KR20150110910A - Light emitting device package, backlight unit, lighting device and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a light emitting element package, a backlight unit, and a method to manufacture a lighting device and a light emitting element package. The present invention includes a substrate formed of an insulating mixture material mixed with a binder and radiation powder; an upper electrode layer formed on an upper surface of the substrate, and including a first channel formed of first and second electrode layers with a first electrode separation electrode; at least first light emitting element placed in an upper part of the substrate to be electrically connected to the first channel formed of the first and second layers of the upper electrode layer; a lower electrode layer formed on a lower surface of the substrate; and a side electrode layer formed on a side of the substrate, and electrically connecting the upper and lower electrode layers. At least one trim cutting surface is formed on a first side of the substrate and/or a third side, the opposite to the first side. The side electrode layer is able to be a plated layer plated on a second side of the substrate and/or the fourth side, the opposite to the second side.

Description

발광 소자 패키지, 백라이트 유닛, 조명 장치 및 발광 소자 패키지의 제조 방법{Light emitting device package, backlight unit, lighting device and its manufacturing method}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light emitting device package, a backlight unit, a lighting device,

본 발명은 발광 소자 패키지, 백라이트 유닛, 조명 장치 및 발광 소자 패키지의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 디스플레이 용도나 조명 용도로 사용할 수 있는 발광 소자 패키지 및 발광 소자 패키지의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light emitting device package, a backlight unit, a lighting device, and a method of manufacturing a light emitting device package. More particularly, the present invention relates to a light emitting device package and a method of manufacturing the light emitting device package.

발광 다이오드(Light Emitting Diode; LED)는 화합물 반도체(compound semiconductor)의 PN 다이오드 형성을 통해 발광원을 구성함으로써, 다양한 색의 광을 구현할 수 있는 일종의 반도체 소자를 말한다. 이러한 발광 소자는 수명이 길고, 소형화 및 경량화가 가능하며, 저전압 구동이 가능하다는 장점이 있다. 또한, 이러한 LED는 충격 및 진동에 강하고, 예열시간과 복잡한 구동이 불필요하며, 다양한 형태로 기판이나 리드프레임에 실장한 후, 패키징할 수 있어서 여러 가지 용도로 모듈화하여 백라이트 유닛(backlight unit)이나 각종 조명 장치 등에 적용할 수 있다.A light emitting diode (LED) is a kind of semiconductor device that can emit light of various colors by forming a light emitting source through the formation of a PN diode of a compound semiconductor. Such a light emitting device has a long lifetime, can be reduced in size and weight, and can be driven at a low voltage. In addition, these LEDs are resistant to shock and vibration, do not require preheating time and complicated driving, can be packaged after being mounted on a substrate or lead frame in various forms, so that they can be modularized for various purposes and used as a backlight unit A lighting device, and the like.

그러나, 종래의 발광 소자 패키지는 금속 재질의 리드 프레임이나 세라믹 기판 또는 금속 기판을 사용하는 것으로, 금형이나 금속 소재를 자르거나 절단하기 위한 대용량의 프레스를 이용하는 등 제조 공정이나 과정이 매우 복잡하고 번거로우며, 금속판을 절연 처리하기가 용이하지 않아서 금속판 위에 패턴을 형성하기가 어려웠었고, 이로 인하여 패키지 가격이 증대되고, 생산성 및 성형성이 크게 떨어지는 문제점이 있었다.However, the conventional light emitting device package uses a metal lead frame, a ceramic substrate, or a metal substrate. The manufacturing process and process are complicated and troublesome, such as using a large-capacity press for cutting or cutting a metal mold or a metal material , It is not easy to insulate the metal plate and it is difficult to form a pattern on the metal plate. As a result, the cost of the package is increased and the productivity and the formability are greatly deteriorated.

예를 들자면, 종래의 금속 재질의 리드 프레임이나 금속 기판을 이용하는 경우에는, 리드 프레임을 금형을 타발하여 성형하는 것이나, 금형이 한번 개발되면 쉽게 바꾸지 못하여 금형 변경시 고가의 비용이 발생되고, 전극분리선의 수지 재질과 리드 프레임의 금속 재질 간의 열팽창 계수의 차이로 단자가 고열에서 쉽게 박리되는 문제점이 있었다.For example, in the case of using a conventional lead frame or metal substrate of a metal material, it is difficult to form the lead frame by tapping the metal mold or to change it easily once the metal mold is developed, There is a problem that the terminals are easily peeled off from the high temperature due to the difference in thermal expansion coefficient between the resin material of the lead frame and the metal material of the lead frame.

한편, 종래의 세라믹 재질의 기판을 이용하는 경우에는, 내부에 3차원적으로 매우 복잡한 형태의 금속 배선이 필요하고, 이를 위해서 세라믹 소재의 소성 가공이 필요하며, 제품의 절단시 일반적인 트림이 불가능하여 고가의 소잉 공정을 필요로 하는 등의 문제점이 있었다.On the other hand, when a conventional ceramic substrate is used, metal interconnects of three-dimensionally very complicated shapes are required inside. In order to accomplish this, it is necessary to plastic-process the ceramic material, And the like.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 멀티칩을 이용하여 고방열 패키지를 구성할 수 있는 동시에, 금속에 비해서 비교적 연한 재질인 바인더와 방열 분말의 혼합 소재를 이용하여 트림, 절단, 천공, 시트 접착, 패턴 형성, 성형 등의 과정이 기존의 PCB 제조 과정과 유사하여 PCB 장비를 이용하는 등 매우 용이하고, 비교적 저가의 소재를 기판으로 사용하여 패키지 가격을 절감하며, 생산성을 크게 향상시킬 수 있고, 멀티 플립칩 본딩이나 복잡한 패턴 형성이나 추가 공정 등 성형성을 크게 향상시킬 수 있게 하는 발광 소자 패키지, 백라이트 유닛, 조명 장치 및 발광 소자 패키지의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.Disclosure of Invention Technical Problem [8] Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a high heat dissipation package using a multi-chip and to use a mixture of a binder and a heat- The processes such as trimming, cutting, punching, sheet bonding, pattern formation, and molding are similar to conventional PCB manufacturing processes, so that it is very easy to use PCB equipment, and the package price is reduced by using relatively low- A light emitting device package, a backlight unit, a lighting device, and a method of manufacturing a light emitting device package that can greatly improve the moldability such as multi-flip chip bonding, complicated pattern formation, and additional process do. However, these problems are exemplary and do not limit the scope of the present invention.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 발광 소자 패키지는, 바인더와 방열 분말이 혼합된 절연성 혼합 재질로 이루어지는 기판; 상기 기판의 상면에 형성되고, 제 1 전극 분리 공간이 형성된 제 1 전극층 및 제 2 전극층으로 이루어지는 제 1 채널을 갖는 상면 전극층; 상기 상면 전극층의 상기 제 1 전극층 및 상기 제 2 전극층으로 이루어지는 상기 제 1 채널과 전기적으로 연결되도록 상기 기판 상방에 안착되는 적어도 하나의 제 1 발광 소자; 상기 기판의 하면에 형성되는 하면 전극층; 및 상기 기판의 측면에 형성되고, 상기 상면 전극층과 상기 하면 전극층을 전기적으로 연결하는 측면 전극층;을 포함하고, 상기 기판의 제 1 측면 및/또는 그 반대편의 제 3 측면은 적어도 하나의 트림 절단면이 형성되고, 상기 측면 전극층은, 상기 기판의 제 2 측면 및/또는 그 반대편의 제 4 측면에 도금되는 도금층일 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a light emitting device package including: a substrate made of an insulating mixed material in which a binder and a heat dissipating powder are mixed; A top electrode layer formed on an upper surface of the substrate and having a first channel including a first electrode layer and a second electrode layer having a first electrode separation space; At least one first light emitting element mounted above the substrate so as to be electrically connected to the first channel formed of the first electrode layer and the second electrode layer of the top electrode layer; A lower electrode layer formed on a lower surface of the substrate; And a side surface electrode layer formed on a side surface of the substrate and electrically connecting the top surface electrode layer and the bottom electrode layer, wherein the first side surface and / or the third side surface of the substrate are at least one trimmed surface, And the side surface electrode layer may be a plating layer plated on the second side surface of the substrate and / or the fourth side surface opposite thereto.

또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 상면 전극층은, 제 2 전극 분리 공간이 형성된 제 3 전극층 및 제 4 전극층으로 이루어지는 제 2 채널을 갖고, 상기 측면 전극층은 상기 제 1 채널과 연결되는 제 1 측면 전극층 및 상기 제 2 채널과 연결되는 제 2 측면 전극층을 포함하며, 상기 상면 전극층의 상기 제 3 전극층 및 상기 제 4 전극층으로 이루어지는 상기 제 2 채널과 전기적으로 연결되도록 상기 기판 상방에 안착되는 적어도 하나의 제 2 발광 소자;를 더 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, the top surface electrode layer has a second channel including a third electrode layer and a fourth electrode layer having a second electrode separation space, and the side electrode layer has a first side At least one of which is seated above the substrate so as to be electrically connected to the second channel of the third electrode layer and the fourth electrode layer of the top electrode layer, the electrode layer and the second side electrode layer being connected to the second channel, And a second light emitting device.

또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 바인더는 에폭시 계열의 수지를 포함하고, 상기 방열 분말은, 적어도 세라믹 분말, 금속 분말, 절연체가 코팅된 금속 분말 및 이들의 조합 중 어느 하나 이상을 선택하여 이루어지는 것일 수 있다.According to an aspect of the present invention, the binder includes an epoxy-based resin, and the heat-dissipating powder includes at least one selected from ceramic powder, metal powder, metal powder coated with an insulator, Lt; / RTI >

또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 측면 전극층은, 상기 기판에 천공된 관통창의 내벽을 따라 도금된 도금층이고, 상기 트림 절단면의 상부 또는 하부에 V홈부의 일부가 형성되는 것일 수 있다.According to an aspect of the present invention, the side electrode layer may be a plating layer plated along the inner wall of the through-hole formed in the substrate, and a part of the V-shaped groove may be formed on the upper or lower portion of the trimmed surface.

또한, 본 발명의 사상에 따른 발광 소자 패키지는, 상기 상면 전극층에 형성되는 추가 도금층; 상기 상면 전극층과 상기 제 1 발광 소자 사이에 설치되는 본딩 매체; 상기 기판의 하면에 설치되는 하면 방열층; 상기 제 1 발광 소자의 광 경로에 설치되는 렌즈 또는 형광체; 및 상기 기판 또는 상기 상면 전극층에 설치되고, 상기 렌즈 또는 형광체의 설치 위치를 안내하는 가이드부;를 더 포함할 수 있다.The light emitting device package according to the present invention may further include: an additional plating layer formed on the top electrode layer; A bonding medium disposed between the top electrode layer and the first light emitting device; A lower heat dissipation layer provided on a lower surface of the substrate; A lens or a phosphor provided in an optical path of the first light emitting device; And a guide part provided on the substrate or the upper surface electrode layer and guiding an installation position of the lens or the phosphor.

한편, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 백라이트 유닛은, 바인더와 방열 분말이 혼합된 절연성 혼합 재질로 이루어지는 기판; 상기 기판의 상면에 형성되고, 제 1 전극 분리 공간이 형성된 제 1 전극층 및 제 2 전극층으로 이루어지는 제 1 채널을 갖는 상면 전극층; 상기 상면 전극층의 상기 제 1 전극층 및 상기 제 2 전극층으로 이루어지는 상기 제 1 채널과 전기적으로 연결되도록 상기 기판 상방에 안착되는 적어도 하나의 제 1 발광 소자; 상기 기판의 하면에 형성되는 하면 전극층; 상기 기판의 측면에 형성되고, 상기 상면 전극층과 상기 하면 전극층을 전기적으로 연결하는 측면 전극층; 및 상기 제 1 발광 소자의 광 경로에 설치되는 도광판;을 포함하고, 상기 기판의 제 1 측면 및/또는 그 반대편의 제 3 측면은 적어도 하나의 트림 절단면이 형성되고, 상기 측면 전극층은, 상기 기판의 제 2 측면 및/또는 그 반대편의 제 4 측면에 도금되는 도금층일 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a backlight unit comprising: a substrate made of an insulating material mixed with a binder and a heat dissipating powder; A top electrode layer formed on an upper surface of the substrate and having a first channel including a first electrode layer and a second electrode layer having a first electrode separation space; At least one first light emitting element mounted above the substrate so as to be electrically connected to the first channel formed of the first electrode layer and the second electrode layer of the top electrode layer; A lower electrode layer formed on a lower surface of the substrate; A side electrode layer formed on a side surface of the substrate and electrically connecting the top electrode layer and the bottom electrode layer; And a light guide plate disposed on a light path of the first light emitting device, wherein at least one trim cut surface is formed on a first side surface and / or a third side surface opposite to the first surface side, And / or the fourth side opposite to the first side and / or the second side.

한편, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 조명 장치는, 바인더와 방열 분말이 혼합된 절연성 혼합 재질로 이루어지는 기판; 상기 기판의 상면에 형성되고, 제 1 전극 분리 공간이 형성된 제 1 전극층 및 제 2 전극층으로 이루어지는 제 1 채널을 갖는 상면 전극층; 상기 상면 전극층의 상기 제 1 전극층 및 상기 제 2 전극층으로 이루어지는 상기 제 1 채널과 전기적으로 연결되도록 상기 기판 상방에 안착되는 적어도 하나의 제 1 발광 소자; 상기 기판의 하면에 형성되는 하면 전극층; 및 상기 기판의 측면에 형성되고, 상기 상면 전극층과 상기 하면 전극층을 전기적으로 연결하는 측면 전극층;을 포함하고, 상기 기판의 제 1 측면 및/또는 그 반대편의 제 3 측면은 적어도 하나의 트림 절단면이 형성되고, 상기 측면 전극층은, 상기 기판의 제 2 측면 및/또는 그 반대편의 제 4 측면에 도금되는 도금층일 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided an illumination device comprising: a substrate made of an insulating mixed material in which a binder and a heat dissipating powder are mixed; A top electrode layer formed on an upper surface of the substrate and having a first channel including a first electrode layer and a second electrode layer having a first electrode separation space; At least one first light emitting element mounted above the substrate so as to be electrically connected to the first channel formed of the first electrode layer and the second electrode layer of the top electrode layer; A lower electrode layer formed on a lower surface of the substrate; And a side surface electrode layer formed on a side surface of the substrate and electrically connecting the top surface electrode layer and the bottom electrode layer, wherein the first side surface and / or the third side surface of the substrate are at least one trimmed surface, And the side surface electrode layer may be a plating layer plated on the second side surface of the substrate and / or the fourth side surface opposite thereto.

한편, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 발광 소자 패키지의 제조 방법은, 바인더와 방열 분말이 혼합된 절연성 혼합 재질로 이루어지는 원판을 준비하는 단계; 상기 원판의 상면에 상면 전극층 시트를 부착하고, 상기 원판의 하면에 하면 전극층 시트를 부착하는 단계; 상기 상면 전극층 시트와 상기 하면 전극층 시트가 부착된 상기 원판에 제 1 방향으로 서로 평행하게 복수개의 관통창들을 천공하는 단계; 상기 관통창들의 내벽에 측면 전극층이 형성되도록 도금층을 도금하는 단계; 상기 상면 전극층 시트 또는 상기 하면 전극층 시트에 전극 분리 공간 또는 패턴이 형성되도록 상기 상면 전극층 시트 또는 상기 하면 전극층 시트에 감광성 마스크 필름을 부착하고 노광 후 식각하는 단계; 및 식각된 상기 상면 전극층 시트와 상기 하면 전극층 시트 및 상기 원판을 상기 제 1 방향과 다른 제 2 방향으로 서로 평행하게 형성된 복수개의 절단 라인들을 따라 단위 패키지로 절단하는 단계;를 포함할 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a light emitting device package, comprising: preparing an original plate made of an insulating mixed material in which a binder and a heat dissipating powder are mixed; Attaching an upper surface electrode layer sheet to an upper surface of the disk and attaching a lower surface electrode layer sheet to a lower surface of the disk; Drilling a plurality of penetrating windows parallel to each other in a first direction on the original plate having the top electrode layer sheet and the bottom electrode layer sheet attached thereto; Plating the plating layer to form a side electrode layer on the inner wall of the through-holes; Attaching a photosensitive mask film to the top electrode layer sheet or the bottom electrode layer sheet so as to form an electrode separation space or a pattern on the top electrode layer sheet or the bottom electrode sheet, And cutting the etched top electrode layer sheet, the bottom electrode layer sheet and the original plate into a unit package along a plurality of cutting lines formed in parallel to each other in a second direction different from the first direction.

