KR101449793B1 - 광학 소자용 지지 부재 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 도 1의 결상 장치의 본 발명에 따른 광학 모듈의 바람직한 일 실시예가 개략적으로 도시된 평면도이다.
도 3은 도 2의 광학 모듈이 (도 2의 라인 Ⅲ-Ⅲ에 따라 절개되어) 개략적으로 도시된 단면도이다.
도 4은 도 2의 광학 모듈이 (도 2의 라인 Ⅳ-Ⅳ에 따라 절개되어) 개략적으로 도시된 단면도이다.
도 5는 도 2의 광학 모듈 내에서 사용되는, 본 발명에 따른 지지 부재의 바람직한 일 실시예의 일부가 개략적으로 도시된 단면 사시도이다.
도 6은 도 5의 지지 부재의 다른 일부가 개략적으로 도시된 평면도이다.
도 7은 도 5의 지지 부재의 다른 일부가 개략적으로 도시된 평면도이다.
도 8은 도 1의 광학 결상 장치에 의해 실행되는 광학 소자를 지지하기 위한 본 발명에 따른 방법의 바람직한 일 실시예를 도시한 블록 회로도이다.
도 9A 내지 도 9D는 도 2의 광학 모듈 내에서 사용될 수 있는, 본 발명에 따른 지지 부재의 바람직한 추가 실시예의 일부가 개략적으로 도시된 단면도이다.
도 10A 및 도 10B는 도 2의 광학 모듈 내에서 사용될 수 있는, 본 발명에 따른 지지 부재의 바람직한 추가 실시예들의 일부가 개략적으로 도시된 사시도이다.
도 11A는 도 2의 광학 모듈 내에서 사용될 수 있는, 본 발명에 따른 지지 부재의 바람직한 추가 실시예들 중 하나의 일부가 개략적으로 도시된 사시도이다.
도 11B는 도 11A의 지지 부재가 (도 11A의 라인 ⅩⅠB-ⅩⅠB에 따라 절개되어) 개략적으로 도시된 단면 사시도이다.
도 12는 도 2의 광학 모듈 내에서 사용될 수 있는, 본 발명에 따른 지지 부재의 바람직한 추가 일 실시예의 일부가 개략적으로 도시된 사시도이다.
도 13은 도 2의 광학 모듈 내에서 사용될 수 있는, 본 발명에 따른 지지 부재의 바람직한 추가 일 실시예의 일부가 개략적으로 도시된 사시도이다.
도 14A 내지 도 14E는 도 2의 광학 모듈 내에서 사용될 수 있는, 본 발명에 따른 지지 부재의 바람직한 추가 실시예들의 일부가 개략적으로 도시된 단면도이다.
도 15A 내지 도 15D는 도 2의 광학 모듈 내에서 사용될 수 있는, 본 발명에 따른 지지 부재의 바람직한 추가 실시예들의 일부가 개략적으로 도시된 단면도이다.
도 16는 도 2의 광학 모듈 내에서 사용될 수 있는, 본 발명에 따른 지지 부재의 바람직한 추가 일 실시예의 일부가 개략적으로 도시된 단면도이다.
도 17A 및 도 17B는 도 2의 광학 모듈 내에서 사용될 수 있는, 본 발명에 따른 지지 부재의 바람직한 추가 실시예들의 일부가 개략적으로 도시된 단면도이다.
Claims (89)
- - 지지 유닛과,
- 마이크로 리소그래피용 투영 노광 시스템의 광학 소자를 지지 유닛에 대해 고정 또는 위치 설정하기 위한 하나 이상의 2각대를 포함하는 광학 모듈이며, 이때
- 2각대는 2개의 2각대 버팀대를 포함하며, 2각대 버팀대들 각각의 제1 단부, 즉 버팀대 하단부는 직접적으로 또는 간접적으로 지지 유닛에 연결되고,
- 2각대 버팀대들 각각의 제2 단부, 즉 버팀대 상단부는, 2개의 버팀대 하단부들을 연결하는 연결 라인과 함께, 하나 이상의 버팀대 상단부가 2각대 평면을 형성하도록 직접적으로 또는 간접적으로 광학 소자에 연결되며,
- 버팀대 하단부들 사이의 간격은 하나 이상의 레버에 의해 조절 가능하며, 이때 레버는 하나 이상의 이동 방향으로 이동 가능하고, 레버는 베어링에 의해 지지 유닛에 유지되며, 레버는 연결 유닛을 통해 하나 이상의 버팀대 하단부에 고정되고,
- 레버의 하나 이상의 이동 방향은 상기 2각대 평면 외부에 위치하고,
- 연결 유닛은 정확히 하나의 만곡 평면을 갖는 하나 이상의 만곡부를 구비하여, 만곡부가 만곡 평면에 대해 수직 방향으로 강성으로 형성되며,
- 레버는 지지 조인트에 의해 지지 유닛에 고정되고, 지지 조인트는 연결 유닛의 영역에 배치되는, 광학 모듈. - 제1항에 있어서, 연결 라인을 따른 버팀대 하단부들의 간격은 버팀대 상단부들 사이의 간격보다 넓은, 광학 모듈.
