KR101535736B1 - 커플링 게이트를 구비한 스플릿 게이트 플래시 메모리 셀의 동작 방법 - Google Patents
커플링 게이트를 구비한 스플릿 게이트 플래시 메모리 셀의 동작 방법 Download PDFInfo
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Abstract
기판 내에서 그들 사이의 채널 영역을 가지고, 서로 이격되는 제1 및 제2 영역들, 채널 영역 및 제1 영역 위에 배치된 플로팅 게이트, 채널 영역 위에 배치되며 그리고 플로팅 게이트 위에 배치된 부분을 가지며 플로팅 게이트에 측면으로 인접하는 컨트롤 게이트, 및 제1 영역 위에 배치되며 플로팅 게이트에 측면으로 인접하는 커플링 게이트를 포함하는 메모리 셀을 동작하는 방법. 메모리 셀을 소거하는 방법은 컨트롤 게이트에 양 전압을 인가하는 단계 및 커플링 게이트에 음 전압을 인가하는 단계를 포함한다. 메모리 셀을 리드하는 방법은 컨트롤 게이트에, 커플링 게이트에, 그리고 제1 및 제2 영역들 중 하나에 양 전압들을 인가하는 단계를 포함한다.
Description
본 발명은 스플릿 게이트 플래시 메모리 셀에 관련되며, 더욱 구체적으로는 리드 및 소거 동작들을 향상시키기 위하여 커플링 게이트를 구비하는 스플릿 게이트 플래시 메모리 셀의 동작 방법에 관련된다.
본 명세서는, 여기에 참조로서 통합되는, 2011년 5월 13일에 출원된, 미국 가출원 제61/485,805호에 대하여 우선권을 주장한다.
스플릿 게이트 플래시 메모리 셀들은 해당 기술 분야에서 잘 알려져 있다. 잘 알려진 이러한 예 중 하나가 여기에 전체로서 통합되는 미국등록특허 제5,029,130호에 개시되어 있다.
미국등록특허 제5,029,130호의 도 1에 나타낸 바와 같이, 스플릿 게이트 플래시 메모리 셀(10)은, P와 같은 제1 도전형의 반도체 기판(12)을 포함한다. N과 같은 제2 도전형의 제1 영역(14)은 기판(12)의 표면을 따라 존재한다. 제1 영역(14)으로부터 이격된 제2 영역(16)은 또한 제2 도전형 N이다. 제1 영역(14)과 제2 영역(16) 사이에는 채널 영역(18)이 있다. 플로팅 게이트(22)는 채널 영역(18)의 일부 위에 그리고 제1 영역(14)의 위에 위치하며 제1 영역(14)과 용량 결합한다. 컨트롤 게이트(29)는 두 부분들을 구비한다. 제1 부분(30)은 플로팅 게이트(22)에 측면으로 인접하며 채널 영역(18)의 또 다른 일부 위에 배치되고, 제2 영역(16)과 거의 또는 전혀(little or no) 겹쳐지지 않는다. 컨트롤 게이트(29)는, 제1 부분(30)과 연결되며 플로팅 게이트(22) 위에 배치되는(플로팅 게이트(22)의 위로 단지 부분적으로만 연장되어 그들 사이의 용량 결합을 줄임 - 즉, 그들 사이에 약한 용량 결합만이 존재) 제2부분(28)을 구비한다.
