KR101441470B1 - 액정 조성물의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 액정 표시 소자의 구성 부재로서 유용한 액정 조성물의 제조 방법에 관한 것이며, 적어도 1종의 융점이 30℃보다 큰 2종 이상의 액정 화합물에 마이크로파를 조사하는 것을 특징으로 하는 액정 조성물의 제조 방법을 제공하고, 본 발명의 액정 조성물의 제조 방법은, 2종 이상의 액정 화합물을 혼합하여 이루어지는 액정 조성물의 제조에 있어서, 제조되는 액정 조성물의 비저항 등을 지표로 한 신뢰성이 높고, 단기간에 효율적으로 제조할 수 있는 방법을 제공하는 과제를 해결할 수 있다.
마이크로파, 액정 조성물

Description

액정 조성물의 제조 방법{METHOD FOR PRODUCING LIQUID CRYSTAL COMPOSITION}
본 발명은, 액정 표시 소자의 구성 부재로서 유용한 액정 조성물의 제조 방법에 관한 것이다.
액정 표시 소자는, 시계, 전자 계산기를 비롯하여, 각종 측정 기기, 자동차용 패널, 워드프로세서, 전자 수첩, 프린터, 컴퓨터, 텔레비전 등에 사용되도록 되어 있다. 액정 표시 방식으로서는, 그 대표적인 것으로 TN(트위스티드 네마틱)형, STN(수퍼 트위스티드 네마틱)형, DS(동적 광산란)형, GH(게스트·호스트)형 혹은 고속 응답이 가능한 FLC(강유전성 액정) 등을 들 수 있다. 또한 구동 방식으로서도 종래의 스태틱 구동으로부터 멀티플렉스 구동이 일반적으로 되고, 또한 단순 매트릭스 방식, 최근에는 액티브 매트릭스 방식이 실용화되고 있다.
이들에 사용되는 액정 조성물은, 통상 2종류 이상의 화합물을 혼합하여 만들 수 있고, 액정 조성물의 물성(네마틱상 온도 범위, 굴절률 이방성(Δn), 유전율 이방성(Δε), 점도, 탄성 정수 등)이나 전기 광학적 특성(응답 시간, 역치 전압, V-T 곡선의 급준성(急峻性) 등)을 목적으로 하는 액정 소자의 표시 방식이나 구동 방식에 따라, 여러가지 값에 맞추기 위해서 혼합비가 결정되어 있지만, 대부분의 경 우에 대해 열, 광, 수분 등에 대한 신뢰성이 높은 것이 필요하다. 또한, 특히 액티브 매트릭스 구동 방식의 경우에는 그것에 더하여, 전압 유지율(VHR)이 충분히 높은 것이 중요하다. 액정 조성물의 신뢰성, 비저항 및 전압 유지율(VHR)을 높이기 위해서는, 조성물을 구성하는 개개의 액정 화합물의 각각에 대해 높은 신뢰성과 전압 유지율(VHR)이 달성되어 있을 필요가 있다. 그러나, 신뢰성, 비저항 및 전압 유지율(VHR)이 높은 액정 화합물을 사용해도, 그들의 혼합물인 액정 조성물을 제조할 때에 품질을 열화시켜 버리는 경우가 있다.
액정 조성물의 제조 방법으로서는, 가열에 의한 용해 혼합이나, 유기 용제에 액정 화합물을 용해시켜 혼합 후, 유기 용제를 제거시키는 방법이 제안되어 있다(특허문헌 1 참조). 그러나, 이들에 제안되어 있는 방법에서는, 품질을 열화시켜 버리는 경우가 많다. 예를 들면 가열에 의한 용해 혼합에서는, 가열시에 산소에 의해 액정 화합물이 산화 분해해 버려 액정 조성물의 비저항이나 전압 유지율(VHR)을 현저하게 저하시켜 버린다. 또한 액정 상한 전이 온도를 저하시켜, 액정 조성물의 물성이나 전기 광학 특성을 변화시켜 버리는 경우가 있다. 또한 유기 용제에 용해시키는 방법에서는, 유기 용제의 불순물이나 도펀트에 의해 액정 조성물의 비저항이나 전압 유지율(VHR)이 현저하게 저하하는 경우가 있다. 또한 유기 용제가 완전히 제거되지 않고 잔류해 버리면 마찬가지로 액정 조성물의 비저항을 저하시키거나, 전압 유지율을 현저하게 저하시키는 원인이 된다. 한편, 감압 상태에서 비교적 저온으로 가열하는 것에 의한 제조 방법도 제안되어 있고, 낮은 저항값을 갖는 액정 조성물의 제조에 대해 개시되어 있다(특허문헌 2 참조). 그러나, 당해 인용문헌 기재의 방법은 비교적 낮은 온도에서 제조가 가능하지만 가열이 필요하여, 가열에 의한 악영향을 완전하게 배제할 수는 없고, 가열에 수반하는 설비도 필요하다.
