KR101489717B1 - 잉크젯용 잉크 - Google Patents

잉크젯용 잉크 Download PDF

Info

Publication number
KR101489717B1
KR101489717B1 KR1020097019033A KR20097019033A KR101489717B1 KR 101489717 B1 KR101489717 B1 KR 101489717B1 KR 1020097019033 A KR1020097019033 A KR 1020097019033A KR 20097019033 A KR20097019033 A KR 20097019033A KR 101489717 B1 KR101489717 B1 KR 101489717B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
carbon atoms
group
compound
bis
Prior art date
Application number
KR1020097019033A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20100015306A (ko
Inventor
신스케 하나후사
다카유키 핫토리
가오리 에구치
도모쓰구 후루타
도모아키 시미즈
Original Assignee
제이엔씨 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 제이엔씨 주식회사 filed Critical 제이엔씨 주식회사
Publication of KR20100015306A publication Critical patent/KR20100015306A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101489717B1 publication Critical patent/KR101489717B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/30—Inkjet printing inks
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01—Ink jet
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1057—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain
    • C08G73/106—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain containing silicon

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
  • Ink Jet (AREA)

Abstract

[과제] 1회의 젯팅(토출)으로 비교적 두꺼운 폴리이미드막(1㎛ 이상)을 형성할 수 있는, 잉크젯용 잉크가 요구되어 왔다.
[해결수단] 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)과 모노아민(a2)를 사용하여 얻어지는 실리콘 화합물(A), 및 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')과 디아민(a2')를 사용하여 얻어지는 실리콘 화합물(A')로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 잉크젯용 잉크.
잉크젯, 잉크, 폴리이미드막, 실리콘아미드산, 산 무수물, 나디이미드

