KR101640385B1 - Light emitting device package manufacturing method - Google Patents

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Abstract

본 발명은 디스플레이 용도나 조명 용도로 사용될 수 있는 발광 소자 패키지의 제조 방법에 관한 것으로서, 전극 분리 공간을 기준으로 일측에 제 1 전극 및 타측에 제 2 전극을 갖는 하부 전극층과, 상기 하부 전극층의 상방에 형성되는 접착층 및 상기 접착층의 상방에 절연 지지층을 포함하는 기판을 준비하는 기판 준비 단계; 상기 하부 전극층의 상기 제 1 전극의 상면 일부가 노출되고, 상기 제 2 전극의 상면 일부가 노출되도록 상기 기판에 제 1 관통홀 및 제 2 관통홀을 형성하는 관통홀 형성 단계; 상기 제 1 관통홀 및 상기 제 2 관통홀에 전도성 재질인 제 1 본딩 매체 및 제 2 본딩 매체를 충전하는 본딩 매체 충전 단계; 및 상기 제 1 본딩 매체와 제 1 전극 패드가 전기적으로 연결되고, 상기 제 2 본딩 매체와 제 2 전극 패드가 전기적으로 연결되도록 상기 제 1 본딩 매체와 상기 제 2 본딩 매체 상에 발광 소자를 안착시키는 발광 소자 안착 단계; 를 포함할 수 있다.The present invention relates to a method of manufacturing a light emitting device package that can be used for a display or an illumination. The method includes a lower electrode layer having a first electrode on one side and a second electrode on the other side, A substrate preparation step of preparing a substrate including an adhesive layer formed on the adhesive layer and an insulating supporting layer above the adhesive layer; A through hole forming step of forming a first through hole and a second through hole in the substrate such that a part of an upper surface of the first electrode of the lower electrode layer is exposed and a part of an upper surface of the second electrode is exposed; A bonding medium filling step of filling a first bonding medium and a second bonding medium, which are conductive materials, in the first through holes and the second through holes; And a light emitting device mounted on the first bonding medium and the second bonding medium such that the first bonding medium and the first electrode pad are electrically connected and the second bonding medium and the second electrode pad are electrically connected to each other A light emitting element seating step; . ≪ / RTI >

Description

발광 소자 패키지의 제조 방법{Light emitting device package manufacturing method}[0001] The present invention relates to a light emitting device package manufacturing method,

본 발명은 발광 소자 패키지의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 디스플레이 용도나 조명 용도로 사용될 수 있는 발광 소자 패키지의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a light emitting device package, and more particularly, to a method of manufacturing a light emitting device package that can be used for display or illumination.

발광 다이오드(Light Emitting Diode; LED)는 화합물 반도체(compound semiconductor)의 PN 다이오드 형성을 통해 발광원을 구성함으로써, 다양한 색의 광을 구현할 수 있는 일종의 반도체 소자를 말한다. 이러한 발광 소자는 수명이 길고, 소형화 및 경량화가 가능하며, 저전압 구동이 가능하다는 장점이 있다. 또한, 이러한 LED는 충격 및 진동에 강하고, 예열시간과 복잡한 구동이 불필요하며, 다양한 형태로 기판이나 리드프레임에 실장한 후, 패키징할 수 있어서 여러 가지 용도로 모듈화하여 백라이트 유닛(backlight unit)이나 각종 조명 장치 등에 적용할 수 있다.A light emitting diode (LED) is a kind of semiconductor device that can emit light of various colors by forming a light emitting source through the formation of a PN diode of a compound semiconductor. Such a light emitting device has a long lifetime, can be reduced in size and weight, and can be driven at a low voltage. In addition, these LEDs are resistant to shock and vibration, do not require preheating time and complicated driving, can be packaged after being mounted on a substrate or lead frame in various forms, so that they can be modularized for various purposes and used as a backlight unit A lighting device, and the like.

종래의 발광 소자 패키지는, 기판 코어층과, 기판 코어층의 상면에 형성되는 상부 전극층 및 기판 코어층의 하면에 형성되는 하부 전극층으로 이루어지는 PCB 기판을 적용하는 경우, 층별로 접착층이 설치되고, 전극층이 상부 및 하부로 설치되며, 다시 그 위에 본딩 매체가 설치되어 그 위에 발광 소자가 안착되는 구조일 수 있다.In the conventional light emitting device package, when a PCB substrate composed of a substrate core layer, an upper electrode layer formed on the upper surface of the substrate core layer, and a lower electrode layer formed on the lower surface of the substrate core layer is applied, an adhesive layer is provided for each layer, The upper and lower portions may be provided with a bonding medium, and a light emitting device may be mounted thereon.

그러나, 이러한 종래의 발광 소자 패키지는 층별 접착층과 전극층과 본딩 매체의 두께로 인하여 전체적으로 그 두께가 두꺼워지는 문제점이 있었다.However, such a conventional light emitting device package has a problem in that the overall thickness thereof becomes thick due to the thickness of the adhesive layer, the electrode layer and the bonding medium.

아울러, 상기 층별 접착층과 전극층과 본딩 매체에 대한 재료비 및 제조비가 추가로 소요되어 제품의 단가가 상승하게 되는 문제점이 있었다.In addition, the material cost and the manufacturing cost of the layer-by-layer adhesive layer, the electrode layer, and the bonding medium are additionally required, thereby increasing the unit cost of the product.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 상부 접착층과 상부 전극층을 제거하고, 본딩 매체를 관통홀 내부에 충전시켜서 제품의 두께를 얇게 줄임으로써 재료비 및 제조비를 절감하고, 이로 인하여 제품의 단가를 낮추어 저렴한 제품을 생산할 수 있으며, 관통홀 내부에 발광 소자의 패드가 삽입되게 하여 발광 소자의 정렬 및 광축의 정렬을 용이하게 할 수 있게 하는 발광 소자 패키지의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.Disclosure of Invention Technical Problem [8] Accordingly, the present invention has been made keeping in mind the above problems occurring in the prior art, and it is an object of the present invention to eliminate the upper adhesive layer and the upper electrode layer, to fill the through hole with the bonding medium, Accordingly, it is possible to manufacture an inexpensive product by lowering the unit cost of the product, and to insert the pad of the light emitting element into the through hole, thereby facilitating the alignment of the light emitting element and the alignment of the optical axis. . However, these problems are exemplary and do not limit the scope of the present invention.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 발광 소자 패키지의 제조 방법은, 전극 분리 공간을 기준으로 일측에 제 1 전극 및 타측에 제 2 전극을 갖는 하부 전극층과, 상기 하부 전극층의 상방에 형성되는 접착층 및 상기 접착층의 상방에 절연 지지층을 포함하는 기판을 준비하는 기판 준비 단계; 상기 하부 전극층의 상기 제 1 전극의 상면 일부가 노출되고, 상기 제 2 전극의 상면 일부가 노출되도록 상기 기판에 제 1 관통홀 및 제 2 관통홀을 형성하는 관통홀 형성 단계; 상기 제 1 관통홀 및 상기 제 2 관통홀에 전도성 재질인 제 1 본딩 매체 및 제 2 본딩 매체를 충전하는 본딩 매체 충전 단계; 및 상기 제 1 본딩 매체와 제 1 전극 패드가 전기적으로 연결되고, 상기 제 2 본딩 매체와 제 2 전극 패드가 전기적으로 연결되도록 상기 제 1 본딩 매체와 상기 제 2 본딩 매체 상에 발광 소자를 안착시키는 발광 소자 안착 단계;를 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a light emitting device package including a lower electrode layer having a first electrode on one side and a second electrode on the other side with reference to an electrode separation space, A substrate preparation step of preparing a substrate including an adhesive layer and an insulating support layer above the adhesive layer; A through hole forming step of forming a first through hole and a second through hole in the substrate such that a part of an upper surface of the first electrode of the lower electrode layer is exposed and a part of an upper surface of the second electrode is exposed; A bonding medium filling step of filling a first bonding medium and a second bonding medium, which are conductive materials, in the first through holes and the second through holes; And a light emitting device mounted on the first bonding medium and the second bonding medium such that the first bonding medium and the first electrode pad are electrically connected and the second bonding medium and the second electrode pad are electrically connected to each other And a light emitting element seating step.