또한, 당해 인용문헌 기재의 방법은 감압에 수반하는 대규모 장치가 필요하게 되는 문제점을 갖고 있다. 즉, 감압하면서 액정 화합물을 용해하기 위해서는 감압에 견디는 용기가 필요하게 되고, 제조 장치는 필연적으로 감압에 견디도록 대규모의 것이 된다. 또, 감압은 일반적으로 진공 펌프를 사용하는 것이 일반적이지만, 진공 펌프에 사용되는 오일 미스트의 역류를 막기 위한 트랩, 트랩을 냉각하기 위한 냉각 장치도 부수하는 설비로서 필요하다. 이와 같이, 감압 하에 액정 조성물을 제조하는 것은 설비의 비대화를 초래하고, 증대하는 액정 조성물의 수요에 대응하기 위해서 과대한 투자가 부득이하다.
이상과 같이, 고품위의 액정 조성물을 보다 간소한 설비로, 효율적으로 제조하는 방법의 개발이 요망되고 있었다.
특허문헌 1 : 일본 특개평5-105876호 공보(5페이지 우란)
특허문헌 2 : 일본 특개2002-194356호 공보(4페이지 실시예)
[발명의 개시]
[발명이 해결하고자 하는 과제]
본원 발명이 해결하고자 하는 과제는, 2종 이상의 액정 화합물을 혼합하여 이루어지는 액정 조성물의 제조에 있어서, 제조되는 액정 조성물의 신뢰성이 높고, 효율적으로 제조할 수 있는 방법을 제공하는 것에 있다.
[과제를 해결하기 위한 수단]
상기 과제의 해결에 대해 본원 발명자들은 예의 검토한 결과, 본원 발명의 완성에 이르렀다. 본원 발명은, 적어도 1종의 융점이 30℃보다 큰 2종 이상의 액정 화합물에 마이크로파를 조사하는 것을 특징으로 하는 액정 조성물의 제조 방법을 제공한다.
[발명의 효과]
본 발명의 제조 방법은, 감압 장치, 가열 장치 등의 대규모 설비를 요하지 않고, 신뢰성이 높은 고품위의 액정 조성물을 제조하는 것이 가능하다. 즉, 비저항의 저하를 억제하여, 불순물의 생성이 적고, 물성값의 변동이 적은, 높은 신뢰성이 요구되고 있는 액정 조성물의 제조에 매우 실용적이다.
[발명을 실시하기 위한 최량의 형태]
이하에 본 발명의 일례에 대해 설명한다.
본원 발명의 제조 방법은, 유기 용매 등의 용제를 사용하지 않고, 적어도 1종의 융점이 30℃보다 큰 2종 이상의 액정 화합물을 함유하는 액정 화합물에 마이크로파를 조사함으로써, 효율적으로 액정 조성물을 제조하는 것이다. 특히, 2종의 융점이 30℃보다 큰 2종 이상의 액정 화합물을 사용한 액정 조성물의 제조에 유효하며, 5종 이상의 융점이 30℃보다 큰 2종 이상의 액정 화합물을 사용한 액정 조성물의 제조에 더욱 유효하다.
융점이 30℃ 이상인 화합물의 함유율은, 60% 이상이 바람직하고, 70% 이상이 보다 바람직하고, 80% 이상이 특히 바람직하다.