또한, 본 발명의 사상에 따른 발광 소자 패키지의 제조 방법은, 상기 식각된 상기 상면 전극층 시트와 상기 하면 전극층 시트 및 상기 원판을 상기 제 1 방향과 다른 제 2 방향으로 서로 평행하게 형성된 복수개의 절단 라인들을 따라 단위 패키지로 절단하는 단계 이전에, 상기 원판 또는 상기 상면 전극층 시트에 상기 절단 라인을 따라 미리 V홈부를 컷팅하는 단계; 상기 식각된 상기 상면 전극층 시트와 상기 하면 전극층 시트 및 상기 원판을 단위 패키지로 절단하는 단계 이전에, 적어도 상기 상면 전극층 시트, 상기 하면 전극층 시트, 상기 측면 전극층, 상기 원판 및 이들의 조합 중 어느 하나 이상을 선택하여 이루어지는 표면에 추가 도금층을 도금하는 단계; 및 상기 상면 전극층 시트에 본딩 매체를 형성하는 단계;를 더 포함할 수 있다.A method of manufacturing a light emitting device package according to an aspect of the present invention is a method of manufacturing a light emitting device package including a plurality of cut lines formed in parallel with each other in a second direction different from the first direction, Cutting the V-groove part along the cutting line to the original plate or the top electrode layer sheet before cutting the unit package along the cutting line; Wherein at least one of the top electrode layer sheet, the bottom electrode layer sheet, the side electrode layer, the original plate, and the combination thereof is cut before the step of cutting the etched top electrode layer sheet, the bottom electrode sheet, A step of plating an additional plating layer on a surface of the substrate; And forming a bonding medium on the top electrode layer sheet.

또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 식각된 상기 상면 전극층 시트와 상기 하면 전극층 시트 및 상기 원판을 단위 패키지로 절단하는 단계 이전에, 상기 원판 또는 상면 전극층 시트에 렌즈 또는 형광체의 설치 위치를 안내하는 가이드부를 형성하는 단계; 상기 상면 전극층 시트에 제 1 채널에 의해 구동되는 적어도 하나의 제 1 발광 소자 및/또는 제 2 채널에 의해 구동되는 적어도 하나의 제 2 발광 소자를 안착시키는 단계; 및 상기 가이드부에 상기 렌즈 또는 상기 형광체를 설치하는 단계;를 더 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, before the step of cutting the etched upper surface electrode layer sheet, the lower surface electrode layer sheet, and the original plate into a unit package, the installation position of the lens or the phosphor is guided to the original or top surface electrode layer sheet Forming a guide portion; Placing at least one first light emitting element driven by a first channel and / or at least one second light emitting element driven by a second channel on the top surface electrode layer sheet; And installing the lens or the phosphor on the guide portion.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 패턴 형성이 용이하여 멀티칩 실장을 용이하게 하며, 바인더와 방열 분말의 혼합 소재를 이용하여 방열성이 우수하고, 제조 과정을 용이하여 패키지 가격을 절감하며, 생산성을 크게 향상시킬 수 있고, 멀티 플립칩 본딩이나 복잡한 패턴 형성이나 추가 공정 등 성형성을 크게 향상시켜서 생산 시간 및 생산 비용을 크게 절감할 수 있으며, 양질의 제품을 생산할 수 있는 효과를 갖는 것이다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.According to some embodiments of the present invention as described above, it is possible to facilitate multi-chip mounting by facilitating pattern formation, and it is possible to use a mixed material of a binder and a heat dissipating powder to provide excellent heat dissipation, And productivity can be greatly improved. In addition, it is possible to greatly reduce the production time and production cost by greatly improving the moldability such as multi-flip chip bonding, complicated pattern formation and additional process, and can produce a good quality product . Of course, the scope of the present invention is not limited by these effects.

도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지를 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1의 발광 소자 패키지의 II-II 절단면을 나타내는 단면도이다.
도 3은 도 1의 발광 소자 패키지의 III-III 절단면을 나타내는 단면도이다.
도 4 내지 도 19는 도 1의 발광 소자 패키지의 제조 과정을 단계적으로 나타내는 단면도들이다.
도 20은 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 21은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 22는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 23은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 백라이트 유닛을 나타내는 단면도이다.
도 24는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지를 나타내는 사시도이다.
도 25는 도 24의 발광 소자 패키지의 제조 과정을 나타내는 평면도이다.
도 26은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지의 제조 방법을 나타내는 순서도이다.
도 27은 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지의 제조 방법을 나타내는 순서도이다.
1 is a perspective view illustrating a light emitting device package according to some embodiments of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a light emitting device package of FIG. 1 taken along line II-II.
3 is a cross-sectional view showing a III-III cross-sectional view of the light emitting device package of FIG.
FIGS. 4 to 19 are cross-sectional views illustrating a process of manufacturing the light emitting device package of FIG. 1 step by step.
20 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device package according to some other embodiments of the present invention.
21 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device package according to still another embodiment of the present invention.
22 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device package according to still another embodiment of the present invention.
23 is a cross-sectional view illustrating a backlight unit according to some embodiments of the present invention.
24 is a perspective view illustrating a light emitting device package according to still another embodiment of the present invention.
25 is a plan view showing a manufacturing process of the light emitting device package of FIG.
26 is a flowchart showing a method of manufacturing a light emitting device package according to some embodiments of the present invention.
27 is a flowchart showing a method of manufacturing a light emitting device package according to some other embodiments of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 여러 실시예들을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려 이들 실시예들은 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. 또한, 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이다.The embodiments of the present invention are described in order to more fully explain the present invention to those skilled in the art, and the following embodiments may be modified in various other forms, The present invention is not limited to the embodiment. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be more thorough and complete, and will fully convey the concept of the invention to those skilled in the art. In the drawings, the thickness and size of each layer are exaggerated for convenience and clarity of explanation.

명세서 전체에 걸쳐서, 막, 영역 또는 기판과 같은 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "상에", "연결되어", "적층되어" 또는 "커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 상기 하나의 구성요소가 직접적으로 다른 구성요소 "상에", "연결되어", "적층되어" 또는 "커플링되어" 접촉하거나, 그 사이에 개재되는 또 다른 구성요소들이 존재할 수 있다고 해석될 수 있다. 반면에, 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "직접적으로 상에", "직접 연결되어", 또는 "직접 커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 그 사이에 개재되는 다른 구성요소들이 존재하지 않는다고 해석된다. 동일한 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "및/또는"은 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.It is to be understood that throughout the specification, when an element such as a film, region or substrate is referred to as being "on", "connected to", "laminated" or "coupled to" another element, It will be appreciated that elements may be directly "on", "connected", "laminated" or "coupled" to another element, or there may be other elements intervening therebetween. On the other hand, when one element is referred to as being "directly on", "directly connected", or "directly coupled" to another element, it is interpreted that there are no other components intervening therebetween do. Like numbers refer to like elements. As used herein, the term "and / or" includes any and all combinations of one or more of the listed items.

본 명세서에서 제 1, 제 2 등의 용어가 다양한 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들을 설명하기 위하여 사용되지만, 이들 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들은 이들 용어에 의해 한정되어서는 안됨은 자명하다. 이들 용어는 하나의 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 다른 영역, 층 또는 부분과 구별하기 위하여만 사용된다. 따라서, 이하 상술할 제 1 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분은 본 발명의 가르침으로부터 벗어나지 않고서도 제 2 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 지칭할 수 있다.Although the terms first, second, etc. are used herein to describe various elements, components, regions, layers and / or portions, these members, components, regions, layers and / It is obvious that no. These terms are only used to distinguish one member, component, region, layer or section from another region, layer or section. Thus, a first member, component, region, layer or section described below may refer to a second member, component, region, layer or section without departing from the teachings of the present invention.

또한, "상의" 또는 "위의" 및 "하의" 또는 "아래의"와 같은 상대적인 용어들은 도면들에서 도해되는 것처럼 다른 요소들에 대한 어떤 요소들의 관계를 기술하기 위해 여기에서 사용될 수 있다. 상대적 용어들은 도면들에서 묘사되는 방향에 추가하여 소자의 다른 방향들을 포함하는 것을 의도한다고 이해될 수 있다. 예를 들어, 도면들에서 소자가 뒤집어 진다면, 다른 요소들의 상부의 면 상에 존재하는 것으로 묘사되는 요소들은 상기 다른 요소들의 하부의 면 상에 방향을 가지게 된다. 그러므로, 예로써 든 "상의"라는 용어는, 도면의 특정한 방향에 의존하여 "하의" 및 "상의" 방향 모두를 포함할 수 있다. 소자가 다른 방향으로 향한다면(다른 방향에 대하여 90도 회전), 본 명세서에 사용되는 상대적인 설명들은 이에 따라 해석될 수 있다.Also, relative terms such as "top" or "above" and "under" or "below" can be used herein to describe the relationship of certain elements to other elements as illustrated in the Figures. Relative terms are intended to include different orientations of the device in addition to those depicted in the Figures. For example, if the element is inverted in the figures, the elements depicted as being on the upper surface of the other elements will have a direction on the lower surface of the other elements. Thus, the example "top" may include both "under" and "top" directions depending on the particular orientation of the figure. If the elements are oriented in different directions (rotated 90 degrees with respect to the other direction), the relative descriptions used herein can be interpreted accordingly.

본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. As used herein, the singular forms "a," "an," and "the" include singular forms unless the context clearly dictates otherwise. Also, " comprise "and / or" comprising "when used herein should be interpreted as specifying the presence of stated shapes, numbers, steps, operations, elements, elements, and / And does not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, operations, elements, elements, and / or groups.

이하, 본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들을 개략적으로 도시하는 도면들을 참조하여 설명한다. 도면들에 있어서, 예를 들면, 제조 기술 및/또는 공차(tolerance)에 따라, 도시된 형상의 변형들이 예상될 수 있다. 따라서, 본 발명 사상의 실시예는 본 명세서에 도시된 영역의 특정 형상에 제한된 것으로 해석되어서는 아니 되며, 예를 들면 제조상 초래되는 형상의 변화를 포함하여야 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings schematically showing ideal embodiments of the present invention. In the figures, for example, variations in the shape shown may be expected, depending on manufacturing techniques and / or tolerances. Accordingly, the embodiments of the present invention should not be construed as limited to the particular shapes of the regions shown herein, but should include, for example, changes in shape resulting from manufacturing.

도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)를 나타내는 사시도이다. 그리고, 도 2는 도 1의 발광 소자 패키지(100)의 II-II 절단면을 나타내는 단면도이고, 도 3은 도 1의 발광 소자 패키지(100)의 III-III 절단면을 나타내는 단면도이다.1 is a perspective view illustrating a light emitting device package 100 according to some embodiments of the present invention. 2 is a cross-sectional view showing a II-II cross section of the light emitting device package 100 of FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view showing a III-III cross section of the light emitting device package 100 of FIG.

먼저, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)는, 크게, 기판(10)과, 제 1 발광 소자(20-1)와, 상면 전극층(30)과, 하면 전극층(50) 및 측면 전극층(40)을 포함할 수 있다.1 to 3, a light emitting device package 100 according to some embodiments of the present invention includes a substrate 10, a first light emitting device 20-1, An electrode layer 30, a bottom electrode layer 50, and a side electrode layer 40.

여기서, 상기 기판(10)은, 바인더(11)와 방열 분말(12)이 혼합된 절연성 혼합 재질로 이루어지는 것으로, 상기 바인더(11)는 에폭시 계열의 수지를 포함하고, 상기 방열 분말(12)은, 적어도 세라믹 분말(12-1), 금속 분말(12-2), 절연체(12-3)가 코팅된 금속 분말(12-4) 및 이들의 조합 중 어느 하나 이상을 선택하여 이루어질 수 있다.Here, the substrate 10 is made of an insulating mixed material in which a binder 11 and a heat dissipating powder 12 are mixed. The binder 11 includes an epoxy-based resin, and the heat dissipating powder 12 , At least one of ceramic powder 12-1, metal powder 12-2, metal powder 12-4 coated with insulator 12-3, and combinations thereof may be selected.

이러한 상기 기판(10)은, 상기 제 1 발광 소자(20-1)는 물론, 상기 상면 전극층(30)과, 상기 하면 전극층(50) 및 상기 측면 전극층(40)을 지지할 수 있고, 이들과 전기적으로 절연되는 것으로서, 이를 위한 적당한 기계적 강도를 갖는 혼합 재질로 제작될 수 있다.The substrate 10 can support the top electrode layer 30, the bottom electrode layer 50 and the side electrode layer 40 as well as the first light emitting device 20-1. And may be made of a mixed material having an appropriate mechanical strength for this purpose.

더욱 구체적으로 예를 들어서, 상기 기판(10)은, 에폭시 수지 조성물 이외에도, 레진, 글래스, 실리콘 수지 조성물, 변성 에폭시 수지 조성물, 변성 실리콘 수지 조성물, 폴리이미드 수지 조성물, 변성 폴리이미드 수지 조성물, 폴리프탈아미드(PPA), 폴리카보네이트 수지, 폴리페닐렌 설파이드(PPS), 액정 폴리머(LCP), ABS 수지, 페놀 수지, 아크릴 수지, PBT 수지, EMC(Epoxy Mold Compound), 화이트 실리콘, PSR(Photoimageable Solder Resist) 등의 바인더에 열전도성이 우수하고, 산화층 등 각종 절연체(12-3)가 코팅된 금속 분말(12-4), 즉, 절연 처리될 수 있는 알루미늄, 구리, 아연, 주석, 납, 금, 은 등의 금속 분말이 혼합된 혼합 재질일 수 있다.More specifically, for example, the substrate 10 may be formed of a resin, a glass, a silicone resin composition, a modified epoxy resin composition, a modified silicone resin composition, a polyimide resin composition, a modified polyimide resin composition, (PPA), polycarbonate resin, polyphenylene sulfide (PPS), liquid crystal polymer (LCP), ABS resin, phenol resin, acrylic resin, PBT resin, Epoxy Mold Compound, white silicone, photoimageable solder resist Copper, zinc, tin, lead, gold, or the like, which is excellent in thermal conductivity and is coated with various insulators 12-3 such as an oxide layer, that is, Or a mixture of metal powders such as silver.

여기서, 상기 금속 분말(12-4)에 코팅되는 상기 절연체(12-3)는, 상기 금속 분말(12-4)을 전체적 둘러싸는 절연 재질로서, 예컨데, 상기 금속 분말(12-4)을 산화시켜서 형성할 수 있다. 상기 금속 분말(12-4)이 금속 중 알루미늄을 포함하는 경우에는, 상기 절연체(12-3)는 알루미늄 산화물인 알루미나를 포함할 수 있다. 이러한 산화 방법으로는 여러 가지 방법이 가능하지만, 아노다이징(anodizing)법을 이용해서 상기 금속 분말(12-4)의 표면에 알루미늄 성분을 산화시켜서 상기 절연체(12-3)를 형성할 수 있다.Here, the insulator 12-3 coated on the metal powder 12-4 is an insulating material that entirely surrounds the metal powder 12-4. For example, the insulator 12-3 may be formed by oxidizing the metal powder 12-4 . When the metal powder 12-4 includes aluminum in the metal, the insulator 12-3 may include alumina, which is aluminum oxide. Although various methods are available for such an oxidation method, an aluminum component may be oxidized on the surface of the metal powder 12-4 by using an anodizing method to form the insulator 12-3.

