KR101494545B1 - 수지 조성물 및 이를 포함하는 역파장 분산성을 갖는 광학필름 - Google Patents

수지 조성물 및 이를 포함하는 역파장 분산성을 갖는 광학필름 Download PDF

Info

Publication number
KR101494545B1
KR101494545B1 KR20130112585A KR20130112585A KR101494545B1 KR 101494545 B1 KR101494545 B1 KR 101494545B1 KR 20130112585 A KR20130112585 A KR 20130112585A KR 20130112585 A KR20130112585 A KR 20130112585A KR 101494545 B1 KR101494545 B1 KR 101494545B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
weight
optical film
parts
wavelength
monomer
Prior art date
Application number
KR20130112585A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20140118675A (ko
Inventor
강병일
한창훈
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to US14/130,392 priority Critical patent/US9088009B2/en
Priority to JP2015508882A priority patent/JP5821159B2/ja
Priority to PCT/KR2013/008498 priority patent/WO2014157791A1/ko
Priority to CN201380002706.5A priority patent/CN104204003B/zh
Publication of KR20140118675A publication Critical patent/KR20140118675A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101494545B1 publication Critical patent/KR101494545B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
    • C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
    • C08F212/06—Hydrocarbons
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/14—Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/08—Anhydrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/04—Anhydrides, e.g. cyclic anhydrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
    • C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C08L33/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09D133/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C09D133/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K50/856—Arrangements for extracting light from the devices comprising reflective means
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/86—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
    • H10K50/865—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light comprising light absorbing layers, e.g. light-blocking layers
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/868—Arrangements for polarized light emission
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/875—Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K59/878—Arrangements for extracting light from the devices comprising reflective means
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K50/852—Arrangements for extracting light from the devices comprising a resonant cavity structure, e.g. Bragg reflector pair
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/8793—Arrangements for polarized light emission

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

본 발명은 (A) 비닐기를 포함하는 다환 방향족계 단량체로부터 유도된 단위 100중량부; (B) 스티렌계 단량체로부터 유도된 단위 100 내지 600 중량부; (C) 산 무수물계 단량체로부터 유도된 단위 100 내지 600 중량부 및 (D)(메트)아크릴레이트계 단량체로부터 유도된 단위 150 내지 1000 중량부를 포함하는 공중합체를 포함하는 수지 조성물 및 이를 포함하는 역파장 분산성을 갖는 광학필름에 관한 것이다.