Description

잉크젯용 잉크{INK-JET INK}
본 발명은 잉크젯용 잉크에 관한 것으로, 예를 들면, 전자 부품 제조에 있어서 절연막층을 형성하기 위한 실리콘 화합물(A) 및/또는 실리콘 화합물(A')을 포함하는 잉크젯용 잉크, 상기 잉크젯용 잉크를 사용하여 형성되는 폴리이미드막, 및 상기 폴리이미드막을 형성한 필름 기판, 상기 필름 기판을 가지는 전자 부품에 관한 것이다.
폴리이미드는 내열성, 전기 절연성이 우수하기 때문에, 전자 통신 분야에서 널리 사용되는 재료이다[예를 들면, 특허 문헌 1, 특허 문헌 2, 특허 문헌 3 참조] .
폴리이미드를 원하는 패턴 막으로서 사용하는 경우, 종래에는 에칭이나 감광성 폴리이미드를 사용하여 패턴을 형성하는 것이 일반적이었지만, 최근, 잉크젯에 의해 원하는 패턴 막을 형성하는 방법이 검토되고 있다.
잉크젯용 잉크는 여러 가지가 제안되어 있지만[예를 들면, 특허 문헌 4, 특허 문헌 5 참조], 폴리이미드계의 잉크젯 잉크를 조제하고자 하면, 비교적 고분자이기 때문에, 잉크젯 잉크로서 최적인 점도의 잉크를 조제하기 위해서는, 용매의 비율을 늘려 잉크 중의 폴리아미드산 함유량을 적게 할 필요가 있다. 그러나, 이 때문에 1회의 잉크젯팅으로 얻어지는 막의 두께가 얇아진다는 문제가 있었다.
한편, 실리콘아미드산 화합물(실란 커플링제)은, 에폭시 수지, 페놀 수지와 병용하면 금속과 반응하거나 착체를 형성하기 때문에 막의 밀착성이 높아지고 납땜 크랙 내성이 향상되는 것으로 알려져 있다[예를 들면, 특허 문헌6 참조].
특허 문헌 1: 일본 특개 2000-039714호 공보
특허 문헌 2: 일본 특개 2003-238683호 공보
특허 문헌 3: 일본 특개 2004-094118호 공보
특허 문헌 4: 일본 특개 2003-213165호 공보
특허 문헌 5: 일본 특개 2006-131730호 공보
특허 문헌 6: 일본 특개 2003-105059호 공보
발명이 해결하고자 하는 과제
전술한 상황에 있어서, 1회의 젯팅(토출)으로 비교적 두꺼운 폴리이미드막(1㎛ 이상)을 형성할 수 있는, 잉크젯용 잉크가 요구되어 왔다.
과제를 해결하기 위한 수단
본 발명자들은, 상기 상황을 감안하여, 적어도 1종의 실리콘 화합물(A) 및/또는 적어도 1종의 실리콘 화합물(A')을 포함하는 잉크젯용 잉크, 추가로 고분자 화합물(B)을 포함하는 잉크젯용 잉크, 추가로 알케닐 치환 나디이미드(nadimide)(C)를 포함하는 잉크젯용 잉크, 추가로 용매(D)를 포함하는 잉크젯용 잉크를 발견하였다.
본 발명은 다음과 같은 잉크젯용 잉크 등을 제공한다.
[1] 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)과 모노아민(a2)을 사용하여 얻어지는 실리콘 화합물(A), 및 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')과 디아민(a2')을 사용하여 얻어지는 실리콘 화합물(A')로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 잉크젯용 잉크.
[2] 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)이, 하기 일반식(1)으로 표시되는 테트라카르복시산 2무수물이며, 모노아민(a2)이, 하기 일반식(2)으로 표시되는 아미노실리콘 화합물인, 상기 [1]에 기재된 잉크젯용 잉크.
Figure 112009056035305-pct00001
(일반식(1) 중, X는 탄소수 2∼100의 4가의 유기기이며, 일반식(2) 중, R1, R2 및 R3은 수소, 할로겐 또는 1가의 유기기이며, 이것들은 동일하거나 상이할 수 있고, Y는 탄소수 1∼20의 유기기임)
[3] 상기 테트라카르복시산 2무수물이, 피로메리트산 2무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복시산 2무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르복시산 2무수물, 2,3,3',4'-벤조페논테트라카르복시산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무수물, 2,2',3,3'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무수물, 2,3,3',4'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물, 2,2',3,3'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물, 2,3,3',4'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물, 2,2-[비스(3,4-디카르복시페닐)]헥사플루오로프로판 2무수물, 에틸렌글리콜비스(안하이드로트리멜리테이트), 시클로부탄테트라카르복시산 2무수물, 메틸시클로부탄테트라카르복시산 2무수물, 시클로펜탄테트라카르복시산 2무수물, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복시산 2무수물, 에탄테트라카르복시산 2무수물 및 부탄테트라카르복시산 2무수물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상이며,
상기 아미노실리콘 화합물이, 파라아미노페닐트리메톡시실란, 파라아미노페닐트리에톡시실란, 메타아미노페닐트리메톡시실란, 메타아미노페닐트리에톡시실란, 아미노프로필트리메톡시실란 및 아미노프로필트리에톡시실란으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상인, 상기 [2]에 기재된 잉크젯용 잉크.
[4] 상기 실리콘 화합물(A)이, 하기 일반식(3)으로 표시되는 실리콘아미드산(A)인, 상기 [1]에 기재된 잉크젯용 잉크.
Figure 112009056035305-pct00002
(일반식(3) 중, X는 탄소수 2∼100의 4가의 유기기이며, R1, R2 및 R3은 수소, 할로겐 또는 1가의 유기기이며, 이것들은 동일하거나 상이할 수 있고, Y는 탄소수 1∼20의 유기기임).
[5] 상기 실리콘아미드산이, 하기 일반식(4-1), (4-2) 또는 (4-3)으로 표시되는 실리콘아미드산인, 상기 [4]에 기재된 잉크젯용 잉크.
Figure 112009056035305-pct00003
(일반식(4-1), (4-2) 또는 (4-3) 중, R1, R2 및 R3 중의 적어도 하나는, 탄소수 1∼20의 알콕시기를 포함하고, a는, 1∼20의 정수임).
[6] 상기 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)과 상기 모노아민(a2)의 비가 1몰:0.5∼8.0몰인, 상기 [1]∼[5] 중 어느 하나에 기재된 잉크젯용 잉크.
[7] 상기 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')이, 하기 일반식(1')으로 표시되는 카르복시산 무수물이며, 상기 디아민(a2')이, 하기 일반식(2')으로 표시되는 디아민인, 상기 [1]∼[6] 중 어느 하나에 기재된 잉크젯용 잉크.
Figure 112009056035305-pct00004
(일반식(1') 중, R1, R2 및 R3은 수소, 할로겐 또는 1가의 유기기이며, 이것들은 동일하거나 상이할 수 있고, Y'는 탄소수 1∼20의 유기기이며, 일반식(2') 중, X'는 탄소수 2∼100의 2가의 유기기임).
[8] 상기 카르복시산 무수물이, p-(트리메톡시실릴)페닐숙신산 무수물, p-(트리에톡시실릴)페닐숙신산 무수물, m-(트리메톡시실릴)페닐숙신산 무수물, m-(트리에톡시실릴)페닐숙신산 무수물, 트리메톡시실릴프로필숙신산 무수물 및 트리에톡시실릴프로필숙신산 무수물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상이며,
상기 디아민이, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, p-크실렌디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노-1,2-디페닐에탄, 4,4'-디아미노-1,3-디페닐프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)프로판, 비스(4-아미노-3-메틸페닐)메탄, 1,2-비스-4-아미노-3-메틸페닐)에탄, 비스(4-아미노-2-메틸페닐)메탄, 1,2-비스-(4-아미노-2-메틸페닐)에탄, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 4,4'-디아미노디페닐설파이드, 4,4'-디아미노벤조페논, 4,4'-디아미노디페닐-2,2'-프로판, 1,4-디아미노시클로헥산, 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄, 1,4-비스[4-아미노페닐)메틸]벤젠, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]플루오로프로판, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]비페닐, 1,3-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]프로판, 1,6-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]헥산, 5-페닐메틸-1,3-디아미노벤젠, 5-[4-(4-알킬시클로헥실)페닐]메틸-1,3-디아미노벤젠, 5-[4-(4-(4-알킬시클로헥실)시클로헥실)페닐]메틸-1,3-디아미노벤젠, 5-[((알킬시클로헥실)에틸시클로헥실)페닐]메틸-1,3-디아미노벤젠, 1,1-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-4-알킬시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]-4-알킬시클로헥산, 1,3-비스(3-아미노프로필)-테트라메틸디실록산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상인, 상기 [7]에 기재된 잉크젯용 잉크.
[9] 상기 실리콘 화합물(A')이, 하기 일반식(3')으로 표시되는 실리콘아미드산(A')인, 상기 [1]∼[6] 중 어느 하나에 기재된 잉크젯용 잉크.
Figure 112009056035305-pct00005
(일반식(3') 중, R1, R2 및 R3은 수소, 할로겐 또는 1가의 유기기이며, 이것들은 동일하거나 상이할 수 있고, Y'는 탄소수 1∼20의 유기기이며, X'는 탄소수 2∼100의 유기기임).
[10] 상기 실리콘아미드산(A')이, 하기 일반식(4'-1), (4'-2), (4'-3), (4'-4) 또는 (4'-5)로 표시되는 실리콘아미드산(A')인, 상기 [9]에 기재된 잉크젯용 잉크.
Figure 112009056035305-pct00006
(일반식(4'-1), (4'-2), (4'-3), (4'-4) 또는 (4'-5) 중, R1, R2 및 R3 중의 적어도 하나는 탄소수 1∼20의 알콕시기를 포함하고, 일반식(4'-3)의 R은 탄소수 2∼30의 유기기이며, 일반식(4'-4)의 R은 수소 또는 탄소수 1∼20의 알킬이며, a는 1∼20의 정수임).
[11] 상기 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')과 상기 디아민(a2')의 비가 0.5∼8.0몰:1몰인, 상기 [1]∼[10] 중 어느 하나에 기재된 잉크젯용 잉크.
[12] 고분자 화합물(B)을 추가로 포함하는, 상기 [1]∼[11] 중 어느 하나에 기재된 잉크젯용 잉크.
[13] 상기 고분자 화합물(B)이, 폴리아미드산 및 폴리이미드로부터 선택되는 적어도 1종인, 상기 [12]에 기재된 잉크젯용 잉크.
[14] 상기 고분자 화합물(B)의 중량 평균 분자량이 1,000∼5,000인, 상기 [12] 또는 [13]에 기재된 잉크젯용 잉크.
[15] 알케닐 치환 나디이미드(C)를 추가로 포함하는, 상기 [1]∼[14] 중 어느 하나에 기재된 잉크젯용 잉크.
[16] 상기 알케닐 치환 나디이미드(C)가, 모노아민, 디아민, 트리아민 또는 테트라아민과 하기 식(5')으로 표시되는 알케닐 치환 나딕산(nadic acid) 무수물을 반응시켜 형성되는 알케닐 치환 나디이미드인, 상기 [15]에 기재된 잉크젯용 잉크.
Figure 112009056035305-pct00007
식(5') 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1∼12의 알킬, 탄소수 3∼6의 알케닐, 탄소수 5∼8의 시클로알킬, 탄소수 6∼12의 아릴 또는 벤질 중 어느 하나이다.
[17] 상기 알케닐 치환 나디이미드(C)가, 하기 일반식(5)으로 표시되는 화합물인, 상기 [15] 또는 상기 [16]에 기재된 잉크젯용 잉크.
Figure 112009056035305-pct00008
식(5) 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1∼12의 알킬, 탄소수 3∼6의 알케닐, 탄소수 5∼8의 시클로알킬, 탄소수 6∼12의 아릴 또는 벤질 중 어느 하나이며, n은 1∼4의 정수이며,
n=1일 때, 식(5) 중의 R3은 수소, 탄소수 1∼12의 알킬, 탄소수 1∼12의 하이드록시알킬, 탄소수 5∼8의 시클로알킬, 탄소수 6∼12의 아릴, 벤질, -{(CqH2qO)t(CrH2rO)uCsH2sX}(단 q, r, s는 각각 독립적으로 선택된 2∼6의 정수, t는 0 또는 1의 정수이고, u는 1∼30의 정수, X는 수소 또는 수산기임)으로 표시되는 폴리옥시알킬렌알킬, -(R)a-C6H4-R4(여기서, a는 0 또는 1의 정수, R은 탄소수 1∼4의 알킬렌, R4는 수소 또는 탄소수 1∼4의 알킬을 각각 나타냄)으로 표시되는 기, -C6H4-T-C6H5{여기서, T는 -CH2-, -C(CH3)2-, -CO-, -S- 또는 -SO2-임}으로 표시되는 기, 또는 이러한 기의 방향환에 직접 결합된 1∼3개의 수소가 수산기로 치환된 기이며,
n=2일 때, 식(5) 중의 R3은 탄소수 2∼20의 알킬렌{알킬렌 중의 서로 인접하지 않은 임의의 메틸렌은 -O- 또는 -CH=CH-로 치환되어 있을 수도 있고, 임의의 수소는 플루오르로 치환되어 있을 수도 있음}, 탄소수 5∼8의 시클로알킬렌, -{CqH2qO)t(CrH2rO)uCsH2s}-(단, q, r, s는 각각 독립적으로 선택된 2∼6의 정수, t는 0 또는 1의 정수이고, u는 1∼30의 정수임)으로 표시되는 폴리옥시알킬렌, 탄소수 6∼12의 아릴렌, -(R)a-C6H4-R5-(여기서, a는 0 또는 1의 정수, R 및 R5는 각각 독립적으로, 탄소수 1∼4의 알킬렌임)으로 표시되는 기, -C6H4-T-C6H4-, -C6H4-T-C6H4-T-C6H4- 또는 -C6H4-T'-C6H4-T-C6H4-T'-C6H4-{단, T는 단일 결합, 탄소수 1∼6의 알킬렌, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -CO-, -O-, -OC6H4C(CH3)2C6H4O-, -S- 또는 -SO2-이며, T'는 -CH2- 또는―O-임}으로 표시되는 기, 또는 이러한 기의 방향환에 직접 결합된 1∼3개의 수소가 수산기로 치환된 기, 하기 식(6-1)으로 표시되는 기 또는 식(6-2)으로 표시되는 기이며, 식(6-1) 중, x는 독립적으로 1∼6의 정수이며, y는 1∼70의 정수이며,
Figure 112009056035305-pct00009
n=3일 때, 식(5) 중의 R3은 하기 식(7-1)으로 표시되는 기 또는 식(7-2)으로 표시되는 기이며,
Figure 112009056035305-pct00010
식(7-1) 중, R은, 수소, 플루오르, 염소, -OH, -OCF3, -OCF2H, -CF3, -CF2H, -CFH2, -OCF2CF2H, -OCF2CFHCF3, 또는 탄소수 1∼10의 알킬이며,
식(7-1) 및 식(7-2) 중, R4, R5, R6은, 각각 독립적으로, 단일 결합, 트랜스-1,4-시클로헥실렌, 1,3-디옥산-2,5-디일, 1,4-페닐렌, 수소가 플루오르로 치환되어 있을 수도 있는 1,4-페닐렌, 또는 탄소수 1∼10의 알킬렌이며, 알킬렌 중의 서로 인접하지 않은 임의의 메틸렌은 -O- 또는 -CH=CH-로 치환되어 있을 수도 있고, 임의의 수소는 플루오르로 치환되어 있을 수도 있고,
n=4일 때, 식(5) 중의 R3은 하기 식(8)으로 표시되는 기이다.
Figure 112009056035305-pct00011
식(8) 중, R4, R5, R6, R7은, 각각 독립적으로, 단일 결합, 트랜스-1,4-시클로헥실렌, 1,3-디옥산-2,5-디일, 1,4-페닐렌, 수소가 플루오르로 치환되어 있을 수도 있는 1,4-페닐렌, 또는 탄소수 1∼10의 알킬렌이며, 알킬렌 중의 서로 인접하지 않은 임의의 메틸렌은 -O- 또는 -CH=CH-로 치환되어 있을 수도 있고, 임의의 수소는 플루오르로 치환되어 있을 수도 있다.
[18] n이 2인, 상기 [17]에 기재된 잉크젯용 잉크.
[19] n이 2이며, 식(5) 중의 R3이, 탄소수 2∼15의 알킬렌{알킬렌 중의 서로 인접하지 않은 임의의 메틸렌은 -O- 또는 -CH=CH-로 치환되어 있을 수도 있고, 임의의 수소는 플루오르로 치환되어 있을 수도 있음}, -(R)a-C6H4-R5-(여기서, a는 0 또는 1의 정수, R 및 R5는 각각 독립적으로, 탄소수 1∼4의 알킬렌임)으로 표시되는 기, -C6H4-T-C6H4-, -C6H4-T-C6H4-T-C6H4- 또는 -C6H4-T'-C6H4-T-C6H4-T'-C6H4-{단, T는 단일 결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -CO-, -O-, -OC6H4C(CH3)2C6H4O-, -S- 또는 -SO2-이며, T'는 -CH2- 또는 -O-임}으로 표시되는 기인, 상기 [17]에 기재된 잉크젯용 잉크.
[20] 식(5) 중의 R1 및 R2가 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1∼6의 알킬이며,
n이 2이며, 식(5) 중의 R3이 탄소수 2∼15의 알킬렌{알킬렌 중의 서로 인접하지 않은 임의의 메틸렌은 -O- 또는 -CH=CH-로 치환되어 있을 수도 있고, 임의의 수소는 플루오르로 치환되어 있을 수도 있음}, 식(6-1)으로 표시되는 기, 식(6-2)으로 표시되는 기, 식(6-3)으로 표시되는 기, 식(6-4)으로 표시되는 기 또는 식(6-5)으로 표시되는 기인, 상기 [17]에 기재된 잉크젯용 잉크.
Figure 112009056035305-pct00012
식(6-1) 중, x는 독립적으로 1∼6의 정수이며, y는 1∼70의 정수이며, 식(6-3) 및 식(6-5) 중, R은 -CH2-, -CH2CH2-, -O-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-로 이루어지는 유기기이며, 식(6-5) 중, X는 -CH2-, -O-로 이루어지는 유기기이다.
[21] 식(5) 중의 R1 및 R2가 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1∼6의 알킬이며,
n이 3이며, 식(5) 중의 R3이, 식(7-1-1), 식(7-2-1) 또는 식(7-2-2)으로 표시되는 상기 [17]에 기재된 잉크젯용 잉크.
Figure 112009056035305-pct00013
식(7-1-1) 중, R은 탄소수 1∼10의 알킬 또는 -OH이며,
식(7-2-2) 중, R4, R5, R6은 각각 독립적으로, 1,2-에틸렌, 1,4-부틸렌이다.
[22] 식(5) 중의 R1 및 R2가 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1∼6의 알킬이며,
n이 4이며, 식(5) 중의 R3이, 하기 식(8-1)으로 표시되는 상기 [17]에 기재된 잉크젯용 잉크.
Figure 112009056035305-pct00014
[23] n이 1인 알케닐 치환 나디이미드(C), n이 2인 알케닐 치환 나디이미드(C), n이 3인 알케닐 치환 나디이미드(C), 및 n이 4인 알케닐 치환 나디이미드(C)로부터 선택되는 적어도 2종의 알케닐 치환 나디이미드(C)를 포함하는, 상기 [17]에 기재된 잉크젯용 잉크.
[24] 식(5) 중의 R1 및 R2가 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1∼6의 알킬이며,
식(5) 중의 R3이 탄소수 1∼12의 알킬(n=1), 탄소수 6∼12의 아릴(n=1), -(CH2)p-(n=2, p는 6∼12의 정수임), 식(6-1-1)으로 표시되는 기, 식(6-2)으로 표시되는 기, 식(6-3-1)으로 표시되는 기, 식(6-4)으로 표시되는 기, 식(6-5-1)으로 표시되는 기, 식(7-1-2)으로 표시되는 기, 식(7-1-3)으로 표시되는 기, 식(7-2-1)으로 표시되는 기, 식(7-2-3)으로 표시되는 기, 식(8-1)으로 표시되는 기인 알케닐 치환 나디이미드(C) 중 적어도 2종을 포함하는, 상기 [17]에 기재된 잉크젯용 잉크.
Figure 112009056035305-pct00015
한편, 본 발명의 잉크젯용 잉크는 다음의 것일 수도 있다.
n이 1이며, 식(5) 중의 R3이 탄소수 1∼12의 알킬, 탄소수 5∼8의 시클로알킬, 탄소수 6∼12의 아릴, 벤질, -{(CqH2q)Ot(CrH2rO)uCsH2s +1}(여기서, q, r, s는 각각 독립적으로 선택된 2∼6의 정수, t는 0 또는 1의 정수 및 u는 1∼30의 정수임)으로 표시되는 폴리옥시알킬렌알킬, -(R)a-C6H4-R4(여기서, a는 0 또는 1의 정수, R은 탄소수 1∼4의 알킬렌, R4는 수소 또는 탄소수 1∼4의 알킬을 각각 나타냄)으로 표시되는 기, 또는 -C6H4-T-C6H5(여기서, T는 -CH2-, -C(CH3)2-, -CO-, -S- 또는 SO2-임)으로 표시되는 기인 알케닐 치환 나디이미드(C) 중 적어도 1종과,
n이 2인 알케닐 치환 나디이미드(C) 중 적어도 1종을 포함하는, 상기 [17]에 기재된 잉크젯용 잉크.
또한, 본 발명의 잉크젯용 잉크는 다음의 것일 수도 있다.
식(5) 중의 R1 및 R2가 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1∼6의 알킬이며, n이 1이며, 식(5) 중의 R3이 탄소수 1∼12의 알킬, 탄소수 5∼8의 시클로알킬, 탄소수 6∼12의 아릴, 또는 벤질인 알케닐 치환 나디이미드(C) 중 적어도 1종과,
n이 2인 알케닐 치환 나디이미드(C) 중 적어도 1종을 포함하는, 상기 [17]에 기재된 잉크젯용 잉크.
또한, 본 발명의 잉크젯용 잉크는 다음의 것일 수도 있다.
식(5) 중의 R1 및 R2가 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1∼6의 알킬이며, n이 1이며, 식(5) 중의 R3이 탄소수 1∼12의 알킬 또는 탄소수 6∼12의 아릴인 알케닐 치환 나디이미드(C) 중 적어도 1종과,
식(5) 중의 R1 및 R2가 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1∼6의 알킬이며, n이 2이며, 식(5) 중의 R3이 -(CH2)6-, 상기 식(6-3-1)으로 표시되는 기 또는 상기 식(6-4)으로 표시되는 기인 알케닐 치환 나디이미드(C) 중 적어도 1종을 포함하는, 상기 [17]에 기재된 잉크젯용 잉크.
[25] 용매(D)를 추가로 포함하는, 상기 [1]∼[24] 중 어느 하나에 기재된 잉크젯용 잉크.
[26] 용매(D)가, 락트산 또는 락트산 에틸, 에탄올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 글리세린, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노 부틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 시클로헥사논 및 γ-부티로락톤으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상인, 상기 [25]에 기재된 잉크젯용 잉크.
[27] 잉크젯용 잉크 100중량부에 대하여, 상기 실리콘 화합물(A) 및 상기 실리콘 화합물(A')의 합계 함유량이 1∼99중량부인, 상기 [1]∼[26] 중 어느 하나에 기재된 잉크젯용 잉크.
[28] 잉크젯용 잉크 100중량부에 대하여, 상기 실리콘 화합물(A) 및 상기 실리콘 화합물(A')의 합계 함유량이 10∼80중량부인, 상기 [1]∼[26] 중 어느 하나에 기재된 잉크젯용 잉크.
[29] 잉크젯용 잉크 100중량부에 대하여, 상기 실리콘 화합물(A) 및 상기 실리콘 화합물(A')의 합계 함유량이 22∼70중량부인, 상기 [1]∼[26] 중 어느 하나에 기재된 잉크젯용 잉크.
[30] 상기 [1]∼[29] 중 어느 하나에 기재된 잉크젯용 잉크를 잉크젯 도포 방법에 따라 도포하여 도막을 형성한 후, 상기 도막을 경화 처리하여 폴리이미드막을 형성하여 얻어지는 폴리이미드막 또는 패턴형 폴리이미드막.
[31] 상기 [1]∼[29] 중 어느 하나에 기재된 잉크젯용 잉크를 잉크젯 도포 방법에 따라 도포하여 도막을 형성하는 공정, 및 상기 도막을 경화 처리하여 폴리이미드막을 형성하는 공정을 포함하는 폴리이미드막 또는 패턴형 폴리이미드막의 형성 방법.
[32] 상기 [31]에 기재된 방법으로 기판 상에 형성된 폴리이미드막 또는 패턴형 폴리이미드막을 가지는, 필름 기판.
[33] 상기 [32]에 기재된 필름 기판을 가지는 전자 부품.
발명의 효과
본 발명의 바람직한 태양에 따른 잉크젯용 잉크를 사용하면, 1회의 젯팅으로 비교적 두꺼운 막 두께를 가지는 폴리이미드막을 형성할 수 있다. 또한, 본 발명의 바람직한 태양에 따른 잉크젯용 잉크로 형성된 폴리이미드막은, 예를 들면, 내열성, 전기 절연성이 높고, 전자 부품의 신뢰성 및 수율을 향상시킨다.
도 1은 "TrisANITAEA"의 IR 스펙트럼이다.
도 2는 "TrisANITAEA"의 1H-NMR 스펙트럼이다.
도 3은 "TrisANITrisAM"의 IR 스펙트럼이다.
도 4는 "TrisANITrisAM"의 1H-NMR 스펙트럼이다.
도 5는 "TrisANIPARARO"의 IR 스펙트럼이다.
도 6은 "TrisANIPARARO"의 1H-NMR 스펙트럼이다.
도 7은 "TetrakisANITAM"의 IR 스펙트럼이다.
도 8은 "TetrakisANITAM"의 1H-NMR 스펙트럼이다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
본 발명은, 실리콘 화합물(A) 및/또는 실리콘 화합물(A')을 포함하는 잉크젯용 잉크, 상기 잉크를 사용한 폴리이미드막 형성 방법 등을 제공한다. 그리고, 본 발명의 잉크젯용 잉크는 무색일 수도 있고 유색일 수도 있다.
상기 잉크젯용 잉크는, 적어도 1종의 실리콘 화합물(A) 및/또는 적어도 1종의 실리콘 화합물(A)을 포함하는 잉크젯용 잉크, 추가로 고분자 화합물(B)을 포함하는 잉크젯용 잉크, 추가로 알케닐 치환 나디이미드(C)를 포함하는 잉크젯용 잉크, 추가로 용매(D)를 포함하는 잉크젯용 잉크이다.
실리콘 화합물(A)은, 적어도, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)과 모노아민(a2)을 사용하여 얻을 수 있지만, 예를 들면, 이것들을 반응시켜 얻어지는 생성물(실리콘아미드산(A))일 수도 있고, 예를 들면, 이것들이 염을 형성하고 있는 화합물일 수도 있고, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)과 모노아민(a2)을 사용하여 얻을 수 있는 실리콘 화합물인 한, 전술한 것들에 한정되지 않는다.
또한, 실리콘 화합물(A)에 있어서의 실리콘은, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1) 유래이거나, 모노아민(a2) 유래일 수 있고, 두 가지 모두의 유래일 수도 있다. 이하의 상세한 설명에서는, 모노아민(a2) 유래의 실리콘을 사용하여 실리콘 화합물(A)을 얻지만, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)이 실리콘을 가지는 예로서는, 예를 들면, 일본 특개소61-205285호 공보, 일본 특개평5-271245호 공보 또는 일본 특개평5-320172호 공보 등에 기재된 화합물을 들 수 있다.
또한, 실리콘 화합물(A')은, 적어도, 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')과 디아민(a2')을 사용하여 얻을 수 있지만, 예를 들면, 이것들을 반응시켜 얻어지는 생성물(실리콘아미드산(A'))일 수도 있고, 예를 들면, 이것들이 염을 형성하고 있는 화합물일 수도 있고, 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')과 디아민(a2')을 사용하여 얻을 수 있는 실리콘 화합물인한, 전술한 것들에 한정되지 않는다.
또한, 실리콘 화합물(A')에 있어서의 실리콘은, 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1') 유래이거나, 디아민(a2') 유래일 수도 있고, 두 가지 모두의 유래일 수도 있다. 이하의 상세한 설명에서는, 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1') 유래의 실리콘을 사용하여 실리콘 화합물(A')을 얻지만, 디아민(a2')이 실리콘을 가 지는 예로서는, 예를 들면, 하기 일반식(XV)으로 표시되는 실록산계 디아민 등을 들 수 있다.