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또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 관통홀 형성 단계는, 펀치로 상기 기판의 상기 접착층 및 상기 절연 지지층을 펀칭하여 상기 제 1 관통홀 및 상기 제 2 관통홀을 형성하는 것일 수 있다.According to an aspect of the present invention, the through hole forming step may include forming the first through hole and the second through hole by punching the adhesive layer and the insulating supporting layer of the substrate with a punch.

또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 기판 준비 단계 이후에, 상기 기판을 임시 지지할 수 있도록 상기 기판의 하면에 접착제로 임시 기판을 접착하는 임시 기판 접착 단계;를 더 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, the temporary substrate adhering step may include a temporary substrate adhering step of adhering a temporary substrate with an adhesive to the lower surface of the substrate so as to temporarily support the substrate after the substrate preparing step.

또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 접착제는 UV광에 의해 경화 및 용융이 가능한 UV접착제이고, 상기 임시 기판은 상기 UV광이 통과할 수 있는 투광성 유리 기판이며, 상기 발광 소자 안착 단계 이후에, 상기 임시 기판을 통과하여 상기 UV접착제를 용융시킬 수 있도록 상기 임시 기판에 UV광을 조사하고, 상기 기판으로부터 상기 임시 기판을 제거하는 임시 기판 제거 단계;를 더 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, the adhesive is a UV adhesive capable of being cured and melted by UV light, and the temporary substrate is a translucent glass substrate through which the UV light can pass. After the light emitting element seating step, And a temporary substrate removing step of irradiating the temporary substrate with UV light so that the UV adhesive can be melted through the temporary substrate and removing the temporary substrate from the substrate.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 제품의 두께를 얇게 줄여서 재료비 및 제조비를 절감하고, 이로 인하여 제품의 단가를 낮추어 저렴한 제품을 생산할 수 있으며, 발광 소자의 정렬 및 광축의 정렬을 용이하게 할 수 있는 효과를 갖는 것이다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.According to some embodiments of the present invention as described above, it is possible to reduce the thickness of the product to reduce the material cost and the manufacturing cost, thereby lowering the unit cost of the product and produce an inexpensive product. It is possible to facilitate the operation. Of course, the scope of the present invention is not limited by these effects.

도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지를 나타내는 부품 분해 사시도이다.
도 2는 도 1의 발광 소자 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 3 내지 도 9는 도 1의 발광 소자 패키지의 제조 과정을 단계적으로 나타내는 단면도들이다.
도 10은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지의 제조 방법을 나타내는 순서도이다.
1 is an exploded perspective view of a light emitting device package according to some embodiments of the present invention.
2 is a cross-sectional view showing the light emitting device package of FIG.
FIGS. 3 to 9 are cross-sectional views illustrating steps of manufacturing the light emitting device package of FIG. 1. FIG.
10 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a light emitting device package according to some embodiments of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 여러 실시예들을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려 이들 실시예들은 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. 또한, 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이다.The embodiments of the present invention are described in order to more fully explain the present invention to those skilled in the art, and the following embodiments may be modified into various other forms, It is not limited to the embodiment. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be more thorough and complete, and will fully convey the concept of the invention to those skilled in the art. In the drawings, the thickness and size of each layer are exaggerated for convenience and clarity of explanation.

명세서 전체에 걸쳐서, 막, 영역 또는 기판과 같은 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "상에", "연결되어", "적층되어" 또는 "커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 상기 하나의 구성요소가 직접적으로 다른 구성요소 "상에", "연결되어", "적층되어" 또는 "커플링되어" 접촉하거나, 그 사이에 개재되는 또 다른 구성요소들이 존재할 수 있다고 해석될 수 있다. 반면에, 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "직접적으로 상에", "직접 연결되어", 또는 "직접 커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 그 사이에 개재되는 다른 구성요소들이 존재하지 않는다고 해석된다. 동일한 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "및/또는"은 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.It is to be understood that throughout the specification, when an element such as a film, region or substrate is referred to as being "on", "connected to", "laminated" or "coupled to" another element, It will be appreciated that elements may be directly "on", "connected", "laminated" or "coupled" to another element, or there may be other elements intervening therebetween. On the other hand, when one element is referred to as being "directly on", "directly connected", or "directly coupled" to another element, it is interpreted that there are no other components intervening therebetween do. Like numbers refer to like elements. As used herein, the term "and / or" includes any and all combinations of one or more of the listed items.

본 명세서에서 제 1, 제 2 등의 용어가 다양한 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들을 설명하기 위하여 사용되지만, 이들 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들은 이들 용어에 의해 한정되어서는 안됨은 자명하다. 이들 용어는 하나의 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 다른 영역, 층 또는 부분과 구별하기 위하여만 사용된다. 따라서, 이하 상술할 제 1 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분은 본 발명의 가르침으로부터 벗어나지 않고서도 제 2 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 지칭할 수 있다.Although the terms first, second, etc. are used herein to describe various elements, components, regions, layers and / or portions, these members, components, regions, layers and / It is obvious that no. These terms are only used to distinguish one member, component, region, layer or section from another region, layer or section. Thus, a first member, component, region, layer or section described below may refer to a second member, component, region, layer or section without departing from the teachings of the present invention.

또한, "상의" 또는 "위의" 및 "하의" 또는 "아래의"와 같은 상대적인 용어들은 도면들에서 도해되는 것처럼 다른 요소들에 대한 어떤 요소들의 관계를 기술하기 위해 여기에서 사용될 수 있다. 상대적 용어들은 도면들에서 묘사되는 방향에 추가하여 소자의 다른 방향들을 포함하는 것을 의도한다고 이해될 수 있다. 예를 들어, 도면들에서 소자가 뒤집어 진다면, 다른 요소들의 상부의 면 상에 존재하는 것으로 묘사되는 요소들은 상기 다른 요소들의 하부의 면 상에 방향을 가지게 된다. 그러므로, 예로써 든 "상의"라는 용어는, 도면의 특정한 방향에 의존하여 "하의" 및 "상의" 방향 모두를 포함할 수 있다. 소자가 다른 방향으로 향한다면(다른 방향에 대하여 90도 회전), 본 명세서에 사용되는 상대적인 설명들은 이에 따라 해석될 수 있다.Also, relative terms such as "top" or "above" and "under" or "below" can be used herein to describe the relationship of certain elements to other elements as illustrated in the Figures. Relative terms are intended to include different orientations of the device in addition to those depicted in the Figures. For example, if the element is inverted in the figures, the elements depicted as being on the upper surface of the other elements will have a direction on the lower surface of the other elements. Thus, the example "top" may include both "under" and "top" directions depending on the particular orientation of the figure. If the elements are oriented in different directions (rotated 90 degrees with respect to the other direction), the relative descriptions used herein can be interpreted accordingly.