액정 조성물에는 액정 화합물 이외의 첨가제를 함유하고 있어도 좋다. 첨가제로서는, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 대전 방지제, 계면활성제 등이 사용 가능하다. 또, 액정성 또는 비액정성의 광학 활성 화합물을 함유하고 있어도 좋다. 액정 골격을 갖지 않는 화합물은 첨가량이 너무 많으면 액정의 특성에 악영향을 미치기 때문에, 액정 골격을 갖지 않는 화합물을 첨가하는 경우 합계로 5% 이하의 함유율이 바람직하고, 3% 이하가 보다 바람직하고, 1% 이하가 특히 바람직하다.
마이크로파의 조사 시간은, 1시간 이하인 것이 바람직하고, 30분 이하인 것이 보다 바람직하다. 마이크로파 조사시의 온도는 너무 높으면 제조되는 조성물의 품질이 저하하고, 너무 낮으면 제조에 시간이 걸리기 때문에 최적의 온도가 있다. 따라서, 40℃로부터, 제조되는 액정 조성물의 액정상 상한 온도+50℃의 범위인 것이 바람직하고, +30℃의 범위인 것이 보다 바람직하다.
사용하는 마이크로파의 주파수는, 300MHz 이상 3THz 이하가 바람직하고, 500MHz 이상이 보다 바람직하다. 조사 강도는, 100W 이상이 바람직하고, 1kW 이상이 보다 바람직하다.
본원 발명의 제조 방법은, 낮은 온도에서 액정 조성물의 제조가 가능하기 때문에, 통상의 대기 분위기 하에서도 고품위의 액정 조성물을 제조하는 것이 가능하다. 그러나, 보다 고품위의 액정 조성물을 제조하기 위해서, 마이크로파의 조사를 밀폐 조건 하에서 행하는 것이 바람직하고, 불활성 가스 분위기 하에서 행하는 것이 보다 바람직하다. 불활성 가스로서는, 헬륨, 네온, 아르곤 등의 희(希)가스, 질소 가스 등을 호적(好適)하게 사용할 수 있다.
본원 발명의 제조 방법은 감압 수단을 사용할 필요는 없지만, 제조하는 조성물을 감압 상태에서도 적용하는 것이 가능하다.
본원 발명의 제조 방법으로 제조하는 액정 조성물에 특별히 제한은 없지만, 감압 하에서 제조한 경우에 있어서는, 휘발하는, 비교적 분자량이 작은 액정 화합물을 대량으로 함유하는 액정 조성물의 제조가 특히 바람직하다.
액정 화합물의 분자량으로서는, 300 이하의 화합물을 함유하는 것이 바람직하고, 250 이하의 화합물을 함유하는 것이 보다 바람직하다.
보다 효율적으로 액정 조성물을 제조하기 위해서는, 구성되는 액정 분자의 분극에 치우침이 있는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 구성되는 액정 화합물에 특정한 구조 또는 관능기를 갖고 있는 경우 보다 효율적인 제조가 가능하게 된다. 바람직한 구조로서는, 액정 화합물의 분자 중에 적어도 하나의 방향환을 갖고 있는 것이 바람직하다. 또, 바람직한 관능기로서는, 할로겐, 시아노기 등의 전자 흡인성의 관능기가 바람직하고, 이들 관능기를 분자 중에 갖고 있는 화합물이 바람직하고, 방향환에 상기 전자 흡인성 관능기를 갖고 있는 화합물이 보다 바람직하다.