- 제1항에 있어서, 연결 라인을 따른 버팀대 하단부들의 간격은 버팀대 상단부들 사이의 간격보다 좁은, 광학 모듈.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 만곡부는 만곡 평면 방향으로 제1 저항 모멘트를 갖고, 만곡 평면에 대해 수직으로 제2 저항 모멘트를 가지며, 제2 저항 모멘트는 제1 저항 모멘트보다 2배 이상 큰, 광학 모듈.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 만곡부는 만곡 평면에 대해 수직으로 연장된 만곡축을 갖고, 만곡축 방향으로 만곡부의 길이는 만곡 방향으로 만곡축에 대해 수직으로 연장되는, 하나 이상의 만곡부의 최대 단면 길이의 2배 이상인, 광학 모듈.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 레버의 이동 방향은 2각대 평면에 대해 수직을 이루며, 하나 이상의 만곡부의 만곡 평면은 2각대 평면에 대해 수직을 이루는, 광학 모듈.
- 제6항에 있어서, 레버의 이동 방향은 2각대 평면에 대해 수직을 이루며, 하나 이상의 만곡부의 만곡축은 2각대 평면에 대해 평행한, 광학 모듈.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 연결 유닛은 추가의 만곡 평면을 구비한 추가의 만곡부를 포함하는, 광학 모듈.
- 제8항에 있어서, 추가의 만곡부의 추가의 만곡 평면은 하나 이상의 만곡부의 만곡 평면에 대해 수직을 이루는, 광학 모듈.
- 제8항에 있어서, 추가의 만곡부는 추가의 만곡 평면에 대해 수직 방향으로 강성 구조인, 광학 모듈.
- 제10항에 있어서, 추가의 만곡부는 추가의 만곡 평면에 대해 수직을 이루는 추가의 만곡축을 갖는, 광학 모듈.
- 제11항에 있어서, 추가의 만곡축에 대해 수직인 토션축과 관련한 추가의 만곡부는, 추가의 만곡 평면의 방향으로 저항 모멘트의 2배 이상인 극성 저항 모멘트를 갖는, 광학 모듈.
- 제10항에 있어서, 추가의 만곡부는 추가의 만곡 평면 방향으로 제1 저항 모멘트를 갖고, 추가의 만곡 평면에 대해 수직으로 제2 저항 모멘트를 가지며, 제2 저항 모멘트는 제1 저항 모멘트보다 2배 이상 큰, 광학 모듈.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 연결 유닛의 하나 이상의 만곡부의 만곡 평면은 광학 소자의 대칭 평면에 대해 평행하거나, 투영 노광 시스템 내부의 광축에 대해 수직인 평면에 대해 평행한, 광학 모듈.
- 제8항에 있어서, 추가의 만곡부의 추가의 만곡 평면은 광학 소자의 대칭 평면에 대해 수직을 이루거나, 투영 노광 시스템 내부의 광축에 대해 평행한, 광학 모듈.
- 제8항에 있어서, 추가의 만곡부의 추가의 만곡 평면은 2각대 평면에 대해 평행한, 광학 모듈.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 2각대 버팀대는 자신의 종방향으로 지지 유닛의 표면에 대해 평행하게 배치되며, 2각대 버팀대의 버팀대 상단부와 버팀대 하단부는 이들의 연결 라인이 각도를 형성하면서 지지 유닛의 표면을 가로지르도록 각각 하나 이상의 만곡부를 포함하는, 광학 모듈.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 연결 유닛의 하나 이상의 만곡부 또는 추가의 만곡부는 판 스프링으로서 형성되는, 광학 모듈.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 2각대에 할당된 레버의 베어링은, 레버를 지지 유닛에 링크하는 만곡부로서 형성되는, 광학 모듈.