Description

수지 조성물 및 이를 포함하는 역파장 분산성을 갖는 광학필름{resin composition and optical film having anti-wavelength dispersibility comprising the same}
본 발명은 수지 조성물 및 이를 포함하는 역파장 분산성을 광학필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는 광의 파장이 짧아질수록 면내 위상차 값이 작아지는 파장 분산성을 나타내는 광학필름을 제조하기 위한 수지 조성물 및 이를 포함하는 광학필름에 관한 것이다.
현재 상업화 중인 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 패널은 우수한 명암비, 낮은 발열, 얇고 가벼운 외관 등으로 각광받고 있다. 이러한 패널의 화면을 선명하게 좌우하는 가장 큰 요인은 화면 내에서 어두운 부분과 색을 띠는 부분의 콘트라스트 차이를 크게 하여 어두운 부분은 더욱 어둡게, 밟은 부분은 더욱 밝게 만드는 것이다.
일반적인 액정을 사용하는 LCD는 빛을 내는 부분이 항상 켜져 있는 상태에서 편광자 소자의 배열이 직각인 두 장의 편광판을 액정 사이에 두어 명암비를 조절하므로 완전한 블랙 화면을 구현하는데 한계가 있었다. 그러나, OLED 패널은 화면에서 어두운 부분을 만들기 위해서 OLED 자체를 꺼버리면 되므로 보다 더 블랙 패널에 가깝다고 할 수 있다. 그러나, 이것은 외부에서 들어오는 빛을 효과적으로 차단할 때에 가능한 것이다. 즉, 외부의 빛이 외곽에 있는 편광판을 통과하여 한 방향으로 배향된 선 편광으로, 그리고 상기 선 편광은 1/4 파장판을 통과시켜 원 편광으로 바꾸는 등 여러 가지 빛의 변화를 통해, 외부의 빛이 OLED 패널에 들어오면 반사되어 밖으로 나오지 못하게 차단하여 블랙을 구현하고 있다. 따라서, 현재 OLED 패널에서는 화면의 시감을 조절하기 위해, 필수적으로 1/4 파장판이 필요하다.
상기 1/4 파장판의 가장 큰 역할은 선편광의 빛이 통과했을 때 얼마나 완벽한 원 편광을 구현하느냐이다. 이를 위해, 일반적으로 가시광선 영역의 기준 파장인 550nm에서 상기 1/4 파장판의 면 방향 위상차를 140nm 정도의 값을 가지도록 설계한다. 하지만 가시광선 영역인 400nm 내지 750nm 전체에서, 완벽한 원 편광을 가지도록 하기 위해서는 400nm 파장에서 100nm 정도의 면 방향 위상차를, 750nm 파장에서 180nm 정도의 면 방향 위상차를 가져야 한다.
그러나, 종래에 상기와 같은 1/4 파장판으로 주로 이용된 폴리카보네이트, 폴리시클로올레핀 등의 일반적인 고분자는, 광의 파장이 짧아질수록 복굴절이 커지는 파장 분산성, 즉 정파장 분산성을 나타내므로 1/4 파장판으로 사용하기에 적합하지 않았다.
따라서, 상기와 같은 가시광선 영역 전체에서 파장을 제어하는 방법으로서 위상차 값의 파장 의존성이 상이한 2 장 이상의 복굴절 필름을 특정각도로 적층시키는 방법이 알려져 있다. 그러나, 이 방법은 복수의 위상차 필름을 부착시키는 공정, 부착시키는 각도를 조정하는 공정 등이 필요하여 생산성에 문제가 있다. 또, 위상차 필름 전체의 두께가 커지기 때문에, 가시광선 투과율이 저하되어 어두워진다는 문제도 있다.
또한, 최근에는 이와 같은 적층을 하지 않고, 한 장의 필름에 의해 광 대역에서 파장을 제어하는 방법이 제안되어 있다. 즉, 정의 굴절률 이방성을 갖는 단위와 부의 굴절률 이방성을 갖는 단위로 이루어지는 폴리카보네이트 공중합체를 사용하는 방법이다. 그러나 이 폴리카보네이트 공중합체는 플루오렌계 비스페놀 유래의 단위를 함유하기 때문에 용융 온도가 높고, 용융 가공할 때에 분해에 의한 겔물이 발생되기 쉽다는 문제가 있다. 또, 유리전이온도(Tg)가 높고, 필름의 연신 가공에 높은 온도를 필요로 하여, 종래와 다른 특별한 가공 설비를 필요로 하는 문제점이 있다.
또, 플루오렌 고리 및 이소소르비드 성분을 함유하는 폴리카보네이트 공중합체를 사용하여 위상차 필름을 제조하는 방법이 제안되었다. 그러나, 상기 폴리카보네이트 공중합체는 열 안정성이 낮기 때문에, 용융 가공 등의 공정에 적합하지 않은 결점이 있다.
따라서, 제조가 용이하면서도, 역파장 분산성을 나타내는 광학필름을 제조하기 위한 수지 조성물의 개발이 시급하다.
본 발명은 제조가 용이하면서도, 가시광선 투과율 및 열 안정성이 우수한 역파장 분산성을 갖는 광학필름을 제조하기 위한 수지 조성물 및 이를 포함하는 광학필름을 제공하고자 한다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 제1태양은, (A) 비닐기를 포함하는 다환 방향족계 단량체로부터 유도된 단위 100중량부; (B) 스티렌계 단량체로부터 유도된 단위 100 내지 600 중량부; (C) 산 무수물계 단량체로부터 유도된 단위 100 내지 600 중량부 및 (D)(메트)아크릴레이트계 단량체로부터 유도된 단위 150 내지 1000 중량부를 포함하는 공중합체를 포함하는 수지 조성물을 제공한다.