구성되는 화합물로서는 구체적으로는, 일반식(I)으로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure 112009064158085-pct00001
(식 중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로 불소 치환되어 있어도 좋은 탄소 원자수 1∼16의 알킬기, 탄소 원자수 1∼16의 알콕시기, 탄소 원자수 2∼16의 알케닐기, 탄소 원자수 3∼16의 알케닐옥시기, 불소 원자, 염소 원자 또는 시아노기를 나타내고, A, B 및 C는, 각각 독립적으로 1,4-페닐렌기, 2 또는 3-플루오로-1,4-페닐렌기, 2,3-디플루오로-1,4-페닐렌기, 3,5-디플루오로-1,4-페닐렌기, 2 또는 3-클로로-1,4-페닐렌기, 2,3-디클로로-1,4-페닐렌기, 3,5-디클로로-1,4-페닐렌기, 2-메틸-1,4-페닐렌기, 3-메틸-1,4-페닐렌기, 나프탈렌-2,6-디일기, 페난트렌-2,7-디일기, 플루오렌-2,7-디일기, 트랜스-1,4-시클로헥실렌기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기, 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기, 트랜스-1,3-디옥산-2,5-디일기, 피리딘-2,5-디일기, 피리미딘-2,5-디일기, 피라진-2,5-디일기 또는 피리다진-2,5-디일기를 나타내고, 이들 기는 또한 1∼3의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 좋고, m은 0, 1 또는 2를 나타내고, Z1 및 Z2는 각각 독립적으로 단결합, -CH2CH2-, -(CH2)4-, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -CH=CH-, -CF=CF-, -CH=N-N=CH- 또는 -C≡C-를 나타낸다. 단, m이 2의 경우, 2개의 Z2 및 C는, 각각 독립적으로 동일해도 좋고, 달라도 좋다)
일반식(I)에 있어서, A, B 및 C의 적어도 하나가 방향환인 것이 바람직하고, 1,4-페닐렌기, 2 또는 3-플루오로-1,4-페닐렌기, 2,3-디플루오로-1,4-페닐렌기, 3,5-디플루오로-1,4-페닐렌기, 2 또는 3-클로로-1,4-페닐렌기, 2,3-디클로로-1,4-페닐렌기, 3,5-디클로로-1,4-페닐렌기, 2-메틸-1,4-페닐렌기, 3-메틸-1,4-페닐렌기, 나프탈렌-2,6-디일기, 페난트렌-2,7-디일기, 플루오렌-2,7-디일기, 1,2,3,4-테 트라히드로나프탈렌-2,6-디일기, 피리딘-2,5-디일기, 피리미딘-2,5-디일기, 피라진-2,5-디일기 또는 피리다진-2,5-디일기가 보다 바람직하고, 1,4-페닐렌기, 2 또는 3-플루오로-1,4-페닐렌기, 2,3-디플루오로-1,4-페닐렌기, 3,5-디플루오로-1,4-페닐렌기가 특히 바람직하다.
R1 및 R2는, 한쪽이 불소 원자, 염소 원자 또는 시아노기를 나타내고, 다른 한쪽이 탄소 원자수 1∼16의 알킬기, 탄소 원자수 1∼16의 알콕시기, 탄소 원자수 2∼16의 알케닐기, 탄소 원자수 3∼16의 알케닐옥시기를 나타내는 화합물이 바람직하다.
본원 발명의 제조 방법에 의해 TFT용 액정 조성물을 제조하는 경우, 일반식(I)으로 표시되는 화합물에 있어서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 불소 원자, 탄소 원자수 1∼16의 알킬기 또는 탄소 원자수 2∼16의 알케닐기를 나타내는 화합물이 바람직하다. 이 경우, 얻어진 액정 조성물은 높은 전압 유지율을 갖는다.
이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상술하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하의 실시예 및 비교예의 조성물에 있어서의 「%」는 『질량%』를 의미한다.
마이크로파의 조사는 후지덴파고기사제의 마이크로파 조사 장치(특별 주문품)를 사용하여 행했다(고주파 출력 : 6kW, 발진 주파수 : 2450MHz±50MHz). 제작한 액정 조성물의 분석에는 이하의 장치를 사용했다.
가스 크로마토그래피 : HEWLETT-PACKARD사제 HP6890
신뢰성의 확인에는 액정 조성물의 비저항을 측정, 가스 크로마토그래피에 의한 불순물의 생성 및 배합한 화합물의 분해의 확인, 전압 유지율이나 전류값, 물성값의 측정에 의해 행했다.
(실시예1) 액정 조성물의 제조
이하의 화합물에 의해 구성되는, 액정 조성물(STN1, 액정 상한 온도 95.1℃)의 제조를 행했다.