리드 동작 동안, 제1 양(positive) 전압이 제1 영역(14)에 인가되면서, '0' 또는 거의 '0'의 전압이 제2 영역(16)에 인가된다. 제2 양 전압이 컨트롤 게이트(29)에 인가되어 컨트롤 게이트(29) 바로 밑의 채널 영역(18) 일부를 턴 온 시킨다. 플로팅 게이트가 프로그램된 경우에 있어서, 즉, 저장된 전하들을 가지면, 컨트롤 게이트(29) 상의 양 전압과 제1 영역(14) 상의 양 전압은 플로팅 게이트(22) 바로 밑의 채널 영역(18) 일부를 턴 온 시키기에 충분하지 않다. 채널 영역을 흐르는 '0' 또는 적은 전류는 제1 상태(예를 들어, 1)로서 감지된다. 그러나, 만일 플로팅 게이트(22)가 프로그램되지 않았다면(즉, 저장된 전하가 결핍되었다면), 컨트롤 게이트(29) 상의 양 전압과 제1 영역(14) 상의 양 전압은 플로팅 게이트(22)가 보다 많은 양 전압과 용량 결합하여, 플로팅 게이트(22) 바로 밑의 채널 영역(18)의 일부를 턴 온 시키기에 충분하며, 이에 따라 전체 채널 영역(18)을 턴 온 시킨다. 채널 영역을 흐르는 전류는 제2 상태(예를 들어, 0)로 감지된다. 그러나, 셀의 크기가 줄어들고, 수치(dimension)가 감소하며, 전압들이 낮아짐에 따라, 플로팅 게이트(22)가 소거되었을 때에 턴 온 시키는 것이 갈수록 어려워진다. 프로그램-소거 사이클 이후, 전하가 (플로팅 게이트(22)와 컨트롤 게이트(29)를 분리시키는) 터널 산화막 내에 트래핑되는 것 때문에 소거된 셀의 플로팅 게이트(22)의 전위는 한층 더 낮아지고 따라서 상응하는 터널링 효율의 감소가 일어난다. 따라서, 리드 동작 동안에 어시스트하는 부가적인 게이트를 구비하는 것과, 더욱이 상술한 셀과 호환되는 프로세스가 될 것이 요구된다.
미국 등록특허 제 6,855,980호 및 제7,315,056호는 각각 플로팅 게이트, 플로팅 게이트의 일 측으로의 컨트롤 게이트 및 제1 영역 위에서 플로팅 게이트의 또 다른 측으로의 어시스트(assist) 게이트를 구비한 플래시 메모리 셀을 개시한다. 그러나, (여기에서 전체로서 포함되는) 이러한 두 특허들은 리드 및 소거 동작들을 향상시키기 위하여 그 셀을 이용하는 방법을 개시하고 있지는 못하다.
따라서, 본 발명은 리드 및 소거 동작들 동안의 셀의 동작 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
본 발명에 있어서, 제1 도전형의 기판, 기판의 표면을 따르는 제2 도전형의 제1 영역을 구비하는 형태의 플래시 메모리 셀 동작 방법이다. 제2 도전형의 제2 영역은 제1 영역과 이격되며, 그들 사이에 채널 영역을 갖는다. 플로팅 게이트는 채널 영역의 제1 부분 위에, 그리고 제1 영역의 일부 위에 배치되며 그들에 용량 결합된다. 컨트롤 게이트는 플로팅 게이트의 일 측에 있다. 컨트롤 게이트는, 채널 영역의 제2 부분 위에 배치되며 제2 영역과 거의 또는 전혀 겹쳐지지 않으며 플로팅 게이트에 측면으로 인접하는 제1 부분, 및 플로팅 게이트 위에 (바람직하게는 플로팅 게이트 위로 단지 부분적으로 연장되어 그들과 최소로 용량 결합되어) 배치되는 제2 부분의 두 부분들을 구비한다. 커플링 게이트는 플로팅 게이트와 그의 또 다른 측에 측면으로 인접하며 제1 영역 위에 위치하고, 플로팅 게이트에 용량 결합한다. 본 발명의 방법에 있어서, 리드 동작은 제1 영역과 제2 영역 사이에 전압 차등(voltage differential)이 인가된 동안에 컨트롤 게이트 및 커플링 게이트 모두에 제1 양 전압을 인가함으로써 이루어진다. 플로팅 게이트가 프로그램 되지 않은 경우에 있어서, 제1 양 전압은 플로팅 게이트 밑의 채널 영역이 턴 온 되도록 하고, 반면에 만일 플로팅 게이트가 프로그램되면, 제1 양 전압은 플로팅 게이트 밑의 채널 영역의 일부를 턴 온 시키기에는 충분하지 않다. 소거 동작에 있어서, 커플링 게이트에 음 전압이 인가되고 컨트롤 게이트에 제2 양 전압이 인가되는 동안에 제1 및 제2 영역에는 접지 전압이 공급된다. 커플링 게이트에 음 전압이 인가되기 때문에, 그리고 커플링 게이트와 그에 인접한 플로팅 게이트 사이의 강한 용량 결합에 기인하여, 만일 커플링 게이트에 아무런 음 전압이 인가되지 않았다면 제2 양 전압은 더욱 낮아질 수 있다. 마지막으로, 프로그램 방법에 있어서, 접지 또는 (Vcc 보다 낮은) 낮은 양 전압이 제2 영역에 인가되는 동안, 제1 영역에는 제3 양 전압이 인가된다. 컨트롤 게이트 밑의 채널 영역을 턴 온 시키기에 충분한 전압이 컨트롤 게이트에 인가된다. 그러면 전자들이 제2 영역에서부터 제1 영역으로 가속되어 플로팅 게이트의 접합(junction)에 가까위질수록 플로팅 게이트로 급격히(abruptly) 주입된다.