본 발명의 제2태양은, 상기 수지 조성물을 포함하며, 파장 380nm 내지 770nm 영역에 있어서, 역파장 분산성을 갖는 광학필름을 제공한다.
본 발명의 제3태양은, 반사판, OLED 패널, 상기 광학필름 및 편광판이 순서대로 적층된 유기발광표시장치를 제공한다.
본 발명에 따른 수지 조성물은 제조가 용이하며, 이를 포함하는 광학필름은 가시광선 투과율 및 열 안정성이 우수하면서도 역파장 분산성을 나타내므로 1/4 파장판에 매우 적합한 장점이 있다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 형태들을 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시형태는 당해 기술분야에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다.
본 발명의 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위하여 연구를 거듭한 결과, 고유 복굴절이 부인 단량체 및 고유 복굴절이 정인 단량체 중 특정 단량체를 공중합하여 수지 조성물을 제조하고 이를 포함하는 광학필름을 제조하는 경우, 광의 파장이 짧아질수록 면내 위상차 값이 작아지는 파장 분산성, 즉 역파장 분산성을 갖는 광학필름을 얻을 수 있음을 알아내고 본 발명을 완성하였다.
본 발명에 따른 수지 조성물은 (A) 비닐기를 포함하는 다환 방향족계 단량체로부터 유도된 단위 100중량부; (B) 스티렌계 단량체로부터 유도된 단위 100 내지 600 중량부; (C) 산 무수물계 단량체로부터 유도된 단위 100 내지 600 중량부 및 (D)(메트)아크릴레이트계 단량체로부터 유도된 단위 150 내지 1000 중량부를 포함하는 공중합체를 포함한다.
이때, 상기 (A) 단위 및 (B) 단위는 부의 고유 복굴절을 갖는 단량체들로부터 유도된 것이고, 상기 (C) 단위 및 (D) 단위는 정의 고유 복굴절을 갖는 단량체들로부터 유도된 것으로, 이때, 부의 고유 복굴절은, 단량체의 호모폴리머를 연신하였을 때 연신 방향의 수직 방향으로 위상차가 발현되는 것을 의미하고, 정의 고유 복굴절은 단량체의 호모폴리머를 연신하였을 때, 연신 방향으로 위상차가 발현되는 것을 의미한다.
한편, 상기와 같이 부의 고유 복굴절을 갖는 단량체들로부터 유도되는 단위와 정의 고유 복굴절을 갖는 단량체들로부터 유도되는 단위를 포함하는 공중합체를 이용하여 광학필름을 제조할 경우, 연신 후에 부의 고유 복굴절을 갖는 단위에 의해 발현되는 복굴절과 정의 고유 복굴절을 갖는 단위에 의해 발현된 복굴절이 서로 상쇄되게 되면서 파장분산특성을 나타내게 된다. 본 발명자들의 연구에 따르면, 상기 부의 고유 복굴절을 갖는 단위의 함량과 정의 고유 복굴절을 갖는 단위의 함량이 상기 수치 범위를 만족할 경우, 역파장분산 특성을 갖는 광학 필름을 제조할 수 있는 것으로 밝혀졌다.
한편, 상기 비닐기를 포함하는 다환 방향족계 단량체는, 비닐기로 치환된 2환 또는 3환 방향족계 단량체일 수 있으며, 예를 들면, 비닐 나프탈렌, 비닐 카바졸, 비닐 플루오렌 화합물 및 비닐 안트라센 등으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다. 상기 비닐기를 포함하는 다환 방향족계 단량체는 다환 구조를 가지므로, 이를 포함하는 공중합체 및 이를 포함하는 수지 조성물의 유리전이온도가 상승하여, 높은 내열성을 갖는 광학필름을 제조할 수 있다. 따라서, 상기 광학필름을 이용하여 편광판을 제조하는 경우, 편광판 합지 공정 등 높은 온도가 요구되는 공정에 매우 유리한 장점이 있다.
특히, 본 발명에서, 상기 (A) 단위는, 하기 [화학식 1]로 표시되는 비닐 나프탈렌 또는 [화학식 2]로 표시되는 N-비닐 카바졸로부터 유도되는 것이 바람직하다.
[화학식 1]
Figure 112013085772973-pat00001
[화학식 2]
Figure 112013085772973-pat00002
한편, 상기 스티렌계 단량체는 치환 또는 비치환된 스티렌일 수 있으며, 예를 들면, 스티렌; 알파-메틸 스티렌, 에틸 스티렌, 부틸 스티렌, 도데실 스티렌과 같은 C1 ~10 알킬 스티렌; 디메틸 스티렌과 같은 디알킬스티렌; 또는 히드록시 스티렌 등일 수 있다. 상기 스티렌계 단량체는 상기 (A) 단량체와 같이 부의 복굴절을 가지며, 후술할 산 무수물계 단량체와의 공중합 반응이 원활하게 일어나도록 도와주는 역할을 하고, 수지 전체의 가공성을 용이하게 해 준다.
특히, 본 발명에 따른 수지 조성물에 있어서, 상기 (B) 단위는 비치환 스티렌으로부터 유도된 것이 바람직하다. 비치환 스티렌은 다른 스티렌계 단량체에 비해 구하기 쉽고 수지 색상에 나쁜 영향을 미치지 않으며, 내열도 저하를 유발하지 않기 때문이다.
