상 디메틸실리콘 겔[신에츠화학공업(주) 제조의 품번 KE1052]의 주제와 경화제를 준비하고, 상기 액상 디메틸실리콘 고무의 주제 50 질량부와, 액상 디메틸실리콘 겔의 주제 및 경화제 합계 20 질량부(주제와 경화제의 질량비 1:1)를 혼합했다.

이어서 상기 혼합물에, 상기 액상 디메틸실리콘 고무의 경화제 50 질량부를 첨가하여 혼합한 후 탈포하여 흡수층용의 도포액을 조제하고, 상기 도포액을, 기재로서의 두께 0.25 mm의 PET 필름의 한면에 바코터를 이용하여 도포한 후 실온에서 24시간 정치하고 경화시켜, 두께 0.70 mm, PET 필름의 면방향의 치수가 세로 50 cm×가로 50 cm인 흡수층을 형성하여 용제 흡수체를 제조했다.

상기 용제 흡수체의 흡수층에서의, 디메틸실리콘 고무의 주제와 경화제 합계 100 질량부당 디메틸실리콘 겔의 주제와 경화제의 합계의 함유 비율은, 상기 배합 비율에서 명확한 바와 같이 20 질량부였다.

<실시예 2, 3, 비교예 1∼3>

도포액에 배합하는 액상 디메틸실리콘 겔의 주제 및 경화제의 합계량을 0 질량부(비교예 1), 5 질량부(비교예 2), 50 질량부(실시예 2), 150 질량부(실시예 3) 및 250 질량부(비교예 3)으로 한 것 외에는 실시예 1과 동일하게 하여 용제 흡수체를 제조했다. 상기 액상 디메틸실리콘 겔의 주제와 경화제의 질량비는 모두 1:1로 했다.

상기 각 용제 흡수체의 흡수층에서의, 디메틸실리콘 고무의 주제와 경화제 합계 100 질량부당 디메틸실리콘 겔의 주제와 경화제의 합계의 함유 비율은, 각각 상기 배합 비율에서 명확한 바와 같이 0 질량부(비교예 1), 5 질량부(비교예 2), 50 질량부(실시예 2), 150 질량부(실시예 3) 및 250 질량부(비교예 3)였다.

<용제 흡수 능력의 평가>

상기 각 실시예, 비교예에서 제조한 용제 흡수체를, 액온을 23±1℃로 유지한, 잉크용 용제인 부틸카르비톨아세테이트(디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트) 중에 침지하여 2시간 정치한 후 꺼내어, 침지 전후의 질량 변화율 ΔW[질량%]를 구했다. 질량 변화율이 클수록, 흡수층은 용제를 흡수하는 능력이 우수하다고 평가했다.

<인쇄 적정 시험>

(실리콘 블랭킷의 제작)

실온 경화형이며 이액 부가 반응형인 액상 실리콘 고무[신에츠화학공업(주) 제조의 품번 KE1603, 경화후의 타입 A 듀로미터 경도(JIS K6253 : 2006 준거)가 A30/S인 것]의 주제 50 질량부와 경화제 50 질량부를 혼합한 후 탈포하여 표면 고무층용의 도포액을 조제하고, 상기 도포액을, 기재로서의 두께 0.25 mm의 PET 필름의 한면에 바코터를 이용하여 도포한 후 실온에서 24시간 정치하여 경화시키고, 두께 0.55 mm의 표면 고무층을 형성하여 실리콘 블랭킷을 제작했다.

(인쇄 공정)

상기 실리콘 블랭킷을, 오목판 오프셋 인쇄기의 블랭킷 본체의 외측 둘레에 감아 고정했다. 또한 오목판으로는, 유리판의 표면에 선폭 20 ㎛, 피치 300 ㎛, 깊이 8 ㎛의 오목부를 격자형으로 패턴 형성한 것을 이용했다.

잉크로는, 폴리에스테르 수지와, 용제로서의 부틸카르비톨아세테이트와, 은분말을 3개 롤을 이용하여 혼련하여 조제한 것을 이용했다.