즉, 상기 금속 분말(12-4)은 알루미늄 성분을 포함할 수 있고, 상기 절연체(12-3)는 알루미늄 산화막일 수 있다. 이외에도, 상기 절연체(12-3)는, 실리콘옥사이드나 실리콘나이트라이드 등으로 형성될 수 있다.That is, the metal powder 12-4 may include an aluminum component, and the insulator 12-3 may be an aluminum oxide layer. In addition, the insulator 12-3 may be formed of silicon oxide, silicon nitride, or the like.

또한, 상기 기판(10)은, 상기 바인더(11)와 상기 방열 분말(12)의 혼합 재질인 두께가 얇은 연성 재질의 인쇄 회로 기판(PCB: Printed Circuit Board)의 절연 기판이나, 플랙서블 인쇄 회로 기판(FPCB: Flexible Printed Circuit Board)의 절연 기판일 수 있다.The substrate 10 may be an insulating substrate of a flexible printed material such as a printed circuit board (PCB), which is a mixture of the binder 11 and the heat dissipating powder 12, And may be an insulating substrate of a flexible printed circuit board (FPCB).

한편, 상기 기판(10)의 상기 바인더(11)는 상기 방열 분말(12)과 혼합된 후, 부분적 혹은 전체적으로 경화될 수 있는 열가소성이나, 열경화성 또는 휘발성 물질이 혼합된 혼합 재질일 수 있다.The binder 11 of the substrate 10 may be a mixture of thermoplastic, thermosetting or volatile materials that can be partially or wholly cured after being mixed with the heat dissipation powder 12.

따라서, 방열 분말(12)을 이용하기 때문에 방열성이 우수한 동시에, 금속에 비해서 상대적으로 연한 재질인 상기 바인더(11)와 상기 방열 분말(12)의 혼합 소재를 이용한 상기 기판(10)을 이용하여 각종 트림, 절단, 천공, 시트 접착, 패턴 형성, 성형 등의 과정이 기존의 PCB 제조 과정과 유사하고, 기존의 PCB 장비를 다소 변경하여 이용할 수 있는 등 매우 경제적이고, 생산성을 크게 향상시킬 수 있다.Therefore, by using the substrate 10 using the mixed material of the binder 11 and the heat-dissipating powder 12, which is excellent in heat dissipation and relatively tighter than metal, by using the heat-dissipating powder 12, The processes such as trimming, cutting, punching, sheet bonding, pattern formation and molding are similar to the conventional PCB manufacturing process, and the existing PCB equipment can be modified and used very economically and the productivity can be greatly improved.

한편, 상기 제 1 발광 소자(20-1)는, 상기 상면 전극층(30)의 상방에 안착되는 것으로서, 제 1 패드(P1)와 제 2 패드(P2)를 갖는 플립칩(flip chip) 형태의 LED(Light Emitting Diode)일 수 있다.The first light emitting device 20-1 is mounted on the upper surface electrode layer 30 and has a flip chip shape having a first pad P1 and a second pad P2 LED (Light Emitting Diode).

이러한, 상기 제 1 발광 소자(20-1)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 반도체로 이루어질 수 있다. 예를 들어서, 질화물 반도체로 이루어지는 청색, 녹색, 적색, 황색 발광의 LED, 자외 발광의 LED, 적외 발광의 LED 등이 적용될 수 있다. 질화물 반도체는, 일반식이 AlxGayInzN(0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤z≤1, x+y+z=1)으로 나타내진다.The first light emitting device 20-1 may be formed of a semiconductor, as shown in FIG. For example, LEDs of blue, green, red, and yellow light emission, LEDs of ultraviolet light emission, and LEDs of infrared light emission, which are made of a nitride semiconductor, can be applied. The nitride semiconductor is represented by a general formula Al x Ga y In z N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? Z? 1, x + y + z = 1).

또한, 상기 제 1 발광 소자(20-1)는, 예를 들면, MOCVD법 등의 기상성장법에 의해, 성장용 사파이어 기판이나 실리콘 카바이드 기판 상에 InN, AlN, InGaN, AlGaN, InGaAlN 등의 질화물 반도체를 에피택셜 성장시켜 구성할 수 있다. 또한, 상기 제 1 발광 소자(20-1)는, 질화물 반도체 이외에도 ZnO, ZnS, ZnSe, SiC, GaP, GaAlAs, AlInGaP 등의 반도체를 이용해서 형성할 수 있다. 이들 반도체는, n형 반도체층, 발광층, p형 반도체층의 순으로 형성한 적층체를 이용할 수 있다. 상기 발광층(활성층)은, 다중 양자웰 구조나 단일 양자웰 구조를 한 적층 반도체 또는 더블 헤테로 구조의 적층 반도체를 이용할 수 있다. 또한, 상기 제 1 발광 소자(20-1)는, 디스플레이 용도나 조명 용도 등 용도에 따라 임의의 파장의 것을 선택할 수 있다.The first light emitting device 20-1 may be formed of a nitride such as InN, AlN, InGaN, AlGaN, or InGaAlN on a sapphire substrate for growth or a silicon carbide substrate by a vapor phase growth method such as MOCVD The semiconductor can be epitaxially grown. The first light emitting device 20-1 may be formed of a semiconductor such as ZnO, ZnS, ZnSe, SiC, GaP, GaAlAs or AlInGaP in addition to the nitride semiconductor. These semiconductors can be stacked in the order of an n-type semiconductor layer, a light emitting layer, and a p-type semiconductor layer. The light emitting layer (active layer) may be a laminated semiconductor having a multiple quantum well structure or a single quantum well structure or a laminated semiconductor having a double hetero structure. Further, the first light emitting device 20-1 can be selected to have an arbitrary wavelength depending on the application such as display use or illumination use.

여기서, 상기 성장용 기판으로는 필요에 따라 절연성, 도전성 또는 반도체 기판이 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 성장용 기판은 사파이어, SiC, Si, MgAl2O4, MgO, LiAlO2, LiGaO2, GaN일 수 있다. GaN 물질의 에피성장을 위해서는 동종 기판인 GaN 기판이 좋으나, GaN 기판은 그 제조상의 어려움으로 생산단가가 높은 문제가 있다.Here, as the growth substrate, an insulating, conductive or semiconductor substrate may be used if necessary. For example, the growth substrate may be sapphire, SiC, Si, MgAl 2 O 4, MgO, LiAlO 2, LiGaO 2, GaN. A GaN substrate, which is a homogeneous substrate, is preferable for epitaxial growth of a GaN material, but a GaN substrate has a problem of high production cost due to its difficulty in manufacturing.

이종 기판으로는 사파이어, 실리콘 카바이드(SiC) 기판 등이 주로 사용되고 있으며. 가격이 비싼 실리콘 카바이드 기판에 비해 사파이어 기판이 더 많이 활용되고 있다. 이종 기판을 사용할 때는 기판 물질과 박막 물질 사이의 격자상수의 차이로 인해 전위(dislocation) 등 결함이 증가한다. 또한, 기판 물질과 박막 물질 사이의 열팽창계수의 차이로 인해 온도 변화시 휨이 발생하고, 휨은 박막의 균열(crack)의 원인이 된다. 기판과 GaN계인 발광 적층체 사이의 버퍼층을 이용해 이러한 문제를 감소시킬 수도 있다.Sapphire and silicon carbide (SiC) substrates are mainly used as the different substrates. Sapphire substrates are more utilized than expensive silicon carbide substrates. When using a heterogeneous substrate, defects such as dislocation are increased due to the difference in lattice constant between the substrate material and the thin film material. Also, due to the difference in the thermal expansion coefficient between the substrate material and the thin film material, warping occurs at a temperature change, and warping causes a crack in the thin film. This problem may be reduced by using a buffer layer between the substrate and the GaN-based light emitting laminate.

또한, 상기 성장용 기판은 LED 구조 성장 전 또는 후에 LED 칩의 광 또는 전기적 특성을 향상시키기 위해 칩 제조 과정에서 완전히 또는 부분적으로 제거되거나 패터닝하는 경우도 있다.In addition, the substrate for growth may be completely or partially removed or patterned in order to improve the optical or electrical characteristics of the LED chip before or after the growth of the LED structure.

예를 들어, 사파이어 기판인 경우는 레이저를 기판을 통해 반도체층과의 계면에 조사하여 기판을 분리할 수 있으며, 실리콘이나 실리콘 카바이드 기판은 연마/에칭 등의 방법에 의해 제거할 수 있다.For example, in the case of a sapphire substrate, the substrate can be separated by irradiating the laser to the interface with the semiconductor layer through the substrate, and the silicon or silicon carbide substrate can be removed by a method such as polishing / etching.

또한, 상기 성장용 기판 제거 시에는 다른 지지 기판을 사용하는 경우가 있으며 지지 기판은 원 성장 기판의 반대쪽에 LED 칩의 광효율을 향상시키게 위해서, 반사 금속을 사용하여 접합하거나 반사구조를 접합층의 중간에 삽입할 수 있다.Another supporting substrate may be used for removing the growth substrate. In order to improve the light efficiency of the LED chip on the opposite side of the growth substrate, the supporting substrate may be bonded using a reflective metal, As shown in FIG.

또한, 상기 성장용 기판 패터닝은 기판의 주면(표면 또는 양쪽면) 또는 측면에 LED 구조 성장 전 또는 후에 요철 또는 경사면을 형성하여 광 추출 효율을 향상시킨다. 패턴의 크기는 5nm ~ 500㎛ 범위에서 선택될 수 있으며 규칙 또는 불규칙적인 패턴으로 광 추출 효율을 좋게 하기 위한 구조면 가능하다. 모양도 기둥, 산, 반구형, 다각형 등의 다양한 형태를 채용할 수 있다.In addition, patterning of the growth substrate improves the light extraction efficiency by forming irregularities or slopes before or after the LED structure growth on the main surface (front surface or both sides) or side surfaces of the substrate. The size of the pattern can be selected from the range of 5 nm to 500 μm and it is possible to make a structure for improving the light extraction efficiency with a rule or an irregular pattern. Various shapes such as a shape, a column, a mountain, a hemisphere, and a polygon can be adopted.

상기 사파이어 기판의 경우, 육각-롬보형(Hexa-Rhombo R3c) 대칭성을 갖는 결정체로서 c축 및 a측 방향의 격자상수가 각각 13.001과 4.758 이며, C면, A면, R면 등을 갖는다. 이 경우, 상기 C면은 비교적 질화물 박막의 성장이 용이하며, 고온에서 안정하기 때문에 질화물 성장용 기판으로 주로 사용된다.In the case of the sapphire substrate, the crystals having a hexagonal-rhombo-cubic (Hexa-Rhombo R3c) symmetry have lattice constants of 13.001 and 4.758 in the c-axis direction and the a-axis direction, respectively, and have C plane, A plane and R plane. In this case, the C-plane is relatively easy to grow the nitride film, and is stable at high temperature, and thus is mainly used as a substrate for nitride growth.

또한, 상기 성장용 기판의 다른 물질로는 Si 기판을 들 수 있으며, 대구경화에 보다 적합하고 상대적으로 가격이 낮아 양산성이 향상될 수 있다.Another material of the growth substrate is a Si substrate, which is more suitable for large-scale curing and relatively low in cost, so that mass productivity can be improved.

또한, 상기 실리콘(Si) 기판은 GaN계 반도체에서 발생하는 빛을 흡수하여 발광소자의 외부 양자 효율이 낮아지므로, 필요에 따라 상기 기판을 제거하고 반사층이 포함된 Si, Ge, SiAl, 세라믹, 또는 금속 기판 등의 지지기판을 추가로 형성하여 사용한다.In addition, since the silicon (Si) substrate absorbs light generated from the GaN-based semiconductor and the external quantum efficiency of the light emitting device is lowered, the substrate may be removed as necessary, and Si, Ge, SiAl, A support substrate such as a metal substrate is further formed and used.

상기 Si 기판과 같이 이종 기판상에 GaN 박막을 성장시킬 때, 기판 물질과 박막 물질 사이의 격자 상수의 불일치로 인해 전위(dislocation) 밀도가 증가하고, 열팽창 계수 차이로 인해 균열(crack) 및 휨이 발생할 수 있다. 발광 적층체의 전위 및 균열을 방지하기 위한 목적으로 성장용 기판과 발광적층체 사이에 버퍼층을 배치시킬 수 있다. 상기 버퍼층은 활성층 성장시 기판의 휘는 정도를 조절해 웨이퍼의 파장 산포를 줄이는 기능도 한다.When a GaN thin film is grown on a different substrate such as the Si substrate, the dislocation density increases due to the lattice constant mismatch between the substrate material and the thin film material, and cracks and warpage Lt; / RTI > The buffer layer may be disposed between the growth substrate and the light emitting stack for the purpose of preventing dislocation and cracking of the light emitting stack. The buffer layer also functions to reduce the scattering of the wavelength of the wafer by adjusting the degree of warping of the substrate during the growth of the active layer.

여기서, 상기 버퍼층은 AlxInyGa1-x-yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, x+y≤1), 특히 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, 또는 InGaNAlN를 사용할 수 있으며, 필요에 따라 ZrB2, HfB2, ZrN, HfN, TiN 등의 물질도 사용할 수 있다. 또한, 복수의 층을 조합하거나, 조성을 점진적으로 변화시켜 사용할 수도 있다.Herein, the buffer layer may be made of Al x In y Ga 1-xy N (0? X? 1, 0? Y? 1, x + y? 1), in particular GaN, AlN, AlGaN, InGaN or InGaNAlN. Materials such as ZrB2, HfB2, ZrN, HfN and TiN can also be used as needed. Further, a plurality of layers may be combined, or the composition may be gradually changed.

또한, 도시하지 않았지만, 상기 제 1 발광 소자(20)는, 상기 패드(P1)(P2) 이외에도 펌프나 솔더 등의 신호전달매체를 갖는 플립칩 형태일 수 있고, 이외에도, 단자에 본딩 와이어가 적용되거나, 부분적으로 제 1 단자 또는 제 2 단자에만 본딩 와이어가 적용되는 발광 소자나, 수평형, 수직형 발광 소자 등이 모두 적용될 수 있다.Although not shown, the first light emitting device 20 may be in the form of a flip chip having a signal transmission medium such as a pump or a solder in addition to the pads P1 and P2. In addition, a bonding wire may be applied to the terminals Or a light emitting element in which a bonding wire is applied to only a first terminal or a second terminal in part, or a horizontal or vertical type light emitting element.

또한, 상기 제 1 패드(P1)와 상기 제 2 패드(P2)는 도 1에 도시된 사각 형상 이외에 다양한 형상으로 변형될 수 있고, 예컨대 하나의 암 상에 다수 핑거들이 구비된 핑거 구조를 가질 수도 있다.In addition, the first pad P1 and the second pad P2 may be formed in various shapes other than the rectangular shape shown in FIG. 1, and may have a finger structure having a plurality of fingers on one arm have.

또한, 상기 제 1 발광 소자(20-1)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 기판(10)에 1개가 설치될 수도 있고, 이외에도 도시하지 않았지만, 상기 기판(10)에 복수개가 설치되는 것도 가능하다.1, the first light emitting device 20-1 may be provided on the substrate 10, and a plurality of first light emitting devices 20-1 may be provided on the substrate 10 It is also possible.