다음으로, 상기 산 무수물계 단량체는, 정의 복굴절을 갖는 산 무수물계 단량체이면 제한 없이 사용될 수 있으며, 보다 바람직하게는, 환 구조를 포함하는 산 무수물계 단량체일 수 있다. 보다 구체적으로는, 상기 산 무수물계 단량체는 예를 들면, 무수 프탈산 및 무수 말레산로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다. 상기와 같이 환 구조를 갖는 산 무수물계 단량체를 사용할 경우, 정의 복굴절성을 가지며 수지 전체의 내열도를 높일 수도 있다.
특히, 본 발명에 따른 수지 조성물에 있어서, 상기 (C) 단위는 무수 말레산으로부터 유도된 것이 바람직하다. 무수 말레산은 쉽게 구할 수 있고, 이를 포함하는 경우 반응이 안정적으로 진행되는 장점이 있기 때문이다.
상기 (메트)아크릴레이트계 단량체는, 정의 복굴절을 갖는 (메트)아크릴레이트계 단량체가 제한없이 사용될 수 있으며, 예를 들면, 메틸 (메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, 부틸 (메트)아크릴레이트와 같은 C1 ~5 알킬 (메트)아크릴레이트; 사이클로헥실 (메트)아크릴레이트와 같은 C5 ~10 사이클로알킬 (메트)아크릴레이트; 페닐 (메트)아크릴레이트, 페녹시 (메트)아크릴레이트 등과 같은 방향족 (메트)아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다. 상기와 같은 (메트)아크릴레이트계 단량체들은 정의 복굴절 특성을 가지지만 발현되는 복굴절율이 크지 않아 수지 전체의 복굴절율에 큰 영향을 미치지 않고 내열도를 조절하여 가공이 용이하게 할 수 있다.
특히, 본 발명에 따른 수지 조성물에 있어서, 상기 (D) 단위는 메틸 메타아크릴레이트로부터 유도된 것이 바람직하다. 메틸 메타아크릴레이트는 내열도가 높고, 색상이 좋으며 다른 단량체와 반응이 용이한 장점이 있기 때문이다.
한편, 본 발명에 따른 수지 조성물에 의해 제조되는 광학 필름이 역파장 분산성을 갖도록 하기 위해서는, 상기 공중합체 내의 각 단위의 함량이 적절하게 조절되어야 한다.
보다 구체적으로는, 본 발명에 따른 수지 조성물에 있어서, 상기 (A) 비닐기를 포함하는 다환 방향족계 단량체로부터 유도된 단위의 함량은 공중합체 100중량부를 기준으로, 5 중량부 내지 20 중량부 또는 8 중량부 내지 20 중량부 정도인 것이 바람직하다. (A) 단위의 함량이 상기 수치 범위를 벗어나는 경우에는, 역파장 분산 특성을 얻기 어렵거나, 또는 단량체들 간의 공중합 반응이 원활하게 진행되지 않고, 생산비가 증가하는 등의 문제점이 있다.
또한, 상기 (B) 스티렌계 단량체로부터 유도된 단위의 함량은 상기 (A) 단위 100 중량부에 대해, 100 중량부 내지 600 중량부 또는 100 중량부 내지 375 중량부일 수 있다. (B) 단위의 함량이 상기 수치 범위를 벗어날 경우에는 (C) 단위와의 공중합이 원활하게 일어나지 않아 내열성이 저하될 수 있다.
나아가, 상기 (C) 산 무수물계 단량체로부터 유도된 단위의 함량은 (A) 단위 100 중량부에 대해, 100 중량부 내지 600 중량부 또는 100 중량부 내지 375 중량부 일 수 있다. (C)단위의 함량이 상기 수치 범위를 벗어날 경우에는, 역파장 분산 특성을 얻기 어렵기 때문이다.
또한, 상기 (D) 단위의 함량은 (A)단위 100 중량부에 대해, 150 중량부 내지 1000 중량부 또는 150 중량부 내지 625 중량부일 수 있다. (D)단위의 함량이 상기 수치범위를 만족하는 경우 원하는 위상차 발현 특성을 제어하기가 용이하고, 우수한 투명성을 나타내는 효과를 갖기 때문이다.
한편, 본 발명의 상기 공중합체에 있어서, 부의 복굴절을 나타내는 단위들의 함량의 합계와 정의 복굴절을 나타내는 단위들의 함량의 합계의 비율, 즉, ((A) 단위 및 (B) 단위의 함량의 합) : (정의 복굴절을 나타내는 (C) 단위 및 (D)의 함량의 합)이 1 : 3 내지 2 : 3 정도인 것이 바람직하다. 공중합체 내의 단위들의 함량이 상기 수치 범위를 만족할 경우, 더욱 우수한 역파장 특성을 가질 수 있기 때문이다.
상기한 본 발명의 공중합체는, 하기 [화학식 3] 내지 [화학식 6]으로 표시되는 반복단위들을 포함하는 것일 수 있다.
[화학식 3]
Figure 112013085772973-pat00003
상기 [화학식 3]에서, A는 나프탈렌, 카바졸, 플루오렌 또는 안트라센이며, 바람직하게는, 나프탈렌 또는 카바졸임.
[화학식 4]
Figure 112013085772973-pat00004
상기 [화학식 4]에서, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로, 수소, C1 ~10 알킬 또는 히드록시이며, 바람직하게는 수소임.
[화학식 5]
Figure 112013085772973-pat00005