- 제19항에 있어서, 베어링의 만곡부는 만곡 평면에 수직 방향으로 강성 구조를 갖도록 정확히 하나의 굽힘 평면을 갖는 광학 모듈.
- 제20항에 있어서, 베어링의 만곡부는 자신의 만곡 평면 방향으로 제1 저항 모멘트를 갖고, 자신의 만곡 평면에 대해 수직인 방향으로 제2 저항 모멘트를 가지며, 제2 저항 모멘트는 제1 저항 모멘트보다 2배 이상 큰, 광학 모듈.
- 제20항에 있어서, 베어링의 만곡부는 자신의 만곡 평면에 대해 수직으로 연장된 만곡축을 가지며, 자신의 만곡축 방향으로 베어링의 만곡부의 길이는 만곡 방향의 베어링의 만곡축에 대해 수직으로 연장되는, 베어링의 만곡부의 최대 단면 치수에 2배 이상이 되는, 광학 모듈.
- 제22항에 있어서, 베어링의 만곡축은 만곡 평면에 대해 평행하며, 광학 모듈의 2각대 버팀대는 베어링에 의해 고정된 레버에 의해 조절 가능한, 광학 모듈.
- 제20항에 있어서, 베어링의 만곡 평면은 광학 소자의 대칭 평면에 대해 평행하거나, 투영 노광 시스템 내부의 광축에 대해 수직인 평면에 대해 평행한, 광학 모듈.
- 제20항에 있어서, 베어링의 만곡부는, 회전 중심을 형성하며 각각 평행한 만곡 평면을 갖는 복수의 만곡부를 포함하는, 광학 모듈.
- 제25항에 있어서, 회전 중심을 형성하는 만곡부는 각각의 만곡 평면에 대해 수직 방향으로 강성 구조인, 광학 모듈.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 레버는 일측 레버로서 또는 이측 레버로서 형성되는, 광학 모듈.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 2각대의 하나 이상의 2각대 버팀대는 자신의 버팀대 하단부가 만곡부를 통해 지지 유닛과 연결되며, 만곡부의 만곡 평면은 버팀대 하단부에 작용하는 연결 유닛의 하나 이상의 만곡부의 만곡 평면에 대해 평행한, 광학 모듈.
- 제28항에 있어서, 버팀대 하단부를 지지 유닛과 연결하는 만곡부는 자신의 만곡 평면에 대해 수직 방향으로 강성 구조인, 광학 모듈.
- 제23항에 있어서, 레버는 하나 이상의 추가의 만곡부를 통해 지지 유닛과 연결되는, 광학 모듈.
- 제30항에 있어서, 레버의 추가의 만곡부는 베어링의 만곡부의 만곡 평면에 대해 평행한 정확히 하나의 만곡 평면을 갖고, 레버의 추가 만곡부는 자신의 만곡 평면에 대해 수직 방향으로 강성 구조인, 광학 모듈.
- 제30항에 있어서, 추가의 만곡부는 레버의 하중 아암 길이의 2배보다 좁은 간격으로 베어링으로부터 떨어져 배치되는, 광학 모듈.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 2각대의 2각대 버팀대의 하나 이상의 버팀대 상단부는 광학 소자에 직접적으로 또는 간접적으로 링크하기 위해 하나 이상의 만곡부를 구비한 연결 유닛을 포함하며, 만곡부의 만곡 평면은 상응하는 2각대의 2각대 평면에 대해 평행한, 광학 모듈.
- 제33항에 있어서, 광학 소자의 링크를 위한 연결 유닛은 하나 이상의 추가의 만곡부를 포함하며, 추가의 만곡부의 만곡 평면은 상응하는 2각대의 2각대 평면에 대해 수직을 이루는, 광학 모듈.
- 제33항에 있어서, 2각대의 버팀대 상단부는 광학 소자에 링크하기 위한 연결 유닛을 통해, 각각 연결 부재를 통해 광학 소자를 고정하는 리테이닝 부재와 연결되는, 광학 모듈.