한편, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 상면 전극층(30)은, 상기 기판(10)의 상면에 형성되는 전극층으로서, 제 1 전극 분리 공간(A1)이 형성된 제 1 전극층(31) 및 제 2 전극층(32)으로 이루어지는 제 1 채널을 갖는 것일 수 있다.1 to 3, the top electrode layer 30 is an electrode layer formed on the top surface of the substrate 10, and includes a first electrode layer 31 having a first electrode separation space A1 formed thereon, And a second electrode layer (32).

더욱 구체적으로 예를 들면, 상기 제 1 전극층(31) 및 상기 제 2 전극층(32)은, 상기 제 1 발광 소자(20-1)와 대향되도록 상기 기판(10)의 상면에 형성될 수 있고, 상기 제 1 전극층(31)과 상기 제 2 전극층(32) 사이에는 상기 제 1 전극 분리 공간(A1)이 형성될 수 있다.More specifically, for example, the first electrode layer 31 and the second electrode layer 32 may be formed on the upper surface of the substrate 10 so as to face the first light emitting device 20-1, The first electrode separation space (A1) may be formed between the first electrode layer (31) and the second electrode layer (32).

예를 들면, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 기판(10)의 상면에 상기 제 1 전극 분리 공간(A)을 기준으로 양측에 각각 전체적으로 반원 형상의 패턴으로 상기 제 1 전극층(31)과 상기 제 2 전극층(32)이 형성될 수 있다.For example, as shown in FIG. 1, on the upper surface of the substrate 10, the first electrode layer 31 and the second electrode layer 31 are formed on both sides of the first electrode separation space A, The second electrode layer 32 may be formed.

여기서, 이러한 상기 패턴은 매우 다양한 형상일 수 있으나, 도 1에 도시된 바와 같이, 멀티 칩들, 즉 복수개(도 1에서는 6개)의 상기 제 1 발광 소자(20-1)들을 하나의 기판(10)에 수용하기 위해서 매우 복잡한 형상으로 설계되더라도 본 발명의 기술적 사상에 의하면, 종래의 PCB 장비를 이용하여 예컨데, 후술될 동박 시트 등 상기 상면 전극층(30)의 패턴을 자유롭게 형성할 수 있기 때문에 대면적, 대광량, 멀티 칩 형태의 패키지들을 매우 쉽게 제조할 수 있다.1, a plurality of the first light emitting devices 20-1 (six in FIG. 1) may be arranged on one substrate 10 Even if the top electrode layer 30 is designed to have a very complicated shape, it is possible to freely form a pattern of the top electrode layer 30, for example, a copper foil sheet to be described later by using the conventional PCB equipment, , Large-power, multi-chip packages can be manufactured very easily.

또한, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 하면 전극층(50)은, 상기 기판(10)의 하면에 형성되는 전도성 재질의 전극층일 수 있다. 여기서, 상기 하면 전극층(50)은, 도시하지 않았지만, 외부의 전원 연결 단자나 모듈 기판 등에 전기적으로 연결될 수 있도록 외부의 전원 연결 단자나 모듈 기판의 형상에 대응되도록 형성될 수 있다.1 to 3, the lower electrode layer 50 may be an electrode layer of a conductive material formed on the lower surface of the substrate 10. Although not shown, the bottom electrode layer 50 may be formed to correspond to a shape of an external power connection terminal or a module substrate so as to be electrically connected to an external power connection terminal or a module substrate.

여기서, 상기 상면 전극층(30) 및 상기 하면 전극층(50)은, 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 알루미늄(Al), 솔더(Solder) 등 전도성 재질을 갖는 시트를 상기 기판(10)의 상면 및 하면에 각각 부착시키고, 핫프레스를 이용하여 고온, 고압으로 가압하는 시트 부착 방식, 즉 일반적으로 PCB 제조 장비를 이용하여 형성할 수 있다.The top electrode layer 30 and the bottom electrode layer 50 may be formed of a conductive material such as copper (Cu), gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), aluminum (Al) A sheet attaching method in which a sheet having a predetermined thickness is attached to the upper surface and the lower surface of the substrate 10 and is pressed at a high temperature and a high pressure by using a hot press,

따라서, 기존의 PCB 제조 과정과 유사하여 PCB 장비인 핫프레스를 이용하는 등 제조 과정이 매우 용이하고, 비교적 저가의 혼합 소재를 상기 기판(10)으로 사용하여 패키지 가격을 절감하며, 생산성을 크게 향상시킬 수 있다.Therefore, the manufacturing process is very easy, such as using a hot press, which is a PCB device, similar to the conventional PCB manufacturing process, and a comparatively low-cost mixed material is used as the substrate 10 to reduce the package price, .

이외에도, 상기 상면 전극층(30) 및 상기 하면 전극층(50)은, 각종 증착 공정, 펄스 도금이나 직류 도금 등의 도금 공정, 솔더링 공정, 접착 공정, 스프레이 공정 등 다양한 공정을 이용하여 형성될 수 있다. In addition, the top electrode layer 30 and the bottom electrode layer 50 may be formed using various processes such as various deposition processes, plating processes such as pulse plating and direct current plating, soldering processes, adhesion processes, and spray processes.

또한, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 측면 전극층(40)은, 상기 기판(10)의 측면에 형성되고, 상기 상면 전극층(30)과 상기 하면 전극층(50)을 전기적으로 연결하는 것으로서, 상기 기판(10)에 천공된 관통창(W)의 일부 내벽을 따라 도금된 도금층일 수 있다.1 to 3, the side surface electrode layer 40 is formed on a side surface of the substrate 10 and electrically connects the top surface electrode layer 30 and the bottom electrode layer 50 to each other And may be a plated layer plated along a part of the inner wall of the penetrating window W formed in the substrate 10.

이러한 도금 방식은 무전해 도금 방식이 가능하고, 도 1 및 도 에 도시된 바와 같이, 상기 관통창(W)의 내벽에만 무전해 방식 또는 전해 방식으로 도금하거나, 상기 기판(10)의 상면 및 하면의 부분적 또는 전체적으로 무전해 방식 또는 전해 방식으로 도금할 수 있다.As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the plating method can be performed by electroless plating or electrolytic plating only on the inner wall of the through window W, The plating may be partially or wholly electroless or electrolytic.

이러한, 상기 측면 전극층(40)의 형성 방법은, 도금 방식에 국한되지 않고, 이외에도 상기 기판(10)의 측면에 솔더 패이스트 등 도전성 패이스트를 도팅하거나, 초정밀 전사하거나, 초정밀 스템핑(stamping)할 수 있고, 이외에도 잉크젯 프린팅(inkjet printing) 방식, 스텐실 프린팅(stencil printing) 방식, 스퀴즈 프린팅(squeeze printing) 방식 등 각종 프린트 방식으로 형성할 수 있다.The side electrode layer 40 may be formed by plating a conductive paste such as a solder paste on the side surface of the substrate 10, by super-precise transfer, by ultra-precision stamping, In addition, various printing methods such as an inkjet printing method, a stencil printing method, and a squeeze printing method can be used.

상술된 바와 같이, 상기 상면 전극층(30)과, 상기 하면 전극층(50) 및 상기 측면 전극층(40)은, 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 알루미늄(Al), 솔더(Solder), 니켈 등 전도성 재질일 수 있고, 각종 시트 부착, 증착, 펄스 도금이나 직류 도금 등의 도금 공정, 솔더링 공정, 접착 공정, 스프레이 공정 등 다양한 공정을 이용하여 형성될 수 있다.As described above, the top electrode layer 30, the bottom electrode layer 50, and the side electrode layer 40 are formed of copper (Cu), gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt) Al, solder, nickel, or the like, and may be formed using various processes such as plating with various sheets, vapor deposition, pulse plating or direct current plating, soldering, bonding, spraying .

더욱 구체적으로 예를 들면, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 기판(10)의 제 1 측면(10a) 및/또는 그 반대편의 제 3 측면(10c)은 적어도 하나의 트림 절단면(TC)이 형성되고, 상기 측면 전극층(40)은, 상기 기판(10)의 제 2 측면(10b) 및/또는 그 반대편의 제 4 측면(10d)에 도금되는 도금층일 수 있다.1 to 3, the first side 10a of the substrate 10 and / or the third side 10c opposite to the first side 10a are formed with at least one trimmed section TC And the side surface electrode layer 40 may be a plating layer plated on the second side surface 10b of the substrate 10 and / or the fourth side surface 10d opposite thereto.

여기서, 예컨데, 상기 측면 전극층(40)은, 상기 기판(10)에 천공된 관통창(W)의 내벽을 따라 도금된 도금층이고, 상기 트림 절단면(TC)의 상부 또는 하부에 V홈부(V)의 일부가 형성되는 것일 수 있다.For example, the side electrode layer 40 is a plating layer plated along the inner wall of the penetrating window W formed in the substrate 10, and the V groove portion V is formed on the upper or lower portion of the trimmed cut surface TC. As shown in FIG.

따라서, 이러한 본 발명의 일부 실시예들에 따른 상기 발광 소자 패키지(100)는, 상기 기판(10)의 제 1 측면(10a) 및/또는 그 반대편의 제 3 측면(10c)은 적어도 하나의 트림 절단면(TC)이 형성되고, 상기 측면 전극층(40)은, 상기 기판(10)의 제 2 측면(10b) 및/또는 그 반대편의 제 4 측면(10d)에 도금되기 때문에 대량의 멀티 칩 형태의 발광 소자 패키지(100)들을 동시에 쉽고 빠르게 생산할 수 있다.Accordingly, in the light emitting device package 100 according to some embodiments of the present invention, the first side 10a of the substrate 10 and / or the third side 10c opposite to the first side 10a may have at least one trim Since the cut surface TC is formed and the side surface electrode layer 40 is plated on the second side surface 10b of the substrate 10 and / or the fourth side surface 10d opposite thereto, The light emitting device packages 100 can be produced easily and quickly at the same time.

또한, 상기 측면 전극층(40)이 상기 기판(10)에 천공된 관통창(W)의 내벽을 따라 도금된 도금층이기 때문에 비교적 간단한 도금 공정을 이용하여 상기 측면 전극층(40)을 쉽게 생산할 수 있고, 상기 트림 절단면(TC)의 상부 또는 하부에 V홈부(V)의 일부가 형성되기 때문에 수작업 또는 자동 트림 공정에서의 절단 작업이 매우 용이하고, 후술될 절단 라인(CL)의 절단시 절단면의 정밀도를 높이고, 양질의 제품을 대량으로 생산할 수 있다. 또한, 이러한 본 발명의 사상은 COB(Chip On Board) 형태의 각종 패키지 또는 모듈이나 각종 실장 기술로 널리 응용될 수 있다.In addition, since the side electrode layer 40 is a plating layer plated along the inner wall of the penetrating window W formed in the substrate 10, the side electrode layer 40 can be easily manufactured using a relatively simple plating process, Since a part of the V groove portion V is formed on the upper or lower portion of the trim cut surface TC, it is very easy to perform the cutting operation in the manual or automatic trim process, and the accuracy of the cut surface when cutting the cut line CL And can produce a large quantity of high quality products. In addition, the idea of the present invention can be widely applied to various packages or modules of the COB (Chip On Board) type or various mounting techniques.

한편, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)는, 추가 도금층(60)과, 본딩 매체(70)와, 하면 방열층(80)과, 렌즈(90) 또는 형광체 및 가이드부(G)를 더 포함할 수 있다.1 and 2, a light emitting device package 100 according to some embodiments of the present invention includes an additional plating layer 60, a bonding medium 70, a lower heat dissipation layer 80, And a lens 90 or a phosphor and a guide unit G. [

여기서, 예를 들면, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 추가 도금층(60)은, 상기 상면 전극층(30)에 형성되는 것으로서, 예컨데, 상기 상면 전극층(30)과, 상기 하면 전극층(50) 및 상기 측면 전극층(40)이 서로 물리적 또는 전기적으로 보다 견고하게 연결될 수 있도록 상기 상면 전극층(30)과, 상기 하면 전극층(50) 및 상기 측면 전극층(40)의 외표면에 추가로 설치될 수 있다.1 to 3, the additional plating layer 60 is formed on the top electrode layer 30 and includes, for example, the top electrode layer 30 and the bottom electrode layer 30, 50 and the side surface electrode layer 40 may be additionally provided on the outer surface of the top surface electrode layer 30 and the bottom electrode layer 50 and the side surface electrode layer 40 so as to be physically or electrically connected to each other .

이외에도, 상기 추가 도금층(60)은 상기 상면 전극층(30)에만 형성되는 반사층일 수 있다. 도시하지 않았지만, 이러한 상기 반사층은 반사도가 뛰어난 은(Ag), 백금(Pt), 알루미늄(Al), 니켈 등의 반사성 도금층으로 이루어질 수 있다. 따라서, 상기 추가 도금층(60)을 이용하여 패키지의 물리적 및 전기적 특성을 향상시키고, 패키지의 광효율을 향상시킬 수 있다.In addition, the additional plating layer 60 may be a reflective layer formed only on the top electrode layer 30. Although not shown, the reflective layer may be formed of a reflective plating layer of silver (Ag), platinum (Pt), aluminum (Al), nickel, or the like having high reflectivity. Therefore, the physical and electrical characteristics of the package can be improved by using the additional plating layer 60, and the light efficiency of the package can be improved.

이외에도, 상기 반사층은 도금 방식 이외에도, 실리콘 수지 조성물, 실리콘 변성 에폭시 수지 등의 변성 에폭시 수지 조성물, 에폭시 변성 실리콘 수지 등의 변성 실리콘 수지 조성물, 폴리이미드 수지 조성물, 변성 폴리이미드 수지 조성물, 폴리프탈아미드(PPA), 폴리카보네이트 수지, 폴리페닐렌 설파이드(PPS), 액정 폴리머(LCP), ABS 수지, 페놀 수지, 아크릴 수지, PBT 수지 등의 수지 등을 몰딩이나 도포나 디스펜싱 방식으로 형성할 수 있다.In addition to the plating method, the reflective layer may be formed by using a silicone resin composition, a modified epoxy resin composition such as a silicone modified epoxy resin, a modified silicone resin composition such as an epoxy modified silicone resin, a polyimide resin composition, a modified polyimide resin composition, PPA), polycarbonate resin, polyphenylene sulfide (PPS), liquid crystal polymer (LCP), ABS resin, phenol resin, acrylic resin, PBT resin and the like.

또한, 이들 수지 중에, 산화 티타늄, 이산화규소, 이산화티탄, 이산화지르코늄, 티타늄산 칼륨, 알루미나, 질화알루미늄, 질화붕소, 멀라이트, 크롬, 화이트 계열이나 금속 계열의 성분 등 광 반사성 물질을 함유시킬 수 있다.It is also possible to add a light reflecting material such as titanium oxide, silicon dioxide, titanium dioxide, zirconium dioxide, potassium titanate, alumina, aluminum nitride, boron nitride, mullite, chromium, have.

이외에도, 도시하지 않았지만, 상기 기판(10)에 상술된 각종 수지 재질로 이루어지는 별도의 반사 봉지재를 추가로 몰딩 성형할 수 있다.In addition, although not shown, a separate sealing material made of various resin materials described above may be additionally molded on the substrate 10.

여기서, 복수개의 상기 제 1 발광 소자(20-1)는 상기 상면 전극층(30) 또는 상술된 상기 추가 도금층(60)에 안착될 수 있다.Here, the plurality of first light emitting devices 20-1 may be seated on the top electrode layer 30 or the additional plating layer 60 described above.

한편, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 본딩 매체(70)는, 상기 상면 전극층(30)과 상기 제 1 발광 소자(20-1) 사이에 설치되는 것으로서, 상기 제 1 발광 소자(20)의 제 1 패드(P1)와 상기 제 2 패드(P2)가 각각 상기 상면 전극층(30)의 상기 제 1 전극(31) 및 상기 제 2 전극(32)에 각각 전기적으로 연결시키는 본딩 부재일 수 있다.1 to 3, the bonding medium 70 is provided between the top electrode layer 30 and the first light emitting device 20-1, and the first light emitting device The first pad P1 and the second pad P2 of the upper electrode layer 20 are electrically connected to the first electrode 31 and the second electrode 32 of the top electrode layer 30, .