첫 번째, 리드 동작 동안 커플링 게이트와 플로팅 게이트 사이에 용량 결합이 증가하기 때문에, 리드 정확성이 더욱 보장되며 신호 대 잡음 비가 증가된다. 두 번째, 소거 동작 동안에, 커플링 게이트와 플로팅 게이트 사이의 용량 결합이 증가하기 때문에, 플로팅 게이트와 컨트롤 게이트 사이의 터널링 층이 보다 얇게 조정될 수 있다. 이는 트랩 업(trap up)을 향상시켜 그로 인하여 내구성을 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 방법이 사용될 수 있는 플래시 메모리 셀 단면의 개념도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 방법이 사용될 수 있는 플래시 메모리 셀(50)의 개념도(schematic diagram)가 나타나 있다. 플래시 메모리 셀(50)은 미국등록특허 제5,029,130호에서 개시된 플래시 셀(10)과 유사하기 때문에, 동일한 참조부호들은 유사한 부분들을 지시하기 위하여 사용될 것이다. 셀(50)은, P형과 같은 제1 도전형의 기판(12)에 형성된다. 기판(12)은 표면을 가진다. N과 같은 제2 도전형의 제1 영역(14)이 표면을 따라 존재한다. 또한, 제2 도전형 N의 제2 영역(16)이 기판(12)의 표면을 따라 존재하며 제1 영역(14)과 이격된다. 채널 영역(18)은 제1 영역(14)과 제2 영역(16) 사이에 있다. 플로팅 게이트(22)는 채널 영역(18)의 제1 부분 및 제1 영역(14)의 일부 위에 배치되면서 그들로부터 절연되며, 그들에 용량 결합된다. 컨트롤 게이트 또는 워드 라인(WL)(29)은 플로팅 게이트(22)의 일측에 인접하면서 플로팅 게이트(22)로부터 절연된다. 컨트롤 게이트(29)는 제1 부분(30) 및 제2 부분(28)의 두 부분들을 구비한다. 컨트롤 게이트 제1 부분(30)은 플로팅 게이트(22)에 측면으로 인접하며, 채널 영역(18)의 제2 부분 위에 있으면서 또한 그로부터 절연되고, 제2 영역(16)과는 거의 또는 전혀 겹쳐지지 않는다. 컨트롤 게이트 제2 부분(28)은 플로팅 게이트(22)의 일부 위에 배치되며 컨트롤 게이트 제2 부분(28)과 플로팅 게이트(22)가 수직으로 겹쳐지는 부분이 상대적으로 적은 덕분으로 플로팅 게이트(22)와 최소한의 용량 결합을 한다. 마지막으로, 커플링 게이트(CG)(40)는 플로팅 게이트(22)의 또 다른 측과 측면으로 인접하고 플로팅 게이트(22)로부터 절연된다. 또한, 커플링 게이트(40)는 제1 영역(14) 위에 배치되며 제1 영역(14)으로부터 절연된다.
셀(50)의 동작에 있어서, 아래의 전압들이 인가될 수 있다. 리드 동작에 있어서:
컨트롤 게이트 WL (29) | 커플링 게이트 CG (40) | 제2 영역(16) | 제1 영역(14) |
2.5 v, 또는 컨트롤 게이트(29) 밑의 채널 영역(18)의 일부를 턴 온 시키기에 충분한 전압 | 컨트롤 게이트(29)와 동일 | 1.0 v | 0 v |
제2 영역(16)에 인가되는 양 전압이 제1 영역(14)에 대신 인가될 수 있다.
소거 동작에 있어서 아래의 전압들이 인가될 수 있다.
컨트롤 게이트 WL (29) | 커플링 게이트 CG (40) | 제2 영역(16) | 제1 영역(14) |
양 전압 (< 10 v) |
음 전압 (< 0 v) |
0 v | 0 v |
프로그램 동작에 있어서 아래의 전압들이 인가될 수 있다.