[화학식 6]
Figure 112013085772973-pat00006
상기 [화학식 6]에서, 상기 R4 수소 또는 메틸이며, R5는 수소, C1 ~ 5알킬, C5 ~10 사이클로알킬, 페닐 또는 페녹시이며, 바람직하게는, 상기 R4는 메틸이고, R5는 메틸임.
한편, 상기 공중합체의 유리전이온도는 110℃ 내지 160℃ 또는 120℃ 내지 150℃ 일 수 있다. 공중합체의 유리전이온도가 상기 수치범위를 만족하는 경우, 열에 의해 쉽게 손상되지 않고, 광학필름 제조 시 용융 등의 공정에 용이하게 적용할 수 있는 장점이 있다.
나아가, 상기 공중합체의 중량평균분자량은 내열성, 충분한 가공성 및 생산성 등의 측면에서 7만 내지 15만인 것이 바람직하다.
한편, 본 발명에 따른 수지 조성물은, 필요에 따라, 상기 공중합체 이외의 다른 성분들, 예를 들면 자외선 흡수제, 산화 방지제, 필러 등의 첨가제, 상용화제, 안정화제 등을 더 포함할 수 있다.
다음으로, 본 발명에 따른 광학필름을 설명한다.
본 발명에 따른 광학필름은 상기한 본 발명의 수지 조성물을 이용하여 제조되며, 파장 380nm 내지 770nm 영역에서 역파장 분산성을 나타낸다.
보다 구체적으로는, 본 발명에 따른 광학필름은, 상기한 본 발명의 수지 조성물을 사용하여, 당해 기술분야에 잘 알려진 필름 제조 방법, 예를 들면, 용액 캐스트법, 용융 압출법, 열 프레스법, 캘린더법 등을 통해 제조할 수 있다. 특히, 본 발명에 따른 광학필름 제조는 용융 압출법에 의하는 것이 생산성 면에서 바람직하다. 경우에 따라 필름 제조 공정 시에, 필름의 물성을 해하지 않는 범위 내에서 개량제와 같은 첨가제를 추가로 첨가할 수 있으며, 일축 또는 이축 연신 단계가 추가로 수행될 수 있다.
이때, 연신 온도는, 필름 원료인 열가소성 수지 조성물의 유리전이 온도 근처의 범위인 것이 바람직하고, 바람직하게는 (유리 전이 온도 -30℃)~(유리 전이 온도 + 100℃), 보다 바람직하게는 (유리전이온도 -20℃)~(유리전이온도 + 80℃)의 범위 내이다. 연신 온도가 (유리 전이 온도 -30℃) 미만이면 충분한 연신 배율이 얻어지지 않을 우려가 있다. 반대로, 연신 온도가 (유리 전이 온도 + 100℃)를 초과하면, 수지 조성물의 유동(플로우)이 일어나, 안정적인 연신을 실시하지 못할 우려가 있다.
상기와 같이 본 발명의 수지 조성물을 이용하여 제조된 본 발명의 광학 필름은 역파장 분산 특성을 가지며, 보다 구체적으로는, 하기 식 (2) 및 (3)을 만족한다.
식 (2): Rin(450)/Rin(550) < 1.0
식 (3): Rin(650)/Rin(550) > 1.0
상기 식(2) 및 (3)에서, Rin(450), Rin(550) 및 Rin(650)은 각각 파장 450nm, 550nm, 650nm에 있어서의 필름의 면내 위상차 값(Rin)을 의미하며, 이때, 상기 면내 위상차값 Rin(λ)는 하기 식 (1)에 의해 정의되는 값이다.
식 (1) Rin(λ)=(nx-ny)×d
상기 식 (1)에서, λ는 측정 파장, nx는 필름의 면 방향에 있어서, 가장 굴절율이 큰 방향의 굴절율, ny는 필름의 면 방향에 있어서, nx 방향의 수직 방향의 굴절율이며, d는 필름의 두께이다.
한편, 상기 본 발명의 광학 필름의 파장 450nm에서의 면내 위상차 값 Rin (450)은 105nm 내지 130nm, 107nm 내지 120nm 또는 110nm 내지 115nm 정도인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 광학 필름의 파장 550nm에서 면내 위상차 값 Rin (550)은 130nm 내지 144nm 또는 135nm 내지 140nm 정도인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 광학 필름의 파장 650nm에서 면내 위상차 값 Rin (650)은 140nm 내지 170nm, 150nm 내지 170nm 또는 160nm 내지 165nm정도인 것이 바람직하다.
또한, 상기 광학필름은 Rin (450)/ Rin (550) 값이 0.7 내지 0.95, 0.75 내지 0.9 또는 0.8 내지 0.89 정도인 것이 바람직하며, Rin (650)/ Rin (550) 값이 1.03 내지 1.3, 1.05 내지 1.25 또는 1.07 내지 1.2 정도인 것이 바람직하다.
광학 필름의 Rin (450), Rin (550) 및 Rin (650) 값이 상기 수치범위들을 만족하는 경우, 가시 광선 전 파장 대역에서 선편광을 이상적인 원편광으로 구현할 수 있기 때문이다.
한편, 본 발명에 따른 광학 필름의 두께는 20㎛ 내지 80㎛ 또는 30㎛ 내지 60㎛ 범위일 수 있다. 이때, 상기 광학 필름의 두께는 연신 후 최종 두께를 의미한다. 광학 필름의 두께가 상기 수치범위 내인 경우, 편광판의 박막화 및 원하는 원편광 특성을 얻을 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 광학 필름의 헤이즈 값은 0.5 이하, 바람직하게는 0.3 이하일 수 있다.
또한, 본 발명의 광학 필름은 우수한 가시광선 투과율을 갖는다. 예를 들면, 상기 가시광선 투과율은 90% 이상의 값을 가진다. 따라서, 상기와 같은 가시광선 투과율을 갖는 본 발명의 광학 필름은 시감성이 우수한 장점이 있다.
본 발명에 따른 광학필름은 단층이면서 역파장 분산성을 나타내므로, 박막화하면서 원하는 광학 특성을 얻을 수 있으며, 상기 광학필름을 구비하는 화상표시장치의 소형화, 경량화 등이 가능한 장점이 있다. 또한, 본 발명에 따른 광학필름은 복수의 층을 적층하여 역파장 분산성을 갖는 광학필름을 제조하는 종래의 경우에 비해, 각 층의 접합 각도의 조정이 불필요하므로 생산성이 매우 높다.
이와 같은 본 발명에 따른 광학필름은, 다양한 용도, 예를 들면, 위상차 필름, 1/4 파장판 등으로 유용하게 사용할 수 있으며, 특히, OLED(Organic Light Emitting Diodes)용 1/4 파장판으로 유용하게 사용될 수 있다. 이 경우, 상기 광학 필름은 OLED 패널과 편광판 사이에 배치될 수 있다. 즉, 본 발명에 따른 유기발광표시장치는 반사판, OLED 패널, 본 발명의 광학 필름 및 편광판의 순서대로 적층된 구조를 갖는다.
이하에서는 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 더 자세히 설명하도록 한다.
본 발명에 있어서 물성 평가 방법은 하기와 같다.
1. 중량 평균 분자량(Mw): 제조된 수지를 테트라하이드로퓨란에 녹여 겔 삼투 크로마토그래피(GPC)를 이용하여 측정하였다.
2. Tg(유리전이온도): TA Instrument 사의 DSC(Differential Scanning Calorimeter)를 사용하여 측정하였다.