Figure 112009064158085-pct00002
용량 150ml의 세퍼러블 플라스크에, 상기 각 화합물을 기재한 양 계량했다. 이 세퍼러블 플라스크를 마이크로파 발생 장치에 셋팅하고, 1kW의 출력으로 마이크로파를 조사하여 가열했다. 10분 조사 후, 마이크로파의 조사를 정지하고, 세퍼러블 플라스크를 냉각하고 마이크로파 조사 장치로부터 취출하여, 네마틱 액정 상태의 STN1을 100g 얻었다.
제작한 액정 조성물의 비저항을 측정하자, 1.1×1011Ωcm이었다. 또한 제작한 액정 조성물을 가스 크로마토그래피로 분석한 바, 배합한 화합물 이외의 물질은 혼입·생성하지 않고, 배합한 화합물의 분해도 보이지 않았다. 제작한 액정 조성물의 물성을 측정한 바 원하는 특성이 얻어졌다. 이 액정을 STN 패널에 주입하고 전기 광학적 특성을 측정한 바 원하는 특성이 얻어졌다. 이상으로부터, 실시예1의 액정 조성물은 매우 높은 신뢰성을 갖고 있는 것이 명백하다.
본원 발명의 제조 방법은, 대규모 설비를 필요로 하지 않고 40분 사이에 고품질의 액정 조성물의 제조가 가능하였다.
(비교예1) 감압 하에 있어서의 액정 조성물의 제조
실시예1과 동일하게 액정 조성물(STN1)을 일본 특개2002-194356호 공보에 기재되어 있는 방법에 따라 제조를 행했다.
가지 모양 플라스크에 소정의 액정 화합물을 계량했다. 이 가지 모양 플라스크를 로터리 이베이퍼레이터에 부착했다. 가지 모양 플라스크를 50℃의 오일 배쓰(oil bath)에 침지하고, 회전시켰다. 로터리 이베이퍼레이터를 진공 펌프에 의해 5분에 걸쳐 천천히 20kPa로 감압했다. 오일 배쓰의 온도를 110℃로 설정하고 5℃/min으로 승온했다. 액정이 액체 상태로 변화하고 투명해지고 나서 30분 후, 오일 배쓰를 수욕(水浴)으로 바꾸어 냉각했다. 실온까지 내린 후, 회전을 멈추고, 감압을 정지했다. 플라스크 내를 질소 가스로 치환함으로써 대기압으로 되돌린 후, 가지 모양 플라스크를 로터리 이베이퍼레이터로부터 떼내어, 네마틱 액정 상태 의 STN1을 100g 얻었다.
제작한 액정 조성물의 비저항을 측정하자, 1.2×1011Ωcm이었다. 제작한 액정 조성물을 가스 크로마토그래피로 분석한 바, 배합한 화합물 이외의 물질은 혼입·생성하지 않고, 배합한 화합물의 분해도 보이지 않았다. 제작한 액정 조성물의 물성을 측정한 바 원하는 특성이 얻어졌다. 그러나, 비교적 분자량이 낮은 화합물의 약간의 휘발이 확인되고, 조성이 변해 버렸다. 또, 제조에 대규모 설비를 필요로 하는 감압 장치나 가열 장치를 사용할 필요가 있는 데다, 긴 제조 시간이 필요하다.
(비교예2) 대기 하에 있어서의 액정 조성물의 제조
실시예1과 동일하게 액정 조성물(STN1)을 일본 특개평5-105876호 공보에 기재되어 있는 방법에 따라 제조를 행했다.
가지 모양 플라스크에 소정의 액정 화합물을 계량했다. 이 가지 모양 플라스크 중에 자석식 회전자를 넣어, 50℃의 핫플레이트에 두고, 핫플레이트의 온도를 5℃/min로 110℃로 승온하면서 회전자를 회전시킴으로써 교반했다. 액정이 액체 상태로 변화하고 투명해지고 나서 30분 후 핫플레이트의 가열을 멈추고, 서서히 실온으로 되돌렸다. 네마틱 액정 상태의 STN1을 100g 얻었다.