- 제35항에 있어서, 리테이닝 부재 또는 연결 부재 또는 이 둘 모두는 하나 이상의 추가의 만곡부를 포함하는, 광학 모듈.
- 제36항에 있어서, 추가의 만곡부는, 광학 소자의 광축 방향인 2각대 평면에 대해 수직을 이루거나 광학 소자의 광축에 수직 방향인 2각대 평면에 대해 수직을 이루는 만곡 평면을 갖는, 광학 모듈.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 레버는 예비 응력 장치 및 제어 장치를 포함하는, 광학 모듈.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 광학 모듈은 하나 이상의 2각대에 상응하도록 동일하게 형성된 3개의 2각대들을 구비하며, 2각대들은 광학 소자를 지지 유닛에 대해 고정 또는 위치 설정하기 위해 6각대 구조를 형성하며, 하나 이상의 2각대에 상응하는 각각의 2각대에는 각각 상응하는 레버 및 연결 유닛이 할당되는, 광학 모듈.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 지지 조인트는 지지 유닛에 대해 베어링에 대향 배치되는, 광학 모듈.
- 제40항에 있어서, 지지 조인트는 만곡부 장치로서 형성되는, 광학 모듈.
- 제40항에 있어서, 지지 조인트는 3개의 지지 아암 만곡부를 갖는 U자형 지지 아암으로서 형성되는, 광학 모듈.
- 제42항에 있어서,
- 베어링은 베어링-만곡축을 규정하는 베어링-만곡부를 갖고,
- 3개의 지지 아암-만곡부들 각각은, 베어링-만곡축에 대해 평행하게 연장되는 하나의 지지 아암-만곡축을 규정하는, 광학 모듈. - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
- 베어링은 레버의 이동 평면을 규정하고,
- 지지 조인트는, 레버의 이동 평면에 위치하는 틸팅축을 중심으로 레버의 틸팅을 방지하기 위해 형성되는, 광학 모듈. - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
- 베어링은 지지 유닛의 제1 부분과 연결되고 지지 조인트는 지지 유닛의 제2 부분과 연결되며, 이때
- 레버는 지지 유닛의 제1 부분과 지지 유닛의 제2 부분 사이에 배치되는, 광학 모듈. - 제45항에 있어서, 지지 조인트는 지지 유닛의 제2 부분의 자유 단부에 배치되는, 광학 모듈.
- 제45항에 있어서, 지지 유닛은, 지지 유닛의 제1 부분과 지지 유닛의 제2 부분을 형성하는 링형 부재를 포함하는, 광학 모듈.
- 제45항에 있어서, 지지 유닛의 제2 부분은 보강 부재에 의해 지지 유닛의 제1 부분에 지지되는, 광학 모듈.
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DE102011114123A1 (de) | 2010-09-29 | 2012-04-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | System zur Ausrichtung eines optischen Elements und Verfahren hierfür |
DE102011088735A1 (de) * | 2010-12-20 | 2012-06-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung zur Halterung eines optischen Elementes, insbesondere in einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage |
JP5306393B2 (ja) * | 2011-03-04 | 2013-10-02 | 三菱電機株式会社 | 鏡支持機構 |
DE102013204305A1 (de) | 2013-03-13 | 2014-09-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung zur Aktuierung wenigstens eines Elementes in einem optischen System |
DE102014202737A1 (de) * | 2014-02-14 | 2015-08-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Lagerelement und system zum lagern eines optischen elements |
US10030695B2 (en) * | 2015-07-30 | 2018-07-24 | Nec Corporation | Multi-degree-of-freedom adjustment mechanism |
FR3058424B1 (fr) * | 2016-11-10 | 2022-06-10 | Bnl Eurolens | Installation de depot par evaporation d'un revetement sur des articles |
US11175595B2 (en) | 2017-03-21 | 2021-11-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method for localizing assembly errors |
DE102017204685B4 (de) * | 2017-03-21 | 2021-11-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Lokalisierung von Montagefehlern sowie Projektionsbelichtungsanlage |
CN107664925A (zh) * | 2017-11-15 | 2018-02-06 | 电子科技大学 | 一种对接触式光刻探针的双铰链夹持结构 |
US11187871B2 (en) | 2017-12-18 | 2021-11-30 | Raytheon Company | 2D bi-pod flexure design, mount technique and process for implementation |
CN111650816B (zh) * | 2019-03-04 | 2021-07-23 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 柔性连接装置、测量系统及光刻机 |
CN111856884B (zh) * | 2019-04-30 | 2021-11-05 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 镜片调整装置、可调式光学系统、光刻设备及定心单元 |
DE102020203713A1 (de) * | 2020-03-23 | 2021-04-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Entkopplungsgelenk zur mechanischen Lagerung eines optischen Elements |
DE102021209393A1 (de) * | 2021-08-26 | 2023-03-02 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Optische Empfangseinheit |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002350699A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-12-04 | Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag | 光学部材を光学システムに取り付けるための装置 |