3. 위상차 값: 필름의 유리전이온도에서 연신 후 Axometrics 사의 AxoScan을 사용하여 측정하였다.
4. Haze 값(투명도): Murakami color Research Laboratory 사의 HAZEMETER HM-150을 사용하여 haze값을 측정하였다.
실시예 1
비닐 나프탈렌 8 중량부, 무수 말레산 22 중량부, 스티렌 20 중량부, 메틸 메타크릴레이트 50 중량부를 공중합하여 수지를제조하였다. 제조된 공중합체의 중량평균분자량은 12만이고, 유리전이온도는 136℃였다.
다음으로, 상기 수지를 이용하여, 280℃, 250rpm 조건하에서 T-다이 제막기로 폭 1500nm 미연신 필름을 제조한 후 유리전이온도에서 TD 방향으로 일축연신을 실시하고, 상기 필름의 위상차 값을 측정하였다. 이때, 상기 필름의 헤이즈 값은 0.2 였다.
실시예 2
비닐 나프탈렌 10 중량부, 무수 말레산 25 중량부, 스티렌 20 중량부, 메틸 메타크릴레이트 45 중량부를 공중합하여 수지를 제조하였다. 제조된 공중합체의 중량평균분자량은 12만이고, 유리전이온도는 141℃였다.
다음으로, 상기 수지를 이용하여, 280℃, 250rpm 조건하에서 T-다이 제막기로 폭 1500nm의 미연신 필름을 제조한 후 유리전이온도에서 TD 방향으로 일축연신을 실시하고, 상기 필름의 위상차 값을 측정하였다. 이때, 상기 필름의 헤이즈 값은 0.2 였다.
실시예 3
비닐 나프탈렌 10 중량부, 무수 말레산 25 중량부, 스티렌 30 중량부, 메틸 메타크릴레이트 35 중량부를 공중합하여 수지를 제조하였다. 제조된 공중합체의 중량평균분자량은 12만이고, 유리전이온도는 135℃였다.
다음으로, 상기 수지를 이용하여, 250℃, 250rpm 조건하에서 T-다이 제막기로 폭 1500nm의 미연신 필름을 제조한 후 유리전이온도에서 TD 방향으로 일축연신을 실시하고, 상기 필름의 위상차 값을 측정하였다. 이때, 상기 필름의 헤이즈 값은 0.2 였다.
실시예 4
비닐 나프탈렌 20 중량부, 무수 말레산 30 중량부, 스티렌 20 중량부, 메틸 메타크릴레이트 30 중량부를 공중합하여 수지를 제조하였다. 제조된 공중합체의 중량평균분자량은 13만이고, 유리전이온도는 146℃였다.
다음으로, 상기 수지를 이용하여, 280℃, 250rpm 조건하에서 T-다이 제막기로 폭 1500nm의 미연신 필름을 제조한 후 유리전이온도에서 TD 방향으로 일축연신을 실시하고, 상기 필름의 위상차 값을 측정하였다. 이때, 상기 필름의 헤이즈 값은 0.2 였다.
실시예 5
비닐 나프탈렌 5 중량부, 무수 말레산 20 중량부, 스티렌 30 중량부, 메틸 메타크릴레이트 45 중량부를 공중합하여 수지를 제조하였다. 제조된 공중합체의 중량평균분자량은 11.5만이고, 유리전이온도는 132℃였다.
다음으로, 상기 수지를 이용하여, 280℃, 250rpm 조건하에서 T-다이 제막기로 폭 1500nm의 미연신 필름을 제조한 후 유리전이온도에서 TD 방향으로 일축연신을 실시하고, 상기 필름의 위상차 값을 측정하였다. 이때, 상기 필름의 헤이즈 값은 0.2 였다.
실시예 6
N-비닐 카바졸 5 중량부, 무수 말레산 22 중량부, 스티렌 23 중량부, 메틸 메타크릴레이트 50 중량부를 공중합하여 수지를 제조하였다. 제조된 공중합체의 중량평균분자량은 13만이고, 유리전이온도는 143℃였다.
다음으로, 상기 수지를 이용하여, 280℃, 250rpm 조건하에서 T-다이 제막기로 폭 1500nm의 미연신 필름을 제조한 후 유리전이온도에서 TD 방향으로 일축연신을 실시하고, 상기 필름의 위상차 값을 측정하였다. 이때, 상기 필름의 헤이즈 값은 0.2 였다.
비교예 1
무수 말레산 30 중량부, 스티렌 40 중량부, 메틸 메타크릴레이트 30 중량부를 공중합하여 수지를 제조하였다. 제조된 공중합체의 중량평균분자량은 13만이고, 유리전이온도는 131℃였다.
다음으로, 상기 수지를 이용하여, 280℃, 250rpm 조건하에서 T-다이 제막기로 폭 1500nm의 미연신 필름을 제조한 후 유리전이온도에서 TD 방향으로 일축연신을 실시하고, 상기 필름의 위상차 값을 측정하였다. 이때, 상기 필름의 헤이즈 값은 0.2 였다.
비교예 2
비닐 나프탈렌 10 중량부, 무수 말레산 10 중량부, 스티렌 5 중량부, 메틸 메타아크릴레이트 75 중량부를 공중합하여 수지를 제조하였다. 제조된 공중합체의 중량평균분자량은 13만이고, 유리전이온도는 131℃였다.
다음으로, 상기 수지를 이용하여, 280℃, 250rpm 조건하에서 T-다이 제막기로 폭 1500nm의 미연신 필름을 제조한 후 유리전이온도에서 TD 방향으로 일축연신을 실시하고, 상기 필름의 위상차 값을 측정하였다. 이때, 상기 필름의 헤이즈 값은 0.2 였다.
비교예 3
비닐 나프탈렌 3 중량부, 무수 말레산 10 중량부, 스티렌 20 중량부, 메틸 메타크릴레이트 67 중량부를 공중합하여 수지를 제조하였다. 제조된 공중합체의 중량평균분자량은 12만이고, 유리전이온도는 124℃였다.
다음으로, 상기 수지를 이용하여, 280℃, 250rpm 조건하에서 T-다이 제막기로 폭 1500nm의 미연신 필름을 제조한 후 유리전이온도에서 TD 방향으로 일축연신을 실시하고, 상기 필름의 위상차 값을 측정하였다. 이때, 상기 필름의 헤이즈 값은 0.2 였다.
실험예 1
상기 실시예 1 내지 6 및 비교예 1 내지 3에 의해 제조된 광학필름의 각 파장 대에서 면내 위상차 값을 측정한 결과는 표 1에 나타낸 바와 같다. 모든 측정값은 일축 연신 후 두께 60㎛인 필름이 파장 550nm에서 면내 위상차가 137nm일 때의 연신비를 고정하여 다른 파장일 때의 위상차를 측정하였다. 모든 실험의 범위에서 광선투과율은 91%이상의 투명한 필름 상태였다.
구 분 450nm 550nm 650nm
실시예 1 면내 위상차 122 137 147
Rλ/R550 0.89 1.00 1.07
실시예 2 면내 위상차 118 137 152
Rλ/R550 0.86 1.00 1.11
실시예 3 면내 위상차 118 137 150
Rλ/R550 0.86 1.00 1.11
실시예 4 면내 위상차 115 137 157
Rλ/R550 0.84 1.00 1.14
실시예 5 면내 위상차 125 137 147
Rλ/R550 0.91 1.00 1.07
실시예 6 면내 위상차 120 137 143
Rλ/R550 0.88 1.00 1.04
비교예 1 면내 위상차 156 137 120
Rλ/R550 1.14 1.00 0.88
비교예 2 면내 위상차 149 137 122
Rλ/R550 1.08 1.00 0.89
비교예 3 면내 위상차 148 137 132
Rλ/R550 1.08 1.00 0.96
이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것은 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게는 자명할 것이다.