1 실리콘아미드산 (A) 및 실리콘아미드산( A' )
본 발명의 잉크젯용 잉크에 포함되는 실리콘아미드산(A)은, 적어도, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)과 모노아민(a2)을 사용하여 이하에 설명하는 제법에 의해 얻을 수 있지만, 상기 제법으로 얻어진 실리콘아미드산에 한정되는 것은 아니다. 실리콘아미드산(A)으로서는, 상기 일반식(3)으로 표시되는 화합물을 들 수 있고, 상기 일반식(4-1), (4-2) 또는 (4-3)으로 표시되는 화합물이 바람직하다.
또한, 본 발명의 잉크젯용 잉크에 포함되는 실리콘아미드산(A')은, 적어도, 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')과 디아민(a2')을 사용하여 이하에 설명하는 제법에 의해 얻을 수 있지만, 상기 제법으로 얻어진 실리콘아미드산에 한정되는 것은 아니다. 실리콘아미드산(A')으로서는, 상기 일반식(3')으로 표시되는 화합물을 들 수 있고, 상기 일반식(4'-1), (4'-2), (4'-3) 또는 (4'-4)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
1.1 실리콘아미드산 (A) 및 실리콘아미드산(A')을 얻기 위한 반응 조건
본 발명에서 사용할 수 있는 실리콘아미드산(A)은, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1) 1몰에 대하여, 0.5∼8.0몰의 모노아민(a2)을 반응시켜 얻어지는 것이 바람직하다. 또한, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1) 1몰에 대하여, 1.0∼4.0몰의 모노아민(a2)을 반응시켜 얻어지는 것이 보다 바람직하다. 보다 바람직하게는, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1) 1몰에 대하여, 1.5∼2.5몰의 모노아민(a2)을 반응시켜 얻어지는 것이다.
또한, 본 발명에서 사용할 수 있는 실리콘아미드산(A')은, 1몰의 디아민(a2')에 대하여, 0.5∼8.0몰의 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')을 반응시켜 얻어지는 것이 바람직하다. 또한, 1몰의 디아민(a2')에 대하여, 1.0∼4.0몰의 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')을 반응시켜 얻어지는 것이 보다 바람직하다. 보다 바람직하게는, 1몰의 디아민(a2')에 대하여, 1.5∼2.5몰의 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')을 반응시켜 얻어지는 것이다.
1.1(1) 반응 용매
본 발명의 실리콘아미드산(A) 및 (A')을 얻기 위해 사용되는 용매는, 상기 화합물을 합성할 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 시클로헥사논, γ-부티로락톤, N-메틸-2-피롤리돈, 및 N,N-디메틸아세트아미드 등을 들 수 있다.
이것들 중에서도 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 3-메톡시프로피온산메틸, 시클로헥사논, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르 및 γ-부티로락톤을 사용하면, 잉크젯 헤드에 대한 손상이 적은 잉크로 만들 수 있으므로 바람직하다.
이러한 반응 용매는 단독으로도, 2종 이상의 혼합 용매로서도 사용할 수 있다. 또한, 상기 반응 용매 이외에 다른 용매를 혼합하여 사용할 수도 있다.
반응 용매는, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)과 모노아민(a2)과의 합계 100중량부에 대하여 100중량부 이상 사용하거나, 또는 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')과 디아민(a2')과의 합계 100중량부에 대하여 100중량부 이상 사용하면, 반응이 원활하게 진행되므로 바람직하다. 반응은 0℃∼100℃, 바람직하게는 8℃∼70℃에서, 0.2∼20시간(바람직하게는 2시간∼10시간) 동안 반응시키는 것이 바람직하다.
1.1(2) 반응계로의 첨가 순서
또한, 반응 원료의 반응계로의 첨가 순서는 특별히 한정되지 않는다. 즉, 실리콘아미드산(A)에 대하여는 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)과 모노아민(a2)을 동시에 반응 용매에 가하고, 모노아민(a2)을 반응 용매 중에 용해시킨 후에 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)을 첨가하는 방법, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)에 모노아민(a2)을 첨가하는 방법, 등 어느 방법이나 사용할 수 있다.
또한, 실리콘아미드산(A')에 대하여는 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')과 디아민(a2')을 동시에 반응 용매에 가하고, 디아민(a2')을 반응 용매 중에 용해시킨 후에 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')을 첨가하는 방법, 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')에 디아민(a2')을 첨가하는 방법, 등 어느 방법이나 사용할 수 있다.
1.2 실리콘아미드산 (A) 및 실리콘아미드산(A')의 우위성
실리콘아미드산(A)은, 에폭시 수지, 페놀 수지와 병용하면 실란 커플링제로서 작용하여, 금속과 반응 또는 착체를 형성하기 때문에 막의 밀착성이 높아지고 납땜 크랙 내성이 향상되는 것으로 알려져 있다. 또한, 실리콘아미드산(A')에 대하여는, 에폭시 수지, 페놀 수지와 병용하면 실란 커플링제로서 작용하여, 금속과 반응 또는 착체를 형성하기 때문에 막의 밀착성이 높아지고 납땜 크랙 내성이 향상되는 것으로 예측된다.
또한, 본 발명자들이 연구 검토한 결과, 실리콘아미드산(A)은 가열에 의해 가수분해, 탈수축합되어 이미드 결합을 가지는 고체 생성물(폴리이미드)로 될 수 있는 열경화성 화합물이라는 것을 발견하였다. 또한, 실리콘아미드산(A')에 있어서도 가열에 의해 가수분해, 탈수축합되어 이미드 결합을 가지는 고체 생성물(폴리이미드)로 될 수 있는 열강화성 화합물이라는 것을 발견하였다.
실리콘 화합물의 3차원 가교에 의해 막을 얻을 수 있으므로, 종래의 선형 폴리이미드보다 가공이 용이하다. 또한, 양호한 내열성을 나타내고, 경화 시, 보이드나 크랙의 발생이 적기 때문에, 성형 재료나 적층 재료의 매트릭스 수지로서 우수한 특성을 가지고 있다.
1.3 실리콘아미드산 (A) 및 ( A' )을 얻기 위한 각 성분의 설명
이하에, 실리콘아미드산(A)을 얻기 위해 사용할 수 있는, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)과 모노아민(a2)을 설명한다. 또한, 실리콘아미드산(A')을 얻기 위해 사용할 수 있는, 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')과 디아민(a2') 을 설명한다.
1.3(1) 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물( a1 )
본 발명에서 사용되는 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)로서는, 상기 일반식(1)으로 표시되는 테트라카르복시산 2무수물을 들 수 있다.
본 발명에서 사용되는 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)의 구체예로서는, 스티렌-무수 말레산 공중합체, 메타크릴산메틸-무수 말레산 공중합체 등의 무수물기를 가지는 라디칼 중합성 모노머와 다른 라디칼 중합성 모노머와의 공중합체나 테트라카르복시산 2무수물 등을 들 수 있다. 테트라카르복시산 2무수물로서는, 예를 들면 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르복시산 2무수물, 2,3,3',4'-벤조페논테트라카르복시산 2무수물, 2,2',3,3'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무수물, 2,3,3',4'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무수물, 2,2',3,3'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물, 2,3,3',4'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물, 에틸렌글리콜비스(안하이드로트리멜리테이트), 에탄테트라카르복시산 2무수물, 4-(2,5-디옥소테트라하이드로퓨란-3-일)-1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌-1,2-디카르복시산 무수물, 5-(2,5-디옥소테트라하이드로퓨릴)-3-메틸-3-시클로헥센-1,2-디카르복시산 무수물을 들 수 있어 구체적으로는, 하기 식(b1-1)∼(b1-73)으로 표시되는 화합물 등의 테트라카르복시산 2무수물을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00016
Figure 112009056035305-pct00017
Figure 112009056035305-pct00018
Figure 112009056035305-pct00019
Figure 112009056035305-pct00020
Figure 112009056035305-pct00021
산 무수물을 2개 이상 가지는 화합물의 상기 구체예 중에서도, 스티렌-무수 말레산 공중합체, 식(b1-1), (b1-5), (b1-6), (b1-7), (b1-8), (b1-9), (b1-14), (b1-18), (b1-20)으로 표시되는 화합물이 용매에 대한 용해성이 높아서 고농도의 잉크를 조제할 수 있으므로 바람직하다. 또한, 잉크젯용 잉크의 용도에 따라서는 높은 투명성이 필요하게 되지만, 이와 같은 경우에는, 스티렌-무수 말레산 공중합체, 식(b1-6), (b1-7), (b1-8), (b1-9), (b1-14), (b1-18) 등으로 표시되는 화합물을 사용하는 것이 특히 바람직하다.
또한, 상기에 기재된 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물은 1종 단독으로, 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
1.3(2) 모노아민( a2 )
본 발명에서 사용되는 모노아민(a2)으로서는, 상기 일반식(2)으로 표시되는 아미노실리콘 화합물을 들 수 있다.
본 발명에 있어서 사용되는 모노아민(a2)은, 특별히 한정되지 않지만, 구체예로서는, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란, 4-아미노부틸트리메톡시실란, 4-아미노부틸트리에톡시실란, 4-아미노부틸메틸디에톡시실란, p-아미노페닐트리메톡시실란, p-아미노페닐트리에톡시실란, p-아미노페닐메틸디메톡시실란, p-아미노페닐메틸디에톡시실란, m-아미노페닐트리메톡시실란, m-아미노페닐트리에톡시실란 및 m-아미노페닐메틸디에톡시실란 등을 들 수 있다.
이것들 중에서도, 얻어지는 막의 내구성이 우수하다는 점에서, p-아미노페닐트리메톡시실란, p-아미노페닐트리에톡시실란, m-아미노페닐트리메톡시실란, m-아미노페닐트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란 및 3-아미노프로필트리에톡시실란이 바람직하고, 3-아미노프로필트리에톡시실란이 특히 바람직하다.
이러한 모노아민은 1종 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
1.3(3) 산 무수물기를 1개 가지는 화합물( a1' )
본 발명에서 사용되는 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')로서는, 상기 일반식(1')으로 표시되는 카르복시산 무수물을 들 수 있다.
본 발명에 있어서 사용되는 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')은, 특별히 한정되지 않지만, 구체예로서는, 트리메톡시실릴프로필숙신산 무수물, 트리에톡시실릴프로필숙신산 무수물, 메틸디메톡시실릴프로필숙신산 무수물, 메틸디에톡시실릴프로필숙신산 무수물, 트리메톡시실릴부틸숙신산 무수물, 트리에톡시실릴부틸숙신산 무수물, 메틸디에톡시실릴부틸숙신산 무수물, p-(트리메톡시실릴)페닐숙신산 무수물, p-(트리에톡시실릴)페닐숙신산 무수물, p-(메틸디메톡시실릴)페닐숙신산 무수물, p-(메틸디에톡시실릴)페닐숙신산 무수물, m-(트리메톡시실릴)페닐숙신산 무수물, m-(트리에톡시실릴)페닐숙신산 무수물, m-(메틸디에톡시실릴)페닐숙신산 무수물 등을 들 수 있다.
이것들 중에서도, 얻어지는 막의 내구성이 우수하다는 점에서, p-(트리메톡시실릴)페닐숙신산 무수물, p-(트리에톡시실릴)페닐숙신산 무수물, m-(트리메톡시실릴)페닐숙신산 무수물, m-(트리에톡시실릴)페닐숙신산 무수물, 트리메톡시실릴프로필숙신산 무수물 및 트리에톡시실릴프로필숙신산 무수물이 바람직하고, 트리에톡시실릴프로필숙신산 무수물이 특히 바람직하다.
이들 산 무수물기를 1개 가지는 화합물은 1종 단독으로, 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
1.3(4) 디아민( a2' )
본 발명에서 사용되는 디아민(a2')으로서는, 상기 일반식(2')으로 표시되는 디아민을 들 수 있다.
본 발명에 있어서 사용되는 디아민(a2')은 아미노기를 2개 가지고 있으면 특 별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, p-크실렌디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노-1,2-디페닐에탄 4,4'-디아미노-1,3-디페닐프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)프로판, 비스(4-아미노-3-메틸페닐)메탄, 1,2-비스-(4-아미노-3-메틸페닐)에탄, 비스(4-아미노-2-메틸페닐)메탄, 1,2-비스-(4-아미노-2-메틸페닐)에탄, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 4,4'-디아미노디페닐설파이드, 4,4'-디아미노벤조페논, 4,4'-디아미노디페닐-2,2'-프로판, 1,4-디아미노시클로헥산, 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄, 1,4-비스[(4-아미노페닐)메틸]벤젠, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]플루오로프로판, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]비페닐 1,3-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]프로판, 1,6-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]헥산, 5-페닐메틸-1,3-디아미노벤젠, 5-[4-(4-알킬시클로헥실)페닐]메틸-1,3-디아미노벤젠, 5-[4-(4-(4-알킬시클로헥실)시클로헥실)페닐]메틸-1,3-디아미노벤젠, 5-[((알킬시클로헥실)에틸시클로헥실)페닐]메틸-1,3-디아미노벤젠, 1,1-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-4-알킬시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]-4-알킬시클로헥산, 1,3-비스(3-아미노프로필)-테트라메틸디실록산을 들 수 있고, 하기 일반식(II)∼(VIII)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00022
(일반식(II) 중,
A1은, -(CH2)m-이며, 여기서 m은 1∼6의 정수이며,
일반식(IV) 및 (VI)∼(VIII) 중,
A1은, 단일 결합, -O-, -S-, -S-S-, -SO2-, -CO-, -CONH-, -NHCO-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -(CH2)m-, -O-(CH2)m-O-, -S-(CH2)m-S-이며, 여기서 m은 1∼6의 정수이며,
A2는, 단일 결합, -O-, -S-, -CO-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 탄소수 1∼3의 알킬렌이며,
시클로헥산환 또는 벤젠환에 결합되어 있는 수소는, -F, -CH3로 치환되어 있을 수도 있음).
일반식(II)으로 표시되는 디아민으로서는, 예를 들면 하기 식(II-1) ∼(II-3)으로 표시되는 디아민을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00023
일반식(III)으로 표시되는 디아민으로서는, 예를 들면 하기 식(III-1) 및 (III-2)으로 표시되는 디아민을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00024
일반식(IV)으로 표시되는 디아민으로서는, 예를 들면 하기 식(IV-1)∼(IV-3)으로 표시되는 디아민을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00025
일반식(V)으로 표시되는 디아민으로서는, 예를 들면 하기 식(V-1)∼(V-5)으 로 표시되는 디아민을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00026
일반식(VI)으로 표시되는 디아민으로서는, 예를 들면 하기 식(VI-1)∼(VI-30)으로 표시되는 디아민을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00027
Figure 112009056035305-pct00028
Figure 112009056035305-pct00029
Figure 112009056035305-pct00030
일반식(VII)으로 표시되는 디아민으로서는, 예를 들면 하기 식(VII-1)∼(VII-6)으로 표시되는 디아민을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00031
일반식(VIII)으로 표시되는 디아민으로서는, 예를 들면 하기 식(VIII-1)∼(VIII-11)으로 표시되는 디아민을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00032
일반식(II)∼(VIII)으로 표시되는 디아민(a2')의 상기 구체예 중에서도, 보다 바람직하게는, 식(V-1)∼(V-5), 식(VI-1)∼(VI-12), 식(VI-26), 식(VI-27), 식(VII-1), 식(VII-2), 식(VII-6), 식(VIII-1)∼(VIII-5)으로 표시되는 디아민을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 식(V-6), 식(V-7), 식(VI-1)∼(VI-12)으로 표시되 는 디아민을 들 수 있다.
본 발명에 있어서 사용되는 디아민(a2')으로서는, 또한 하기 일반식(IX)으로 표시되는 디아민을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00033
(일반식(IX) 중,
A3은, 단일 결합, -O-, -COO-, -OCO-, -CO-, -CONH- 또는 -(CH2)m-(식에서, m은 1∼6의 정수임)이며,
R6은, 스테로이드 골격을 가지는 기, 하기 일반식(X)으로 표시되는 기, 또는 벤젠환에 결합되어 있는 2개의 아미노기의 위치 관계가 파라 위치일 때에는 탄소수 1∼30의 알킬, 또는 상기 위치 관계가 메타 위치일 때에는 탄소수 1∼30의 알킬 또는 페닐이며,
상기 알킬에 있어서는, 임의의 -CH2-가 -CF2-, -CHF-, -O-, -CH=CH- 또는 -C≡C-로 치환되어 있을 수도 있고, -CH3이 -CH2F, -CHF2 또는 -CF3로 치환되어 있을 수도 있고
상기 페닐의 환 형성 탄소에 결합되어 있는 수소는, -F, -CH3, -OCH3, -OCH2F, -OCHF2 또는 -OCF3로 치환되어 있을 수도 있음).
(일반식(X) 중,
A4 및 A5는 각각 독립적으로, 단일 결합, -O-, -COO-, -OCO-, -CONH-, -CH=CH- 또는 탄소수 1∼12의 알킬렌이며,
R7 및 R8은 각각 독립적으로, -F 또는 -CH3이며,
환 S는 1,4-페닐렌, 1,4-시클로헥실렌, 1,3-디옥산-2,5-디일, 피리미딘-2,5-디일, 피리딘-2,5-디일, 나프탈렌-1,5-디일, 나프탈렌-2,7-디일 또는 안트라센 9,10-디일이며,
R9는 -H, -F, 탄소수 1∼30의 알킬, 탄소수 1∼30의 플루오르 치환 알킬, 탄소수 1∼30의 알콕시, -CN, -OCH2F, -OCHF2 또는 -OCF3이며,
a 및 b는 각각 독립적으로 0∼4의 정수를 나타내고,
c, d 및 e는 각각 독립적으로 0∼3의 정수를 나타내고, c가 2 또는 3일 때 복수 개의 환 S는 동일한 기, 또는 상이한 기일 수 있고,
f 및 g는 각각 독립적으로 0∼2의 정수를 나타내고, 여기서 c+d+e≥1임).
일반식(IX)에 있어서, 2개의 아미노기는 페닐환 탄소에 결합되어 있지만, 2 개의 아미노기의 결합 위치 관계는, 메타 위치 또는 파라 위치인 것이 바람직하다. 또한, 2개의 아미노기는 각각, "R6-A3-"의 결합 위치를 1 위치로 했을 때 3 위치와 5 위치, 또는 2 위치와 5 위치에 결합되어 있는 것이 바람직하다.
일반식(IX)으로 표시되는 디아민으로서는, 예를 들면 하기 일반식(IX-1)∼(IX-11)으로 표시되는 디아민을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00035
Figure 112009056035305-pct00036
상기 일반식(IX-1, IX-2, IX-7) 및 (IX-8) 중, R18은 수소, 또는 탄소수 1∼30의 유기기이지만, 이것들 중에서도 탄소수 3∼12의 알킬 또는 탄소수 3∼12의 알콕시가 바람직하고, 탄소수 5∼12의 알킬 또는 탄소수 5∼12의 알콕시가 보다 바람직하다. 또한, 상기 일반식(IX-3)∼(IX-6) 및 (IX-9)∼(IX-11) 중, R19는 수소, 또는 탄소수 1∼30의 유기기이지만, 이것들 중에서도 탄소수 1∼10의 알킬 또는 탄소수 1∼10의 알콕시가 바람직하고, 탄소수 3∼10의 알킬 또는 탄소수 3∼10의 알콕시가 보다 바람직하다.
일반식(IX)으로 표시되는 디아민으로서는, 또한 예를 들면 하기 일반식(IX-12)∼(IX-17)으로 표시되는 디아민을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00037
상기 일반식(IX-12)∼(IX-15)에 있어서 R20은 탄소수 2∼30의 유기기이며, 탄소수 4∼16의 알킬이 바람직하고, 탄소수 6∼16의 알킬이 보다 바람직하다. 일반식(IX-16)과 식(IX-17)에 있어서 R21은 탄소수 2∼30의 유기기이며, 탄소수 6∼20의 알킬이 바람직하고, 탄소수 8∼20의 알킬이 보다 바람직하다.
일반식(IX)으로 표시되는 디아민으로서는, 또한 예를 들면 하기 일반식(IX-18)∼(IX-38)으로 표시되는 디아민을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00038
Figure 112009056035305-pct00039
Figure 112009056035305-pct00040
상기 일반식(IX-18), (IX-19), (IX-22), (IX-24), (IX-25), (IX-28), (IX-30), (IX-31), (IX-36) 및 (IX-37)에 있어서, R22는 수소, 또는 탄소수 1∼30의 유기기이며, 탄소수 1∼12의 알킬, 탄소수 1∼12의 알콕시가 바람직하고, 탄소수 3∼12의 알킬 또는 탄소수 3∼12의 알콕시가 보다 바람직하다. 또한, 상기 일반식(IX-20), (IX-21), (IX-23), (IX-26), (IX-27), (IX-29), (IX-32)∼(IX-35) 및 (IX-38)에 있어서, R23은 -H, -F, 탄소수 1∼12의 알킬, 탄소수 1∼12의 알콕시, -CN, -OCH2F, -OCHF2 또는 -OCF3이며, 탄소수 3∼12의 알킬 또는 탄소수 3∼12의 알 콕시가 보다 바람직하다. 상기 일반식(IX-33)과 (IX-34)에 있어서, A9는 탄소수 1∼12의 알킬렌이다.
일반식(IX)으로 표시되는 디아민으로서는, 또한 예를 들면 하기 식(IX-39)∼(IX-48)으로 표시되는 디아민을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00041
Figure 112009056035305-pct00042
일반식(IX)으로 표시되는 디아민(a2') 중, 일반식(IX-1)∼(IX-11)으로 표시되는 디아민이 바람직하고, 일반식(IX-2), (IX-4), (IX-5) 및 (IX-6)으로 표시되는 디아민이 보다 바람직하다.
본 발명에 있어서 사용되는 디아민(a2')으로서는, 또한 하기 일반식(XI) 및 (XII)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00043
(일반식(XI)과 (XII) 중,
R10, R11은, 각각 독립적으로, -H 또는 탄소수 1∼20의 알킬 또는 알케닐이며,
A6은 각각 독립적으로, 단일 결합, -C(=O)- 또는 -CH2-이며,
R13 및 R14는 각각 독립적으로, -H, 탄소수 1∼20의 알킬 또는 페닐임).
상기 일반식(XI)에 있어서, 2개의 "NH2-Ph-A6-O-"(여기서, Ph는 페닐렌을 나타냄)의 한쪽은 스테로이드핵의 3 위치에 결합하고, 다른 한쪽은 6 위치에 결합되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 2개의 아미노기는 각각, 페닐환 탄소에 결합되어 있고, A6의 결합 위치에 대하여, 메타 위치 또는 파라 위치에 결합되어 있는 것이 바람직하다.
일반식(XI)으로 표시되는 디아민으로서는, 예를 들면 하기 식(XI-1)∼(XI-4)으로 표시되는 디아민을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00044
일반식(XII)에 있어서, 2개의 "NH2-(R14-)Ph-A6-O-"(여기서, Ph는 페닐렌을 나타냄)는, 각각 페닐환 탄소에 결합되어 있지만, 바람직하게는 스테로이드핵이 결합되어 있는 탄소에 대하여 메타 위치 또는 파라 위치의 탄소에 결합되어 있다. 또한, 2개의 아미노기는 각각 페닐환 탄소에 결합되어 있지만, A6에 대하여 메타 위치 또는 파라 위치에 결합되어 있는 것이 바람직하다.
일반식(XII)으로 표시되는 디아민으로서는, 예를 들면 하기 식(XII-1)∼(XII-8)으로 표시되는 디아민을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00045
Figure 112009056035305-pct00046
본 발명에 있어서 사용되는 디아민(a2')으로서는, 또한 하기 일반식(XIII) 및 (XIV)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00047
(일반식(XIII) 중,
R15는 -H 또는 탄소수 1∼20의 알킬이며, 상기 알킬 중 탄소수 2∼20의 알킬의 임의의-CH2-는, -O-, -CH=CH- 또는 -C≡C-로 치환되어도 되고,
A7은 각각 독립적으로 -O- 또는 탄소수 1∼6의 알킬렌이며,
A8은 단일 결합 또는 탄소수 1∼3의 알킬렌이며,
환 T는 1,4-페닐렌 또는 1,4-시클로헥실렌이며,
h는 0 또는 1임).
Figure 112009056035305-pct00048
(일반식(XIV) 중,
R16은 탄소수 6∼22의 알킬이며,
R17은 -H 또는 탄소수 1∼22의 알킬이며,
A7은 각각 독립적으로 -O- 또는 탄소수 1∼6의 알킬렌임).
상기 일반식(XIII)에 있어서, 2개의 아미노기는 각각 페닐환 탄소에 결합되어 있지만, A7에 대하여 메타 위치 또는 파라 위치에 결합되어 있는 것이 바람직하다.
일반식(XIII)으로 표시되는 디아민으로서는, 예를 들면 하기 일반식(XIII-1)∼(XIII-9)으로 표시되는 디아민을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00049
Figure 112009056035305-pct00050
상기 일반식(XIII-1)∼(XIII-3)에 있어서, R24는 -H, 탄소수 1∼20의 알킬이 바람직하고, (XIII-4)∼(XIII-9)에 있어서 R25는 -H, 탄소수 1∼10의 알킬이 보다 바람직하다.
상기 일반식(XIV)에 있어서, 2개의 아미노기는 각각 페닐환 탄소에 결합되어 있지만, A7에 대하여 메타 위치 또는 파라 위치에 결합되어 있는 것이 바람직하다.
일반식(XIV)으로 표시되는 디아민으로서는, 예를 들면 하기 일반식(XIV-1)∼(XIV-3)으로 표시되는 디아민을 들 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00051
상기 일반식(XIV-1)∼(XIV-3)식에서, R26은 탄소수 2∼30의 유기기이며, 이것들 중에서도 탄소수 6∼20의 알킬이 바람직하고, R27은 탄소수 2∼30의 유기기이며, 이것들 중에서도 -H 또는 탄소수 1∼10의 알킬이 보다 바람직하다.