여기서, 상기 본딩 매체(70)는, 일반적인 공융 접합(Eutectic bonding) 물질인, AuSn, 주석(Sn), SAC(Sn-Ag-Cu) 등이 적용될 수 있고, 상기 상면 전극층(30)에 각각 도포 또는 디스펜싱되는 솔더 페이스트(solder paste) 또는 솔더 크림일 수 있다.The bonding medium 70 may be AuSn, Sn, SAC (Sn-Ag-Cu) or the like which is a general eutectic bonding material and may be applied to the top electrode layer 30 Or solder paste or solder paste dispensed.

따라서, 이러한 상기 본딩 매체(70)를 이용하여 상기 제 1 발광 소자(20-1)와 상기 상면 전극층(30) 또는 상기 추가 도금층(60) 사이의 물리적 및 전기적 접촉성을 향상시킬 수 있다.Therefore, the physical and electrical contact between the first light emitting device 20-1 and the top electrode layer 30 or the additional plating layer 60 can be improved by using the bonding medium 70. FIG.

이외에도, 상기 본딩 매체(70)는, 납층, 구리층, 알루미늄층, 솔더층 등 본딩시 유동이 가능한 유동 상태이나, 냉각시 또는 가열시 또는 건조시 경화되는 모든 경화성 재질인 전도성 본딩 매체일 수 있다.In addition, the bonding medium 70 may be a conductive bonding medium that is in a flowable state during bonding such as a lead layer, a copper layer, an aluminum layer, and a solder layer, or any hardenable material that is cured upon cooling or heating or drying .

한편, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 하면 방열층(80)은, 상기 기판(10)의 하면에 설치되는 것으로서, 상기 하면 전극층(50)이 형성될 때, 상기 기판(10)의 하면에 동시에 설치될 수 있고, 상기 하면 전극층(50)과 전기적으로 완전히 절연되거나, 상기 하면 전극층(50)의 극성 중 어느 한 극성의 전극과 전기적으로 연결될 수 있다.1 and 2, the lower surface heat dissipation layer 80 is provided on the lower surface of the substrate 10, and when the lower surface electrode layer 50 is formed, And may be electrically insulated from the lower electrode layer 50 or may be electrically connected to one of the polarities of the lower electrode layer 50.

따라서, 도시하지 않았지만, 외부의 열패스를 상기 하면 방열층(80)과 열적으로 연결시켜서 상기 기판(10)의 열을 외부로 쉽게 방출시킬 수 있다.Therefore, although not shown, the external heat path may be thermally connected to the heat dissipation layer 80 to easily dissipate the heat of the substrate 10 to the outside.

도 4 내지 도 19는 도 1의 발광 소자 패키지(100)의 제조 과정을 단계적으로 나타내는 단면도들이다.FIGS. 4 to 19 are cross-sectional views illustrating steps of manufacturing the light emitting device package 100 of FIG.

도 4는 도 1의 발광 소자 패키지(100)의 제조 과정을 나타내는 평면도이고, 도 5는 도 4의 V-V 절단면을 나타내는 단면도이다.FIG. 4 is a plan view illustrating a manufacturing process of the light emitting device package 100 of FIG. 1, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line V-V of FIG.

먼저, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 바인더(11)와 방열 분말(12)이 혼합된 절연성 혼합 재질로 이루어지는 원판(1)을 준비할 수 있다.First, as shown in FIG. 4 and FIG. 5, an original plate 1 made of an insulating mixed material in which a binder 11 and a heat dissipating powder 12 are mixed can be prepared.

이 때, 상기 바인더(11)는, 에폭시 계열의 절연성 수지일 수 있고, 상기 방열 분말(12)은 상기 바인더(11)와 결합된 세라믹 분말 또는 절연 처리된 금속 분말일 수 있고, 이러한 재질의 상기 원판(1)은 그 두께가 50 내지 500 마이크로미터(μm)일 수 있으며, 일반적인 PCB 장비에 적용될 수 있도록 예컨데, 상기 원판(1)의 크기는 510 × 610 mm2 내지 1020 × 1200 mm2 일 수 있다. In this case, the binder 11 may be an epoxy-based insulating resin, and the heat-dissipating powder 12 may be a ceramic powder or an insulated metal powder combined with the binder 11, The disk 1 may have a thickness of 50 to 500 micrometers (μm). For example, the size of the disk 1 may be 510 × 610 mm 2 to 1020 × 1200 mm 2 have.

도 6은 도 1의 발광 소자 패키지(100)의 제조 과정을 나타내는 평면도이고, 도 7은 도 6의 VII-VII 절단면을 나타내는 단면도이다.FIG. 6 is a plan view showing a manufacturing process of the light emitting device package 100 of FIG. 1, and FIG. 7 is a sectional view taken along line VII-VII of FIG.

이어서, 도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 일반적으로 PCB 제조 장비로 널리 이용되는 핫프레스를 이용하여 상기 원판(1)의 상면에 상면 전극층 시트(3)를 고온 및 고압으로 가압하여 열부착 및 합지하고, 이와 동시에 상기 원판(1)의 하면에 하면 전극층 시트(5)를 고온 및 고압으로 가압하여 열부착 및 합지할 수 있다.Next, as shown in FIGS. 6 and 7, the upper surface electrode sheet 3 is pressed to the upper surface of the disk 1 at a high temperature and a high pressure by using a hot press, which is generally used as a PCB manufacturing equipment, And at the same time, the lower surface electrode sheet 5 can be pressed against the lower surface of the disk 1 at a high temperature and a high pressure so as to be thermally adhered and laminated.

이 때, 예를 들면, 상기 상면 전극층 시트(3) 및 상기 하면 전극층 시트(5)은 10 내지 100 마이크로미터(㎛)의 구리나 알루미늄 시트가 적용될 수 있다.At this time, for example, the upper surface electrode layer sheet 3 and the lower surface electrode sheet 5 may be made of copper or aluminum sheet of 10 to 100 micrometers (占 퐉).

도 8은 도 1의 발광 소자 패키지(100)의 제조 과정을 나타내는 평면도이고, 도 9는 도 8의 IX-IX 절단면을 나타내는 단면도이다.FIG. 8 is a plan view showing a manufacturing process of the light emitting device package 100 of FIG. 1, and FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line IX-IX of FIG.

이어서, 도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이, 일반적인 트림 장비나, 금형이나 드릴, 라우터, 식각 장비, 절삭 장비, 펀칭 장비, 레이저 천공 장비 등을 이용하여 상기 상면 전극층 시트(3)와 상기 하면 전극층 시트(5)가 부착된 상기 원판(1)에 관통창(W)을 천공할 수 있다.Next, as shown in FIGS. 8 and 9, the upper surface electrode layer sheet 3 and the upper surface electrode sheet 3 are formed using a general trim equipment, a mold, a drill, a router, an etching equipment, a cutting equipment, a punching equipment, It is possible to perforate the penetrating window W on the original plate 1 to which the electrode layer sheet 5 is attached.

이러한 상기 관통창(W)의 형상은, 원형홀, 사각홀, 다각홀, 타원형홀, 장공, 각종 기하학적인 홀 등 매우 다양하게 형성될 수 있으나 대량 및 일괄 생산을 위하여, 도 8에 도시된 바와 같이, 서로 평행하고, 길이 방향으로 길고 나란하게 형성되는 장공일 수 있다. 예컨데, 상기 관통창(W)의 폭은 1 내지 2 mm일 수 있다.The shape of the penetration window W may be variously formed, such as a circular hole, a square hole, a polygonal hole, an elliptical hole, a long hole, various geometric holes, etc. However, for mass and batch production, Likewise, they can be parallel to each other and long and long in the longitudinal direction. For example, the width of the penetrating window W may be 1 to 2 mm.

도 10은 도 1의 발광 소자 패키지(100)의 제조 과정을 나타내는 평면도이고, 도 11은 도 10의 XI-XI 절단면을 나타내는 단면도이다.10 is a plan view illustrating a manufacturing process of the light emitting device package 100 of FIG. 1, and FIG. 11 is a cross-sectional view taken along line XI-XI of FIG.

이어서, 도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 무전해 도금법을 이용하여 상기 관통창(W)의 내벽에 측면 전극층(40)이 형성되도록 상기 관통창(W)의 내벽에 도금층을 도금할 수 있다.10 and 11, a plating layer may be plated on the inner wall of the through-hole W so that the side-surface electrode layer 40 is formed on the inner wall of the through-hole W using an electroless plating method have.

이 때, 무전해 도금법이란, 화학 도금 또는 자기촉매도금이라고도 하는 것으로, 수용액 내의 폼알데하이드나 하이드리진 같은 환원제가 금속이온이 금속분자로 환원되도록 전자를 공급하는데, 이 반응은 촉매 표면에서 일어날 수 있다.Here, the electroless plating method is also referred to as chemical plating or autocatalytic plating, in which a reducing agent such as formaldehyde or hydrazine in an aqueous solution supplies electrons such that metal ions are reduced to metal molecules, and this reaction can occur at the catalyst surface.

도금제로는, 구리, 니켈-인, 니켈-보론 합금, 금, 은 등이 있고, 전기도금에 비해서 도금층이 치밀하여 대략 25㎛의 균일한 두께를 가질 수 있다.As the plating agent, copper, nickel-phosphorus, nickel-boron alloy, gold, silver and the like are available, and the plating layer is dense compared to electroplating, and can have a uniform thickness of approximately 25 탆.

이러한 상기 무전해 도금법은, 도체뿐만 아니라 플라스틱이나 유기체 같은 다양한 피가공체에 흑연 가루 등을 칠하여 부분적으로 원하는 부분만 적용할 수 있다.In the electroless plating method, not only a conductor but also a graphite powder or the like may be painted on various objects to be processed such as a plastic or an organic material to partially apply the desired portion.

또한, 무전해 도금 이후에, 다시 전해 도금으로 전기를 이용하여 상기 도금층의 두께를 더욱 증가시킬 수 있다.Further, after the electroless plating, the thickness of the plating layer can be further increased by using electrolytic plating again with electricity.

도 12는 도 1의 발광 소자 패키지(100)의 제조 과정을 나타내는 평면도이고, 도 13은 도 12의 XIII-XIII 절단면을 나타내는 단면도이다.FIG. 12 is a plan view illustrating a manufacturing process of the light emitting device package 100 of FIG. 1, and FIG. 13 is a cross-sectional view taken along line XIII-XIII of FIG.

이어서, 도 12 및 도 13에 도시된 바와 같이, 물리적 및 전기적으로 내구성 및 신뢰성이 우수하고, 광효율이 높은 패키지를 제조하고자 하는 경우, 적어도 상기 상면 전극층 시트(3), 상기 하면 전극층 시트(5), 상기 측면 전극층(40), 상기 원판(1) 및 이들의 조합 중 어느 하나 이상을 선택하여 이루어지는 표면에 반사율이 우수한 은이나 알루미늄 또는 금 등과 같은 재질의 추가 도금층(60)을 부분적 또는 전체적으로 도금할 수 있다.Next, as shown in FIGS. 12 and 13, when it is desired to manufacture a package having high physical and electrical durability and reliability and high optical efficiency, at least the top electrode layer sheet 3, the bottom electrode layer sheet 5, An additional plating layer 60 made of silver, aluminum, gold or the like having a high reflectivity on the surface formed by selecting at least one of the above-mentioned side electrode layer 40, the original plate 1 and a combination thereof is partially or entirely coated .

도 14는 도 1의 발광 소자 패키지(100)의 제조 과정을 나타내는 평면도이고, 도 15는 도 14의 XV-XV 절단면을 나타내는 단면도이다.FIG. 14 is a plan view showing a manufacturing process of the light emitting device package 100 of FIG. 1, and FIG. 15 is a sectional view taken along the line XV-XV in FIG.

이어서, 도 14 및 도 15에 도시된 바와 같이, 상기 상면 전극층 시트(3) 또는 상기 하면 전극층 시트(5)에 전극 분리 공간(A) 또는 패턴이 형성되도록 상기 상면 전극층 시트(3) 및 상기 하면 전극층 시트(5)에 감광성 마스크 필름을 부착하고, 상기 상면 전극층 시트(3) 및 상기 하면 전극층 시트(5)를 선택적으로 식각할 수 있다.14 and 15, the upper surface electrode layer sheet 3 and the lower surface electrode layer sheet 5 are formed such that an electrode separation space A or a pattern is formed in the upper surface electrode layer sheet 3 or the lower surface electrode layer sheet 5, A photosensitive mask film may be attached to the electrode layer sheet 5 so that the top electrode layer sheet 3 and the bottom electrode layer sheet 5 can be selectively etched.

여기서, 도시하지 않았지만, 상기 감광성 마스크 필름으로는 인쇄 회로 기판이나 TFT-LCD를 만들 때, 사용되는 DFP(Dry Film Photoresist)가 적용될 수 있다.Although not shown, DFP (dry film photoresist) used when a printed circuit board or a TFT-LCD is manufactured can be applied to the photosensitive mask film.

또한, 상기 상면 전극층 시트(3) 및 상기 하면 전극층 시트(5)에 상기 감광성 마스크 필름을 부착할 때, 상기 상면 전극층 시트(3)의 전극 분리 공간(A)은 식각액에 노출되고, 상기 감광성 마스크 필름(M)가 상기 관통창(W)을 보호할 수 있도록 상기 관통창(W)은 상기 식각액으로부터 밀봉시켜서 상술된 상기 관통창(W)의 내벽에 형성된 측면 전극층(40)을 보존할 수 있다.When the photosensitive mask film is attached to the top surface electrode layer sheet 3 and the bottom electrode sheet 5, the electrode separation space A of the top surface electrode sheet 3 is exposed to the etching liquid, The penetrating window W may be sealed from the etchant so that the film M can protect the penetrating window W so as to preserve the side surface electrode layer 40 formed on the inner wall of the penetrating window W described above .

이어서, 상기 상면 전극층 시트(3) 및 상기 하면 전극층 시트(5)에 부착된 상기 감광성 마스크 필름을 노광한 후, 식각액으로 식각할 수 있다.Next, the photosensitive mask film attached to the top electrode layer sheet 3 and the bottom electrode sheet 5 may be exposed and then etched with an etching solution.

이 때, 도 15에 도시된 바와 같이, 상기 하면 전극층 시트(5)에 패턴을 형성하여 상술된 상기 하면 방열층(80)이 상기 하면 전극층(50)으로부터 전기적으로 절연되도록 식각할 수 있다.15, a pattern may be formed on the lower electrode layer sheet 5 so that the lower surface heat dissipation layer 80 may be etched so as to be electrically insulated from the lower electrode layer 50. Referring to FIG.

도 16은 도 1의 발광 소자 패키지(100)의 제조 과정을 나타내는 평면도이다.16 is a plan view showing a manufacturing process of the light emitting device package 100 of FIG.

이어서, 도 16에 도시된 바와 같이, 상기 원판(1) 또는 상기 상면 전극층 시트(3)에 상기 절단 라인(CL1)을 따라 미리 V홈부(V)를 컷팅할 수 있다.16, the V-groove portion V may be previously cut along the cutting line CL1 in the disk 1 or the top surface electrode sheet 3, as shown in FIG.

여기서, 이러한 컷팅 과정은, 상기 원판(1)이 비교적 연해서 절단되기 쉬운 재질인 상기 바인더(11) 및 상기 방열 분말(12)로 이루어지기 때문에 일반적인 트림 장비를 이용하거나, 금형이나 드릴, 라우터, 식각 장비, 절삭 장비, 소잉 장비, 펀칭 장비, 레이저 천공 장비 등을 이용하여 매우 쉽게 컷팅할 수 있다.Since the disk 1 is made of the binder 11 and the heat dissipating powder 12 which are relatively easy to cut, the cutting process can be performed by using a general trim device, a die, a drill, a router, It is very easy to cut by using equipment, cutting equipment, sawing equipment, punching equipment, laser drilling equipment.