Claims (17)

  1. (A) 비닐기를 포함하는 다환 방향족계 단량체로부터 유도된 단위 100중량부;
    (B) 스티렌계 단량체로부터 유도된 단위 100 내지 600 중량부;
    (C) 산 무수물계 단량체로부터 유도된 단위 100 내지 600 중량부 및
    (D)(메트)아크릴레이트계 단량체로부터 유도된 단위 150 내지 1000 중량부를 포함하는 공중합체를 포함하는 수지 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 공중합체에 있어서, ((A) 단위와 (B) 단위의 함량의 합) : ((C) 단위와 (D) 단위의 함량의 합)은 1: 3 내지 2: 3 범위인 수지 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 비닐기를 포함하는 다환 방향족계 단량체는 비닐 나프탈렌, N-비닐 카바졸, 비닐 플루오렌 화합물 및 비닐 안트라센으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 수지 조성물.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 스티렌계 단량체는 알파-메틸 스티렌, 에틸 스티렌, 부틸 스티렌, 하드록시 스티렌, 다이메틸 스티렌 및 도데실 스티렌으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 수지 조성물.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 산 무수물계 단량체는 무수 프탈산 및 무수 말레산으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 수지 조성물.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 (메트)아크릴레이트계 단량체는 메틸 메타크릴레이트, 사이클로헥실 메타아크릴레이트, 페닐 메타아크릴레이트, 부틸 아크릴레이트, 페녹시 메타아크릴레이트 및 에틸아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 수지 조성물.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 공중합체의 유리전이온도는 110℃ 내지 160℃인 수지 조성물.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 공중합체의 중량평균분자량은 7만 내지 15만인 수지 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 수지 조성물을 포함하며,
    파장 380nm 내지 770nm 영역에 있어서 역파장 분산성을 갖는 광학필름.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 광학필름은 1/4 파장판인 광학필름.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 광학필름은 파장 450nm에서 하기 식 (1)로 표시되는 면내 위상차 값이 107nm 내지 130nm인 광학필름.
    식 (1) Rin=(nx-ny)×d
    (상기 식 (1)에서, nx는 필름의 면 방향에 있어서, 가장 굴절율이 큰 방향의 굴절율이고, ny는 필름의 면 방향에 있어서, nx 방향의 수직 방향의 굴절율이며, d는 필름의 두께이다.)
  12. 제9항에 있어서,
    상기 광학필름은 파장 550nm에서 면내 위상차 값이 130nm 내지 144nm 광학필름.
  13. 제9항에 있어서,
    상기 광학필름은 파장 650nm에서 면내 위상차 값이 140nm 내지 170nm 인 광학필름.
  14. 제9항에 있어서,
    상기 광학필름은 하기 식 (2) 및 (3)를 만족하는 것인 광학필름.
    식 (2) Rin (450)/ Rin (550) < 1.0
    식 (3) Rin (650)/ Rin (550) > 1.0
    (여기서, Rin (450), Rin (550) 및 Rin (650)은 각각 파장 450nm, 550nm, 650nm에 있어서의 필름의 면내 위상차 값임.)
  15. 제9항에 있어서,
    상기 광학필름은 Rin (450)/ Rin (550) 값이 0.7 내지 0.95인 광학필름.
  16. 제9항에 있어서,
    상기 광학필름은 Rin (650)/ Rin (550) 값이 1.03 내지 1.3인 광학필름.
  17. 반사판;
    OLED 패널;
    상기 제9항에 따른 광학필름; 및
    편광판이 순서대로 적층된 구조를 갖는 유기발광표시장치.
KR20130112585A 2013-03-28 2013-09-23 수지 조성물 및 이를 포함하는 역파장 분산성을 갖는 광학필름 KR101494545B1 (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/130,392 US9088009B2 (en) 2013-03-28 2013-09-23 Resin composition, optical film and organic light emitting display device
JP2015508882A JP5821159B2 (ja) 2013-03-28 2013-09-23 樹脂組成物及びこれを含む逆波長分散性を有する光学フィルム
PCT/KR2013/008498 WO2014157791A1 (ko) 2013-03-28 2013-09-23 수지 조성물 및 이를 포함하는 역파장 분산성을 갖는 광학필름
CN201380002706.5A CN104204003B (zh) 2013-03-28 2013-09-23 树脂组合物和含有该组合物并具有逆波长分散性的光学薄膜