제작한 액정 조성물의 비저항을 측정하자, 1.1×109Ωcm이었다. 제작한 액정 조성물을 가스 크로마토그래피로 분석한 바, 배합한 화합물 이외의 물질이 다수 출현하고 있고, 분석의 결과, 액정 조성물을 구성하는 액정 화합물이 산화 분해하 여 있음을 알 수 있었다. 액정 상한점 이전 온도를 측정하자 94.0℃로 저하하여 있고, 품질의 열화가 컸다. 비교예2의 제조 방법에 있어서는 제조한 액정 조성물의 신뢰성의 점에서 실시예에 뒤지는 것이 명백하다.
(실시예2) 액정 조성물의 제조
이하의 화합물에 의해 구성되는, 액정 조성물(TFT1, 액정 상한 온도 68.0℃)의 제조를 행했다.
Figure 112009064158085-pct00003
용량 150ml의 세퍼러블 플라스크에, 상기 각 화합물을 기재한 양 계량했다. 이 세퍼러블 플라스크를 마이크로파 발생 장치에 셋팅하고, 1kW의 출력으로 마이크로파를 조사하여 가열했다. 10분 조사 후, 마이크로파의 조사를 정지하고, 세퍼러블 플라스크를 냉각하고 마이크로파 조사 장치로부터 취출하여, 네마틱 액정 상태 의 TFT1을 100g 얻었다.
제작한 액정 조성물의 비저항을 측정하자, 1.5×1014Ωcm이었다. 또한 제작한 액정 조성물을 가스 크로마토그래피로 분석한 바, 배합한 화합물 이외의 물질은 혼입·생성하지 않고, 배합한 화합물의 분해도 보이지 않았다. 제작한 액정 조성물의 물성을 측정한 바 원하는 특성이 얻어졌다. 이 액정을 TFT 패널에 주입하고 전기 광학적 특성을 측정한 바 원하는 특성이 얻어졌다. 또, TFT 패널에 사용한 경우의 전압 유지율도 충분히 높은 것이었다.
본원 발명의 제조 방법은, 대규모 설비를 필요로 하지 않고 40분 사이에 고품질의 액정 조성물의 제조가 가능하였다. 이상으로부터, 실시예2의 액정 조성물은 매우 높은 신뢰성을 갖고 있는 것이 명백하다.
(비교예3) 감압 하에 있어서의 액정 조성물의 제조
실시예2와 동일하게 액정 조성물(TFT1)을 일본 특개2002-194356호 공보에 기재되어 있는 방법에 따라 제조를 행했다.
가지 모양 플라스크에 소정의 액정 화합물을 계량했다. 이 가지 모양 플라스크를 로터리 이베이퍼레이터에 부착했다. 가지 모양 플라스크를 50℃의 오일 배쓰에 침지하고, 회전시켰다. 로터리 이베이퍼레이터를 진공 펌프에 의해 5분에 걸쳐 천천히 20kPa로 감압했다. 오일 배쓰의 온도를 85℃로 설정하고 5℃/min으로 승온했다. 액정이 액체 상태로 변화하고 투명해지고 나서 30분 후, 오일 배쓰를 수욕으로 바꾸어 냉각했다. 실온까지 내린 후, 회전을 멈추고, 감압을 정지했다. 플라스크 내를 질소 가스로 치환함으로써 대기압으로 되돌린 후, 가지 모양 플라스크를 로터리 이베이퍼레이터로부터 떼내어, 네마틱 액정 상태의 TFT1을 100g 얻었다.
제작한 액정 조성물의 비저항을 측정하자, 1.2×1014Ωcm이었다. 제작한 액정 조성물을 가스 크로마토그래피로 분석한 바, 배합한 화합물 이외의 물질은 혼입·생성하지 않고, 배합한 화합물의 분해도 보이지 않았다. 제작한 액정 조성물의 물성을 측정한 바 원하는 특성이 얻어졌다. 그러나, 비교적 분자량이 낮은 화합물의 약간의 휘발이 확인되어, 조성이 변해 버렸다. 또, 제조에 대규모 설비를 필요로 하는 감압 장치나 가열 장치를 사용할 필요가 있는 데다, 긴 제조 시간이 필요하다.