예컨데, 상기 V홈부(V)의 폭은 0.2 내지 0.5 mm일 수 있다.For example, the width of the V groove portion V may be 0.2 to 0.5 mm.

도 17는 도 1의 발광 소자 패키지(100)의 제조 과정을 나타내는 평면도이고, 도 18는 도 17의 X VIII-X VIII 절단면을 나타내는 단면도이다.FIG. 17 is a plan view showing a manufacturing process of the light emitting device package 100 of FIG. 1, and FIG. 18 is a sectional view taken along the line XVII-XVII in FIG.

이어서, 도 17 및 도 18에 도시된 바와 같이, 상기 상면 전극층 시트(3)에 솔더 패이스트나 솔더 크림이나 솔더 등의 본딩 매체(70)를 도포, 디스펜싱 또는 프린팅하여 형성하고, 상기 상면 전극층 시트(3)의 상기 본딩 매체(70)에 복수개의 상기 제 1 발광 소자(20-1)를 안착시킬 수 있다.17 and 18, a bonding medium 70 such as solder paste, solder cream, or solder is applied, dispensed or printed to the top electrode layer sheet 3, A plurality of the first light emitting devices 20-1 may be placed on the bonding medium 70 of the sheet 3. [

이 때, 상기 상면 전극층 시트(3)의 상기 본딩 매체(70)에 상기 제 1 발광 소자(20-1)를 안착시킨 후, 상기 본딩 매체(70)를 경화 또는 재경화시킬 수 있도록 상기 리플로우 과정을 진행할 수 있다.The first light emitting device 20-1 may be mounted on the bonding medium 70 of the top surface electrode sheet 3 and then the first and second light emitting devices 20-1 and 20-2 may be cured or re- Process can proceed.

도 19는 도 1의 발광 소자 패키지(100)의 제조 과정을 나타내는 평면도이다.19 is a plan view showing a manufacturing process of the light emitting device package 100 of FIG.

이어서, 도 19에 도시된 바와 같이, 식각된 상기 상면 전극층 시트(3)와 상기 하면 전극층 시트(5) 및 상기 원판(1)을 단위 패키지로 절단 라인(CL1)을 따라 절단할 수 있다.19, the etched top electrode layer sheet 3, the bottom electrode sheet 5 and the original plate 1 may be cut along the cutting line CL1 in a unit package.

여기서, 이러한 절단 과정은, 상기 원판(1)이 비교적 연해서 절단되기 쉬운 재질인 상기 바인더(11) 및 상기 방열 분말(12)로 이루어지기 때문에 일반적인 트림 장비를 이용하거나, 금형이나 드릴, 라우터, 식각 장비, 절삭 장비, 펀칭 장비, 레이저 천공 장비 등을 이용하여 매우 쉽게 절단할 수 있고, 미리 상기 V홈부(V)가 형성되어 있으므로 손으로 절단하는 등 매우 쉽게 절단할 수 있다.Since the disk 1 is made of the binder 11 and the heat dissipating powder 12 which are relatively easy to cut, the cutting process can be performed by using a general trim device, a die, a drill, a router, It is very easy to cut by using a cutting machine, a cutting machine, a punching machine, a laser drilling machine, or the like. Since the V groove portion V is formed in advance, it is very easy to cut by hand.

그러므로, 자유로운 패턴을 형성할 수 있어서, 각종 멀티 칩 패키지나 COB 패키지 모듈 등 대면적, 대용량의 패키지나 모듈을 쉽게 구성할 수 있고, 상기 방열 분말(12)을 이용하여 고방열 패키지를 구성할 수 있는 동시에, 금속에 비해서 비교적 연한 재질인 상기 바인더(11)와 상기 방열 분말(12)의 혼합 소재를 이용하여 트림, 절단, 천공, 시트 접착, 패턴 형성, 성형 등의 과정이 기존의 PCB 제조 과정과 유사하여 PCB 장비를 이용하는 등 매우 용이하고, 비교적 저가의 소재를 상기 기판(10)으로 사용하여 패키지 가격을 절감하며, 생산성을 크게 향상시킬 수 있고, 공정이 매우 수월하여 멀티 플립칩 본딩이나 복잡한 패턴 형성이나 추가 공정 등 성형성을 크게 향상시킬 수 있다.Therefore, it is possible to easily form a large-capacity package or module such as various multi-chip packages or COB package modules, and to form a highly heat-radiating package by using the above-mentioned heat- At the same time, the processes of trimming, cutting, punching, sheet bonding, pattern formation and molding are performed using a mixed material of the binder 11 and the heat radiation powder 12, which are relatively soft compared to metal, It is very easy to use PCB equipment, and it is possible to use a comparatively low-cost material as the substrate 10 to reduce the package price, to greatly improve the productivity, and the process is very easy, The moldability such as pattern formation and an additional process can be greatly improved.

도 20은 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(200)를 나타내는 단면도이고, 도 21은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(300)를 나타내는 단면도이고, 도 22는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(400)를 나타내는 단면도이다.20 is a cross-sectional view showing a light emitting device package 200 according to some other embodiments of the present invention, FIG. 21 is a sectional view showing a light emitting device package 300 according to still another embodiment of the present invention, 22 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device package 400 according to still another embodiment of the present invention.

먼저, 도 20에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(200)는, 상기 제 1 발광 소자(20-1)의 광 경로에 설치되는 렌즈(90) 또는 형광체 및 상기 기판(10) 또는 상기 상면 전극층(30)에 설치되고, 상기 렌즈(90) 또는 형광체의 설치 위치를 안내하는 가이드부(G)를 더 포함할 수 있다.20, a light emitting device package 200 according to some embodiments of the present invention includes a lens 90 or a phosphor 90 installed in an optical path of the first light emitting device 20-1, And a guide unit G disposed on the substrate 10 or the top electrode layer 30 and guiding the position of the lens 90 or the phosphor.

여기서, 상기 렌즈(90)는, 상기 제 1 발광 소자(20-1)에서 발생된 빛의 경로를 안내할 수 있는 것으로서, 유리, 에폭시 수지 조성물, 실리콘 수지 조성물, 실리콘 변성 에폭시 수지 등의 변성 에폭시 수지 조성물, 에폭시 변성 실리콘 수지 등의 변성 실리콘 수지 조성물, 폴리이미드 수지 조성물, 변성 폴리이미드 수지 조성물, 폴리프탈아미드(PPA), 폴리카보네이트 수지, 폴리페닐렌 설파이드(PPS), 액정 폴리머(LCP), ABS 수지, 페놀 수지, 아크릴 수지, PBT 수지 등이 적용될 수 있다.Here, the lens 90 may guide the path of light generated in the first light emitting device 20-1, and may be a glass epoxy resin composition, a silicone resin composition, a modified epoxy resin such as a silicone modified epoxy resin Modified polyimide resin composition, polyphthalamide (PPA), polycarbonate resin, polyphenylene sulfide (PPS), liquid crystal polymer (LCP), epoxy resin, ABS resin, phenol resin, acrylic resin, PBT resin and the like can be applied.

또한, 상기 형광체는, 상기 렌즈(90)와 같은 형상으로 형성되어 상기 렌즈(90)의 기능을 대신하거나, 상기 렌즈(90) 내부에 포함되거나, 상기 제 1 발광 소자(20-1)의 주변에 설치되는 것이 모두 가능하다.The phosphor may be formed in the same shape as the lens 90 so as to substitute for the function of the lens 90 or may be contained in the lens 90 or may surround the periphery of the first light emitting device 20-1 As shown in Fig.

이러한, 상기 형광체는 아래와 같은 조성식 및 컬러를 가질 수 있다.Such a phosphor may have the following composition formula and color.

산화물계: 황색 및 녹색 Y3Al5O12:Ce, Tb3Al5O12:Ce, Lu3Al5O12:CeOxide system: yellow and green Y3Al5O12: Ce, Tb3Al5O12: Ce, Lu3Al5O12: Ce

실리케이트계: 황색 및 녹색 (Ba,Sr)2SiO4:Eu, 황색 및 등색 (Ba,Sr)3SiO5:Ce(Ba, Sr) 2SiO4: Eu, yellow and orange (Ba, Sr) 3SiO5: Ce

질화물계: 녹색 β-SiAlON:Eu, 황색 L3Si6O11:Ce, 등색 α-SiAlON:Eu, 적색 CaAlSiN3:Eu, Sr2Si5N8:Eu, SrSiAl4N7:EuEu, Sr2Si5N8: Eu, SrSiAl4N7: Eu, Eu3O3: Eu, Eu3O3: Eu,

이러한, 상기 형광체의 조성은 기본적으로 화학양론(Stoichiometry)에 부합하여야 하며, 각 원소들은 주기율표상 각 족들 내 다른 원소로 치환이 가능하다. 예를 들어 Sr은 알카리토류(II)족의 Ba, Ca, Mg 등으로, Y은 란탄계열의 Tb, Lu, Sc, Gd 등으로 치환이 가능하다, 또한 활성제인 Eu 등은 원하는 에너지 준위에 따라 Ce, Tb, Pr, Er, Yb 등으로 치환이 가능하며, 활성제 단독 또는 특성 변형을 위해 부활성제등이 추가로 적용될 수 있다.The composition of the phosphor should basically correspond to stoichiometry, and each element may be substituted with another element in each group on the periodic table. For example, Sr can be substituted with Ba, Ca, Mg, etc. of the alkaline earth (II) group, and Y can be replaced with lanthanum series of Tb, Lu, Sc, Gd and the like. Ce, Tb, Pr, Er, Yb and the like, and the active agent may be used alone or as a negative active agent for the characteristic modification.

또한, 상기 형광체의 대체 물질로 양자점(Quantum Dot) 등의 물질들이 적용될 수 있으며, LED에 형광체와 QD를 혼합 또는 단독으로 사용될 수 있다.As a substitute for the phosphor, materials such as a quantum dot may be used. Alternatively, a fluorescent material and QD may be mixed with the LED or used alone.

QD는 CdSe, InP 등의 코어(3 ~ 10nm)와 ZnS, ZnSe 등의 쉘(0.5 ~ 2nm)및 코어, 쉘의 안정화를 위한 리간드(Ligand)의 구조로 구성될 수 있으며, 크기에 따라 다양한 칼라를 구현할 수 있다.QD can be composed of a core (3 to 10 nm) such as CdSe and InP, a shell (0.5 to 2 nm) such as ZnS and ZnSe, and a ligand for stabilizing the core and the shell. Can be implemented.

또한, 상기 형광체 또는 양자점(Quantum Dot)의 도포 방식은 크게 LED 칩 또는 발광소자에 뿌리는 방식, 또는 막 형태로 덮는 방식, 필름 또는 세라믹 형광체 등의 시트 형태를 부착하는 방식 중 적어도 하나를 사용 할 수 있다.In addition, the coating method of the fluorescent material or the quantum dot may include at least one of a method of being applied to an LED chip or a light emitting device, a method of covering the material in a film form, a method of attaching a sheet form such as a film or a ceramic fluorescent material .

뿌리는 방식으로는 디스펜싱, 스프레이 코팅 등이 일반적이며 디스펜싱은 공압방식과 스크류(Screw), 리니어 타입(Linear type) 등의 기계적 방식을 포함한다. 제팅(Jetting) 방식으로 미량 토출을 통한 도팅량 제어 및 이를 통한 색좌표 제어도 가능하다. 웨이퍼 레벨 또는 발광 소자 기판상에 스프레이 방식으로 형광체를 일괄 도포하는 방식은 생산성 및 두께 제어가 용이할 수 있다. Dispensing and spray coating are common methods of spraying, and dispensing includes mechanical methods such as pneumatic method and screw, linear type. It is also possible to control the amount of dyeing through a small amount of jetting by means of a jetting method and control the color coordinates thereof. The method of collectively applying the phosphor on the wafer level or the light emitting device substrate by the spray method can easily control productivity and thickness.

상기 제 1 발광 소자(20-1) 또는 LED 칩 위에 막 형태로 직접 덮는 방식은 전기영동, 스크린 프린팅 또는 형광체의 몰딩 방식으로 적용될 수 있으며 LED 칩 측면의 도포 유무 필요에 따라 해당 방식의 차이점을 가질 수 있다.The method of directly covering the first light emitting device 20-1 or the LED chip in a film form can be applied by a method of electrophoresis, screen printing or phosphor molding. .

발광 파장이 다른 2종 이상의 형광체 중 단파장에서 발광하는 광을 재 흡수하는 장파장 발광 형광체의 효율을 제어하기 위하여 발광 파장이 다른 2종 이상의 형광체층을 구분할 수 있으며, LED 칩과 형광체 2종 이상의 파장 재흡수 및 간섭을 최소화하기 위하여 각 층 사이에 DBR(ODR)층을 포함 할 수 있다.In order to control the efficiency of the long-wavelength light-emitting phosphor that reabsers light emitted from a short wavelength among two or more kinds of phosphors having different emission wavelengths, two or more kinds of phosphor layers having different emission wavelengths can be distinguished. A DBR (ODR) layer may be included between each layer to minimize absorption and interference.

균일 도포막을 형성하기 위하여 형광체를 필름 또는 세라믹 형태로 제작 후 LED 칩 또는 발광 소자 위에 부착할 수 있다. In order to form a uniform coating film, the phosphor may be formed into a film or ceramic form and then attached onto the LED chip or the light emitting device.

광 효율, 배광 특성에 차이점을 주기 위하여 리모트 형식으로 광변환 물질을 위치할 수 있으며, 이 때 광변환 물질은 내구성, 내열성에 따라 투광성 고분자, 유리등의 물질 등과 함께 위치한다.In order to make a difference in light efficiency and light distribution characteristics, a photoelectric conversion material may be located in a remote format. In this case, the photoelectric conversion material is located together with a transparent polymer, glass, or the like depending on its durability and heat resistance.

이러한, 상기 형광체 도포 기술은 발광 소자에서 광특성을 결정하는 가장 큰 역할을 하게 되므로, 형광체 도포층의 두께, 형광체 균일 분산 등의 제어 기술들이 다양하게 연구되고 있다. QD 또한 형광체와 동일한 방식으로 LED 칩 또는 발광 소자에 위치할 수 있으며, 유리 또는 투광성 고분자 물질 사이에 위치하여 광 변환을 할 수 있다.Since the phosphor coating technique plays a major role in determining the optical characteristics in the light emitting device, control techniques such as the thickness of the phosphor coating layer and the uniform dispersion of the phosphor have been studied variously. QD can also be placed in the LED chip or the light emitting element in the same manner as the phosphor, and can be positioned between the glass or translucent polymer material for light conversion.

또한, 도시하지 않았지만, 이외에도, 상기 제 1 발광 소자(20-1)의 주변에 각종 반사 부재나, 투광 봉지재나, 불투광 봉지재나 필터나 도광판이나 디스플레이 패널 등 매우 다양한 형태의 부재들이 추가로 설치될 수 있다.In addition, although not shown, various other reflective members, light-transmitting encapsulants, and various other types of members such as an impervious encapsulant, a filter, a light guide plate, and a display panel are additionally installed around the first light emitting device 20-1 .

또한, 상기 가이드부(G)는, 상기 렌즈(90) 또는 형광체의 설치 위치를 안내하는 것으로서, 도 20에 도시된 바와 같이, 상기 상부 전극층(30)을 둘러싸는 링형 상의 가이드 댐(G1)이 적용될 수 있다.20, the ring-shaped guide dam G1 surrounding the upper electrode layer 30 is provided to guide the installation position of the lens 90 or the fluorescent material, Can be applied.