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130033790 2013-03-28
KR20130033790 2013-03-28

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140118675A KR20140118675A (ko) 2014-10-08
KR101494545B1 true KR101494545B1 (ko) 2015-02-23

Family

ID=51991471

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20130112585A KR101494545B1 (ko) 2013-03-28 2013-09-23 수지 조성물 및 이를 포함하는 역파장 분산성을 갖는 광학필름

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9088009B2 (ko)
JP (1) JP5821159B2 (ko)
KR (1) KR101494545B1 (ko)
CN (1) CN104204003B (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108485448B (zh) * 2017-02-21 2022-02-22 住友化学株式会社 树脂组合物、膜及共聚物
CN111868583B (zh) * 2018-03-19 2022-05-31 日本瑞翁株式会社 相位差膜及相位差膜的制造方法
KR102153086B1 (ko) * 2018-07-31 2020-09-07 주식회사 엘지화학 신규한 고분자 및 이를 포함하는 유기 발광 소자
CN110358010B (zh) * 2019-07-16 2021-11-23 儒芯微电子材料（上海）有限公司 一种碱溶性聚合物树脂及其制备方法与应用

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090067104A (ko) * 2007-12-20 2009-06-24 주식회사 엘지화학 다층 구조의 아크릴계 위상차 필름 및 그 제조방법
KR20100066477A (ko) * 2007-09-04 2010-06-17 덴키 가가쿠 고교 가부시기가이샤 열가소성 공중합 수지 및 그의 광학 성형체
KR20100081918A (ko) * 2009-01-06 2010-07-15 주식회사 엘지화학 위상차 필름 및 이를 포함하는 액정 표시 장치
KR20100104519A (ko) * 2009-03-18 2010-09-29 주식회사 엘지화학 아크릴계 공중합체 수지, 이를 포함하는 광학 필름 및 액정표시 장치

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4817403B2 (ja) * 1999-12-20 2011-11-16 ローム アンド ハース カンパニー 肥大化ラテックスの製造方法
US6812983B2 (en) 2000-05-17 2004-11-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Retardation plate and fabrication method thereof, and plate for circularly polarizing light, ½ wave plate and reflection-type liquid crystal display device utilizing the retardation plate
US20060122327A1 (en) * 2004-10-13 2006-06-08 Christopher Lester Process for preparing enlarged latex particles
US20070154654A1 (en) * 2005-12-29 2007-07-05 Eastman Kodak Company Optical compensator film with controlled birefringence dispersion
KR101105424B1 (ko) * 2008-04-30 2012-01-17 주식회사 엘지화학 수지 조성물 및 이를 이용하여 형성된 광학 필름
US20110135911A1 (en) * 2008-08-07 2011-06-09 Hiroshi Maenaka Insulating sheet and multilayer structure
JP5600905B2 (ja) * 2009-08-24 2014-10-08 東洋紡株式会社 粘着フィルム
JP5475367B2 (ja) * 2009-08-25 2014-04-16 株式会社日本触媒 Ｎ−ビニルカルバゾール共重合体位相差フィルムおよびｎ−ビニルカルバゾール共重合体位相差フィルムの製造方法
WO2012023834A2 (ko) * 2010-08-20 2012-02-23 주식회사 엘지화학 고내열성, 고강도 아크릴계 공중합체, 이를 포함하는 수지 조성물, 이를 포함하는 광학 필름 및 ｉｐｓ 모드 액정표시장치
JP2012078778A (ja) * 2010-09-08 2012-04-19 Nippon Shokubai Co Ltd 樹脂組成物、光学フィルムおよび画像表示装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100066477A (ko) * 2007-09-04 2010-06-17 덴키 가가쿠 고교 가부시기가이샤 열가소성 공중합 수지 및 그의 광학 성형체
KR20090067104A (ko) * 2007-12-20 2009-06-24 주식회사 엘지화학 다층 구조의 아크릴계 위상차 필름 및 그 제조방법
KR20100081918A (ko) * 2009-01-06 2010-07-15 주식회사 엘지화학 위상차 필름 및 이를 포함하는 액정 표시 장치
KR20100104519A (ko) * 2009-03-18 2010-09-29 주식회사 엘지화학 아크릴계 공중합체 수지, 이를 포함하는 광학 필름 및 액정표시 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR20140118675A (ko) 2014-10-08
CN104204003A (zh) 2014-12-10
US20150084007A1 (en) 2015-03-26
US9088009B2 (en) 2015-07-21
JP2015515535A (ja) 2015-05-28
JP5821159B2 (ja) 2015-11-24
CN104204003B (zh) 2016-08-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4905082B2 (ja) 位相差フィルム
JP5830949B2 (ja) 位相差フィルム用フマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなる位相差フィルム
CN107430229B (zh) 相位差板及相位差板的制造方法
KR20150039089A (ko) 광학 필름용 수지 조성물, 이를 이용하여 형성된 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 화상 표시 장치
KR101494545B1 (ko) 수지 조성물 및 이를 포함하는 역파장 분산성을 갖는 광학필름
US9389352B2 (en) Retardation film and production method therefor, polarizing plate, and display device
JPWO2012091009A1 (ja) 樹脂組成物、位相差フィルム、位相差フィルムの製造方法、および長尺の円偏光板
KR101464826B1 (ko) 위상차 필름 및 이를 포함하는 액정 표시장치
JP5581560B2 (ja) 光学フィルム及びｉｐｓモード液晶表示装置
JP5412211B2 (ja) 光学用延伸フィルムを備える偏光板および画像表示装置
JP2009275069A (ja) 光学用延伸フィルムとそれを備える画像表示装置
JP5387647B2 (ja) 位相差フィルム
JP2012068430A (ja) 位相差フィルム
JP2021189286A (ja) 光学フィルム
JP4080200B2 (ja) 位相差フィルムおよび液晶表示装置
KR101725590B1 (ko) 위상차 필름 및 그 제조 방법
KR101674244B1 (ko) 위상차 필름 및 이를 포함하는 액정표시장치
WO2023162545A1 (ja) 光学異方性積層体及びその製造方法、並びに、円偏光板及び画像表示装置
WO2021085031A1 (ja) 位相差フィルム及びその製造方法、並びに円偏光板
KR101669180B1 (ko) 위상차 필름 및 이의 제조방법
KR101889954B1 (ko) 광학 필름용 수지 조성물 및 이를 포함하는 역 파장 분산성 광학 필름
KR101724797B1 (ko) 위상차 필름 및 그 제조 방법
JP6213135B2 (ja) ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド共重合体及びそれを用いた位相差フィルム
JP6213132B2 (ja) ｔｒａｎｓ−スチルベン−無水マレイン酸共重合体及びそれを用いた位相差フィルム
JP2023064214A (ja) 偏光板および液晶表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180116

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190116

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200116

Year of fee payment: 6