컨트롤 게이트 WL (29) | 커플링 게이트 CG (40) | 제2 영역(16) | 제1 영역(14) |
Vcc 보다 적으나 컨트롤 게이트(29) 밑의 채널 영역(18)의 일부를 턴 온 시키기에 충분한 전압 | Vcc | 5-10 uA, 또는 접지 또는 (Vcc 보다 낮은) 낮은 양 전압 | 9.0 v |
상술한 것으로부터 본 발명의 방법들이 아래의 장점들을 가지는 것을 알 수 있다.
첫 번째, 리드 동작 동안 커플링 게이트(40)와 플로팅 게이트(22) 사이에 용량 결합이 증가하기 때문에, 리드 정확성이 더욱 보장되며 신호 대 잡음 비가 증가된다. 두 번째, 소거 동작 동안에, 커플링 게이트(40)와 플로팅 게이트(22) 사이의 용량 결합이 증가하기 때문에, 플로팅 게이트(22)와 컨트롤 게이트(29) 사이의 터널링 층이 보다 얇게 조정될(scaled) 수 있다. 이는 트랩 업(trap up)을 향상시켜 그로 인하여 내구성을 향상시킬 수 있다.
본 발명은 위에서 설명되고 여기서 묘사된 실시예(들)에 한정되지 않으며, 첨부된 청구항들의 범위 내에 들어가는 어떠한 것들도 아우르는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기서 본 발명에 참조되는 것들은 어떠한 청구항이나 청구항 용어의 범위를 한정하는 것을 의도하지 않으며, 대신에 하나 이상의 청구항들에 의하여 다루어질 수 있는 하나 이상의 특징들을 단순히 참조한 것이다.
여기서 사용된, 용어들 “위(over)” 및 “상(on)” 양자 모두는 (그들 사이에 배치된 중간 물질들, 요소(element)들 또는 공간이 없이) “직접적으로 ~위” 및 (그들 사이에 배치된 중간 물질들, 요소들 또는 공간이 없이) “직접적으로 ~상” 을 포괄할 수 있다. 유사하게, 용어들 “인접한”은 (그들 사이에 배치된 중간 물질들, 요소들 또는 공간이 없이) “직접적으로 인접한” 그리고 (그들 사이에 배치된 중간 물질들, 요소들 또는 공간을 가지면서) “간접적으로 인접한” 것을 포함하며, “~에 실장된”은 (그들 사이에 배치된 중간 물질들, 요소들 또는 공간이 없이) “직접적으로 ~에 실장된” 그리고 (그들 사이에 배치된 중간 물질들, 요소들 또는 공간을 가지면서) “간접적으로 ~에 실장된”것을 포함하고, “전기적으로 연결된”은 (그들 사이에 요소들을 함께 전기적으로 연결하는 중간 물질들 또는 요소들이 없이) “직접적으로 ~에 전기적으로 연결된” 그리고 (그들사이에 요소들을 함께 전기적으로 연결하는 중간 물질들 또는 요소들을 가지면서) “간접적으로 ~에 전기적으로 연결된” 것을 포함한다. 예를 들어, “기판 위에” 요소를 형성하는 것은 그들 사이에 중간 물질들/요소들 없이 기판 상에 직접적으로 요소를 형성하는 것뿐만 아니라, 그들 사이에 중간 물질들/요소들을 하나 이상 구비하면서 기판 상에 간접적으로 요소를 형성하는 것을 포함할 수 있다.