본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. As used herein, the singular forms "a," "an," and "the" include singular forms unless the context clearly dictates otherwise. Also, " comprise "and / or" comprising "when used herein should be interpreted as specifying the presence of stated shapes, numbers, steps, operations, elements, elements, and / And does not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, operations, elements, elements, and / or groups.

이하, 본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들을 개략적으로 도시하는 도면들을 참조하여 설명한다. 도면들에 있어서, 예를 들면, 제조 기술 및/또는 공차(tolerance)에 따라, 도시된 형상의 변형들이 예상될 수 있다. 따라서, 본 발명 사상의 실시예는 본 명세서에 도시된 영역의 특정 형상에 제한된 것으로 해석되어서는 아니 되며, 예를 들면 제조상 초래되는 형상의 변화를 포함하여야 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings schematically showing ideal embodiments of the present invention. In the figures, for example, variations in the shape shown may be expected, depending on manufacturing techniques and / or tolerances. Accordingly, the embodiments of the present invention should not be construed as limited to the particular shapes of the regions illustrated herein, but should include, for example, changes in shape resulting from manufacturing.

도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)를 나타내는 부품 분해 사시도이다. 그리고, 도 2는 도 1의 발광 소자 패키지(100)를 나타내는 단면도이다.1 is a partially exploded perspective view of a light emitting device package 100 according to some embodiments of the present invention. 2 is a cross-sectional view showing the light emitting device package 100 of FIG.

먼저, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)는, 하부 전극층(10), 접착층(20) 및 절연 지지층(30)으로 이루어지는 기판(1)과, 제 1 본딩 매체(B1)와, 제 2 본딩 매체(B2) 및 발광 소자(40)를 포함할 수 있다.1 and 2, a light emitting device package 100 according to some embodiments of the present invention includes a substrate 100 made of a lower electrode layer 10, an adhesive layer 20, and an insulating support layer 30 1, a first bonding medium B1, a second bonding medium B2, and a light emitting element 40. [

예컨대, 상기 기판(1)은 에폭시계 수지 시트와 상기 하부 전극층(10)을 상기 접착층(20)을 이용하여 PCB 제조 공법으로 다층 형성시킨 인쇄 회로 기판(PCB: Printed Circuit Board)이 적용될 수 있다. 또한, 상기 기판(1)은, 연성 재질의 플랙서블 인쇄 회로 기판(FPCB: Flexible Printed Circuit Board)일 수 있다.For example, the substrate 1 may be a printed circuit board (PCB) in which an epoxy resin sheet and the lower electrode layer 10 are multilayered by a PCB manufacturing method using the adhesive layer 20. The substrate 1 may be a Flexible Printed Circuit Board (FPCB) made of a flexible material.

여기서, 상기 하부 전극층(10)은 전극 분리 공간(A)을 기준으로 일측에 제 1 전극(11) 및 타측에 제 2 전극(12)을 갖는 패턴이 형성된 구리층일 수 있다. 그러나, 상기 하부 전극층(10)은 반드시 구리층에만 국한되지 않고, 알루미늄, 아연, 주석, 납, 금, 은 등의 전기 전도성이 높은 금속 재질이 적용될 수 있다.The lower electrode layer 10 may be a copper layer having a pattern having a first electrode 11 on one side and a second electrode 12 on the other side with respect to the electrode separation space A. However, the lower electrode layer 10 is not necessarily limited to the copper layer but may be formed of a metal material having high electrical conductivity such as aluminum, zinc, tin, lead, gold, or silver.

또한, 예를 들어서, 상기 접착층(20)은 상기 하부 전극층(10)의 상방에 형성되는 에폭시 계열의 접착 부재일 수 있다. 그러나, 이러한 상기 접착층(20)은 에폭시에만 반드시 국한되지 않고, 각종 유기 물질이나 무기 물질이나, 폴리머 재질 등 PCB 제조 공정에 적용되는 모든 종류의 접착 재질이 적용될 수 있다.Also, for example, the adhesive layer 20 may be an epoxy-based adhesive member formed above the lower electrode layer 10. However, the adhesive layer 20 is not necessarily limited to epoxy, and may be applied to all kinds of adhesive materials applied to a PCB manufacturing process such as various organic materials, inorganic materials, and polymer materials.

또한, 예컨대, 상기 절연 지지층(30)은, 상기 접착층(20)의 상방에 형성되고, 상기 하부 전극층(10)과 접착되어 상기 하부 전극층(10)을 지지하며, 상기 하부 전극층(10)의 상기 제 1 전극(11)의 상면 일부가 노출되도록 제 1 관통홀(H1)이 형성되고, 상기 제 2 전극(12)의 상면 일부가 노출되도록 제 2 관통홀(H2)이 형성되는 일종의 절연성 기판 코어층일 수 있다.The insulating support layer 30 may be formed on the adhesive layer 20 and may adhere to the lower electrode layer 10 to support the lower electrode layer 10, A first through hole H1 is formed to expose a part of an upper surface of the first electrode 11 and a second through hole H2 is formed so that a part of an upper surface of the second electrode 12 is exposed. Layer.

더욱 구체적으로는, 상기 절연 지지층(30)은 폴리이미드 성분이 포함될 수 있고, 이외에도 각종 레진, 글래스 에폭시 등의 합성 수지 기판이나, 열전도율을 고려하여 세라믹(ceramic) 기판이 적용될 수 있다.More specifically, the insulating support layer 30 may include a polyimide component, a synthetic resin substrate such as various resins and glass epoxy, or a ceramic substrate in consideration of thermal conductivity.

또한, 상기 절연 지지층(30)은, 가공성을 향상시키기 위해서 부분적 또는 전체적으로 적어도 EMC(Epoxy Mold Compound), PI(polyimide), 세라믹, 그래핀, 유리합성섬유 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 선택하여 이루어지는 것일 수 있다.In order to improve workability, the insulating support layer 30 may be formed by partially or wholly selecting at least one of EMC (Epoxy Mold Compound), PI (polyimide), ceramic, graphene, glass synthetic fiber, . ≪ / RTI >

더욱 구체적으로 예를 들면, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 하부 전극층(10)은 외부 기판과 전기적으로 연결될 수 있도록 구리 성분을 포함하는 구리 재질이고, 상기 절연 지지층(30)은 폴리이미드 성분을 포함하는 절연성 수지 재질일 수 있다.1 and 2, the lower electrode layer 10 is made of a copper material containing copper so as to be electrically connected to an external substrate, and the insulating support layer 30 is made of poly And may be an insulating resin material containing a mid component.

한편, 예컨대, 상기 제 1 본딩 매체(B1)는 상기 제 1 관통홀(H1)에 충전되는 전도성 재질의 솔더 또는 솔더 패이스트일 수 있고, 상기 제 2 본딩 매체(B2)는 상기 제 2 관통홀(H2)에 충전되는 전도성 재질의 솔더 또는 솔더 패이스트일 수 있다.Meanwhile, for example, the first bonding medium B1 may be a solder or a solder paste of a conductive material filled in the first through hole H1, and the second bonding medium B2 may be a second through hole H2). ≪ / RTI >

또한, 예를 들어서, 상기 제 1 관통홀(H1) 및 상기 제 2 관통홀(H2)에는 상기 제 1 본딩 매체(B1) 및 상기 제 2 본딩 매체(B2)의 충전이 용이하도록 그 내부에 유기 용제 등의 플럭스(flux)가 도포될 수 있다.For example, the first through-hole H1 and the second through-hole H2 may be filled with the first bonding medium B1 and the second bonding medium B2 to facilitate filling of the first bonding medium B1 and the second bonding medium B2. A flux such as a solvent can be applied.