여기서, 상기 가이드 댐(G1)은 상기 상부 전극층(30) 또는 상기 기판(10)의 상면에 몰딩이나 프린팅이나 디스펜싱하거나 식각하는 등 다양한 방법으로 형성할 수 있다.Here, the guide dam G1 may be formed on the upper electrode layer 30 or the upper surface of the substrate 10 by various methods such as molding, printing, dispensing, or etching.

이외에도, 도 21에 도시된 바와 같이, 상기 가이드부(G)는, 상기 렌즈(90) 또는 형광체의 설치 위치를 안내할 수 있도록 상기 상부 전극층(30) 주위를 둘러서 형성되는 가이드 홈부(G2)일 수 있다.21, the guide portion G includes a guide groove portion G2 formed around the upper electrode layer 30 so as to guide the lens 90 or the installation position of the fluorescent material. .

이외에도, 도 22에 도시된 바와 같이, 상기 가이드부(G)는, 상기 렌즈(90) 또는 형광체의 설치 위치를 안내할 수 있도록 상기 상부 전극층(30)에 오목하게 형성되는 가이드 단턱(G3)일 수 있다.22, the guide portion G may include a guide step G3 formed concavely in the upper electrode layer 30 so as to guide the installation position of the lens 90 or the fluorescent material. .

따라서, 상술된 상기 가이드부(G)를 경계로 그 내부에 렌즈 소재 또는 형광체 소재를 도포 또는 디스펜싱할 수 있다.Therefore, the lens material or the phosphor material can be applied or dispensed inside the guide portion G as a boundary.

도 23은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 백라이트 유닛(1000)을 나타내는 단면도이다.23 is a cross-sectional view illustrating a backlight unit 1000 according to some embodiments of the present invention.

도 16에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 백라이트 유닛(1000)은, 바인더(11)와 방열 분말(12)이 혼합된 절연성 혼합 재질로 이루어지는 기판(10)과, 상기 기판(10)의 상면에 형성되고, 제 1 전극 분리 공간(A1)이 형성된 제 1 전극층(31) 및 제 2 전극층(32)으로 이루어지는 제 1 채널을 갖는 상면 전극층(30)과, 상기 상면 전극층(30)의 상기 제 1 전극층(31) 및 상기 제 2 전극층(32)으로 이루어지는 상기 제 1 채널과 전기적으로 연결되도록 상기 기판(10) 상에 안착되는 적어도 하나의 제 1 발광 소자(20-1)와, 상기 기판(10)의 하면에 형성되는 하면 전극층(50)과, 상기 기판(10)의 측면에 형성되고, 상기 상면 전극층(30)과 상기 하면 전극층(50)을 전기적으로 연결하는 측면 전극층(40) 및 상기 제 1 발광 소자(20-1)의 광 경로에 설치되는 도광판(110)을 포함하고, 상기 기판(10)의 제 1 측면(10a) 및/또는 그 반대편의 제 3 측면(10c)은 적어도 하나의 트림 절단면(TC)이 형성되고, 상기 측면 전극층(40)은, 상기 기판(10)의 제 2 측면(10b) 및/또는 그 반대편의 제 4 측면(10d)에 도금되는 도금층일 수 있다.16, a backlight unit 1000 according to some embodiments of the present invention includes a substrate 10 made of an insulating mixed material in which a binder 11 and a heat dissipating powder 12 are mixed, An upper electrode layer 30 formed on the upper surface of the upper electrode layer 10 and having a first channel formed of a first electrode layer 31 and a second electrode layer 32 having a first electrode separation space A1 formed thereon, At least one first light emitting device 20-1 mounted on the substrate 10 so as to be electrically connected to the first channel formed of the first electrode layer 31 and the second electrode layer 32 of the first electrode layer 30, A lower electrode layer 50 formed on a lower surface of the substrate 10 and a side electrode layer 50 formed on a side surface of the substrate 10 and electrically connecting the upper electrode layer 30 and the lower electrode layer 50. [ (40) and a light guide plate (110) provided in an optical path of the first light emitting device (20-1) At least one trimmed cut surface TC is formed on the first side 10a of the base substrate 10 and / or the third side 10c opposite thereto and the side electrode layer 40 is formed on the substrate 10, And / or a fourth side 10d opposite to the first side 10b.

여기서, 상기 기판(10)과, 상기 상면 전극층(30)과, 상기 하면 전극층(50) 및 상기 측면 전극층(40)은, 도 1 내지 도 22에 도시된 바와 같이, 상술된 본 발명의 여러 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)(200)(300)(400)의 구성 요소들과 그 역할 및 구성이 동일할 수 있다. 따라서, 상세한 설명은 생략한다.1 to 22, the substrate 10, the top electrode layer 30, the bottom electrode layer 50, and the side electrode layer 40 may be formed by various methods of the present invention described above The functions and configurations of the light emitting device packages 100, 200, 300, and 400 according to the examples may be the same as those of the light emitting device package 100, 200, 300, Therefore, detailed description is omitted.

또한, 상기 도광판(110)은, 상기 제 1 발광 소자(20-1)에서 발생된 빛을 유도할 수 있도록 투광성 재질로 제작될 수 있는 광학 부재일 수 있다.In addition, the light guide plate 110 may be an optical member that can be made of a light-transmitting material to guide light generated from the first light emitting device 20-1.

이러한, 상기 도광판(110)은, 상기 제 1 발광 소자(20-1)에서 발생된 빛의 경로에 설치되어, 상기 제 1 발광 소자(20-1)에서 발생된 빛을 보다 넓은 면적으로 전달할 수 있다.The light guide plate 110 may be installed in a path of light generated by the first light emitting device 20-1 to transmit light generated by the first light emitting device 20-1 over a wider area have.

이러한, 상기 도광판(110)은, 그 재질이 폴리카보네이트 계열, 폴리술폰계열, 폴리아크릴레이트 계열, 폴리스틸렌계, 폴리비닐클로라이드계, 폴리비닐알코올계, 폴리노르보넨 계열, 폴리에스테르 등이 적용될 수 있고, 이외에도 각종 투광성 수지 계열의 재질이 적용될 수 있다. 또한, 상기 도광판(110)은, 표면에 미세 패턴이나 미세 돌기나 확산막등을 형성하거나, 내부에 미세 기포를 형성하는 등 다양한 방법으로 이루어질 수 있다.The light guide plate 110 may be made of polycarbonate, polysulfone, polyacrylate, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol, polynorbornene, polyester, or the like , And various light transmitting resin materials may be applied. In addition, the light guide plate 110 may be formed by various methods such as forming fine patterns, fine protrusions, diffusion films, or the like on the surface, or forming fine bubbles therein.

여기서, 도시하지 않았지만, 상기 도광판(110)의 상방에는 각종 확산 시트, 프리즘 시트, 필터 등이 추가로 설치될 수 있다. 또한, 상기 도광판(110)의 상방에는 LCD 패널 등 각종 디스플레이 패널이 설치될 수 있다.Although not shown, various diffusion sheets, prism sheets, filters, and the like may be additionally provided above the light guide plate 110. In addition, various display panels such as an LCD panel may be installed above the light guide plate 110. [

한편, 도시하지 않았지만, 본 발명은 상술된 본 발명의 기술적 사상에 따른 상기 발광 소자 패키지(100)(200)(300)(400)들 중 어느 하나 이상을 포함하는 조명 장치를 포함할 수 있다. 여기서, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 상기 조명 장치의 구성 요소들은 상술된 본 발명의 발광 소자 패키지(100)(200)(300)(400)의 그것들과 구성과 역할이 동일할 수 있다. 따라서, 상세한 설명은 생략한다.Although not shown, the present invention may include a lighting device including any one or more of the light emitting device packages 100, 200, 300, and 400 according to the technical idea of the present invention described above. Here, the components of the illumination device according to some embodiments of the present invention may have the same configuration and functions as those of the above-described light emitting device package 100 (200) 300, 400 of the present invention. Therefore, detailed description is omitted.

도 24는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(500)나타내는 사시도이다.24 is a perspective view illustrating a light emitting device package 500 according to still another embodiment of the present invention.

도 24에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(500)의 상면 전극층(30)은, 제 2 전극 분리 공간(A2)이 형성된 제 3 전극층(33) 및 제 4 전극층(34)으로 이루어지는 제 2 채널을 더 갖고, 상기 측면 전극층(40)은 상기 제 1 채널과 연결되는 제 1 측면 전극층(40-1) 및 상기 제 2 채널과 연결되는 제 2 측면 전극층(40-2)을 더 포함하며, 상기 상면 전극층(30)의 상기 제 3 전극층(33) 및 상기 제 4 전극층(34)으로 이루어지는 상기 제 2 채널과 전기적으로 연결되도록 상기 기판(10) 상에 안착되는 적어도 하나의 제 2 발광 소자(20-2)를 더 포함할 수 있다.24, the top electrode layer 30 of the light emitting device package 500 according to still another embodiment of the present invention includes a third electrode layer 33 formed with a second electrode separation space A2, And a second channel made of a fourth electrode layer (34), wherein the side electrode layer (40) has a first side electrode layer (40-1) connected to the first channel and a second side electrode layer (40-2) and is electrically connected to the second channel of the third electrode layer (33) and the fourth electrode layer (34) of the top electrode layer (30) on the substrate And at least one second light emitting device 20-2 that is seated.

따라서, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(500)은, 상기 제 1 채널에 의해서 독립적으로 제어되는 복수개의 상기 제 1 발광 소자(20-1)들 및 상기 제 2 채널에 의해서 별도로 독립적으로 제어되는 복수개의 제 2 발광 소자(20-2)들이 설치되는 멀티 채널 및 멀티 칩 패키지일 수 있다.Accordingly, the light emitting device package 500 according to still another embodiment of the present invention includes a plurality of first light emitting devices 20-1, which are independently controlled by the first channel, Channel and multi-chip packages in which a plurality of second light emitting devices 20-2 are independently controlled by a plurality of second light emitting devices 20-2.

도 25는 도 24의 발광 소자 패키지(500)의 제조 과정을 나타내는 평면도이다.25 is a plan view showing a manufacturing process of the light emitting device package 500 of FIG.

도 25에 도시된 바와 같이, 상술된 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(500)를 제조하기 위해서는, 상기 관통창(W)들이 마치 점선처럼 이어졌다가 끊어졌다를 반복하면서 형성될 수 있고, 상기 V홈부(V)를 따라 절단 라인(CL1)이 형성되고, 상기 절단 라인(CL1)과 90도 각도를 이루어서 상기 관통창(W)들을 따라 절단 라인(CL2)이 추가로 형성될 수 있다.25, in order to manufacture the light emitting device package 500 according to still another embodiment of the present invention described above, the through windows W are continuously formed like a dotted line, A cutting line CL1 is formed along the V groove portion V and a cutting line CL2 is further formed along the penetrating windows W at an angle of 90 degrees with the cutting line CL1 .

그러므로, 본 발명에 의하면, 매우 복잡한 형태의 멀티 칩 및 멀티 채널 타입의 패키지라 하더라도 상기 관통창(W)의 형상이나 위치나 크기나 길이 등을 조절하여 마치 일반 PCB 공정처럼 매우 간단하게 제조 및 생산할 수 있다. Therefore, according to the present invention, it is possible to manufacture and manufacture a very complicated multi-chip and multi-channel type package by simply controlling the shape, position, size, and length of the through window W, .

도 26은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지의 제조 방법을 나타내는 순서도이다.26 is a flowchart showing a method of manufacturing a light emitting device package according to some embodiments of the present invention.

도 26에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지의 제조 방법은, 바인더(11)와 방열 분말(12)이 혼합된 절연성 혼합 재질로 이루어지는 원판(1)을 준비하는 단계(S1)와, 이어서, 상기 원판(1)의 상면에 상면 전극층 시트(3)를 부착하고, 상기 원판(1)의 하면에 하면 전극층 시트(5)를 부착하는 단계(S2)와, 이어서, 상기 상면 전극층 시트(3)와 상기 하면 전극층 시트(5)가 부착된 상기 원판(1)에 제 1 방향으로 서로 평행하게 복수개의 관통창(W)들을 천공하는 단계(S3)와, 이어서, 상기 관통창(W)들의 내벽에 측면 전극층(40)이 형성되도록 도금층을 도금하는 단계(S4)와, 이어서, 상기 상면 전극층 시트(3) 또는 상기 하면 전극층 시트(5)에 전극 분리 공간(A1)(A2)또는 패턴이 형성되도록 상기 상면 전극층 시트(3) 또는 상기 하면 전극층 시트(5)에 감광성 마스크 필름을 부착하고 노광 후 식각액으로 식각하는 단계(S5)와, 이어서, 상기 원판(1) 또는 상기 상면 전극층 시트(3)에 상기 절단 라인(CL1)을 따라 미리 V홈부(V)를 컷팅하는 단계(S6)와, 이어서, 상기 상면 전극층 시트(3) 또는 상기 추가 도금층(60) 상방에 본딩 매체(70)를 형성하는 단계(S7)와, 상기 상면 전극층 시트(3) 또는 상기 추가 도금층(60)의 상방에 제 1 채널에 의해 구동되는 적어도 하나의 제 1 발광 소자(20-1) 및/또는 제 2 채널에 의해 구동되는 적어도 하나의 제 2 발광 소자(20-2)를 안착시키는 단계(S8) 및 이어서, 식각된 상기 상면 전극층 시트(3)와 상기 하면 전극층 시트(5) 및 상기 원판(1)을 상기 제 1 방향과 다른 제 2 방향으로 서로 평행하게 형성된 복수개의 절단 라인(CL1)들을 따라 단위 패키지로 절단하는 단계(S9)를 포함할 수 있다.26, a method of manufacturing a light emitting device package according to some embodiments of the present invention includes preparing an original plate 1 made of an insulating mixed material in which a binder 11 and a heat dissipating powder 12 are mixed A step S2 of attaching a top surface electrode sheet 3 to the top surface of the original plate 1 and attaching a bottom electrode sheet 5 to the bottom surface of the original plate 1, (S3) of perforating a plurality of through windows (W) parallel to each other in a first direction on the disk (1) having the top electrode layer sheet (3) and the bottom electrode layer sheet (5) (S4) plating the plating layer so that the side surface electrode layer (40) is formed on the inner wall of the penetrating window (W); and then plating the upper surface electrode layer sheet (3) or the lower surface electrode layer sheet ) A2 or a pattern is formed on the upper electrode sheet 3 or the lower electrode sheet 5 (V) is previously cut along the cutting line (CL1) to the original plate (1) or the top electrode sheet (3) (S5) A step S7 of forming a bonding medium 70 above the top electrode sheet 3 or the additional plating layer 60 and a step S7 of forming a bonding medium 70 on the top electrode sheet 3 or the additional plating layer 60, At least one first light emitting device 20-1 driven by a first channel and / or at least one second light emitting device 20-2 driven by a second channel above the first light emitting device 60 The lower electrode layer sheet 5 and the original plate 1 are cut along a plurality of cutting lines (in this case, the first direction and the second direction) formed in parallel with each other in the second direction different from the first direction (S9) cutting the package into unit packages along the first and second sides CL1.

도 27은 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지의 제조 방법을 나타내는 순서도이다.27 is a flowchart showing a method of manufacturing a light emitting device package according to some other embodiments of the present invention.