Claims (6)
- 제1 도전형의 기판, 상기 기판 내에서 서로 이격되는 제2 도전형의 제1 및 제2 영역들(상기 제1 및 제2 영역들은 상기 기판 내에서 그들 사이의 채널 영역을 정의함), 상기 채널 영역의 제1 부분 및 상기 제1 영역과 절연되면서 그 위에 배치되는 플로팅 게이트, 제1 및 제2 부분들을 구비하는 컨트롤 게이트(상기 컨트롤 게이트 제1 부분은 상기 채널 영역의 제2 부분과 절연되면서 그 위에 배치되고 상기 플로팅 게이트와 절연되면서 측면으로 인접하도록 배치되며, 상기 컨트롤 게이트 제2 부분은 상기 플로팅 게이트와 절연되면서 그 위에 배치됨), 및 상기 제1 영역과 절연되면서 그 위에 배치되고 상기 플로팅 게이트와 절연되면서 측면으로 인접하는 커플링 게이트를 포함하는 메모리 셀을 소거하는 방법으로서,
상기 방법은,
상기 컨트롤 게이트에 양(positive) 전압을 인가하는 단계; 및
상기 커플링 게이트에 음(negative) 전압을 인가하는 단계를 포함하는 방법. - 청구항 1에 있어서,
상기 제1 및 제2 영역들에 접지 전압을 인가하는 단계를 더 포함하는 방법. - 청구항 1에 있어서,
상기 컨트롤 게이트에 인가되는 상기 양 전압은 10V 미만인 방법. - 제1 도전형의 기판, 상기 기판 내에서 서로 이격되는 제2 도전형의 제1 및 제2 영역들(상기 제1 및 제2 영역들은 상기 기판 내에서 그들 사이의 채널 영역을 정의함), 상기 채널 영역의 제1 부분 및 상기 제1 영역과 절연되면서 그 위에 배치되는 플로팅 게이트, 제1 및 제2 부분들을 구비하는 컨트롤 게이트(상기 컨트롤 게이트 제1 부분은 상기 채널 영역의 제2 부분과 절연되면서 그 위에 배치되고 상기 플로팅 게이트와 절연되면서 측면으로 인접하도록 배치되며, 상기 컨트롤 게이트 제2 부분은 상기 플로팅 게이트와 절연되면서 그 위에 배치됨), 및 상기 제1 영역과 절연되면서 그 위에 배치되고 상기 플로팅 게이트와 절연되면서 측면으로 인접하는 커플링 게이트를 포함하는 메모리 셀을 리드하는 방법으로서,
상기 방법은,
상기 컨트롤 게이트에 양 전압을 인가하는 단계;
상기 커플링 게이트에 양 전압을 인가하는 단계; 및
상기 제1 및 제2 영역들 중 하나에 양 전압을 인가하는 단계를 포함하는 방법. - 청구항 4에 있어서,
상기 컨트롤 게이트에 인가되는 상기 양 전압은 상기 커플링 게이트에 인가되는 상기 양 전압과 동일한 방법. - 청구항 4에 있어서,
상기 제1 및 제2 영역들 중 다른 하나에 접지 전압을 인가하는 단계를 더 포함하는 방법.
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201161485805P | 2011-05-13 | 2011-05-13 | |
US61/485,805 | 2011-05-13 | ||
US13/463,558 US8711636B2 (en) | 2011-05-13 | 2012-05-03 | Method of operating a split gate flash memory cell with coupling gate |
US13/463,558 | 2012-05-03 | ||
PCT/US2012/036452 WO2012158366A1 (en) | 2011-05-13 | 2012-05-04 | A method of operating a split gate flash memory cell with coupling gate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140010169A KR20140010169A (ko) | 2014-01-23 |
KR101535736B1 true KR101535736B1 (ko) | 2015-07-09 |
Family
ID=47177259
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020137032631A KR101535736B1 (ko) | 2011-05-13 | 2012-05-04 | 커플링 게이트를 구비한 스플릿 게이트 플래시 메모리 셀의 동작 방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8711636B2 (ko) |
JP (1) | JP5706581B2 (ko) |
KR (1) | KR101535736B1 (ko) |
CN (1) | CN103608788B (ko) |
TW (1) | TWI497506B (ko) |
WO (1) | WO2012158366A1 (ko) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2012-05-04 CN CN201280023033.7A patent/CN103608788B/zh active Active
- 2012-05-04 KR KR1020137032631A patent/KR101535736B1/ko active IP Right Grant
- 2012-05-04 WO PCT/US2012/036452 patent/WO2012158366A1/en active Application Filing
- 2012-05-04 JP JP2014511391A patent/JP5706581B2/ja active Active
- 2012-05-11 TW TW101116882A patent/TWI497506B/zh active
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JP2014514783A (ja) | 2014-06-19 |
TWI497506B (zh) | 2015-08-21 |
US20130121085A1 (en) | 2013-05-16 |
US8711636B2 (en) | 2014-04-29 |
US9245638B2 (en) | 2016-01-26 |
CN103608788A (zh) | 2014-02-26 |
KR20140010169A (ko) | 2014-01-23 |
TW201310455A (zh) | 2013-03-01 |
US20140198578A1 (en) | 2014-07-17 |
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