전술한 바와 같이, 본 발명에 있어서 사용되는 디아민(a2')은, 예를 들면, 일반식(II)∼(XIV)으로 표시되는 디아민을 사용할 수 있지만, 이들 디아민 이외의 디아민도 사용할 수 있다. 예를 들면, 나프탈렌 구조를 가지는 나프탈렌계 디아민, 플루오렌 구조를 가지는 플루오렌계 디아민, 또는 실록산 결합을 가지는 실록산계 디아민 등을 단독으로, 또는 다른 디아민과 혼합하여 사용할 수 있다.
실록산계 디아민은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 하기 일반식(XV)으로 표시되는 것이 본 발명에 있어서, 바람직하게 사용될 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00052
(상기 일반식(XV) 중, R3 및 R4는 독립적으로 탄소수 1∼3의 알킬 또는 페닐이며, R5는 독립적으로는 메틸렌, 페닐렌 또는 알킬 치환된 페닐렌이며, x는 독립적으로 1∼6의 정수이며, y는 1∼70의 정수이다. 여기서, 보다 바람직한 y는 1∼15의 정수임).
또한, 바람직하게는, 본 발명에 있어서 사용되는 디아민(a2')으로서 하기 일반식(XVI-1)∼(XVI-8)으로 표시되는 디아민이 사용될 수 있다.
Figure 112009056035305-pct00053
(상기 일반식(XVI-1)∼(XVI-8) 중, R30 및 R31은 독립적으로 탄소수 3∼20의 알킬임).
그리고, 본 발명에서 사용할 수 있는 디아민(a2')은, 본 명세서의 디아민에 한정되지 않고, 본 발명의 목적이 달성되는 범위 내에서 그 밖에도 여러 가지 형태의 디아민을 사용할 수 있다.
또한, 본 발명에서 사용할 수 있는 디아민(a2')은, 1종 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 즉, 2종 이상의 조합으로서는, 상기 디아민끼리, 상기 디아민과 그 이외의 디아민, 또는 상기 디아민 이외의 디아민끼리 사용할 수 있다.
또한, 잉크젯용 잉크의 용도에 따라서는 높은 투명성이 필요해지지만, 그러한 경우에는, 3,3'-디아미노디페닐술폰 및 상기 일반식(XV)에 있어서 y=1∼15의 정수인 디아민을 사용하는 것이 특히 바람직하다.
2. 고분자 화합물(B)
본 발명의 잉크젯용 잉크에 추가로 포함할 수 있는 고분자 화합물(B)은, 폴리아미드산, 가용성 폴리이미드, 폴리아미드, 폴리아미드이미드, 폴리아미드산에스테르, 폴리에스테르, 아크릴산 폴리머, 아크릴레이트 폴리머, 폴리비닐 알코올, 폴리옥시에틸렌 등의 고분자 화합물이지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 바람직하게는 폴리아미드산 또는 가용성 폴리이미드 등의 폴리이미드계 고분자 화합물이며, 예를 들면, 일본 특허 출원번호 2006-235336호에 기재되어 있는, 폴리아미드산, 또는 그의 이미드화 중합체를 바람직하게 들 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 폴리아미드산은, 적어도, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(b1)과 디아민(b2)과 모노아민(b3)을 사용하여 얻을 수 있지만, 상기 제법으로 얻어진 폴리아미드산에 한정되는 것은 아니다.
이하에서, 고분자 화합물(B)을 얻기 위해 사용할 수 있는, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(b1)과 디아민(b2)과 모노아민(b3)을 설명한다.
2.1 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물( b1 )
본 발명에서 사용되는 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(b1)의 구체예로서는, 전술한 실리콘아미드산(A)을 얻기 위해 사용할 수 있는, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)과 동일한 것을 사용할 수 있다.
산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(b1)은, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)과 동일한 것일 수도 있고, 상이한 것일 수도 있다. 또한, 상기에 기재된 산 무수물기를 가지는 화합물은 1종 단독으로, 또는 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.
2.2 디아민( b2 )
본 발명에서 사용되는 디아민(b2)의 구체예로서는, 전술한 실리콘아미드산(A')을 얻기 위해 사용할 수 있는 디아민(a2')과 동일한 것을 사용할 수 있다.
디아민(b2)은 디아민(a2')과 동일한 것일 수도 있고, 상이한 것일 수도 있다. 또한, 상기에 기재된 디아민은 1종 단독으로, 또는 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.
2.3 모노아민( b3 )
본 발명에서 사용되는 모노아민(b3)의 구체예로서는, 전술한 실리콘아미드 산(A)을 얻기 위해 사용할 수 있는, 모노아민(a2)과 동일한 것을 사용할 수 있다.
모노아민(b3)은, 모노아민(a2)과 동일한 것일 수도 있고, 상이한 것일 수도 있다. 또한, 상기에 기재된 모노아민은 1종 단독으로도, 또는 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.
2.4 폴리아미드산의 반응 조건
본 발명에서 사용할 수 있는 폴리아미드산은, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(b1) 1몰에 대하여, 0.05∼0.8몰의 디아민(b2), 0.4∼1.9몰의 모노아민(b3)을 반응시켜 얻어지는 것이 바람직하다. 또한, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(b1) 1몰에 대하여, 0.1∼0.6몰의 디아민(b2), 0.8∼1.8몰의 모노아민(b3)을 반응시켜 얻어지는 것이 보다 바람직하다. 보다 바람직하게는, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(b1) 1몰에 대하여, 0.15∼0.35몰의 디아민(b2), 1.3∼1.7몰의 모노아민(b3)을 반응시켜 얻어지는 것이다.
2.4(1) 반응 용매
본 발명에서 사용할 수 있는 폴리아미드산을 얻기 위해 사용되는 용매는, 전술한 실리콘아미드산(A) 또는 (A')을 얻기 위해 사용할 수 있는 용매와 동일한 것을 사용할 수 있다. 반응 용매는 단독으로, 또는 2종 이상의 혼합 용매로서 사용할 수 있다. 또한, 상기 반응 용매 이외에 다른 용매를 혼합하여 사용할 수도 있다.
반응 용매는, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(b1), 디아민(b2)과 모노아민(b3)과의 합계 100중량부에 대하여 100중량부 이상 사용하면, 반응이 원활하 게 진행되므로 바람직하다. 반응은 0℃∼100℃(바람직하게는, 8℃∼70℃)에서 0.2∼20시간(바람직하게는, 2시간∼10시간) 반응시키는 것이 바람직하다.
2.4(2) 반응계로의 첨가 순서
또한, 반응 원료의 반응계로의 첨가 순서로 특별히 한정되지 않는다. 즉, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(b1)과 디아민(b2)과 모노아민(b3)을 동시에 반응 용매에 가하는 방법, 디아민(b2)과 모노아민(b3)을 반응 용매 중에 용해시킨 후에 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(b1)을 첨가하는 방법, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(b1)과 모노아민(b3)을 미리 반응시킨 후에 디아민(b2)을 첨가하는 방법, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(b1)과 디아민(b2)을 미리 반응시켜 공중합체를 합성한 후에, 그 공중합체에 모노아민(b3)을 첨가하는 방법, 등 어느 방법이든 사용할 수 있다.
2.5 고분자 화합물(B)의 중량 평균 분자량
중량 평균 분자량이1,000∼20,000인 고분자 화합물(B)이 특히 용매에 대한 용해성이 우수하므로 잉크젯용 잉크로서 바람직하다. 본 발명에 있어서, 고분자 화합물(B)의 용매에 대한 "용해성"을 더욱 향상시키는 위해서는, 그것의 중량 평균 분자량은 1,000∼10,000인 것이 바람직하고, 1,000∼7,500인 것이 보다 바람직하고, 1,000∼5,000인 것이 더욱 바람직하고, 1,000∼3,500인 것이 특히 바람직하다.
1,000 이상의 중량 평균 분자량을 가지는 고분자 화합물(B)은, 가열 처리에 의해 증발되지 않고, 화학적 및 기계적으로 안정적이고, 20,000 이하의 중량 평균 분자량을 가지는 고분자 화합물(B)은, 용매에 대한 용해성을 향상시킬 수 있으므 로, 얻어지는 도막의 막 두께를 증대시키는 것이 가능하여, 잉크젯용 잉크로서 바람직하게 사용할 수 있기 때문이다.
고분자 화합물(B)의 중량 평균 분자량은 겔 침투 크로마트그라피(GPC)법에 의해 측정할 수 있다. 구체적으로는, 얻어진 고분자 화합물(B)을 테트라하이드로퓨란(THF) 등으로 농도가 약 1중량%로 되도록 희석하고, 도소가부시키가이야 제조의 컬럼 G4000HXL, G3000HXL, G2500HXL 및 G2000HXL을 사용하고, THF를 전개제로 하여 겔 침투 크로마트그라피(GPC)법에 의해 측정하고, 폴리스티렌 환산함으로써 구할 수 있다.
3 알케닐 치환 나디이미드 화합물(C)
본 발명의 잉크젯용 잉크에 포함되는 알케닐 치환 나디이미드 화합물(C)은, 분자 내에 적어도 1개의 알케닐 치환 나디이미드 구조를 가지는 화합물이며, 바람직하게는, 모노아민, 디아민, 트리아민 또는 테트라아민과 상기 식(5')으로 표시되는 알케닐 치환 나딕산 무수물을 반응시켜 만들어지는 알케닐 치환 나디이미드이며, 보다 바람직하게는 상기 일반식(5)으로 표시되는 알케닐 치환 나디이미드 화합물을 들 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다.
알케닐 치환 나디이미드 화합물(C)에는, n이 1인 알케닐 치환 나디이미드 화합물(c1: 이하, 단순히 "알케닐 치환 나디이미드"라고 하는 경우가 있음), 및 n이 2인 알케닐 치환 나디이미드 화합물(c2: 이하, 단순히 "비스알케닐 치환 나디이미드"라고 하는 경우가 있음)이 있고, n이 3인 알케닐 치환 나디이미드 화합물(c3: 이하, 단순히 "트리스알케닐 치환 나디이미드"라고 하는 경우가 있음), n이 4인 알 케닐 치환 나디이미드 화합물(c4: 이하, 단순히 "테트라키스알케닐 치환 나디이미드"라고 하는 경우가 있음)이 있다.
3.1 알케닐 치환 나디이미드( c1 )
본 발명에서 사용되는 n이 1인 알케닐 치환 나디이미드 화합물의 구체예로서는, 예를 들면, 이하의 것을 들 수 있다.
아릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
아릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
메탈릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-하이드록시아릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-하이드록시아릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-하이드록시메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-하이드록시메탈릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-메틸-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-메틸-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-메틸메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-메틸메탈릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-(2-에틸헥실)-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
및 이것들의 올리고머 등을 들 수 있다.
또한, N-(2-에틸헥실)-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이 미드,
N-알릴-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-알릴-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-알릴-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-이소프로페닐-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-이소프로페닐-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-이소프로페닐-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-시클로헥실-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-시클로헥실-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-시클로헥실-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-페닐-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
및 이것들의 올리고머 등을 들 수 있다.
또한, N-페닐-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-벤질-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-벤질-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-벤질-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-(2'-하이드록시에틸)-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-(2'-하이드록시에틸)-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-(2'-하이드록시에틸)-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
및 이것들의 올리고머 등을 들 수 있다.
또한, N-(2',2'-디메틸-3'-하이드록시프로필)-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-(2',2'-디메틸-3'-하이드록시프로필)-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-(2',3'-디하이드록시프로필)-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-(2',3'-디하이드록시프로필)-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-(3'-하이드록시-1'-프로페닐)-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-(4'-하이드록시-시클로헥실)-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
및 이것들의 올리고머 등을 들 수 있다.
또한, N-(4'-하이드록시페닐)-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-(4'-하이드록시페닐)-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-(4'-하이드록시페닐)-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-(4'-하이드록시페닐)-메탈릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-(3'-하이드록시페닐)-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-(3'-하이드록시페닐)-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-(p-하이드록시벤질)-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-{2'-(2'-하이드록시에톡시)에틸}-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
및 이것들의 올리고머 등을 들 수 있다.
또한, N-{2'-(2'-하이드록시에톡시)에틸}-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-{2'-(2'-하이드록시에톡시)에틸}-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-{2'-(2'-하이드록시에톡시)에틸}-메탈릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-[2'-{2-(2"-하이드록시에톡시)에톡시}에틸]-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-[2'-{2-(2"-하이드록시에톡시)에톡시}에틸]-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드.
N-[2'-{2-(2"-하이드록시에톡시)에톡시}에틸]-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-{4'-(4'-하이드록시페닐이소프로필리덴)페닐}-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-{4'-(4'-하이드록시페닐이소프로필리덴)페닐}-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-{4'-(4'-하이드록시페닐이소프로필리덴)페닐}-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
및 이것들의 올리고머 등을 들 수 있다.
또한, 이러한 알케닐 치환 나디이미드(c1)는, 단독으로 사용해도 되고, 이것들의 혼합물로서 사용해도 된다.
상기 알케닐 치환 나디이미드(c1)로서 바람직한 것은
N-메틸-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-메틸-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-메틸-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-메틸-메탈릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-(2-에틸헥실)-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드 등을 들 수 있다.
또한, N-(2-에틸헥실)-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-알릴-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-알릴-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-알릴-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-이소프로페닐-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-이소프로페닐-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-이소프로페닐-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-시클로헥실-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-시클로헥실-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-시클로헥실-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-페닐-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드 등을 들 수 있다.
또한, N-페닐-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-벤질-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-벤질-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-벤질-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드 등을 들 수 있다.
알케닐 치환 나디이미드(c1)로서 더욱 바람직한 것은,
N-메틸-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-메틸-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-메틸-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-메틸-메탈릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-(2-에틸헥실)-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드 등을 들 수 있다.
또한, N-(2-에틸헥실)-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-알릴-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-알릴-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-알릴-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-이소프로페닐-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-이소프로페닐-알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드,
N-이소프로페닐-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드 등을 들 수 있다.
3.2 비스 알케닐 치환 나디이미드( c2 )
또한, 본 발명에서 사용되는 n이 2인 알케닐 치환 나디이미드 화합물의 구체예로서는, 예를 들면, 이하의 것을 들 수 있다.
N,N'-에틸렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-에틸렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-에틸렌-비스(메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-트리메틸렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-헥사메틸렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-헥사메틸렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-도데카메틸렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-도데카메틸렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-시클로헥실렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-시클로헥실렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
및 이것들의 올리고머 등을 들 수 있다.
또한, 1,2-비스{3'-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)프로폭시}에탄,
1,2-비스{3'-(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)프로폭시}에탄,
1,2-비스{3'-(메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)프로폭시}에탄,
비스[2'-{3'-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)프로폭시}에틸]에테르,
비스[2'-{3'-(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)프로폭시}에틸]에테르,
1,4-비스{3'-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)프로폭시}부탄,
1,4-비스{3'-(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)프로폭시}부탄,
및 이것들의 올리고머 등을 들 수 있다.
또한, N,N'-p-페닐렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-p-페닐렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-m-페닐렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-m-페닐렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-{(1-메틸)-2,4-페닐렌}-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-p-크실릴렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-p-크실릴렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-m-크실릴렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-m-크실릴렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
및 이것들의 올리고머 등을 들 수 있다.
또한, 2,2-비스[4'-{4'-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페녹시}페닐]프로판,
2,2-비스[4'-{4'-(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페녹시}페닐]프로판,
2,2-비스[4'-{4'-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페녹시}페닐]프로판,
비스{4-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}메탄,
비스{4-(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}메탄,
및 이것들의 올리고머 등을 들 수 있다.
또한, 비스{4-(메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐} 메탄,
비스{4-(메탈릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}메탄,
비스{4-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}에테르,
비스{4-(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}에테르,
비스{4-(메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}에테르,
비스{4-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}술폰,
비스{4-(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}술폰,
및 이것들의 올리고머 등을 들 수 있다.
또한, 비스{4-(메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}술폰,
1,6-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)-3-하이드록시-헥산,
1,12-비스(메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)-3,6-디하이드록시드데칸,
1,3-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)-5-하이드록시-시클로헥산,
1,5-비스{3'-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)프로폭시}-(3-하이드록시-펜탄,
1,4-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)-2-하이드록시-벤젠,
및 이것들의 올리고머 등을 들 수 있다.
또한, 1,4-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)-2,5-디하이드록시-벤젠,
N,N'-p-(2-하이드록시)크실릴렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-p-(2-하이드록시)크실릴렌-비스(알릴메틸시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-m-(2-하이드록시)크실릴렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-m-(2-하이드록시)크실릴렌-비스(메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-p-(2,3-디하이드록시)크실릴렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