따라서, 상기 기판(1)은 상기 제 1 관통홀(H1) 및 상기 제 2 관통홀(H2)의 깊이가 매우 낮아서 상기 제 1 관통홀(H1) 및 상기 제 2 관통홀(H2)에 상기 제 1 본딩 매체(B1) 및 상기 제 2 본딩 매체(B2)가 쉽게 충전될 수 있는 박막형 기판에 적용될 수 있고, 상기 기판(1)은 상기 제 1 관통홀(H1) 및 상기 제 2 관통홀(H2)의 깊이가 상대적으로 깊어서 상기 제 1 관통홀(H1) 및 상기 제 2 관통홀(H2)에 상기 제 1 본딩 매체(B1) 및 상기 제 2 본딩 매체(B2)가 쉽게 충전되기 어려울 때, 상기 플럭스를 이용하여 쉽게 충전시킬 수 있다.Therefore, the depth of the first through hole H1 and the second through hole H2 of the substrate 1 is very low, and the depth of the first through hole H1 and the second through hole H2 are very small, The substrate 1 can be applied to a thin film substrate on which the first bonding medium B1 and the second bonding medium B2 can be easily filled and the substrate 1 can be bonded to the first through hole H1 and the second through hole H2 When the first bonding medium B1 and the second bonding medium B2 are difficult to be easily filled in the first through hole H1 and the second through hole H2 because the depth of the first bonding medium B1 and the second bonding medium B2 are relatively deep, It is easy to charge using flux.

더욱 구체적으로 예를 들면, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 관통홀(H1) 및 상기 제 2 관통홀(H2)은 도 5의 펀치(P)로 상기 절연 지지층(30) 및 상기 접착층(20)을 펀칭하여 형성될 수 있다.More specifically, for example, as shown in FIGS. 1 and 2, the first through-hole H1 and the second through-hole H2 are formed in the insulating support layer 30 by the punch P of FIG. And the adhesive layer 20 may be punched.

여기서, 상기 절연 지지층(30) 및 상기 접착층(20)은 상기 하부 전극층(10) 보다 강도가 낮은 재질이기 때문에 상기 펀치(P)의 높이를 조절하여 상기 하부 전극층(10)을 관통하지 않고, 상기 절연 지지층(30) 및 상기 접착층(20)만 관통되게 할 수 있다.Since the insulating support layer 30 and the adhesive layer 20 are made of a material having a lower strength than the lower electrode layer 10, the height of the punch P is controlled so as not to pass through the lower electrode layer 10, Only the insulating support layer 30 and the adhesive layer 20 can be penetrated.

그러나, 상기 펀치(P)에만 국한되지 않고, 레이져나 식각이나 절삭 등 매우 다양한 공정을 이용하여 상기 제 1 관통홀(H1) 및 상기 제 2 관통홀(H2)을 형성할 수 있다.However, the first through hole H1 and the second through hole H2 can be formed by using a variety of processes such as laser, etching, and cutting, not limited to the punch P described above.

한편, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 발광 소자(40)는, 상기 제 1 본딩 매체(B1)와 제 1 전극 패드(P1)가 전기적으로 연결되고, 상기 제 2 본딩 매체(B2)와 제 2 전극 패드(P2)가 전기적으로 연결되도록 상기 제 1 본딩 매체(B1)와 상기 제 2 본딩 매체(B2) 상에 안착되는 플립칩(flip chip) 형태의 LED(Light Emitting Diode)일 수 있다.1 and 2, the first bonding medium B1 and the first electrode pad P1 are electrically connected to each other, and the second bonding medium B2 A flip chip type LED (Light Emitting Diode) mounted on the first bonding medium B1 and the second bonding medium B2 so that the first electrode pad P2 and the second electrode pad P2 are electrically connected to each other .

한편, 도시하지 않았지만, 상기 패드 이외에도 펌프나 솔더 등의 신호전달매체를 갖는 플립칩 형태일 수 있고, 이외에도, 단자에 본딩 와이어가 적용되거나, 부분적으로 제 1 단자 또는 제 2 단자에만 본딩 와이어가 적용되는 발광 소자나, 수평형, 수직형 발광 소자 등이 모두 적용될 수 있다.Although not shown, the pad may be in the form of a flip chip having a signal transmission medium such as a pump or a solder in addition to the pad. In addition, a bonding wire may be applied to the terminal, or a bonding wire may be applied only to the first terminal or the second terminal A vertical type light emitting device, or the like may be used as the light emitting device.

또한, 상기 제 1 패드와 상기 제 2 패드는 도 1에 도시된 사각판 형상 이외에 다양한 형상으로 변형될 수 있고, 예컨대 하나의 암 상에 다수 핑거들이 구비된 핑거 구조나 범프 구조 등을 가질 수도 있다.In addition, the first and second pads may have various shapes other than the rectangular plate shape shown in FIG. 1, and may have a finger structure or a bump structure having a plurality of fingers on one arm .

또한, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 발광 소자(40)는, 상기 기판(1)에 1개가 설치될 수도 있고, 이외에도 도시하지 않았지만, 상기 기판(1)에 복수개가 설치되는 것도 가능하다. 1 and 2, one or more light emitting devices 40 may be provided on the substrate 1, and a plurality of light emitting devices 40 may be provided on the substrate 1 It is possible.

이외에도, 도시하지 않았지만, 상기 발광 소자(40)는, 본딩 와이어를 이용하여 상기 기판(1)과 전기적으로 연결되는 수평형 또는 수직형 발광 소자일 수 있다.In addition, although not shown, the light emitting device 40 may be a horizontal or vertical type light emitting device electrically connected to the substrate 1 using a bonding wire.

이러한, 상기 발광 소자(40)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 반도체로 이루어질 수 있다. 예를 들어서, 질화물 반도체로 이루어지는 청색, 녹색, 적색, 황색 발광의 LED, 자외 발광의 LED, 적외 발광의 LED 등이 적용될 수 있다.As shown in FIGS. 1 and 2, the light emitting device 40 may be formed of a semiconductor. For example, LEDs of blue, green, red, and yellow light emission, LEDs of ultraviolet light emission, and LEDs of infrared light emission, which are made of a nitride semiconductor, can be applied.

또한, 상기 발광 소자(40)는, 예를 들면, MOCVD법 등의 기상성장법에 의해, 성장용 사파이어 기판이나 실리콘 카바이드 기판 상에 InN, AlN, InGaN, AlGaN, InGaAlN 등의 질화물 반도체를 에피택셜 성장시켜 구성할 수 있다. 또한, 상기 발광 소자(20)는, 질화물 반도체 이외에도 ZnO, ZnS, ZnSe, SiC, GaP, GaAlAs, AlInGaP 등의 반도체를 이용해서 형성할 수 있다. 이들 반도체는, n형 반도체층, 발광층, p형 반도체층의 순으로 형성한 적층체를 이용할 수 있다. 상기 발광층(활성층)은, 다중 양자웰 구조나 단일 양자웰 구조를 한 적층 반도체 또는 더블 헤테로 구조의 적층 반도체를 이용할 수 있다. 또한, 상기 발광 소자(40)는, 디스플레이 용도나 조명 용도 등 용도에 따라 임의의 파장의 것을 선택할 수 있다.The nitride semiconductor such as InN, AlN, InGaN, AlGaN, or InGaAlN is epitaxially grown on a sapphire substrate for growth or a silicon carbide substrate by a vapor phase growth method such as MOCVD To grow. The light emitting device 20 may be formed using semiconductors such as ZnO, ZnS, ZnSe, SiC, GaP, GaAlAs, and AlInGaP in addition to the nitride semiconductor. These semiconductors can be stacked in the order of an n-type semiconductor layer, a light emitting layer, and a p-type semiconductor layer. The light emitting layer (active layer) may be a laminated semiconductor having a multiple quantum well structure or a single quantum well structure or a laminated semiconductor having a double hetero structure. In addition, the light emitting device 40 can be selected to have an arbitrary wavelength depending on applications such as display use and illumination use.