도 27에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지의 제조 방법은, 상기 식각된 상기 상면 전극층 시트(3)와 상기 하면 전극층 시트(5) 및 상기 원판(1)을 단위 패키지로 절단하는 단계(S9) 이전에, 적어도 상기 상면 전극층 시트(3), 상기 하면 전극층 시트(5), 상기 측면 전극층(40), 상기 원판(1) 및 이들의 조합 중 어느 하나 이상을 선택하여 이루어지는 표면에 추가 도금층(60)을 도금하는 단계(S10)와, 이어서, 상기 원판(1) 또는 상면 전극층 시트(3)에 렌즈(90) 또는 형광체의 설치 위치를 안내하는 가이드부(G)를 형성하는 단계(S11) 및 상기 가이드부(G)에 상기 렌즈(90) 또는 상기 형광체를 설치하는 단계(S12)를 더 포함할 수 있다.27, a method of fabricating a light emitting device package according to some embodiments of the present invention includes forming the upper electrode layer sheet 3, the lower electrode layer sheet 5, At least one of the upper surface electrode layer sheet 3, the lower surface electrode layer sheet 5, the side surface electrode layer 40, the original plate 1, and combinations thereof, before step S9, (Step S10) of plating an additional plating layer 60 on the surface of the upper electrode layer sheet 3 or the upper surface of the upper electrode layer sheet 3, and then guiding the lens 90 or the fluorescent substance mounting position (S11) of forming the guide portion (G), and a step (S12) of installing the lens (90) or the phosphor on the guide portion (G).

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the invention. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

1: 원판
3: 상면 전극층 시트
5: 하면 전극층 시트
10: 기판
10a: 제 1 측면
10b: 제 2 측면
10c: 제 3 측면
10d: 제 4 측면
20: 발광 소자
20-1: 제 1 발광 소자
20-2: 제 2 발광 소자
11: 바인더
12: 방열 분말
A1: 제 1 전극 분리 공간
A2: 제 2 전극 분리 공간
30: 상면 전극층
31: 제 1 전극층
32: 제 2 전극층
33: 제 3 전극층
34: 제 4 전극층
40: 측면 전극층
50: 하면 전극층
TC: 트림 절단면
V: V홈부
60: 추가 도금층
70: 본딩 매체
80: 하면 방열층
90: 렌즈
G: 가이드부
CL1, CL2: 절단 라인
100: 발광 소자 패키지
1000: 백라이트 유닛
1: Disc
3: Top electrode layer sheet
5: Lower electrode layer sheet
10: substrate
10a: the first side
10b: second side
10c: Third aspect
10d: fourth side
20: Light emitting element
20-1: a first light emitting element
20-2: second light emitting element
11: Binder
12: Heat-resisting powder
A1: first electrode separation space
A2: Second electrode separation space
30: upper surface electrode layer
31: first electrode layer
32: second electrode layer
33: Third electrode layer
34: fourth electrode layer
40: side electrode layer
50: lower electrode layer
TC: trim trim
V: V groove
60: additional plating layer
70: bonding medium
80: lower heat radiating layer
90: lens
G: Guide section
CL1, CL2: Cutting line
100: Light emitting device package
1000: Backlight unit

Claims (10)

바인더와 방열 분말이 혼합된 절연성 혼합 재질로 이루어지는 기판;
상기 기판의 상면에 형성되고, 제 1 전극 분리 공간이 형성된 제 1 전극층 및 제 2 전극층으로 이루어지는 제 1 채널을 갖는 상면 전극층;
상기 상면 전극층의 상기 제 1 전극층 및 상기 제 2 전극층으로 이루어지는 상기 제 1 채널과 전기적으로 연결되도록 상기 기판 상방에 안착되는 적어도 하나의 제 1 발광 소자;
상기 기판의 하면에 형성되는 하면 전극층; 및
상기 기판의 측면에 형성되고, 상기 상면 전극층과 상기 하면 전극층을 전기적으로 연결하는 측면 전극층;을 포함하고,
상기 기판의 제 1 측면 및/또는 그 반대편의 제 3 측면은 적어도 하나의 트림 절단면이 형성되고,
상기 측면 전극층은, 상기 기판의 제 2 측면 및/또는 그 반대편의 제 4 측면에 도금되는 도금층인, 발광 소자 패키지.
A substrate made of an insulating mixed material in which a binder and a heat dissipating powder are mixed;
A top electrode layer formed on an upper surface of the substrate and having a first channel including a first electrode layer and a second electrode layer having a first electrode separation space;
At least one first light emitting element mounted above the substrate so as to be electrically connected to the first channel formed of the first electrode layer and the second electrode layer of the top electrode layer;
A lower electrode layer formed on a lower surface of the substrate; And
And a side surface electrode layer formed on a side surface of the substrate and electrically connecting the top surface electrode layer and the bottom electrode layer,
Wherein the first side of the substrate and / or the third side opposite thereto is formed with at least one trim cut surface,
Wherein the side electrode layer is a plating layer plated on a second side surface of the substrate and / or a fourth side surface opposite thereto.
제 1 항에 있어서,
상기 상면 전극층은, 제 2 전극 분리 공간이 형성된 제 3 전극층 및 제 4 전극층으로 이루어지는 제 2 채널을 갖고,
상기 측면 전극층은 상기 제 1 채널과 연결되는 제 1 측면 전극층 및 상기 제 2 채널과 연결되는 제 2 측면 전극층을 포함하며,
상기 상면 전극층의 상기 제 3 전극층 및 상기 제 4 전극층으로 이루어지는 상기 제 2 채널과 전기적으로 연결되도록 상기 기판 상방에 안착되는 적어도 하나의 제 2 발광 소자;
를 더 포함하는, 발광 소자 패키지.
The method according to claim 1,
Wherein the upper electrode layer has a second channel including a third electrode layer and a fourth electrode layer having a second electrode separation space,
Wherein the side surface electrode layer includes a first side surface electrode layer connected to the first channel and a second side surface electrode layer connected to the second channel,
At least one second light emitting device mounted above the substrate so as to be electrically connected to the second channel formed of the third electrode layer and the fourth electrode layer of the top electrode layer;
Emitting device package.
제 1 항에 있어서,
상기 바인더는 에폭시 계열의 수지를 포함하고, 상기 방열 분말은, 적어도 세라믹 분말, 금속 분말, 절연체가 코팅된 금속 분말 및 이들의 조합 중 어느 하나 이상을 선택하여 이루어지는 것인, 발광 소자 패키지.
The method according to claim 1,
Wherein the binder comprises an epoxy-based resin, and the heat-dissipating powder is selected from at least one of ceramic powder, metal powder, metal powder coated with an insulator, and combinations thereof.
제 1 항에 있어서,
상기 측면 전극층은, 상기 기판에 천공된 관통창의 내벽을 따라 도금된 도금층이고,
상기 트림 절단면의 상부 또는 하부에 V홈부의 일부가 형성되는 것인, 발광 소자 패키지.
The method according to claim 1,
Wherein the side electrode layer is a plating layer plated along an inner wall of a penetrating window formed in the substrate,
And a part of the V-shaped groove is formed on an upper portion or a lower portion of the trim cut surface.
제 1 항에 있어서,
상기 상면 전극층에 형성되는 추가 도금층;
상기 상면 전극층과 상기 제 1 발광 소자 사이에 설치되는 본딩 매체;
상기 기판의 하면에 설치되는 하면 방열층;
상기 제 1 발광 소자의 광 경로에 설치되는 렌즈 또는 형광체; 및
상기 기판 또는 상기 상면 전극층에 설치되고, 상기 렌즈 또는 형광체의 설치 위치를 안내하는 가이드부;
를 더 포함하는, 발광 소자 패키지.
The method according to claim 1,
An additional plating layer formed on the top electrode layer;
A bonding medium disposed between the top electrode layer and the first light emitting device;
A lower heat dissipation layer provided on a lower surface of the substrate;
A lens or a phosphor provided in an optical path of the first light emitting device; And
A guide part provided on the substrate or the upper surface electrode layer and guiding an installation position of the lens or the phosphor;
Emitting device package.
바인더와 방열 분말이 혼합된 절연성 혼합 재질로 이루어지는 기판;
상기 기판의 상면에 형성되고, 제 1 전극 분리 공간이 형성된 제 1 전극층 및 제 2 전극층으로 이루어지는 제 1 채널을 갖는 상면 전극층;
상기 상면 전극층의 상기 제 1 전극층 및 상기 제 2 전극층으로 이루어지는 상기 제 1 채널과 전기적으로 연결되도록 상기 기판 상방에 안착되는 적어도 하나의 제 1 발광 소자;
상기 기판의 하면에 형성되는 하면 전극층;
상기 기판의 측면에 형성되고, 상기 상면 전극층과 상기 하면 전극층을 전기적으로 연결하는 측면 전극층; 및
상기 제 1 발광 소자의 광 경로에 설치되는 도광판;을 포함하고,
상기 기판의 제 1 측면 및/또는 그 반대편의 제 3 측면은 적어도 하나의 트림 절단면이 형성되고,
상기 측면 전극층은, 상기 기판의 제 2 측면 및/또는 그 반대편의 제 4 측면에 도금되는 도금층인, 백라이트 유닛.
A substrate made of an insulating mixed material in which a binder and a heat dissipating powder are mixed;
A top electrode layer formed on an upper surface of the substrate and having a first channel including a first electrode layer and a second electrode layer having a first electrode separation space;
At least one first light emitting element mounted above the substrate so as to be electrically connected to the first channel formed of the first electrode layer and the second electrode layer of the top electrode layer;
A lower electrode layer formed on a lower surface of the substrate;
A side electrode layer formed on a side surface of the substrate and electrically connecting the top electrode layer and the bottom electrode layer; And
And a light guide plate installed in an optical path of the first light emitting device,
Wherein the first side of the substrate and / or the third side opposite thereto is formed with at least one trim cut surface,
Wherein the side surface electrode layer is a plating layer plated on a second side surface of the substrate and / or a fourth side surface opposite thereto.
바인더와 방열 분말이 혼합된 절연성 혼합 재질로 이루어지는 기판;
상기 기판의 상면에 형성되고, 제 1 전극 분리 공간이 형성된 제 1 전극층 및 제 2 전극층으로 이루어지는 제 1 채널을 갖는 상면 전극층;
상기 상면 전극층의 상기 제 1 전극층 및 상기 제 2 전극층으로 이루어지는 상기 제 1 채널과 전기적으로 연결되도록 상기 기판 상방에 안착되는 적어도 하나의 제 1 발광 소자;
상기 기판의 하면에 형성되는 하면 전극층; 및
상기 기판의 측면에 형성되고, 상기 상면 전극층과 상기 하면 전극층을 전기적으로 연결하는 측면 전극층;을 포함하고,
상기 기판의 제 1 측면 및/또는 그 반대편의 제 3 측면은 적어도 하나의 트림 절단면이 형성되고,
상기 측면 전극층은, 상기 기판의 제 2 측면 및/또는 그 반대편의 제 4 측면에 도금되는 도금층인, 조명 장치.
A substrate made of an insulating mixed material in which a binder and a heat dissipating powder are mixed;
A top electrode layer formed on an upper surface of the substrate and having a first channel including a first electrode layer and a second electrode layer having a first electrode separation space;
At least one first light emitting element mounted above the substrate so as to be electrically connected to the first channel formed of the first electrode layer and the second electrode layer of the top electrode layer;
A lower electrode layer formed on a lower surface of the substrate; And
And a side surface electrode layer formed on a side surface of the substrate and electrically connecting the top surface electrode layer and the bottom electrode layer,
Wherein the first side of the substrate and / or the third side opposite thereto is formed with at least one trim cut surface,
Wherein the side surface electrode layer is a plating layer plated on a second side surface of the substrate and / or a fourth side surface opposite thereto.
바인더와 방열 분말이 혼합된 절연성 혼합 재질로 이루어지는 원판을 준비하는 단계;
상기 원판의 상면에 상면 전극층 시트를 부착하고, 상기 원판의 하면에 하면 전극층 시트를 부착하는 단계;
상기 상면 전극층 시트와 상기 하면 전극층 시트가 부착된 상기 원판에 제 1 방향으로 서로 평행하게 복수개의 관통창들을 천공하는 단계;
상기 관통창들의 내벽에 측면 전극층이 형성되도록 도금층을 도금하는 단계;
상기 상면 전극층 시트 또는 상기 하면 전극층 시트에 전극 분리 공간 또는 패턴이 형성되도록 상기 상면 전극층 시트 또는 상기 하면 전극층 시트에 감광성 마스크 필름을 부착하고 노광 후 식각하는 단계; 및
식각된 상기 상면 전극층 시트와 상기 하면 전극층 시트 및 상기 원판을 상기 제 1 방향과 다른 제 2 방향으로 서로 평행하게 형성된 복수개의 절단 라인들을 따라 단위 패키지로 절단하는 단계;
를 포함하는, 발광 소자 패키지의 제조 방법.
Preparing an original plate made of an insulating mixed material in which a binder and a heat dissipating powder are mixed;
Attaching an upper surface electrode layer sheet to an upper surface of the disk and attaching a lower surface electrode layer sheet to a lower surface of the disk;
Drilling a plurality of penetrating windows parallel to each other in a first direction on the original plate having the top electrode layer sheet and the bottom electrode layer sheet attached thereto;
Plating the plating layer to form a side electrode layer on the inner wall of the through-holes;
Attaching a photosensitive mask film to the top electrode layer sheet or the bottom electrode layer sheet so as to form an electrode separation space or a pattern on the top electrode layer sheet or the bottom electrode sheet, And
Cutting the etched top electrode layer sheet, the bottom electrode layer sheet and the original plate into a unit package along a plurality of cutting lines formed in parallel to each other in a second direction different from the first direction;
Emitting device package.
제 8 항에 있어서,
상기 식각된 상기 상면 전극층 시트와 상기 하면 전극층 시트 및 상기 원판을 상기 제 1 방향과 다른 제 2 방향으로 서로 평행하게 형성된 복수개의 절단 라인들을 따라 단위 패키지로 절단하는 단계 이전에, 상기 원판 또는 상기 상면 전극층 시트에 상기 절단 라인을 따라 미리 V홈부을 컷팅하는 단계;
상기 식각된 상기 상면 전극층 시트와 상기 하면 전극층 시트 및 상기 원판을 단위 패키지로 절단하는 단계 이전에, 적어도 상기 상면 전극층 시트, 상기 하면 전극층 시트, 상기 측면 전극층, 상기 원판 및 이들의 조합 중 어느 하나 이상을 선택하여 이루어지는 표면에 추가 도금층을 도금하는 단계; 및
상기 상면 전극층 시트에 본딩 매체를 형성하는 단계;
를 더 포함하는, 발광 소자 패키지의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
The step of cutting the etched top electrode layer sheet, the bottom electrode layer sheet and the original plate into a unit package along a plurality of cutting lines formed in parallel to each other in a second direction different from the first direction, Cutting the V groove part in advance along the cutting line on the electrode layer sheet;
Wherein at least one of the top electrode layer sheet, the bottom electrode layer sheet, the side electrode layer, the original plate, and the combination thereof is cut before the step of cutting the etched top electrode layer sheet, the bottom electrode sheet, A step of plating an additional plating layer on a surface of the substrate; And
Forming a bonding medium on the top electrode layer sheet;
Emitting device package.
제 8 항에 있어서,
상기 식각된 상기 상면 전극층 시트와 상기 하면 전극층 시트 및 상기 원판을 단위 패키지로 절단하는 단계 이전에, 상기 원판 또는 상면 전극층 시트에 렌즈 또는 형광체의 설치 위치를 안내하는 가이드부를 형성하는 단계;
상기 상면 전극층 시트의 상방에 제 1 채널에 의해 구동되는 적어도 하나의 제 1 발광 소자 및/또는 제 2 채널에 의해 구동되는 적어도 하나의 제 2 발광 소자를 안착시키는 단계; 및
상기 가이드부에 상기 렌즈 또는 상기 형광체를 설치하는 단계;
를 더 포함하는, 발광 소자 패키지의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
Forming a guide portion for guiding a mounting position of a lens or a phosphor on the original or top electrode layer sheet before cutting the etched top electrode layer sheet, the bottom electrode layer sheet, and the original plate into a unit package;
Placing at least one first light emitting element driven by a first channel and / or at least one second light emitting element driven by a second channel above the top surface electrode layer sheet; And
Installing the lens or the phosphor on the guide portion;
Emitting device package.
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