및 이것들의 올리고머 등을 들 수 있다.
또한, 2,2-비스[4'-{4'-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)-2'-하이드록시-페녹시}페닐]프로판,
비스{4-(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)-2-하이드록시-페닐}메탄,
비스{3-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)-4-하이드록시-페닐}에테르,
비스{3-(메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)-5-하이드록시-페닐}술폰,
1,1,1-트리{4'-(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)}페녹시메틸프로판,
N,N',N"-트리(에틸렌메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)이소시아누레이트,
및 이것들의 올리고머 등을 들 수 있다.
또한, 비대칭인 알킬렌·페닐렌기를 포함하는 다음과 같은 것일 수도 있다.
Figure 112009056035305-pct00054
또한, 이러한 비스 알케닐 치환 나디이미드(c2)는, 단독으로 사용해도 되고, 이것들의 혼합물로서 사용해도 된다.
상기의 비스알케닐 치환 나디이미드(c2)로서 바람직한 것은,
N,N'-에틸렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-에틸렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-에틸렌-비스(메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-트리메틸렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-헥사메틸렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-헥사메틸렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-도데카메틸렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-도데카메틸렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-시클로헥실렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-시클로헥실렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드) 등을 들 수 있다.
또한, N,N'-p-페닐렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-p-페닐렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-m-페닐렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-m-페닐렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-{(1-메틸)-2,4-페닐렌}-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르 복시이미드),
N,N'-p-크실릴렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-p-크실릴렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-m-크실릴렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-m-크실릴렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
2,2-비스[4'-{4'-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페녹시}페닐]프로판,
2,2-비스[4'-{4'-(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페녹시}페닐]프로판,
2,2-비스[4'-{4'-메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페녹시}페닐]프로판,
비스{4-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}메탄,
비스{4-(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}메탄 등을 들 수 있다.
또한, 비스{4-(메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}메탄,
비스{4-(메탈릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}메탄,
비스{4-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3디카르복시이미드)페닐}에테르,
비스{4-(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}에테르,
비스{4-(메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}에테르,
비스{4-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}술폰,
비스{4-(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}술폰 등을 들 수 있다.
또한, 비스{4-(메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}술폰 등을 들 수 있다.
비스알케닐 치환 나디이미드(c2)로서 더욱 바람직한 것은,
N,N'-에틸렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-에틸렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-에틸렌-비스(메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-트리메틸렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-헥사메틸렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미 드),
N,N'-헥사메틸렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-도데카메틸렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-도데카메틸렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-시클로헥실렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-시클로헥실렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드) 등을 들 수 있다.
또한, N,N'-p-페닐렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-p-페닐렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-m-페닐렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-m-페닐렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-{(1-메틸)-2,4-페닐렌}-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-p-크실릴렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-p-크실릴렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-m-크실릴렌-비스(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드),
N,N'-m-크실릴렌-비스(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드) 등을 들 수 있다.
또한, 2,2-비스[4'-{4'-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페녹시}페닐]프로판,
2,2-비스[4'-{4'-(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페녹시}페닐]프로판,
2,2-비스[4'-{4'-(메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페녹시}페닐]프로판,
비스{4-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}메탄,
비스{4-(알릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}메탄 등을 들 수 있다.
또한, 비스{4-(메탈릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}메탄,
비스{4-(메탈릴메틸비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}메 탄 등을 들 수 있다.
3.3 트리스알케닐 치환 나디이미드( c3 )
본 발명에서 사용되는 n이 3인 트리스알케닐 치환 나디이미드 화합물의 합성은, 트리아민 1.0몰에 대하여, 알케닐 치환 나딕산 무수물을 3.0∼5.0몰 혼합하고, 상온에서, 예를 들면, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌, 메틸 나프탈렌, 테트랄린, 클로로포름, 트리클렌, 테트라클로로에틸렌, 클로로벤젠, 디옥산, 테트라하이드로퓨란, 헥사메틸렌에테르, 아니솔, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 아세토페논, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드 등의 임의의 용매, 또는 2종 이상을 혼합한 용매에 용해시켜, 용액으로 만들고, 0.5∼30시간 동안 교반을 유지하여 반응시킬 수 있다. 상기 용매를 20∼80℃에서 감압 건조 제거하여 아미드산을 얻을 수 있다. 상기 아미드산을 상기 용매 중에서 0.5∼30시간, 용매의 비점 근방에서 환류시키거나 또는 화합물 자체를 160℃∼200℃로 가열하고, 탈수 폐환시킨 후, 용매를 감압 건조시켜 목적으로 하는 화합물을 얻을 수 있다. 목적으로 하는 화합물인 것은 NMR, IR에 의해 확인할 수 있다.
본 발명에서 사용되는 n이 3인 트리스알케닐 치환 나디이미드 화합물의 구체예로서는, 예를 들면, 이하의 것을 들 수 있다.
트리스{4-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)트리에틸}아민(TrisANITAEA)
트리스{4-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)트리페닐}메탄(TrisANITrisAM)
트리스{4-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}하이드록시메탄(TrisANIPARARO)
"TrisANITAEA"의 IR 및 1H-NMR 스펙트럼(400MHz)을, 각각 도 1 및 도 2에 나타낸다.
IR 스펙트럼에서는, 알켄 C-H 신축: 3070, 2966cm-1; 방향족 C-H 신축: 2966cm-1; 알칸 C-H 신축: 2938cm-1; 이미드 C=O 신축: 1762, 1690cm-1; C=C 신축: 1640cm-1; -CH2-N-메틸렌 가위질(scissoring) 진동: 1448cm-1; 이미드 C-N 신축: 1382cm-1 등이 귀속된다.
Figure 112009056035305-pct00055
1H-NMR 스펙트럼에서는, a, b, e, f, g, i, l 프로톤(30H): 2.50∼3.49ppm의 피크; j, k, m, n 프로톤(12H): 5.01∼6.27ppm의 피크; h 프로톤(6H): 1.25∼1.76ppm의 피크 등이 귀속된다.
"TrisANITrisAM"의 IR 및 1H-NMR 스펙트럼(400MHz)을, 각각 도 3 및 도 4에 나타낸다.
IR 스펙트럼에서는, 알켄 C-H 신축: 3056, 2970cm-1; 방향족 C-H 신축: 2970cm-1; 알칸 C-H 신축: 2936cm-1; 이미드 C=O 신축: 1772, 1706cm-1; C=C 신축: 1638cm-1; 이미드 C-N 신축: 1402cm-1 등이 귀속된다.
Figure 112009056035305-pct00056
1H-NMR 스펙트럼에서는, a∼d 프로톤(12H): 6.50∼7.59ppm의 피크; e, f, g, i, l 프로톤(18H): 2.25∼3.73ppm의 피크; h 프로톤(6H): 1.25∼1.81ppm; j, k, m, n 프로톤(12H): 5.01∼5.14, 5.74∼6.34ppm의 피크; o 프로톤(1H): 5.30∼5.60ppm 의 피크 등이 귀속된다.
"TrisANIPARARO"의 IR 및 1H-NMR 스펙트럼(400MHz)을, 각각 도 5 및 도 6에 나타낸다.
IR 스펙트럼에서는, 알켄 C-H 신축: 3056, 2972cm-1;방향족 C-H 신축: 2972cm-1; 알칸 C-H 신축: 2936cm-1; 이미드 C=O 신축: 1776, 1706cm-1; C=C 신축: 1636cm-1; 이미드 C-N 신축: 1402cm-1 등이 귀속된다.
Figure 112009056035305-pct00057
1H-NMR 스펙트럼에서는, a∼d 프로톤(12H): 6.98∼7.53ppm의 피크; e, f, g, i, l 프로톤(18H): 2.27∼3.60ppm의 피크; h 프로톤(6H): 1.47∼1.81ppm; j, k, m, n 프로톤(12H): 5.01∼6.24ppm의 피크 등이 귀속된다.
3.4 테트라키스 알케닐 치환 나디이미드( c4 )
본 발명에서 사용되는 n이 4인 테트라키스 알케닐 치환 나디이미드 화합물의 합성은, 테트라아민 1.0몰에 대하여, 알케닐 치환 나딕산 무수물을 4.0∼6.0몰 혼합하고, 상온에서, 예를 들면, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌, 메틸나프탈렌, 테트랄린, 클로로포름, 트리클렌, 테트라클로로에틸렌, 클로로벤젠, 디옥산, 테트라하이드로퓨란, 헥사메틸렌에테르, 아니솔, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 아세토페논, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드 등의 임의의 용매, 또는 2종 이상을 혼합한 용매에 용해시켜 용액으로 만들고, 0.5∼30시간 동안 교반을 유지하여 반응시킬 수 있다. 상기 용매를 20∼80℃에서 감압 건조 제거하여 아미드산을 얻을 수 있다. 상기 아미드산을 상기 용매 중에서 0.5∼30시간 동안 용매의 비점 근방에서 환류시키거나 또는 화합물 자체를 160℃∼200℃로 가열하고, 탈수 폐환시킨 후, 용매를 감압 건조시켜 목적으로 하는 화합물을 얻을 수 있다. 목적으로 하는 화합물인 것은 NMR, IR에 의해 확인할 수 있다.
본 발명에서 사용되는 n이 4인 테트라키스 알케닐 치환 나디이미드 화합물의 구체예로서는, 예를 들면, 이하의 것을 들 수 있다.
테트라키스{4-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)테트라페닐}메탄(TetrakisANITAM)
"TetrakisANITAM"의 IR 및 1H-NMR 스펙트럼(400MHz)을, 각각 도 7 및 도 8에 나타낸다.
IR 스펙트럼에서는, 알켄 C-H 신축: 3060, 2972cm-1; 방향족 C-H 신축: 2972cm-1; 알칸 C-H 신축: 2936cm-1; 이미드 C=O 신축: 1776, 1706cm-1; C=C 신축: 1638cm-1; 이미드 C-N 신축: 1404cm-1 등이 귀속된다.
Figure 112009056035305-pct00058
1H-NMR 스펙트럼에서는, a∼d 프로톤(16H): 6.80∼7.59ppm의 피크; e, f, g, i, l 프로톤(24H): 2.25∼3.60ppm의 피크; j, k, m, n 프로톤(16H): 5.04∼6.50ppm의 피크; h 프로톤(8H): 1.25∼1.75ppm의 피크 등이 귀속된다.
본 발명의 바람직한 알케닐 치환 나디이미드 화합물(C)은, 부피가 큰 구조를 가진 저분자량의 이미드 모노머이므로, 대부분의 유기 용매에 가용이며, 용액 상태로 장기간 보존해도 결정의 석출이나 겔화가 일어나지 않고 안정적으로 사용할 수 있다. 또한, 가열함으로써 3차원 가교 구조의 폴리이미드를 형성하여, 상기 폴리이미드 경화물은 양호한 내열성, 기계적 특성, 전기적 특성, 내약품성을 나타낸다.
(4) 용매(D)
본 발명의 잉크젯용 잉크는, 예를 들면, 실리콘아미드산(A) 및/또는 (A'), 필요에 따라 고분자 화합물(B), 알케닐 치환 나디이미드 화합물(C)을 용매(D)에 혼합하여 얻을 수 있다. 따라서, 본 발명의 잉크젯용 잉크에 포함되는 용매는, 실리콘아미드산(A) 및/또는 (A'), 필요에 따라 고분자 화합물(B), 알케닐 치환 나디이미드 화합물(C)을 용해할 수 있는 용매이면 특별히 제한되지 않는다. 또한, 단독으로는 실리콘아미드산(A), 실리콘아미드산(A'), 필요에 따라 고분자 화합물(B), 알케닐 치환 나디이미드 화합물(C)을 용해하지 않는 용매라도, 다른 용매와 혼합함으로써, 잉크젯용 잉크에 포함되는 용매(D)로서 사용할 수 있다.
잉크젯용 잉크에 포함되는 용매(D)의 구체예로서는, N-메틸-2-피롤리돈, 디메틸이미다졸리디논, N-메틸카프로락탐, N-메틸프로피온아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디에틸포름아미드, 디에틸아세트아미드, γ-부티로락톤, 락트산 또는 락트산에틸, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 테트랄린, 이소포론, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노 부틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 말론산디에틸, 에탄올, 2-프로판올, 디옥산, 에틸렌글리콜 등을 들 수 있다.
전술한 바와 같이, 본 발명의 잉크젯용 잉크에 포함되는 용매에 대하여 특별 히 제한은 없지만, 잉크젯 인쇄기의 잉크 헤드의 사양에 따라서는, 그 접합 부재나 내재하는 필터 소재가, 사용하는 용매의 종류에 따라 부식이나 팽윤하는 경우가 있다. 혹은, 건조 속도가 빠른 용매에서는 잉크 헤드의 막힘이 일어날 수도 있으므로 용매(D)의 선택은 매우 중요하다.
본 발명자가 연구 검토한 결과, 잉크젯 헤드의 내구성 향상이나 헤드 막힘, 잉크 토출성의 관점에서, 락트산 또는 락트산에틸, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시프로피온산메틸, γ-부티로락톤이 용매(D)로서 특히 바람직하다는 것을 발견하였다.
또한, 잉크젯용 잉크의 도포성에 잉크의 표면 장력이 크게 영향을 주기 때문에, 잉크의 표면 장력을 바람직하게는 20∼45mN/m, 보다 바람직하게는 27∼42mN/m, 더욱 바람직하게는 30∼40mN/m으로 조정한다. 표면 장력이 20∼45mN/m의 범위이면 잉크 토출구에 있어서의 잉크 메니스커스가 안정적으로 되어, 잉크의 토출이 양호해진다.
표면 장력을 20∼45mN/m의 범위로 조정하는 데에는, 용매 선정이 중요하다. 표면 장력이 20∼45mN/m의 범위에 있는 1종의 용매를 사용해도 되지만, 표면 장력이 큰 용매(예를 들면, γ-부티로락톤: 43mN/m) 및 표면 장력이 작은 용매(예를 들면, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르: 24mN/m, 또는 에틸렌글리콜 모노부틸에테르: 32mN/m)를 혼합하여 사용하면 용매 조성으로 표면 장력을 미조정할 수 있으므로 바람직하다.
또한, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디에틸포름아미드, 아세트아미드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 디에틸아세트아미드, N-메틸프로피온아미드, N,N,N',N'-테트라메틸우레아, 2-피롤리돈, N-메틸-2-피롤리돈, ε-카프로락탐, N-메틸카프로락탐, 카르바미드산 에스테르 등의 아미드계의 용매는, 실리콘아미드산(A), (A')나 고분자 화합물(B), 알케닐 치환 나디이미드 화합물(C)의 양용매(良溶媒)이므로 보다 바람직하게 사용할 수 있지만, 그 한편으로는 잉크젯 헤드의 내구성에 어려움이 있어 주의가 필요하다.
본 발명의 잉크젯용 잉크에 포함되는 용매(D)에 있어서, 아미드계 용매는 전혀 포함하지 않거나, 또는 많아도 용매(D)의 전중량에 대하여 20중량% 이하인 것이 바람직하다.
이러한 용매는, 1종만을 사용해도 되고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.
(5) 본 발명의 잉크젯용 잉크에 있어서의 실리콘아미드산 (A), 실리콘아미드산( A' ), 고분자 화합물(B) 및 알케닐 치환 나디이미드 화합물(C)의 농도
본 발명에 있어서 잉크젯용 잉크 중의 실리콘아미드산(A) 및 (A')의 합계의 농도는 특별히 한정되지 않지만 1∼99중량%가 바람직하고, 10∼80중량%가 보다 바람직하고, 22∼70중량%가 더욱 바람직하다. 이러한 농도 범위이면, 1회의 잉크젯팅으로 얻어지는 막의 두께가 최적이 되고, 젯팅 정밀도가 높으므로 바람직하다.
본 발명에 있어서 잉크젯용 잉크 중의 고분자 화합물(B)의 농도는 특별히 한정되지 않지만, 0∼50중량%가 바람직하고, 0∼25중량%가 보다 바람직하다. 이러한 농도 범위이면, 절연막으로서 양호한 특성을 부여할 수 있어 바람직하다.
본 발명에 있어서 잉크젯용 잉크 중의 알케닐 치환 나디이미드 화합물(C)의 농도는 특별히 한정되지 않지만, 0∼50중량%가 바람직하고, 0∼25중량%가 보다 바람직하다. 이러한 농도 범위이면, 절연막으로서 양호한 특성을 부여할 수 있어 바람직하다.
잉크젯용 잉크로서 사용하는 경우, 실리콘아미드산(A) 및/또는 실리콘아미드산(A'), 고분자 화합물(B) 및 알케닐 치환 나디이미드 화합물(C)의 농도는 높을수록 얻어지는 폴리이미드막의 막 두께가 두꺼워지므로 바람직하지만, 한편으로는 점도도 높아지는 경향이 있으므로, 경우에 따라서는 잉크젯 인쇄기로 토출할 수 없게 되는 문제가 생긴다. 본 발명자들이 연구 검토한 결과, 특히 상기의 농도 범위이면 막 두께가 두꺼운 폴리이미드막을 형성할 수 있는 잉크젯용 잉크로서 바람직하게 사용할 수 있다는 것을 발견하였다.
6 본 발명의 잉크젯용 잉크에 첨가되는 첨가제
본 발명의 잉크젯용 잉크는, 실리콘아미드산(A) 및/또는 실리콘아미드산(A'), 필요에 따라 고분자 화합물(B), 알케닐 치환 나디이미드 화합물(C), 필요에 따라 용매(D)를 혼합하여 얻어진다.
또한, 목적으로 하는 특성에 따라서는, 본 발명의 잉크젯용 잉크는, 에폭시 수지, 아크릴 수지, 계면활성제, 대전 방지제, 커플링제, 트리멜리트산 등의 에폭시 경화제, 아미노실리콘 화합물, pH 조정제, 방청제, 방부제, 방미제, 산화 방지제, 환원 방지제, 증발 촉진제, 킬레이트화제, 수용성 폴리머, 안료, 염료 등의 첨 가제를 필요에 따라 선택하여 첨가하고, 이것들을 균일하게 혼합 용해함으로써 얻을 수 있다.
6(1) 에폭시 수지
본 발명의 잉크젯용 잉크는, 에폭시 수지를 추가로 포함할 수도 있다. 본 발명의 잉크젯용 잉크에 포함되는 에폭시 수지는, 옥실란이나 옥세탄을 가진다면 특별히 한정되지 않지만, 옥실란을 2개 이상 가지는 화합물이 바람직하다.
본 발명에 있어서 잉크젯용 잉크 중의 에폭시 수지의 농도는 특별히 한정되지 않지만, 0.1∼20중량%가 바람직하고, 1∼10중량%가 보다 바람직하다. 이 농도 범위이면, 잉크젯용 잉크로 형성된 도막의 내열성, 내약품성, 평탄성이 양호하다.
에폭시 수지로서는, 예를 들면, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 글리시틸에스테르형 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 옥실란을 가지는 모노머의 집합체, 및 옥실란을 가지는 모노머와 다른 모노머와의 공중합체 등을 들 수 있다.
옥실란을 가지는 모노머의 구체예로서는, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실(메타)아크릴레이트, 및 메틸글리시딜(메타)아크릴레이트를 들 수 있다.
또한, 옥실란을 가지는 모노머와 공중합을 행하는 다른 모노머와의 구체예로서는, (메타)아크릴산, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 이소프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, iso-부틸(메타)아크릴레이트, tert-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이 트, 스티렌, 메틸스티렌, 클로로메틸스티렌, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸(메타)아크릴레이트, N-시클로헥실말레이미드 및 N-페닐말레이미드 등을 들 수 있다.
옥실란을 가지는 모노머의 집합체 및 옥실란을 가지는 모노머와 다른 모노머와의 공중합체의 바람직한 구체예로서는, 폴리글리시딜메타크릴레이트, 메틸메타크릴레이트-글리시딜메타크릴레이트 공중합체, 벤질메타크릴레이트-글리시딜메타크릴레이트 공중합체, n-부틸메타크릴레이트-글리시딜메타크릴레이트 공중합체, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트-글리시딜메타크릴레이트 공중합체, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸메타크릴레이트-글리시딜메타크릴레이트 공중합체 및 스티렌-글리시딜메타크릴레이트 공중합체를 들 수 있다. 본 발명의 잉크젯용 잉크가 이들 에폭시 수지를 함유하면, 잉크젯용 잉크로 형성된 도막의 내열성이 양호해지므로 바람직하다.
본 발명의 잉크젯용 잉크에 포함될 수 있는 에폭시 수지의 구체예로서는, 상품명 "에피코트 807", "에피코트 815", "에피코트 825", "에피코트 827", "에피코트 828", "에피코트 190P", "에피코트 191P"(이상, 油化 쉘에폭시(주) 제조), 상품명 "에피코트 1004", "에피코트 1256"(이상, 쟈판에폭시레진(주) 제조), 상품명 "아랄다이트 CY177", 상품명 "아랄다이트 CY184"(니혼치바가이기(주) 제조), 상품명 "셀록사이드 2021P", "셀록사이드 3000", "EHPE-3150"(다이셀化學工業(주) 제조), 상품명 "테크모어 VG3101L"(三井化學(주) 제조), N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-크실렌디아민, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산, N,N,N',N'-테트라글리시딜-4,4'-디아미노디페닐메탄 등을 들 수 있다.
이것들 중에서도, 상품명 "아랄다이트 CY184", 상품명 "셀록사이드 2021P", 상품명 "테크모어 VG3101L", 상품명 "에피코트 828"은, 얻어지는 폴리이미드막의 평탄성이 특히 양호하므로 바람직하다.
에폭시 수지는 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.
6(2) 아크릴 수지
잉크젯용 잉크는, 아크릴 수지를 추가로 포함할 수도 있다. 잉크젯용 잉크에 포함되는 아크릴 수지는, 아크릴기나 메타크릴기를 가지면 특별히 한정되지 않는다.
잉크젯용 잉크 중의 아크릴 수지의 농도는 특별히 한정되지 않지만, 0.1∼20중량%가 바람직하고, 1∼10중량%가 보다 바람직하다. 이 농도 범위이면, 잉크젯용 잉크로 형성된 도막의 내열성, 내약품성, 평탄성이 양호하다.
아크릴 수지로서는, 예를 들면, 히드록실을 가지는 단관능 중합성 모노머, 히드록실을 갖지 않은 단관능 중합성 모노머, 2관능 (메타)아크릴레이트, 및 3관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
히드록실을 가지는 단관능 중합성 모노머의 구체예로서는, 2-하이드록시 에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 또는 1,4-시클로헥산디메탄올모노(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도 형성되는 막이 유연한 점에서, 4-하이드록시부틸아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디메탄올모노아크릴레이트가 특히 바람직하다.