여기서, 상기 성장용 기판으로는 필요에 따라 절연성, 도전성 또는 반도체 기판이 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 성장용 기판은 사파이어, SiC, Si, MgAl2O4, MgO, LiAlO2, LiGaO2, GaN일 수 있다. GaN 물질의 에피성장을 위해서는 동종 기판인 GaN 기판이 좋으나, GaN 기판은 그 제조상의 어려움으로 생산단가가 높은 문제가 있다.Here, as the growth substrate, an insulating, conductive or semiconductor substrate may be used if necessary. For example, the growth substrate may be sapphire, SiC, Si, MgAl 2 O 4 , MgO, LiAlO 2 , LiGaO 2 , GaN. A GaN substrate, which is a homogeneous substrate, is preferable for epitaxial growth of a GaN material, but a GaN substrate has a problem of high production cost due to its difficulty in manufacturing.

이종 기판으로는 사파이어, 실리콘 카바이드(SiC) 기판 등이 주로 사용되고 있으며. 가격이 비싼 실리콘 카바이드 기판에 비해 사파이어 기판이 더 많이 활용되고 있다. 이종 기판을 사용할 때는 기판 물질과 박막 물질 사이의 격자상수의 차이로 인해 전위(dislocation) 등 결함이 증가한다. 또한, 기판 물질과 박막 물질 사이의 열팽창계수의 차이로 인해 온도 변화시 휨이 발생하고, 휨은 박막의 균열(crack)의 원인이 된다. 기판과 GaN계인 발광 적층체 사이의 버퍼층을 이용해 이러한 문제를 감소시킬 수도 있다.Sapphire and silicon carbide (SiC) substrates are mainly used as the different substrates. Sapphire substrates are more utilized than expensive silicon carbide substrates. When using a heterogeneous substrate, defects such as dislocation are increased due to the difference in lattice constant between the substrate material and the thin film material. Also, due to the difference in the thermal expansion coefficient between the substrate material and the thin film material, warping occurs at a temperature change, and warping causes a crack in the thin film. This problem may be reduced by using a buffer layer between the substrate and the GaN-based light emitting laminate.

또한, 상기 성장용 기판은 LED 구조 성장 전 또는 후에 LED 칩의 광 또는 전기적 특성을 향상시키기 위해 칩 제조 과정에서 완전히 또는 부분적으로 제거되거나 패터닝하는 경우도 있다.In addition, the substrate for growth may be completely or partially removed or patterned in order to improve the optical or electrical characteristics of the LED chip before or after the growth of the LED structure.

예를 들어, 사파이어 기판인 경우는 레이저를 기판을 통해 반도체층과의 계면에 조사하여 기판을 분리할 수 있으며, 실리콘이나 실리콘 카바이드 기판은 연마/에칭 등의 방법에 의해 제거할 수 있다.For example, in the case of a sapphire substrate, the substrate can be separated by irradiating the laser to the interface with the semiconductor layer through the substrate, and the silicon or silicon carbide substrate can be removed by a method such as polishing / etching.

또한, 상기 성장용 기판 제거 시에는 다른 지지 기판을 사용하는 경우가 있으며 지지 기판은 원 성장 기판의 반대쪽에 LED 칩의 광효율을 향상시키게 위해서, 반사 금속을 사용하여 접합하거나 반사구조를 접합층의 중간에 삽입할 수 있다.Another supporting substrate may be used for removing the growth substrate. In order to improve the light efficiency of the LED chip on the opposite side of the growth substrate, the supporting substrate may be bonded using a reflective metal, As shown in FIG.

또한, 상기 성장용 기판 패터닝은 기판의 주면(표면 또는 양쪽면) 또는 측면에 LED 구조 성장 전 또는 후에 요철 또는 경사면을 형성하여 광 추출 효율을 향상시킨다. 패턴의 크기는 5nm ~ 500㎛ 범위에서 선택될 수 있으며 규칙 또는 불규칙적인 패턴으로 광 추출 효율을 좋게 하기 위한 구조면 가능하다. 모양도 기둥, 산, 반구형, 다각형 등의 다양한 형태를 채용할 수 있다.In addition, patterning of the growth substrate improves the light extraction efficiency by forming irregularities or slopes before or after the LED structure growth on the main surface (front surface or both sides) or side surfaces of the substrate. The size of the pattern can be selected from the range of 5 nm to 500 μm and it is possible to make a structure for improving the light extraction efficiency with a rule or an irregular pattern. Various shapes such as a shape, a column, a mountain, a hemisphere, and a polygon can be adopted.

상기 사파이어 기판의 경우, 육각-롬보형(Hexa-Rhombo R3c) 대칭성을 갖는 결정체로서 c축 및 a측 방향의 격자상수가 각각 13.001과 4.758 이며, C면, A면, R면 등을 갖는다. 이 경우, 상기 C면은 비교적 질화물 박막의 성장이 용이하며, 고온에서 안정하기 때문에 질화물 성장용 기판으로 주로 사용된다.In the case of the sapphire substrate, the crystals having a hexagonal-rhombo-cubic (Hexa-Rhombo R3c) symmetry have lattice constants of 13.001 and 4.758 in the c-axis direction and the a-axis direction, respectively, and have C plane, A plane and R plane. In this case, the C-plane is relatively easy to grow the nitride film, and is stable at high temperature, and thus is mainly used as a substrate for nitride growth.

또한, 상기 성장용 기판의 다른 물질로는 Si 기판을 들 수 있으며, 대구경화에 보다 적합하고 상대적으로 가격이 낮아 양산성이 향상될 수 있다.Another material of the growth substrate is a Si substrate, which is more suitable for large-scale curing and relatively low in cost, so that mass productivity can be improved.

또한, 상기 실리콘(Si) 기판은 GaN계 반도체에서 발생하는 빛을 흡수하여 발광소자의 외부 양자 효율이 낮아지므로, 필요에 따라 상기 기판을 제거하고 열전도 반사층이 포함된 Si, Ge, SiAl, 세라믹, 또는 금속 기판 등의 지지기판을 추가로 형성하여 사용한다.Since the external quantum efficiency of the light emitting device is lowered by absorbing light generated from the GaN-based semiconductor, the Si (silicon) substrate may be removed, if necessary, and Si, Ge, SiAl, Or a support substrate such as a metal substrate is further formed and used.

상기 Si 기판과 같이 이종 기판상에 GaN 박막을 성장시킬 때, 기판 물질과 박막 물질 사이의 격자 상수의 불일치로 인해 전위(dislocation) 밀도가 증가하고, 열팽창 계수 차이로 인해 균열(crack) 및 휨이 발생할 수 있다. 발광 적층체의 전위 및 균열을 방지하기 위한 목적으로 성장용 기판과 발광적층체 사이에 버퍼층을 배치시킬 수 있다. 상기 버퍼층은 활성층 성장시 기판의 휘는 정도를 조절해 웨이퍼의 파장 산포를 줄이는 기능도 한다.When a GaN thin film is grown on a different substrate such as the Si substrate, the dislocation density increases due to the lattice constant mismatch between the substrate material and the thin film material, and cracks and warpage Lt; / RTI > The buffer layer may be disposed between the growth substrate and the light emitting stack for the purpose of preventing dislocation and cracking of the light emitting stack. The buffer layer also functions to reduce the scattering of the wavelength of the wafer by adjusting the degree of warping of the substrate during the growth of the active layer.