(비교예4) 대기 하에 있어서의 액정 조성물의 제조
실시예2와 동일하게 액정 조성물(TFT1)을 일본 특개평5-105876호 공보에 기재되어 있는 방법에 따라 제조를 행했다.
가지 모양 플라스크에 소정의 액정 화합물을 계량했다. 이 가지 모양 플라스크 중에 자석식 회전자를 넣어, 50℃의 핫플레이트에 두고, 핫플레이트의 온도를 5℃/min로 85℃로 승온하면서 회전자를 회전시킴으로써 교반했다. 액정이 액체 상태로 변화하고 투명해지고 나서 30분 후 핫플레이트의 가열을 멈추고, 서서히 실온으로 되돌렸다. 네마틱 액정 상태의 TFT1을 100g 얻었다.
제작한 액정 조성물의 비저항을 측정하자, 1.3×1013Ωcm이었다. 제작한 액 정 조성물을 가스 크로마토그래피로 분석한 바, 배합한 화합물 이외의 물질이 다수 출현하고 있고, 분석의 결과, 액정 조성물을 구성하는 액정 화합물이 산화 분해하여 있는 것이 알 수 있었다. 액정 상한점 이전 온도를 측정하자 66.8℃로 저하하여 있고, 품질의 열화가 컸다. 비교예4의 제조 방법에 있어서는 제조한 액정 조성물의 신뢰성의 점에서 실시예에 뒤지는 것이 명백하다.
본 발명의 제조 방법은, 비저항의 저하를 억제하여, 불순물의 생성이 적고, 물성값의 변동이 적은, 높은 신뢰성이 요구되고 있는 액정 조성물의 제조에 매우 실용적이다.

Claims (7)

  1. 적어도 1종의 융점이 30℃보다 큰 2종 이상의 하기 일반식 (I)로 표시되는 액정화합물을, 동일 용기에 넣은 상태로, 유기용매의 용제를 사용하지 않고, 마이크로파를 조사하는 것을 특징으로 하는 액정 조성물의 제조 방법.
    Figure 112014044267855-pct00004
    (식 중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로 불소 치환되어 있어도 좋은 탄소 원자수 1∼16의 알킬기, 탄소 원자수 1∼16의 알콕시기, 탄소 원자수 2∼16의 알케닐기, 탄소 원자수 3∼16의 알케닐옥시기, 불소 원자, 염소 원자 또는 시아노기를 나타내고, A, B 및 C는, 각각 독립적으로 1,4-페닐렌기, 2 또는 3-플루오로-1,4-페닐렌기, 2,3-디플루오로-1,4-페닐렌기, 3,5-디플루오로-1,4-페닐렌기, 2 또는 3-클로로-1,4-페닐렌기, 2,3-디클로로-1,4-페닐렌기, 3,5-디클로로-1,4-페닐렌기, 2-메틸-1,4-페닐렌기, 3-메틸-1,4-페닐렌기, 나프탈렌-2,6-디일기, 페난트렌-2,7-디일기, 플루오렌-2,7-디일기, 트랜스-1,4-시클로헥실렌기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기, 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기, 트랜스-1,3-디옥산-2,5-디일기, 피리딘-2,5-디일기, 피리미딘-2,5-디일기, 피라진-2,5-디일기 또는 피리다진-2,5-디일기를 나타내고, 이들 기는 또한 1∼3의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 좋고, m은 0, 1 또는 2를 나타내고, Z1 및 Z2는 각각 독립적으로 단결합, -CH2CH2-, -(CH2)4-, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -CH=CH-, -CF=CF-, -CH=N-N=CH- 또는 -C≡C-를 나타낸다. 단, m이 2의 경우, 2개의 Z2 및 C는, 각각 독립적으로 동일해도 좋고, 달라도 좋다)
  2. 제1항에 있어서,
    액정 화합물 중, 적어도 2종의 융점이 30℃보다 큰 제조 방법.
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    마이크로파의 조사를 감압 하에 행하는 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    마이크로파의 조사를 불활성 가스 분위기 하에서 행하는 제조 방법.
  6. 삭제
  7. 제4항에 있어서,
    감압 상태를 대기압으로 되돌릴 때에 불활성 가스를 사용하는 제조 방법.
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