히드록실을 가지고 있지 않은 단관능 중합성 모노머의 구체예로서는, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜(메 타)아크릴레이트, 3-메틸-3-(메타)아크릴옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-(메타)아크릴옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-(메타)아크릴옥시에틸옥세탄, 3-에틸-3-(메타)아크릴옥시에틸옥세탄, p-비닐페닐-3-에틸옥세타-3-일메틸에테르, 2-페닐-3-(메타)아크릴옥시메틸옥세탄, 2-트리플루오로메틸-3-(메타)아크릴옥시메틸옥세탄, 4-트리플루오로메틸-2-(메타)아크릴옥시메틸옥세탄, (메타)아크릴산, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 이소프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, iso-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 스티렌, 메틸스티렌, 클로로메틸스티렌, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸(메타)아크릴레이트, N-시클로헥실말레이미드, N-페닐말레이미드, 비닐톨루엔, (메타)아크릴아미드, 트리시클로[5.2.1.02,6]데카닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트, 글리세롤모노(메타)아크릴레이트, 폴리스티렌 마크로모노머, 폴리메틸메타크릴레이트 마크로모노머, N-아크릴로일모르폴린, 5-테트라하이드로푸르푸릴옥시카르보닐펜틸(메타)아크릴레이트, 라우릴알코올의 에틸렌옥사이드 부가물의 (메타)아크릴레이트, (메타)아크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 계피산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산, ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트, 숙신산 모노[2-(메타)아크릴로일옥시에틸], 말레산 모노[2-(메타)아크릴로일옥시에틸], 또는 시클로헥센-3,4-디카르복시산 모노[2-(메타)아크릴로일옥시에틸] 등을 들 수 있다.
2관능 (메타)아크릴레이트의 구체예로서는, 비스페놀 F 에틸렌옥사이드 변성 디아크릴레이트, 비스페놀 A 에틸렌옥사이드 변성 디아크릴레이트, 이소시아누르산 에틸렌옥사이드 변성 디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디아크릴레이트 모노스테아레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 1,9-노난디올디아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디메탄올디아크릴레이트, 2-n-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올디아크릴레이트, 트리메틸올프로판디아크릴레이트, 또는 디펜타에리트리톨디아크릴레이트 등을 들 수 있다.
3관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트의 구체예로서는, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥시드 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에피클로로히드린 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 글리세롤트리(메타)아크릴레이트, 에피클로로히드린 변성 글리세롤트리(메타)아크릴레이트, 디글리세린테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 알킬 변성 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 알킬 변성 디펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 알킬 변성 디펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 인산 트리(메타)아크릴레이트, 트리스[메타)아크릴옥시에틸]이소시아누레이트, 카프 로락톤 변성 트리스[(메타)아크릴옥시에틸]이소시아누레이트, 또는 우레탄(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
이들 아크릴 수지는 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.
6(3) 계면활성제
잉크젯용 잉크의 도포성을 향상시키고자 할 때에는, 이러한 목적에 따른 계면활성제를 첨가할 수 있다. 본 발명의 잉크젯용 잉크에 첨가되는 계면활성제의 구체예로서는, 상품명 "Byk-300", "Byk-306", "Byk-335", "Byk-310", "Byk-341", "Byk-344", "Byk-370"(빅케미(주) 제조) 등의 실리콘계 계면활성제; 상품명 "Byk-354", "ByK-358", "Byk-361"(빅케미(주) 제조) 등의 아크릴계 계면활성제, 상품명 "DFX-18", "프타젠트 250", "프타젠트 251"(네오스(주) 제조) 등의 플루오르계 계면활성제를 들 수 있다.
이들 계면활성제는, 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.
계면활성제는, 베이스 기판에 대한 젖음성, 레벨링성, 또는 도포성을 향상시키기 위해 사용하는 것이며, 잉크젯용 잉크 100중량부에 대하여 0.01∼1중량부 첨가하여 사용하는 것이 바람직하다.
6(4) 대전 방지제
본 발명의 잉크젯용 잉크에 첨가되는 대전 방지제는, 특별히 한정되지 않고, 공지의 대전 방지제를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 산화주석, 산화주석산화안 티몬 복합 산화물, 산화주석산화인듐 복합 산화물 등의 금속 산화물이나(4)급 암모늄 염 등을 들 수 있다.
이들 대전 방지제는, 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.
대전 방지제는, 대전을 방지하기 위해 사용하는 것이며, 잉크젯용 잉크 100중량부에 대하여 0.01∼1중량부 첨가하여 사용되는 것이 바람직하다.
6(5) 커플링제
본 발명의 잉크젯용 잉크에 첨가되는 커플링제는, 특별히 한정되지 않고, 공지의 커플링제를 사용할 수 있다. 첨가되는 커플링제는 실란 커플링제가 바람직하고, 구체적으로는, 트리알콕시실란 화합물 또는 디알콕시실란 화합물 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 예를 들면, γ-비닐프로필트리메톡시실란, γ-비닐프로필트리에톡시실란, γ-아크릴로일프로필메틸디메톡시실란, γ-아크릴로일프로필트리메톡시실란, γ-아크릴로일프로필메틸디에톡시실란, γ-아크릴로일프로필트리에톡시실란, γ-메타크릴로일프로필메틸디메톡시실란, γ-메타크릴로일프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴로일프로필메틸디에톡시실란, γ-메타크릴로일프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-아미노프로필 메틸 디메톡시실란, γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-아미노에틸-γ-이미노프로필메틸디메톡시실란, N-아미노에틸-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-아미노에틸-γ -아미노프로필트디에톡시실란, N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-페닐-γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-페닐-γ-아미노프로필메틸디에톡시실란, γ-머캅토프로필메틸디메톡시실란, γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-머캅토프로필메틸디에톡시실란, γ-머캅토 프로필트리에톡시실란, γ-이소시아나트프로필메틸디에톡시실란, γ-이소시아나트프로필트리에톡시실란 등이 예시할 수 있다. 이것들 중에서도, γ-비닐프로필트리메톡시실란, γ-아크릴로일프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴로일프로필트리메톡시실란, γ-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다.
이들 커플링제는, 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.
커플링제는, 잉크젯용 잉크 100중량부에 대하여 0.01∼3중량부 첨가하여 사용되는 것이 바람직하다.
6(6) 에폭시 경화제
본 발명의 잉크젯용 잉크에 첨가되는 에폭시 경화제는, 특별히 한정되지 않고, 공지의 에폭시 경화제를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 유기산 디히드라지드 화합물, 이미다졸 및 그 유도체, 디시안디아미드, 방향족 아민, 다가 카르복시산, 다가 카르복시산 무수물 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 디시안디아미드 등의 디시안디아미드류, 아디프산디히드라지드, 1,3-비스(히드라지노카르보에틸)-5-이소프로필히단토인 등의 유기산 디히드라지드, 2,4-디아미노-6-[2'-에틸이미다졸릴(1')]-에틸트리아진, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5- 하이드록시메틸이미다졸 등의 이미다졸 유도체, 무수 프탈산, 무수 트리멜리트산, 1,2,4-시클로헥산 트리카르복실산-1,2-무수물 등의 산 무수물 등을 들 수 있다.
이 중에서도 투명성이 양호한 트리멜리트산, 1,2,4-시클로헥산트리카르복시산-1,2-무수물이 바람직하다.
이들 에폭시 경화제는, 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.
에폭시 경화제는, 잉크젯용 잉크 100중량부에 대하여 0.2∼5중량부 첨가하여 사용되는 것이 바람직하다.
6(7) 아미노실리콘 화합물
본 발명의 잉크젯용 잉크에 있어서 아미노실리콘 화합물을 첨가할 수 있다. 아미노실리콘 화합물로서는, 파라아미노페닐트리메톡시실란, 파라아미노페닐트리에톡시실란, 메타아미노페닐트리메톡시실란, 메타아미노페닐트리에톡시실란, 아미노프로필트리메톡시실란, 아미노프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다.
이들 아미노실리콘 화합물은, 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.
아미노실리콘 화합물은, 기판에 대한 밀착성을 좋게 하기 위해 사용하는 것이며, 잉크젯용 잉크 100중량부에 대하여 0.05∼2중량부 첨가하여 사용되는 것이 바람직하다.
7 잉크젯용 잉크의 점도
본 발명에 있어서 잉크젯용 잉크의 점도는 특별히 한정되지 않지만, 상온에 서 젯팅을 행하는 경우에는, 잉크젯 도포 방법에 의한 젯팅 정밀도가 향상되는 점에서 바람직하게는 1∼50mPa·s(25℃)이며, 보다 바람직하게는 5∼30mPa·s(25℃), 보다 바람직하게는 8∼20mPa·s(25℃)이다.
잉크 헤드를 가열하여 젯팅을 행하는 경우에는, 가열 온도(실리콘아미드산이 경화되지 않는 온도, 바람직하게는 40∼120℃)에서, 1∼50mPa·s, 바람직하게는 5∼30mPa·s, 보다 바람직하게는 8∼20mPa·s이면 된다.
8 폴리이미드막
본 발명의 잉크젯용 잉크를 기판 표면에 잉크젯에 의해 도포하고, 핫 플레이트, 또는 오븐 등으로 가열 처리하여 전체면 또는 소정의 패턴형(라인형 등)의 폴리이미드막을 형성할 수 있다. 또한, 본 발명의 폴리이미드막의 형성은, 가열 처리에 한정되지 않고, UV 처리나 이온 빔, 전자선, 감마선 등의 처리에 의할 수도 있다.
종래, 패턴형의 폴리이미드막을 형성하는 경우에는 포트리소그라 기술을 사용하고 있지만, 포토레지스트, 현상액, 에칭액, 박리액 등의 다종 대량의 약액이 필요하며, 또한 번잡한 공정을 필요로 하는 것이었다. 이에 반하여, 본 발명의 잉크젯용 잉크를 사용하여 형성된 패턴형 폴리이미드막은, 잉크젯 인쇄에 의해 필요한 부분에만 묘화하기 때문에 재료 사용량이 압도적으로 적고, 포토마스크를 사용하지 않으므로 다품종 대량생산이 가능하고, 또한 제조에 필요한 공정수가 적다고 하는 특징을 가진다.
8.1 잉크젯 방법에 의한 잉크젯용 잉크의 도포
잉크젯 도포 방법에는, 잉크의 토출 방법에 따라 여러 가지 타입이 있다. 예를 들면, 압전 소자형, 버블제트(등록상표)형, 연속 분사형, 정전 유도형 등을 들 수 있다. 본 발명에 따른 잉크는, 잉크에 포함되는 각 성분을 적정하게 선택함으로써, 다양한 방법으로 젯팅이 가능하며, 잉크젯용 잉크를 미리 정해진 패턴형으로 도포할 수 있다.
본 발명에 따른 잉크를 사용하여 도포를 행하는 데 더욱 바람직한 토출 방법은 압전 소자형이다. 이 압전 소자형의 헤드는, 복수 개의 노즐을 가지는 노즐 형성 기판과, 노즐에 대향하여 배치되는 압전 재료와 도전재료로 이루어지는 압력 발생 소자와, 이 압력 발생 소자의 주위를 채운 잉크를 구비한, 온디맨드(on-demand) 잉크젯 도포 헤드이며, 인가 전압에 의해 압력 발생 소자를 변위시켜, 잉크의 작은 액적을 노즐로부터 토출시킨다.
잉크젯 도포 장치는, 도포 헤드와 잉크 수용부가 별체로 된 것에 한정되지 않고, 이것들이 분리될 수 없도록 일체로 된 것을 사용하는 것일 수도 있다. 또한, 잉크 수용부는 도포 헤드에 대하여 분리 가능 또는 분리 불가능하게 일체화되어 왕복대에 탑재되는 것 외에, 장치의 고정 부위에 설치되어, 잉크 공급 부재, 예를 들면, 튜브를 통하여 도포 헤드에 잉크를 공급하는 형태의 것일 수도 있다.
또한, 도포 헤드에 대하여 바람직한 네거티브 압력을 작용시키기 위한 구성을 잉크 탱크에 설치하는 경우에는, 잉크 탱크의 잉크 수납부에 흡수체를 배치한 형태, 또는 가요성의 잉크 수용 자루와 이에 대하여 그 내용적을 확장하는 방향의 가압력을 작용하는 스프링부를 가진 형태 등을 채용할 수 있다. 도포 장치는, 전 술한 바와 같이 시리얼 도포 방식을 채용하는 것 외에, 도포 매체의 전폭에 대응한 범위에 걸쳐서 도포 소자를 정렬시켜 이루어지는 라인 프린터의 형태를 취하는 것일 수도 있다.
8.2 용매 건조
전술하는 잉크젯 도포 방법을 이용하여, 기판 상에 본 발명의 잉크젯용 잉크를 잉크젯에 의해 도포한 후, 예를 들면, 핫 플레이트, 또는 오븐 등을 이용한 가열에 의해 용매(D)를 기화시켜 제거, 즉 건조함으로써, 실리콘아미드산(A) 및/또는 (A')의 막을 형성할 수 있다. 잉크젯용 잉크가, 추가로 고분자 화합물(B), 알케닐 치환 나디이미드 화합물(C)을 포함하는 경우에는, 실리콘아미드산(A) 및/또는 (A'), 고분자 화합물(B) 및 알케닐 치환 나디이미드 화합물(C)의 복합막을 형성할 수 있다.
가열 조건은 각 성분의 종류 및 배합 비율에 따라 상이하지만, 실리콘아미드산(A) 및 (A')이 경화되지 않는 온도가 바람직하고, 통상 70∼120℃에서, 오븐을 사용한 경우에는 5∼15분간, 핫 플레이트를 사용한 경우에는 1∼5분간에 건조막이 형성된다.
8.3 폴리이미드의 막의 형성
실리콘아미드산(A) 및/또는 (A')의 막, 또는 실리콘아미드산(A) 및/또는 (A'), 고분자 화합물(B) 및 알케닐 치환 나디이미드 화합물(C)의 복합막을 형성한 후, 실리콘아미드산(A) 및/또는 (A')의 이미드화 및 실리콘 부위의 경화를 위하여, 바람직하게는 150∼350℃, 보다 바람직하게는 200∼300℃로, 가열 처리함으로써 폴 리이미드막을 얻을 수 있다(오븐을 사용한 경우에는, 30∼90분간, 핫 플레이트를 사용한 경우에는, 5∼30분간이다). 한편, 고분자 화합물(B)이 폴리아미드산이나 폴리아미드산에스테르 등인 경우에는, 가열 처리에 의한 이미드화 반응도 동시에 진행한다.
막이 패턴형으로 형성되어 있는 경우에는, 패턴형의 폴리이미드막이 형성된다. 본 명세서에서는, 특별히 언급이 없는 한, 폴리이미드막은, 패턴형의 폴리이미드막을 포함하는 것으로 한다.
이렇게 하여 얻어진 폴리이미드막은, 내열성, 전기 절연성이 우수한 절연막이다. 또한, 원료의 잉크젯용 잉크가 에폭시 수지를 포함하는 경우, 비교적 강인하여, 내약품성, 평탄성, 밀착성 및 스퍼터 내성이 우수한 절연막이 되므로 바람직하다.
9 필름 기판
본 발명의 필름 기판은, 예를 들면, 잉크젯 등의 방법에 의해 배선이 형성된 폴리이미드 필름 등의 기판 상에, 본 발명의 잉크젯용 잉크를 잉크젯 도포 방법에 따라 전체면 또는 소정의 패턴형(라인형 등)으로 도포하고, 그 후, 상기 기판을 건조하고, 또한 가열하여 폴리이미드막이 형성되어 얻어진다.
10 전자 부품
예를 들면, 미리 배선이 형성된 폴리이미드 필름 등의 필름 기판 상에, 본 발명의 잉크젯용 잉크를 잉크젯 도포 방법에 따라 도포하고, 그 후, 상기 필름 기판을 건조하고, 또한 가열함으로써, 절연성을 가지는 폴리이미드막으로 피복된 플 렉시블 전자 부품을 얻을 수 있다.
실시예
이하, 본 발명을 실시예 및 비교예에 의해 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
실시예 및 비교예에서 사용하는, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1), 모노아민(a2), 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1'), 디아민(a2'), 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(b1), 디아민(b2), 모노아민(b3), 알케닐 치환 나디이미드(C), 및 용매(D)의 명칭을 약호로 나타낸다. 이하의 기술에는 이 약호를 사용한다.
산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물( a1 , b1 )
ODPA: 3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물
BTDA: 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복시산 2무수물
6FDA: 4,4'-헥사플루오로프로필리덴비스프탈산 2무수물
모노아민( a2 , b3 )
APSE: 3-아미노프로필트리에톡시실란
산 무수물기를 1개 가지는 화합물( a1' )
TESA: 트리에톡시실릴프로필숙신산 무수물
디아민( a2' , b2 )
DDS: 3,3'-디아미노디페닐술폰
PDA: p-페닐렌디아민
7HHP: 5-[((n-헵틸시클로헥실)에틸시클로헥실)페닐]메틸-1,3-디아미노벤젠
7HB: 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]-4-n-헵틸시클로헥산
BAPP: 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판
알케닐 치환 나디이미드( c1 )
ANIM: N-메틸-알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드
비스 알케닐 치환 나디이미드( c2 )
BANIM: 비스{4-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}메탄
트리스알케닐 치환 나디이미드( c3 )
TrisANITAEA: 트리스{4-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)트리에틸}아민
TrisANITrisAM: 트리스{4-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)트리페닐}메탄
TrisANIPARARO: 트리스{4-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)페닐}하이드록시메탄
테트라키스 알케닐 치환 나디이미드( c4 )
TetrakisANITAM: 테트라키스{4-(알릴비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복시이미드)테트라페닐}메탄
용매(D)
EDM: 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르
GBL: γ-부티로락톤
NMP: N-메틸-2-피롤리돈
[실시예 1] 잉크젯용 잉크(1)
교반기 및 원료 투입구를 구비한 200ml의 3구 플라스크에, 이하에 나타내는 바와 같이 원료를 투입하고, 건조 질소 기류 하, 실온에서 3시간 교반한 결과, 투명한 실리콘아미드산(A) 30중량% 용액을 얻었다. 이 용액을 그대로 잉크젯용 잉크(1)로서 사용하였다.
이 용액의 점도는 10.8mPa·s(25℃)이며, 표면 장력(25℃)은 숫자 mN/m였다. 용액의 점도는, E형 점토계(TOKYO KEIKI 제조, VISCONIC ELD)로 측정하였다. 표면 장력은, 현적법(懸滴法)에 따른 계면장력계(協和界面化學株式會社 제조, Drop Master500)로 측정하였다.
a1: ODPA 12.4g
a2: APSE 17.6g
D: EDM 35.0g
D: GBL 35.0g
[실시예 2] 잉크젯용 잉크(2)
온도계, 교반기, 원료 투입구 및 질소 가스 도입구를 구비한 500ml의 4구 플라스크에, 이하에 나타내는 바와 같이 원료를 투입하고, 건조 질소 기류 하, 40℃에서 5시간 교반한 결과, 담황색의 투명한 폴리아미드산(B)의 50중량% 용액을 얻었다.
이 용액의 점도는 586mPa·s였다. GPC로 측정한 중량 평균 분자량은 2, 100이었다. 폴리아미드산의 중량 평균 분자량은, 얻어진 폴리아미드산을 테트라하이드로퓨란(THF)으로, 폴리아미드산 농도가 약 1중량%로 되도록 희석하고, GPC 장치: 日本分光株式會社 제조, JASCO GULLIVER 1500(인텔리전트 시차굴절률계 RI-1530)을 사용하여, 상기 희석액을 전개제로 하여 GPC법에 의해 측정하고, 폴리스티렌 환산함으로써 구하였다. 컬럼은, 도소가부시키가이샤 제조 컬럼 G4000HXL, G3000HXL, G2500HXL 및 G2000HXL의 4개를 이 순서로 접속하여 사용하고, 컬럼 온도 40℃, 유속 1.0ml/min의 조건으로 측정하였다.
b1: ODPA 55.0g
b2: DDS 11.0g
b3: APSE 59.0g
D: GBL 291.0g
실시예 1의 실리콘아미드산(A) 용액과 이 폴리아미드산(B) 용액을, 이하에 나타내는 바와 같이 투입하고, 2시간 교반하여, 고형분 농도 30중량% 용액을 얻었다. 이 용액을 잉크젯용 잉크(2)로서 사용하였다. 이 용액의 점도는 12.9mPa·s(25℃)이며, 표면 장력(25℃)은 31.7mN/m이었다.
실리콘아미드산(A) 용액 64.0g
폴리아미드산(B) 용액 32.0g
D: GBL 24.0g
D: EDM 40.0g
[실시예 3] 잉크젯용 잉크(3)
실시예 1의 실리콘아미드산(A) 용액과 알케닐 치환 나디이미드(C)를, 이하에 나타내는 바와 같이 투입하고, 고형분이 완전히 용해될 때까지 교반하여, 실리콘아미드산(A)/알케닐 치환 나디이미드(C)의 40중량% 용액을 얻었다. 이 용액을 잉크젯용 잉크(3)로서 사용하였다. 이 용액의 점도는 18.1mPa·s(25℃)이며, 표면 장력(25℃)은 31.8mN/m이었다.
실리콘아미드산(A) 용액 50g
c2: BANIM 15g
D: GBL 5g
D: EDM 5g
[실시예 4]
실시예 1에서 조제된 잉크젯용 잉크(1)를 잉크젯 잉크로서 사용하고, FUJIFILM Dimatix사 제조, 잉크젯 도포 장치 DMP-2831으로 1.5mm 두께의 유리 에폭시 수지, 양면 동박 부착 판 상에 1도트 폭으로 도트 피치 40㎛으로 설정하고, 길이 5cm의 라인 도포를 행하였다. 잉크젯 헤드의 히터의 설정을 30℃로 하고, 피에조 전압은 16V, 구동 주파수는 5kHz로 하였다. 기판을 80℃의 핫 플레이트로 5분간 건조한 후, 230℃의 오븐에서 30분간 가열하여, 라인형으로 형성된 폴리이미드의 절연막을 얻었다.
얻어진 폴리이미드막의 라인 폭 및 이 라인 폭의 균일성을 광학 현미경으로 관찰하고, 막 두께를 측정하였다. 막 두께는 KLA-Tencor Japan 가부시키가이샤 제 조의 촉침식 막 두께 측정기 α스텝 200을 사용하고, 3개소의 측정값의 평균값을 막 두께로 하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다. 라인은 충분한 두께를 가지고 있었다.
[실시예 5]
실시예 2에서 조제된 잉크젯용 잉크(2)를 잉크젯 잉크로서 사용하고, 실시예 4와 동일한 조건으로 폴리이미드의 절연막을 얻었다.
얻어진 폴리이미드막에 대하여, 실시예 4와 동일한 조건으로 평가를 행하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다. 라인은 충분한 두께를 가지고 있었다.
[실시예 6]
실시예 3에서 조제된 잉크젯용 잉크(3)를 잉크젯 잉크로서 사용하고, 도트 피치를 20㎛으로 한 것 이외에는 실시예 4와 동일한 조건으로 폴리이미드의 절연막을 얻었다.
얻어진 폴리이미드막에 대하여, 실시예 4와 동일한 조건으로 평가를 행하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다. 라인은 충분한 두께를 가지고 있었다.
[비교예 1] 잉크젯용 잉크(4)
실시예 2의 폴리아미드산(B) 50% 용액을, 이하에 나타내는 바와 같이 투입하고, 건조 질소 기류 하, 실온에서 교반하여, 담황색의 투명한 폴리아미드산(B)의 25중량% 용액을 얻었다. 이 용액을 잉크젯용 잉크(4)로서 사용하였다. 이 용액의 점도는 12.3mPa·s, 표면 장력(25℃)은 33.2mN/m였다.
폴리아미드산(B) 용액 40.0g
D: EDM 30.0g
D: GBL 10.0g
[비교예 2]
비교예 1에서 조제된 잉크젯용 잉크(4)를 잉크젯 잉크로서 사용한 것 이외에는, 실시예 4와 동일한 조건으로 폴리이미드의 절연막을 얻었다.
얻어진 폴리이미드막에 대하여, 실시예 4와 동일한 조건으로 평가를 행하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다. 라인은 1㎛을 초과하는 정도의 두께를 가지고 있지 않았다.
[표 1]
라인 폭(㎛) 막 두께(㎛) 잉크 점도(mPa·s)
실시예 4 85.3 1.67 10.8
실시예 5 77.4 2.13 12.9
실시예 6 103.0 2.50 16.1
비교예 2 66.0 0.89 12.3
[실시예 7] 잉크젯용 잉크(5)의 조제 및 폴리이미드 절연막의 형성
이하에 나타내는 바와 같이 원료를 투입하는 것 이외에는 실시예 1에 준한 방법으로 잉크젯 잉크를 조제하여 점도를 측정하였다.
a1: BTDA 12.6g
a2: APSE 17.4g
D: EDM 35.0g
D: GBL 35.0g
또한, 실시예 4에 준한 방법으로 폴리이미드 절연막을 형성하였다.
[실시예 8] 잉크젯용 잉크(6)의 조제 및 폴리이미드 절연막의 형성
이하에 나타내는 바와 같이 원료를 투입하는 것 이외에는 실시예 1에 준한 방법으로 잉크젯 잉크를 조제하여 점도를 측정하였다.
a1: 6FDA 15.0g
a2: APSE 15.0g
D: EDM 35.0g
D: GBL 35.0g
또한, 실시예 4에 준한 방법으로 폴리이미드 절연막을 형성하였다.
[실시예 9] 잉크젯용 잉크(7)의 조제 및 폴리이미드 절연막의 형성
이하에 나타내는 바와 같이 원료를 투입하는 것 이외에는 실시예 1에 준한 방법으로 잉크젯 잉크를 조제하여 점도를 측정하였다.
a1': TESA 21.3g
a2': DDS 8.7g
D: EDM 35.0g
D: GBL 35.0g
또한, 실시예 4에 준한 방법으로 폴리이미드 절연막을 형성하였다.
[실시예 10] 잉크젯용 잉크(8)의 조제 및 폴리이미드 절연막의 형성
이하에 나타내는 바와 같이 원료를 투입하는 것 이외에는 실시예 1에 준한 방법으로 잉크젯 잉크를 조제하여 점도를 측정하였다.
a1': TESA 25.5g
a2': PDA 4.5g
D: EDM 35.0g
D: GBL 35.0g
또한, 실시예 4에 준한 방법으로 폴리이미드 절연막을 형성하였다.
[실시예 11] 잉크젯용 잉크(9)의 조제 및 폴리이미드 절연막의 형성
이하에 나타내는 바와 같이 원료를 투입하는 것 이외에는 실시예 1에 준한 방법으로 잉크젯 잉크를 조제하여 점도를 측정하였다.
a1': TESA 16.6g
a2': 7HHP 13.4g
D: EDM 35.0g
D: GBL 35.0g
또한, 실시예 4에 준한 방법으로 폴리이미드 절연막을 형성하였다.
[실시예 12] 잉크젯용 잉크(10)의 조제 및 폴리이미드 절연막의 형성
이하에 나타내는 바와 같이 원료를 투입하는 것 이외에는 실시예 1에 준한 방법으로 잉크젯 잉크를 조제하여 점도를 측정하였다.
a1': TESA 15.8g
a2': 7HB 14.2g
D: EDM 35.0g
D: GBL 35.0g
또한, 실시예 4에 준한 방법으로 폴리이미드 절연막을 형성하였다.
[실시예 13] 잉크젯용 잉크(11)의 조제 및 폴리이미드 절연막의 형성
이하에 나타내는 바와 같이 원료를 투입하는 것 이외에는 실시예 1에 준한 방법으로 잉크젯 잉크를 조제하여 점도를 측정하였다.
a1': TESA 17.9g
a2': BAPP 12.1g
D: EDM 35.0g
D: GBL 35.0g
실시예 7∼실시예 13에 대하여, 얻어진 폴리이미드막에 대하여, 실시예 4로 동일한 조건으로 평가를 행하였다. 그 결과를 표 2에 나타낸다. 라인은 충분한 두께를 가지고 있었다.
[표 2]
라인 폭(㎛) 막 두께(㎛) 잉크 점도(mPa·s)
실시예 7 90.0 1.83 10.9
실시예 8 112.2 1.45 9.0
실시예 9 76.4 1.55 8.9
실시예 10 80.3 1.67 9.7
실시예 11 95.2 1.64 9.4
실시예 12 83.5 1.73 10.3
실시예 13 60.5 2.12 13.3
본 발명의 활용법으로서 예를 들면, 플렉시블 배선 기판용 절연막, 그것을 사용한 전자 부품을 들 수 있다.