여기서, 상기 버퍼층은 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, 또는 InGaNAlN를 사용할 수 있으며, 필요에 따라 ZrB2, HfB2, ZrN, HfN, TiN 등의 물질도 사용할 수 있다. 또한, 복수의 층을 조합하거나, 조성을 점진적으로 변화시켜 사용할 수도 있다.The buffer layer may be made of GaN, AlN, AlGaN, InGaN, or InGaNAlN. If necessary, a material such as ZrB 2 , HfB 2 , ZrN, HfN, or TiN may be used. Further, a plurality of layers may be combined, or the composition may be gradually changed.

따라서, 기존의 상부 접착층과 상부 전극층을 제거하고, 상기 본딩 매체(B1)(B2)를 상기 관통홀(H1)(H2) 내부에 충전시켜서 제품의 두께를 얇게 줄임으로써 재료비 및 제조비를 절감하고, 이로 인하여 제품의 단가를 낮추어 저렴한 제품을 생산할 수 있으며, 상기 관통홀(H1)(H2) 내부에 상기 발광 소자(40)의 패드(P1)(P2)가 삽입되게 하여 상기 발광 소자(40)의 정렬 및 광축의 정렬을 용이하게 할 수 있다.Therefore, the existing upper adhesive layer and the upper electrode layer are removed, and the bonding media B1 and B2 are filled in the through holes H1 and H2 to reduce the thickness of the product, thereby reducing the material cost and the manufacturing cost, This allows the product to be manufactured at a low cost to produce an inexpensive product. The pads P1 and P2 of the light emitting device 40 are inserted into the through holes H1 and H2, Alignment and alignment of the optical axis can be facilitated.

한편, 상기 발광 소자(40)의 상방에는 형광체나, 양자점이나, 투광성 봉지재나, 각종 충전재 등 매우 다양한 부재들이 설치될 수 있다.On the other hand, a very wide variety of members such as a fluorescent material, a quantum dot, a light-transmitting encapsulant, various fillers, and the like may be disposed above the light emitting device 40.

도 3 내지 도 9는 도 1의 발광 소자 패키지(100)의 제조 과정을 단계적으로 나타내는 단면도들이다.FIGS. 3 to 9 are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of the light emitting device package 100 of FIG. 1 step by step.

도 3 내지 도 9에 도시된 바와 같이, 도 1의 발광 소자 패키지(100)의 제조 과정을 설명하면, 먼저, 도 3에 도시된 바와 같이, 전극 분리 공간(A)을 기준으로 일측에 제 1 전극(11) 및 타측에 제 2 전극(12)을 갖는 하부 전극층(10)과, 상기 하부 전극층(10)의 상방에 형성되는 접착층(20) 및 상기 접착층(20)의 상방에 절연 지지층(30)을 포함하는 기판(1)을 준비할 수 있다.As shown in FIGS. 3 to 9, the manufacturing process of the light emitting device package 100 of FIG. 1 will be described. First, as shown in FIG. 3, A lower electrode layer 10 having an electrode 11 and a second electrode 12 on the other side and an adhesive layer 20 formed above the lower electrode layer 10 and an insulating support layer 30 ) Can be prepared.

이어서, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 기판(1)을 임시 지지할 수 있도록 상기 기판(1)의 하면에 접착제(3)로 임시 기판(2)을 접착할 수 있다.4, the temporary substrate 2 may be adhered to the lower surface of the substrate 1 with the adhesive 3 so that the substrate 1 can be temporarily supported.

여기서, 상기 접착제(3)는 UV광에 의해 경화 및 용융이 가능한 UV접착제일 수 있고, 상기 임시 기판(2)은 상기 UV광이 통과할 수 있는 투광성 유리 기판일 수 있다. 이외에도 상기 접착제(3)는 박리가 용이한 다양한 종류의 임시 접착제가 모두 적용될 수 있고, 상기 임시 기판(2) 역시, 박리가 용이한 다양한 종류의 임시 부착 시트가 모두 적용될 수 있다.Here, the adhesive 3 may be a UV adhesive that can be cured and melted by UV light, and the temporary substrate 2 may be a transparent glass substrate through which the UV light can pass. In addition, the adhesive 3 may be applied to various kinds of temporary adhesives that are easy to peel off, and the temporary substrate 2 may also be applied to various types of temporary adhesive sheets which are easily peeled off.

이어서, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 하부 전극층(10)의 상기 제 1 전극(11)의 상면 일부가 노출되고, 상기 제 2 전극(12)의 상면 일부가 노출되도록 상기 기판(1)에 제 1 관통홀(H1) 및 제 2 관통홀(H2)을 형성할 수 있다.5, a portion of the upper surface of the first electrode 11 of the lower electrode layer 10 is exposed, and a portion of the upper surface of the second electrode 12 is exposed. As shown in FIG. 5, The first through hole H1 and the second through hole H2 can be formed.

이 때, 펀치(P)로 상기 기판(1)의 상기 접착층(20) 및 상기 절연 지지층(30)을 펀칭하여 상기 제 1 관통홀(H1) 및 상기 제 2 관통홀(H2)을 형성할 수 있다.At this time, the first through hole H1 and the second through hole H2 can be formed by punching the adhesive layer 20 and the insulating support layer 30 of the substrate 1 with the punch P have.

이어서, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 관통홀(H1) 및 상기 제 2 관통홀(H2)에 전도성 재질인 제 1 본딩 매체(B1) 및 제 2 본딩 매체(B2)를 충전할 수 있다.6, a first bonding medium B1 and a second bonding medium B2, which are conductive materials, may be filled in the first through hole H1 and the second through hole H2. have.

이어서, 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 본딩 매체(B1)와 제 1 전극 패드(P1)가 전기적으로 연결되고, 상기 제 2 본딩 매체(B2)와 제 2 전극 패드(P2)가 전기적으로 연결되도록 상기 제 1 본딩 매체(B1)와 상기 제 2 본딩 매체(B2) 상에 발광 소자(40)를 안착시킬 수 있다.7, the first bonding medium B1 and the first electrode pad P1 are electrically connected to each other, and the second bonding medium B2 and the second electrode pad P2 are electrically connected to each other, The light emitting device 40 may be mounted on the first bonding medium B1 and the second bonding medium B2 so as to be connected to the second bonding medium B2.

이어서, 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 임시 기판(2)을 통과하여 상기 접착제(3)를 용융시킬 수 있도록 상기 임시 기판(2)에 UV광(UV)을 조사하고, 도 9에 도시된 바와 같이, 상기 기판(1)으로부터 상기 임시 기판(2)을 제거할 수 있다.8, UV light (UV) is applied to the temporary substrate 2 so as to melt the adhesive 3 through the temporary substrate 2, The temporary substrate 2 can be removed from the substrate 1, as shown in FIG.