JP2004031491A (ja) * | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Nikon Corp | 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置 |
KR20060021339A (ko) * | 2003-06-06 | 2006-03-07 | 가부시키가이샤 니콘 | 광학 소자 유지 장치, 경통, 노광 장치, 및 디바이스의제조방법 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2773890B1 (fr) * | 1998-01-22 | 2001-11-23 | Aerospatiale | Ensemble integre et compact de montage isostatique et de correction de position d'un organe, tel qu'un miroir, d'un telescope spatial |
DE19825716A1 (de) * | 1998-06-09 | 1999-12-16 | Zeiss Carl Fa | Baugruppe aus optischem Element und Fassung |
JP4770090B2 (ja) * | 2000-08-18 | 2011-09-07 | 株式会社ニコン | 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法 |
JP4945864B2 (ja) * | 2000-08-18 | 2012-06-06 | 株式会社ニコン | 保持装置、光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法 |
EP1744193A1 (en) | 2000-08-18 | 2007-01-17 | Nikon Corporation | Optical element holding device with drive mechanism allowing movement of the element along three coordinate axes |
JP2003337272A (ja) * | 2002-03-12 | 2003-11-28 | Nikon Corp | 光学系の保持装置、光学素子の位置調整方法、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法 |
WO2005062100A1 (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Nikon Corporation | 光学素子保持装置、鏡筒、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
EP1577693B1 (de) * | 2004-02-26 | 2011-07-13 | Carl Zeiss SMT GmbH | Objektiv mit wenigstens einem optischen Element |
JP5199068B2 (ja) * | 2005-05-09 | 2013-05-15 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学エレメント調整組立体 |
JP4886294B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2012-02-29 | キヤノン株式会社 | 光学要素駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2007206643A (ja) * | 2006-02-06 | 2007-08-16 | Canon Inc | 光学素子駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
EP2444829A1 (en) * | 2006-09-14 | 2012-04-25 | Carl Zeiss SMT GmbH | Optical element unit and method of supporting an optical element |
JP5165699B2 (ja) * | 2007-02-28 | 2013-03-21 | コーニング インコーポレイテッド | 一点の周囲に回動可能な光学マウント |
DE102009044957A1 (de) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | Carl Zeiss Smt Ag | Stützelemente für ein optisches Element |
-
2009
- 2009-09-24 DE DE102009044957A patent/DE102009044957A1/de not_active Withdrawn
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-
2011
- 2011-03-24 US US13/071,165 patent/US8988654B2/en active Active
-
2012
- 2012-10-24 JP JP2012234822A patent/JP5547261B2/ja active Active
-
2014
- 2014-03-24 JP JP2014060303A patent/JP6069247B2/ja active Active
-
2015
- 2015-03-16 US US14/658,459 patent/US9709895B2/en active Active
-
2017
- 2017-07-10 US US15/645,064 patent/US20180024438A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002350699A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-12-04 | Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag | 光学部材を光学システムに取り付けるための装置 |
JP2004031491A (ja) * | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Nikon Corp | 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置 |
KR20060021339A (ko) * | 2003-06-06 | 2006-03-07 | 가부시키가이샤 니콘 | 광학 소자 유지 장치, 경통, 노광 장치, 및 디바이스의제조방법 |
EP1632799A1 (en) * | 2003-06-06 | 2006-03-08 | Nikon Corporation | Optical element holding device, lens barrel, exposing device, and device producing method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20110056560A (ko) | 2011-05-30 |
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US8988654B2 (en) | 2015-03-24 |
JP5547261B2 (ja) | 2014-07-09 |
DE102009044957A1 (de) | 2010-04-08 |
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