Claims (35)

  1. 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)과 모노아민(a2)을 사용하여 얻어지는 실리콘 화합물(A), 및 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')과 디아민(a2')을 사용하여 얻어지는 실리콘 화합물(A')로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 잉크젯용 잉크.
  2. 제1항에 있어서,
    산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)이 하기 일반식(1)으로 표시되는 테트라카르복시산 2무수물이며, 모노아민(a2)이 하기 일반식(2)으로 표시되는 아미노실리콘 화합물인, 잉크젯용 잉크:
    Figure 112009056035305-pct00059
    (일반식(1) 중, X는 탄소수 2∼100의 4가의 유기기이며, 일반식(2) 중, R1, R2 및 R3은 수소, 할로겐 또는 1가의 유기기이며, 이것들은 동일하거나 상이할 수 있고, Y는 탄소수 1∼20의 유기기임).
  3. 제2항에 있어서,
    상기 테트라카르복시산 2무수물이, 피로메리트산 2무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복시산 2무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르복시산 2무수물, 2,3,3',4'-벤조페논테트라카르복시산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무수물, 2,2',3,3'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무수물, 2,3,3',4'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물, 2,2',3,3'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물, 2,3,3',4'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물, 2,2-[비스(3,4-디카르복시페닐)]헥사플루오로프로판 2무수물, 에틸렌글리콜비스(안하이드로트리멜리테이트), 시클로부탄테트라카르복시산 2무수물, 메틸시클로부탄테트라카르복시산 2무수물, 시클로펜탄테트라카르복시산 2무수물, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복시산 2무수물, 에탄테트라카르복시산 2무수물 및 부탄테트라카르복시산 2무수물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상이며,
    상기 아미노실리콘 화합물이, 파라아미노페닐트리메톡시실란, 파라아미노페닐트리에톡시실란, 메타아미노페닐트리메톡시실란, 메타아미노페닐트리에톡시실란, 아미노프로필트리메톡시실란 및 아미노프로필트리에톡시실란으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상인,
    잉크젯용 잉크.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 실리콘 화합물(A)이, 하기 일반식(3)으로 표시되는 실리콘아미드산(A) 인, 잉크젯용 잉크:
    Figure 112009056035305-pct00060
    (일반식(3) 중, X는 탄소수 2∼100의 4가의 유기기이며, R1, R2 및 R3은 수소, 할로겐 또는 1가의 유기기이며, 이것들은 동일하거나 상이할 수 있고, Y는 탄소수 1∼20의 유기기임).
  5. 제4항에 있어서,
    상기 실리콘아미드산이, 하기 일반식(4-1), (4-2) 또는 (4-3)으로 표시되는 실리콘아미드산인, 잉크젯용 잉크:
    Figure 112009056035305-pct00061
    (일반식(4-1), (4-2) 또는 (4-3) 중, R1, R2 및 R3 중의 적어도 하나는 탄소수 1∼20의 알콕시기를 포함하고, a는 1∼20의 정수임).
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a1)과 상기 모노아민(a2)의 비가, 1몰:0.5∼8.0몰인, 잉크젯용 잉크.
  7. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')이 하기 일반식(1')으로 표시되는 카르복시산 무수물이며, 상기 디아민(a2')이 하기 일반식(2')으로 표시되는 디아민인, 잉크젯용 잉크:
    Figure 112014009844835-pct00062
    (일반식(1') 중, R1, R2 및 R3은 수소, 할로겐 또는 1가의 유기기이며, 이것들은 동일하거나 상이할 수 있고, Y'는 탄소수 1∼20의 유기기이며, 일반식(2') 중, X'는 탄소수 2∼100의 2가의 유기기임).
  8. 제7항에 있어서,
    상기 카르복시산 무수물이, p-(트리메톡시실릴)페닐숙신산 무수물, p-(트리에톡시실릴)페닐숙신산 무수물, m-(트리메톡시실릴)페닐숙신산 무수물, m-(트리에톡시실릴)페닐숙신산 무수물, 트리메톡시실릴프로필숙신산 무수물 및 트리에톡시실릴프로필숙신산 무수물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상이며,
    상기 디아민이, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, p-크실렌디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노-1,2-디페닐에탄, 4,4'-디아미노-1,3-디페닐프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)프로판, 비스(4-아미노-3-메틸페닐)메탄, 1,2-비스-4-아미노-3-메틸페닐)에탄, 비스(4-아미노-2-메틸페닐)메탄, 1,2-비스-(4-아미노-2- 메틸페닐)에탄, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 4,4'-디아미노디페닐설파이드, 4,4'-디아미노벤조페논, 4,4'-디아미노디페닐-2,2'-프로판, 1,4-디아미노시클로헥산, 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄, 1,4-비스[4-아미노페닐)메틸]벤젠, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]플루오로프로판, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]비페닐, 1,3-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]프로판, 1,6-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]헥산, 5-페닐메틸-1,3-디아미노벤젠, 5-[4-(4-알킬시클로헥실)페닐]메틸-1,3-디아미노벤젠, 5-[4-(4-(4-알킬시클로헥실)시클로헥실)페닐]메틸-1,3-디아미노벤젠, 5-[((알킬시클로헥실)에틸시클로헥실)페닐]메틸-1,3-디아미노벤젠, 1,1-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-4-알킬시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]-4-알킬시클로헥산, 1,3-비스(3-아미노프로필)-테트라메틸디실록산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상인,
    잉크젯용 잉크.
  9. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 실리콘 화합물(A')이 하기 일반식(3')으로 표시되는 실리콘아미드산(A')인, 잉크젯용 잉크:
    Figure 112014009844835-pct00063
    (일반식(3') 중, R1, R2 및 R3은 수소, 할로겐 또는 1가의 유기기이며, 이것들은 동일하거나 상이할 수 있고, Y'는 탄소수 1∼20의 유기기이며, X'는 탄소수 2∼100의 유기기임).
  10. 제9항에 있어서,
    상기 실리콘아미드산(A')이, 하기 일반식(4'-1), (4'-2), (4'-3), (4'-4) 또는 (4'-5)으로 표시되는 실리콘아미드산(A')인, 잉크젯용 잉크:
    Figure 112009056035305-pct00064
    (일반식(4'-1), (4'-2), (4'-3), (4'-4) 또는 (4'-5) 중, R1, R2 및 R3 중의 적어도 하나는, 탄소수 1∼20의 알콕시기를 포함하고, 일반식(4'-3)의 R은 탄소수 2∼30의 유기기이며, 일반식(4'-4)의 R은 수소 또는 탄소수 1∼20의 알킬이며, a는 1∼20의 정수임).
  11. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 산 무수물기를 1개 가지는 화합물(a1')과 상기 디아민(a2')의 비가 0.5∼8.0몰: 1몰인, 잉크젯용 잉크.
  12. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    고분자 화합물(B)을 추가로 포함하는, 잉크젯용 잉크.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 고분자 화합물(B)이, 폴리아미드산 및 폴리이미드로부터 선택되는 적어도 1종인, 잉크젯용 잉크.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 고분자 화합물(B)의 중량 평균 분자량이 1,000∼5,000인, 잉크젯용 잉크.
  15. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    알케닐 치환 나디이미드(C)를 추가로 포함하는, 잉크젯용 잉크.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 알케닐 치환 나디이미드(C)가, 모노아민, 디아민, 트리아민 또는 테트 라아민과 하기 식(5')으로 표시되는 알케닐 치환 나딕산 무수물을 반응시켜 형성되는 알케닐 치환 나디이미드인, 잉크젯용 잉크:
    Figure 112009056035305-pct00065
    식(5') 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1∼12의 알킬, 탄소수 3∼6의 알케닐, 탄소수 5∼8의 시클로알킬, 탄소수 6∼12의 아릴 또는 벤질 중 어느 하나임.
  17. 제15항에 있어서,
    상기 알케닐 치환 나디이미드(C)가, 하기 일반식(5)으로 표시되는 화합물인, 잉크젯용 잉크:
    Figure 112014080701139-pct00066
    식(5) 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1∼12의 알킬, 탄소수 3∼6의 알케닐, 탄소수 5∼8의 시클로알킬, 탄소수 6∼12의 아릴 또는 벤질 중 어느 하나이며, n은 1∼4의 정수이며,
    n=1일 때, 식(5) 중의 R3은 수소, 탄소수 1∼12의 알킬, 탄소수 1∼12의 하이드록시알킬, 탄소수 5∼8의 시클로알킬, 탄소수 6∼12의 아릴, 벤질, -{(CqH2qO)t(CrH2rO)uCsH2sX}(단 q, r, s는 각각 독립적으로 선택된 2∼6의 정수, t는 0 또는 1의 정수이고, u는 1∼30의 정수, X는 수소 또는 수산기임)으로 표시되는 폴리옥시알킬렌알킬, -(R)a-C6H4-R4(여기서, a는 0 또는 1의 정수, R은 탄소수 1∼4의 알킬렌, R4는 수소 또는 탄소수 1∼4의 알킬을 각각 나타냄)으로 표시되는 기, -C6H4-T-C6H5{여기서, T는 -CH2-, -C(CH3)2-, -CO-, -S- 또는 -SO2-임}으로 표시되는 기, 또는 이러한 기의 방향환에 직접 결합된 1∼3개의 수소가 수산기로 치환된 기이며,
    n=2일 때, 식(5) 중의 R3은 탄소수 2∼20의 알킬렌{알킬렌 중의 서로 인접하지 않은 임의의 메틸렌은 -O- 또는 -CH=CH-로 치환 또는 비치환되어 있고, 임의의 수소는 플루오르로 치환 또는 비치환되어 있음}, 탄소수 5∼8의 시클로알킬렌, -{CqH2qO)t(CrH2rO)uCsH2s}-(단, q, r, s는 각각 독립적으로 선택된 2∼6의 정수, t는 0 또는 1의 정수이고, u는 1∼30의 정수임)으로 표시되는 폴리옥시알킬렌, 탄소수 6∼12의 아릴렌, -(R)a-C6H4-R5-(여기서, a는 0 또는 1의 정수, R 및 R5는 각각 독립적으로, 탄소수 1∼4의 알킬렌임)으로 표시되는 기, -C6H4-T-C6H4-, -C6H4-T-C6H4-T-C6H4- 또는 -C6H4-T'-C6H4-T-C6H4-T'-C6H4-{단, T는 단일 결합, 탄소수 1∼6의 알킬렌, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -CO-, -O-, -OC6H4C(CH3)2C6H4O-, -S- 또는 -SO2-이며, T'는 -CH2- 또는―O-임}으로 표시되는 기, 또는 이러한 기의 방향환에 직접 결합된 1∼3개의 수소가 수산기로 치환된 기, 하기 식(6-1)으로 표시되는 기 또는 식(6-2)으로 표시되는 기이며, 식(6-1) 중, x는 독립적으로 1∼6의 정수이며, y는 1∼70의 정수이며,
    Figure 112014080701139-pct00067
    n=3일 때, 식(5) 중의 R3은 하기 식(7-1)으로 표시되는 기 또는 식(7-2)으로 표시되는 기이며,
    Figure 112014080701139-pct00068
    식(7-1) 중, R은, 수소, 플루오르, 염소, -OH, -OCF3, -OCF2H, -CF3, -CF2H, -CFH2, -OCF2CF2H, -OCF2CFHCF3, 또는 탄소수 1∼10의 알킬이며,
    식(7-1) 및 식(7-2) 중, R4, R5, R6은, 각각 독립적으로, 단일 결합, 트랜스-1,4-시클로헥실렌, 1,3-디옥산-2,5-디일, 1,4-페닐렌, 수소가 플루오르로 치환 또는 비치환되어 있는 1,4-페닐렌, 또는 탄소수 1∼10의 알킬렌이며, 알킬렌 중의 서로 인접하지 않은 임의의 메틸렌은 -O- 또는 -CH=CH-로 치환 또는 비치환되어 있고, 임의의 수소는 플루오르로 치환 또는 비치환되고,
    n=4일 때, 식(5) 중의 R3은 하기 식(8)으로 표시되는 기임:
    Figure 112014080701139-pct00069
    식(8) 중, R4, R5, R6, R7은, 각각 독립적으로, 단일 결합, 트랜스-1,4-시클로헥실렌, 1,3-디옥산-2,5-디일, 1,4-페닐렌, 수소가 플루오르로 치환 또는 비치환되어 있는 1,4-페닐렌, 또는 탄소수 1∼10의 알킬렌이며, 알킬렌 중의 서로 인접하지 않은 임의의 메틸렌은 -O- 또는 -CH=CH-로 치환 또는 비치환되어 있고, 임의의 수소는 플루오르로 치환 또는 비치환되어 있음.
  18. 제17항에 있어서,
    n이 2인, 잉크젯용 잉크.
  19. 제17항에 있어서,
    n이 2이며, 식(5) 중의 R3이, 탄소수 2∼15의 알킬렌{알킬렌 중의 서로 인접하지 않은 임의의 메틸렌은 -O- 또는 -CH=CH-로 치환 또는 비치환되어 있고, 임의의 수소는 플루오르로 치환 또는 비치환되어 있음}, -(R)a-C6H4-R5-(여기서, a는 0 또는 1의 정수, R 및 R5는 각각 독립적으로, 탄소수 1∼4의 알킬렌임)으로 표시되는 기, -C6H4-T-C6H4-, -C6H4-T-C6H4-T-C6H4- 또는 -C6H4-T'-C6H4-T-C6H4-T'-C6H4-{단, T는 단일 결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -CO-, -O-, -OC6H4C(CH3)2C6H4O-, -S- 또는 -SO2-이며, T'는 -CH2- 또는 -O-임}으로 표시되는 기인,
    잉크젯용 잉크.
  20. 제17항에 있어서,
    식(5) 중의 R1 및 R2가 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1∼6의 알킬이며, n이 2이며, 식(5) 중의 R3이 탄소수 2∼15의 알킬렌{알킬렌 중의 서로 인접하지 않은 임의의 메틸렌은 -O- 또는 -CH=CH-로 치환 또는 비치환되어 있고, 임의의 수소는 플루오르로 치환 또는 비치환되어 있음}, 식(6-1)으로 표시되는 기, 식(6-2)으로 표시되는 기, 식(6-3)으로 표시되는 기, 식(6-4)으로 표시되는 기 또는 식(6-5)으로 표시되는 기인, 잉크젯용 잉크:
    Figure 112014080701139-pct00070
    식(6-1) 중, x는 독립적으로 1∼6의 정수이며, y는 1∼70의 정수이며,
    식(6-3) 및 식(6-5) 중, R은 -CH2-, -CH2CH2-, -O-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-로 이루어지는 유기기이며,
    식(6-5) 중, X는 -CH2-, -O-로 이루어지는 유기기임.
  21. 제17항에 있어서,
    식(5) 중의 R1 및 R2가 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1∼6의 알킬이며, n이 3이며, 식(5) 중의 R3이 식(7-1-1), 식(7-2-1) 또는 식(7-2-2)으로 표시되는 기인, 잉크젯용 잉크.
    Figure 112009056035305-pct00071
    식(7-1-1) 중, R은 탄소수 1∼10의 알킬 또는 -OH이며,
    식(7-2-2) 중, R4, R5, R6은, 각각 독립적으로, 1,2-에틸렌, 1,4-부틸렌임.
  22. 제17항에 있어서,
    식(5) 중의 R1 및 R2가 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1∼6의 알킬이며, n이 4이며, 식(5) 중의 R3이, 하기 식(8-1)으로 표시되는 기인, 잉크젯용 잉크:
    Figure 112009056035305-pct00072
  23. 제17항에 있어서,
    n이 1인 알케닐 치환 나디이미드(C), n이 2인 알케닐 치환 나디이미드(C), n이 3인 알케닐 치환 나디이미드(C), 및 n이 4인 알케닐 치환 나디이미드(C)로부터 선택되는 적어도 2종의 알케닐 치환 나디이미드(C)를 포함하는, 잉크젯용 잉크.
  24. 제17항에 있어서,
    식(5) 중의 R1 및 R2가 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1∼6의 알킬이며,
    식(5) 중의 R3이 탄소수 1∼12의 알킬(n=1), 탄소수 6∼12의 아릴(n=1), -(CH2)p-(n=2, p는 6∼12의 정수임), 식(6-1-1)으로 표시되는 기, 식(6-2)으로 표시 되는 기, 식(6-3-1)으로 표시되는 기, 식(6-4)으로 표시되는 기, 식(6-5-1)으로 표시되는 기, 식(7-1-2)으로 표시되는 기, 식(7-1-3)으로 표시되는 기, 식(7-2-1)으로 표시되는 기, 식(7-2-3)으로 표시되는 기, 식(8-1)으로 표시되는 기인 알케닐 치환 나디이미드(C) 중 적어도 2종을 포함하는, 잉크젯용 잉크:
    Figure 112009056035305-pct00073
  25. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    용매(D)를 추가로 포함하는, 잉크젯용 잉크.
  26. 제25항에 있어서,
    상기 용매(D)가, 락트산 에틸, 에탄올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 글리세린, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노 부틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 시클로헥사논 및 γ-부티로락톤으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상인, 잉크젯용 잉크.
  27. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    잉크젯용 잉크 100중량부에 대하여, 상기 실리콘 화합물(A) 및 상기 실리콘 화합물(A')의 합계 함유량이 1∼99중량부인, 잉크젯용 잉크.
  28. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    잉크젯용 잉크 100중량부에 대하여, 상기 실리콘 화합물(A) 및 상기 실리콘 화합물(A')의 합계 함유량이 10∼80중량부인, 잉크젯용 잉크.
  29. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    잉크젯용 잉크 100중량부에 대하여, 상기 실리콘 화합물(A) 및 상기 실리콘 화합물(A')의 합계 함유량이 22∼70중량부인, 잉크젯용 잉크.
  30. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 잉크젯용 잉크를 잉크젯 도포 방법에 따라 도포하여 도막을 형성한 후, 상기 도막을 경화 처리하여 폴리이미드막을 형성하여 얻어지는 폴리이미드막.
  31. 제30항에 기재된 폴리이미드막을 가지는 필름 기판.
  32. 제31항에 기재된 필름 기판을 가지는 전자 부품.
  33. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 잉크젯용 잉크를 잉크젯 도포 방법에 따라 도포하여 도막을 형성한 후, 상기 도막을 경화 처리하여 폴리이미드막을 형성하여 얻어지는 패턴형 폴리이미드막.
  34. 제33항에 기재된 패턴형 폴리이미드막을 가지는 필름 기판.
  35. 제34항에 기재된 필름 기판을 가지는 전자 부품.
KR1020097019033A 2007-03-29 2008-03-24 잉크젯용 잉크 KR101489717B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2007-088359 2007-03-29
JP2007088359 2007-03-29
PCT/JP2008/055420 WO2008123190A1 (ja) 2007-03-29 2008-03-24 インクジェット用インク