한편, 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 백라이트 유닛(1000)은, 전극 분리 공간(A)을 기준으로 일측에 제 1 전극(11) 및 타측에 제 2 전극(12)을 갖는 하부 전극층(10)과, 상기 하부 전극층(10)의 상방에 형성되는 접착층(20)과, 상기 접착층(20)의 상방에 형성되고, 상기 하부 전극층(10)과 접착되어 상기 하부 전극층(10)을 지지하며, 상기 하부 전극층(10)의 상기 제 1 전극(11)의 상면 일부가 노출되도록 제 1 관통홀(H1)이 형성되고, 상기 제 2 전극(12)의 상면 일부가 노출되도록 제 2 관통홀(H2)이 형성되는 절연 지지층(30)과, 상기 제 1 관통홀(H1)에 충전되는 전도성 재질의 제 1 본딩 매체(B1)와, 상기 제 2 관통홀(H2)에 충전되는 전도성 재질의 제 2 본딩 매체(B2)와, 상기 제 1 본딩 매체(B1)와 제 1 전극 패드(P1)가 전기적으로 연결되고, 상기 제 2 본딩 매체(B2)와 제 2 전극 패드(P2)가 전기적으로 연결되도록 상기 제 1 본딩 매체(B1)와 상기 제 2 본딩 매체(B2) 상에 안착되는 발광 소자(40) 및 상기 발광 소자(40)의 광경로에 설치되는 도광판(110)을 포함할 수 있다.2, the backlight unit 1000 according to some embodiments of the present invention includes a first electrode 11 on one side and a second electrode 11 on the other side with reference to the electrode separation space A, A lower electrode layer 10 having a lower electrode layer 12 formed on the upper electrode layer 10 and an adhesive layer 20 formed on the lower electrode layer 10 and bonded to the lower electrode layer 10, A first through hole H1 is formed to expose a part of the upper surface of the first electrode 11 of the lower electrode layer 10 and a part of the upper surface of the second electrode 12 A first bonding medium B1 of a conductive material filled in the first through hole H1 and a second bonding medium B1 of a conductive material filled in the second through hole H2, A second bonding medium B2 of a conductive material filled in the first bonding medium B1 and a second bonding medium B2 electrically connected to the first bonding medium B1 and the first electrode pad P1, The light emitting device 40 and the light emitting device 40 are mounted on the first bonding medium B1 and the second bonding medium B2 so that the medium B2 and the second electrode pad P2 are electrically connected to each other. And a light guide plate 110 installed in an optical path of the light guide plate 110.

여기서, 상기 하부 전극층(10), 상기 접착층(20) 및 상기 절연 지지층(30)으로 이루어지는 상기 기판(1)과, 상기 제 1 본딩 매체(B1)와, 상기 제 2 본딩 매체(B2) 및 발광 소자(40)는, 도 1 내지 도 10에 도시된 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)의 구성 요소들과 그 구성 및 역할이 동일할 수 있다. 따라서, 상세한 설명은 생략한다.Here, the substrate 1, the first bonding medium B1, the second bonding medium B2, and the light emitting element (second substrate), each of which comprises the lower electrode layer 10, the adhesive layer 20, The device 40 may have the same configuration and function as those of the light emitting device package 100 according to some embodiments of the present invention shown in FIGS. Therefore, detailed description is omitted.

또한, 상기 도광판(110)은, 상기 발광 소자(40)에서 발생된 빛을 유도할 수 있도록 투광성 재질로 제작될 수 있는 광학 부재일 수 있다.The light guide plate 110 may be an optical member that can be made of a light-transmitting material to guide light generated from the light emitting device 40.

이러한, 상기 도광판(110)은, 상기 발광 소자(40)에서 발생된 빛의 광경로에 설치되어, 빛을 보다 넓은 면적으로 전달할 수 있다.The light guide plate 110 is installed in an optical path of light generated from the light emitting device 40, and can transmit light over a wider area.

이러한, 상기 도광판(110)은, 그 재질이 폴리카보네이트 계열, 폴리술폰계열, 폴리아크릴레이트 계열, 폴리스틸렌계, 폴리비닐클로라이드계, 폴리비닐알코올계, 폴리노르보넨 계열, 폴리에스테르 등이 적용될 수 있고, 이외에도 각종 투광성 수지 계열의 재질이 적용될 수 있다. 또한, 상기 도광판(110)은, 표면에 미세 패턴이나 미세 돌기나 확산막등을 형성하거나, 내부에 미세 기포를 형성하는 등 다양한 방법으로 이루어질 수 있다.The light guide plate 110 may be made of polycarbonate, polysulfone, polyacrylate, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol, polynorbornene, polyester, or the like , And various light transmitting resin materials may be applied. In addition, the light guide plate 110 may be formed by various methods such as forming fine patterns, fine protrusions, diffusion films, or the like on the surface, or forming fine bubbles therein.

여기서, 도시하지 않았지만, 상기 도광판(110)의 상방에는 각종 확산 시트, 프리즘 시트, 필터 등이 추가로 설치될 수 있다. 또한, 상기 도광판(110)의 상방에는 LCD 패널 등 각종 디스플레이 패널이 설치될 수 있다.Although not shown, various diffusion sheets, prism sheets, filters, and the like may be additionally provided above the light guide plate 110. In addition, various display panels such as an LCD panel may be installed above the light guide plate 110. [

한편, 도시하지 않았지만, 본 발명은 상술된 상기 발광 소자 패키지(100)를 포함하는 조명 장치 또는 디스플레이 장치를 포함할 수 있다. 여기서, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 상기 조명 장치 또는 디스플레이 장치의 구성 요소들은 상술된 본 발명의 발광 소자 패키지의 그것들과 구성과 역할이 동일할 수 있다. 따라서, 상세한 설명은 생략한다.Although not shown, the present invention may include a lighting device or a display device including the light emitting device package 100 described above. Here, the components of the illumination device or the display device according to some embodiments of the present invention may have the same configuration and function as those of the above-described light emitting device package of the present invention. Therefore, detailed description is omitted.

도 10은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지의 제조 방법을 나타내는 순서도이다.10 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a light emitting device package according to some embodiments of the present invention.

도 1 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지의 제조 방법은, 전극 분리 공간(A)을 기준으로 일측에 제 1 전극(11) 및 타측에 제 2 전극(12)을 갖는 하부 전극층(10)과, 상기 하부 전극층(10)의 상방에 형성되는 접착층(20) 및 상기 접착층(20)의 상방에 절연 지지층(30)을 포함하는 기판(1)을 준비하는 기판 준비 단계(S1)와, 상기 하부 전극층(10)의 상기 제 1 전극(11)의 상면 일부가 노출되고, 상기 제 2 전극(12)의 상면 일부가 노출되도록 상기 기판(1)에 제 1 관통홀(H1) 및 제 2 관통홀(H2)을 형성하는 관통홀 형성 단계(S3)와, 상기 제 1 관통홀(H1) 및 상기 제 2 관통홀(H2)에 전도성 재질인 제 1 본딩 매체(B1) 및 제 2 본딩 매체(B2)를 충전하는 본딩 매체 충전 단계(S4) 및 상기 제 1 본딩 매체(B1)와 제 1 전극 패드(P1)가 전기적으로 연결되고, 상기 제 2 본딩 매체(B2)와 제 2 전극 패드(P2)가 전기적으로 연결되도록 상기 제 1 본딩 매체(B1)와 상기 제 2 본딩 매체(B2) 상에 발광 소자(40)를 안착시키는 발광 소자 안착 단계(S5)를 포함할 수 있다.1 to 10, a method of manufacturing a light emitting device package according to some embodiments of the present invention includes forming a first electrode 11 on one side and a second electrode 11 on the other side with reference to an electrode separation space A, A substrate 1 including a lower electrode layer 10 having electrodes 12 and an adhesive layer 20 formed above the lower electrode layer 10 and an insulating support layer 30 above the adhesive layer 20, The substrate 1 is prepared so that a part of the upper surface of the first electrode 11 of the lower electrode layer 10 is exposed and a part of the upper surface of the second electrode 12 is exposed. A through hole forming step S3 for forming a first through hole H1 and a second through hole H2 and a second through hole forming step S3 for forming the first through hole H1 and the second through hole H2, A bonding medium filling step S4 filling the bonding medium B1 and the second bonding medium B2 and a step S4 of electrically connecting the first bonding medium B1 and the first electrode pad P1 And the light emitting device 40 is placed on the first bonding medium B1 and the second bonding medium B2 so that the second bonding medium B2 and the second electrode pad P2 are electrically connected to each other And a light emitting element seating step (S5).