인쇄의 조건은, 오목판으로부터 실리콘 블랭킷에의 잉크의 전사 속도를 100 mm/s, 실리콘 블랭킷으로부터, 피인쇄체로서의 유리 기판의 표면에의 잉크의 전사 속도를 100 mm/s로 설정하여, 상기 유리 기판을 교환하면서 50회의 연속 인쇄를 했다.

또한 인쇄를 1회 행할 때마다, 상기 각 실시예, 비교예에서 제조한 용제 흡수체를 실리콘 블랭킷의 표면의 전체면에 5초간 접촉시켜, 상기 실리콘 블랭킷에 함침된 용제를 제거하는 조작을 했다.

그리고 인쇄 50회째의 유리 기판의 표면에 인쇄된 패턴을 관찰하여, 하기의 기준으로 인쇄 적정도를 평가했다.

○ : 패턴의 상태는 인쇄 1회째와 거의 변함없이 양호했다.

△ : 패턴의 상태는 인쇄 1회째에 비해 약간 떨어졌지만, 허용할 수 있는 범위 내였다.

× : 패턴의 상태가 지나치게 나빠, 제품으로서 사용할 수 있는 레벨이 아니었다.

이상의 결과를 표 1에 나타낸다.

표 1에서, 용제 흡수체의 흡수층에 함유시키는 실리콘 겔의 양이 실리콘 고무 100 질량부당 10 질량부 미만이면, 상기 흡수층의 용제를 흡수하는 능력이, 실리콘 겔을 함유시키지 않는 경우와 마찬가지로 충분하지 않기 때문에, 인쇄를 반복하는 동안 실리콘 블랭킷이 팽윤하여, 유리 기판의 표면에 인쇄되는 패턴의 상태가 악화된다는 것을 알 수 있다. 또한 이것을 해소하기 위해서는, 1회의 용제 흡수에 요하는 시간을, 현상보다 길게 해야 한다는 것도 알 수 있었다.

또한 상기 실리콘 겔의 양이 200 질량부를 초과하는 경우에는, 흡수층의 용제를 흡수하는 능력은 향상되지만, 상기 흡수층의 강도가 저하되고 점착성이 강해져, 그 일부가 박리되어 실리콘 블랭킷의 표면에 부착되어, 유리 기판의 표면에 인쇄되는 패턴의 상태가 악화된다는 것을 알 수 있었다.

이에 비해, 상기 흡수층에 함유시키는 실리콘 겔의 양을, 실리콘 고무 100 질량부당 10 질량부 이상, 200 질량부 이하로 함으로써, 흡수층의 강도를 유지하고 점착성을 억제하면서, 용제를 흡수하는 능력을 향상시켜, 장기간에 걸쳐 유리 기판의 표면에 양호한 패턴을 형성할 수 있다는 것이 확인되었다.

Claims (3)

1. 적어도 표면을 실리콘 고무에 의해 형성한 실리콘 블랭킷의 상기 표면에 담지시킨 잉크를 피인쇄체의 표면에 전사하여, 상기 피인쇄체의 표면에 상기 잉크로 이루어진 패턴을 인쇄하는 인쇄 방법으로서, 상기 실리콘 블랭킷의 표면에 용제 흡수체를 접촉시킴으로써, 상기 잉크 중에 포함되며, 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를 상기 용제 흡수체에 의해 흡수하여 제거하는 공정을 포함하고, 상기 용제 흡수체로서, 적어도 상기 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시키는 면을, 실리콘 고무와, 상기 실리콘 고무 100 질량부당 10 질량부 이상, 200 질량부 이하의 실리콘 겔을 포함하는 조성물에 의해 형성한 것을 이용하는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법.
2. 필름형 또는 시트형의 기재(基材)와, 상기 기재의 한면 이상에 형성된, 실리콘 고무와, 상기 실리콘 고무 100 질량부당 10 질량부 이상, 200 질량부 이하의 실리콘 겔을 포함하는 조성물로 이루어진 흡수층을 포함하는 것을 특징으로 하는 용제 흡수체.
3. 제2항에 있어서, 벨트형으로 형성되어 있는 용제 흡수체.