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100015306A KR20100015306A (ko) 2010-02-12
KR101489717B1 true KR101489717B1 (ko) 2015-02-04

Family

ID=39830687

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020097019033A KR101489717B1 (ko) 2007-03-29 2008-03-24 잉크젯용 잉크

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5604869B2 (ko)
KR (1) KR101489717B1 (ko)
TW (1) TWI432531B (ko)
WO (1) WO2008123190A1 (ko)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5703537B2 (ja) * 2007-10-23 2015-04-22 Jnc株式会社 インクジェット用インク
JP2013056964A (ja) 2011-09-07 2013-03-28 Jnc Corp インクジェットインク
JP5928129B2 (ja) * 2012-04-25 2016-06-01 Jnc株式会社 インクジェットインク
KR101440976B1 (ko) * 2012-05-31 2014-09-18 주식회사 엘지화학 잉크젯용 잉크 조성물, 이를 이용한 식각 마스크, 절연막 및 그 제조방법
JP6252752B2 (ja) * 2013-04-09 2017-12-27 Jsr株式会社 液晶配向剤
KR101422048B1 (ko) * 2013-05-13 2014-07-23 주식회사 폴리크롬 아미드기를 갖는 유기 실리콘 고분자로 이루어지는 랜덤 공중합체를 포함하는 다기능 코팅 조성물의 합성법 및 응용 방법
US9154698B2 (en) * 2013-06-19 2015-10-06 Qualcomm Technologies, Inc. System and method for single-frame based super resolution interpolation for digital cameras
CN106674027B (zh) * 2016-12-30 2018-10-16 江苏创拓新材料有限公司 二胺化合物、聚酰亚胺、光学薄膜及其制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000309731A (ja) 1999-04-27 2000-11-07 Minolta Co Ltd インクジェット記録用インク
JP2001294695A (ja) 2000-04-10 2001-10-23 Tokuyama Corp ポリオレフィン系多孔質フィルム
KR20060061255A (ko) * 2004-11-30 2006-06-07 가부시키가이샤 리코 전자 소자, 연산 소자 및 표시 소자

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI391424B (zh) * 2005-01-12 2013-04-01 Taiyo Holdings Co Ltd A hardened resin composition for inkjet and a hardened product thereof, and a printed circuit board using the same
WO2008059986A1 (fr) * 2006-11-16 2008-05-22 Chisso Corporation Encre pour impression jet d'encre
JP2008133336A (ja) * 2006-11-28 2008-06-12 Chisso Corp インクジェット用インクおよび当該インクにより得られる硬化膜形成方法
JP2008133335A (ja) * 2006-11-28 2008-06-12 Chisso Corp インクジェット用インクおよび当該インクにより得られる硬化膜形成方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000309731A (ja) 1999-04-27 2000-11-07 Minolta Co Ltd インクジェット記録用インク
JP2001294695A (ja) 2000-04-10 2001-10-23 Tokuyama Corp ポリオレフィン系多孔質フィルム
KR20060061255A (ko) * 2004-11-30 2006-06-07 가부시키가이샤 리코 전자 소자, 연산 소자 및 표시 소자

Also Published As

Publication number Publication date
TW200902644A (en) 2009-01-16
WO2008123190A1 (ja) 2008-10-16
JPWO2008123190A1 (ja) 2010-07-15
KR20100015306A (ko) 2010-02-12
TWI432531B (zh) 2014-04-01
JP5604869B2 (ja) 2014-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101477174B1 (ko) 잉크젯용 잉크
KR101489717B1 (ko) 잉크젯용 잉크
JP5691508B2 (ja) ジイミド化合物ならびにインクジェット用インクおよびその用途
KR101505899B1 (ko) 잉크젯용 잉크
JP5895732B2 (ja) 熱硬化性インク組成物およびその用途
JP5617235B2 (ja) インクジェット用インク
KR20090086559A (ko) 잉크젯용 잉크
JP5899605B2 (ja) 熱硬化性組成物
JP5699459B2 (ja) インクジェット用インクおよびその用途
JP5569216B2 (ja) 熱硬化性組成物およびその用途
JP5282414B2 (ja) インクジェット用インク
JP5071135B2 (ja) 熱硬化性組成物
JP5282415B2 (ja) インクジェット用インク
TWI445777B (zh) 噴墨用墨水
JP5699457B2 (ja) インクジェット用インクおよびその用途
JP5407151B2 (ja) インクジェット用インク
JP5540483B2 (ja) 熱硬化性組成物、該組成物の製造方法および該組成物の用途
JP2011256140A (ja) 新規なシリコンイミド化合物およびその製造方法、ならびにその用途
KR101474319B1 (ko) 잉크젯용 잉크
JP5641010B2 (ja) 熱硬化性組成物
JP2012233052A (ja) インクジェット用インクおよびその用途

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180103

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190103

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200103

Year of fee payment: 6