여기서, 상기 관통홀 형성 단계(S3)는, 펀치(P)로 상기 기판(1)의 상기 접착층(20) 및 상기 절연 지지층(30)을 펀칭하여 상기 제 1 관통홀(H1) 및 상기 제 2 관통홀(H2)을 형성하는 것일 수 있다.Here, the through-hole forming step S3 may be performed by punching the adhesive layer 20 and the insulating supporting layer 30 of the substrate 1 with the punch P to form the first through hole H1 and the second through- And may form the through hole H2.

또한, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지의 제조 방법은, 상기 기판 준비 단계(S1) 이후에, 상기 기판(1)을 임시 지지할 수 있도록 상기 기판(1)의 하면에 접착제(3)로 임시 기판(2)을 접착하는 임시 기판 접착 단계(S2)를 더 포함할 수 있다.The method of manufacturing a light emitting device package according to some embodiments of the present invention may further include the step of applying an adhesive agent to the lower surface of the substrate 1 so as to temporarily support the substrate 1 after the substrate preparing step S1 3) for adhering the temporary substrate (2) to the temporary substrate (2).

또한, 상기 접착제(3)는 UV광에 의해 경화 및 용융이 가능한 UV접착제이고, 상기 임시 기판(2)은 상기 UV광이 통과할 수 있는 투광성 유리 기판이며, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지의 제조 방법은, 상기 발광 소자 안착 단계(S5) 이후에, 상기 임시 기판(2)을 통과하여 상기 접착제(3)를 용융시킬 수 있도록 상기 임시 기판(2)에 UV광(UV)을 조사하고, 상기 기판(1)으로부터 상기 임시 기판(2)을 제거하는 임시 기판 제거 단계(S6)를 더 포함할 수 있다.The adhesive 3 is a UV adhesive capable of being cured and melted by UV light. The temporary substrate 2 is a transparent glass substrate through which the UV light can pass. According to some embodiments of the present invention A method of manufacturing a light emitting device package includes the steps of UV light (UV) applied to the temporary substrate (2) so that the adhesive (3) can be melted after passing through the temporary substrate (2) (S6) for removing the temporary substrate (2) from the substrate (1).

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the invention. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

1: 기판
2: 임시 기판
3: 접착제
10: 하부 전극층
11: 제 1 전극
12: 제 2 전극
A: 전극 분리 공간
20: 접착층
30: 절연 지지층
H1: 제 1 관통홀
H2: 제 2 관통홀
B1: 제 1 본딩 매체
B2: 제 2 본딩 매체
40: 발광 소자
P1: 제 1 전극 패드
P2: 제 2 전극 패드
P: 펀치
100: 발광 소자 패키지
110: 도광판
1000: 백라이트 유닛
1: substrate
2: temporary substrate
3: Adhesive
10: Lower electrode layer
11: first electrode
12: Second electrode
A: electrode separation space
20: Adhesive layer
30: insulated supporting layer
H1: First through hole
H2: Second through hole
B1: First bonding medium
B2: Second bonding medium
40: Light emitting element
P1: first electrode pad
P2: second electrode pad
P: Punch
100: Light emitting device package
110: light guide plate
1000: Backlight unit

Claims (9)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 전극 분리 공간을 기준으로 일측에 제 1 전극 및 타측에 제 2 전극을 갖는 하부 전극층과, 상기 하부 전극층의 상방에 형성되는 접착층 및 상기 접착층의 상방에 절연 지지층을 포함하는 기판을 준비하는 기판 준비 단계;
상기 하부 전극층의 상기 제 1 전극의 상면 일부가 노출되고, 상기 제 2 전극의 상면 일부가 노출되도록 상기 기판에 제 1 관통홀 및 제 2 관통홀을 형성하는 관통홀 형성 단계;
상기 제 1 관통홀 및 상기 제 2 관통홀에 전도성 재질인 제 1 본딩 매체 및 제 2 본딩 매체를 충전하는 본딩 매체 충전 단계; 및
상기 제 1 본딩 매체와 제 1 전극 패드가 전기적으로 연결되고, 상기 제 2 본딩 매체와 제 2 전극 패드가 전기적으로 연결되도록 상기 제 1 본딩 매체와 상기 제 2 본딩 매체 상에 발광 소자를 안착시키는 발광 소자 안착 단계; 를 포함하고,
상기 관통홀 형성 단계는, 펀치로 상기 기판의 상기 접착층 및 상기 절연 지지층을 펀칭하여 상기 제 1 관통홀 및 상기 제 2 관통홀을 형성하는 것이며,
상기 기판 준비 단계 이후에,
상기 기판을 임시 지지할 수 있도록 상기 기판의 하면에 접착제로 임시 기판을 접착하는 임시 기판 접착 단계; 를 더 포함하는, 발광 소자 패키지의 제조 방법.
Preparing a substrate including a lower electrode layer having a first electrode on one side and a second electrode on the other side of the electrode separation space, an adhesive layer formed above the lower electrode layer, and an insulating support layer above the adhesive layer, ;
A through hole forming step of forming a first through hole and a second through hole in the substrate such that a part of an upper surface of the first electrode of the lower electrode layer is exposed and a part of an upper surface of the second electrode is exposed;
A bonding medium filling step of filling a first bonding medium and a second bonding medium, which are conductive materials, in the first through holes and the second through holes; And
The first bonding medium and the first electrode pad are electrically connected to each other and the second bonding medium and the second electrode pad are electrically connected to each other so that the light emitting device is placed on the first bonding medium and the second bonding medium, A device seating step; Lt; / RTI >
Wherein the through hole forming step forms the first through hole and the second through hole by punching the adhesive layer and the insulating supporting layer of the substrate with a punch,
After the substrate preparation step,
A temporary substrate adhering step of adhering a temporary substrate with an adhesive to a lower surface of the substrate so as to temporarily support the substrate; Emitting device package.
삭제delete 삭제delete 제 6 항에 있어서,
상기 접착제는 UV광에 의해 경화 및 용융이 가능한 UV접착제이고,
상기 임시 기판은 상기 UV광이 통과할 수 있는 투광성 유리 기판이며,
상기 발광 소자 안착 단계 이후에,
상기 임시 기판을 통과하여 상기 UV접착제를 용융시킬 수 있도록 상기 임시 기판에 UV광을 조사하고, 상기 기판으로부터 상기 임시 기판을 제거하는 임시 기판 제거 단계; 를 더 포함하는, 발광 소자 패키지의 제조 방법.
The method according to claim 6,
The adhesive is a UV adhesive capable of being cured and melted by UV light,
Wherein the temporary substrate is a transparent glass substrate through which the UV light can pass,
After the light emitting element seating step,
A temporary substrate removing step of irradiating the temporary substrate with UV light so as to melt the UV adhesive through the temporary substrate and removing the temporary substrate from the substrate; Emitting device package.
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