KR101425114B1 - 광학 필름, 광학 시트 및 액정 표시 모듈 - Google Patents

Abstract

외력에 의해 생기는 위상차의 변화가 작고, 광학적 균일성이 우수하며, 정밀한 화상 표시가 가능한 광학 필름, 광학 시트 및 이러한 광학 시트를 사용한 액정 표시 모듈의 제공을 목적으로 한다.
본 발명의 광학 필름은 시클로올레핀 코폴리머를 주성분으로서 가지고 있다. 본 발명의 광학 필름은 광탄성계수가 10×10^-12/Pa 이하이면 된다. 본 발명의 광학 필름은 평균 두께가 10μm 이상 500μm 이하이면 된다. 본 발명의 광학 필름은 리타데이션값(Re)의 절대값이 50nm 이하이면 된다. 본 발명의 광학 시트는 당해 광학 필름의 일방의 면에 투명 도전층, 하드 코트층, 광확산층 또는 프리즘층을 가지는 광학 시트이다. 본 발명의 액정 표시 모듈은 당해 광학 시트를 구비하고 있다.

Description

광학 필름, 광학 시트 및 액정 표시 모듈{OPTICAL FILM, OPTICAL SHEET AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY MODULE}

본 발명은 수축 응력에 의한 위상차의 변화가 작고 광학적 균일성이 우수한 광학 필름, 광학 시트 및 액정 표시 모듈에 관한 것이다.

액정 표시 모듈(LCD)은 박형, 경량, 저소비 전력 등의 특징을 살려 플랫 패널 디스플레이로서 다용되고 있으며, 그 용도는 휴대전화, 휴대정보단말(PDA), 퍼스널컴퓨터, 텔레비전 등의 정보용 표시 디바이스로서 해마다 확대되고 있다. 최근, 액정 표시 모듈에 요구되는 특성으로서는 용도에 따라 다양하지만, 밝음(고휘도화), 보기 편함(광시야각화), 에너지 절약화, 박형 경량화, 대화면화 등을 들 수 있다.

이러한 액정 표시 모듈은 일반적으로는 액정 표시 소자, 각종 광학 시트 및 백라이트가 표면측으로부터 이면측으로 이 순서대로 중첩된 구조를 가지고 있다. 또, 이러한 액정 표시 모듈에서 사용되는 광학 시트로서는 액정 셀을 협지하여 구성되는 편광판을 보호하는 편광판 보호 시트나, 액정 표시 소자와 백라이트 사이에 배열설치되는 광확산 시트나 프리즘 시트, 투명 전극 등으로서 사용되는 투명 도전성 시트 등이 존재하고 있다.

이러한 광학 시트는 일반적으로는 기재층 및 이 기재층에 적층되는 광학 기능층을 가지고 있다. 그리고, 이러한 기재층을 구성하는 수지로서는 종래 서로 교차하는 2방향으로 연신된 소위 2축 연신 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름이나 폴리카보네이트 등이 사용되고 있다(일본 특허 공개 2010-44146호 공보 참조). 또, 편광판 보호 시트의 기재층을 구성하는 수지로서는 폴리비닐알코올 편광자와의 접착이 용이한 트리아세틸셀룰로오스 필름 등이 사용되고 있다(일본 특허 공개 2006-235341호 공보 참조).

그러나, 기재층을 구성하는 수지로서 종래 사용되고 있는 2축 연신 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 트리아세틸셀룰로오스 등은 광탄성계수가 크기 때문에, 디스플레이의 발열 등에 의한 외력에 의해 생기는 위상차의 변화가 크다. 그 결과, 이러한 수지가 기재층에 사용된 광학 시트를 구비하는 액정 표시 모듈은 액정 모니터의 대화면화, 박형화에 따라, 화상의 정밀한 표시가 곤란하게 되고 있었다.

일본 특허 공개 2010-44146호 공보 일본 특허 공개 2006-235341호 공보

본 발명은 이러한 문제를 감안하여 이루어진 것으로, 외력에 의해 생기는 위상차의 변화가 작고, 광학적 균일성이 우수하며, 정밀한 화상 표시가 가능한 광학 필름, 광학 시트 및 이러한 광학 시트를 사용한 액정 표시 모듈의 제공을 목적으로 하는 것이다.

상기 과제를 해결하기 위해서 이루어진 발명은,

시클로올레핀 코폴리머를 주성분으로 하는 광학 필름이다.

당해 광학 필름은 광탄성계수가 작은 시클로올레핀 코폴리머를 주성분으로 하고 있다. 그 결과, 당해 광학 필름은 디스플레이의 발열 등에 의한 외력에 의해 생기는 위상차의 변화를 억제할 수 있다. 따라서, 당해 광학 필름은 광학적 균일성이 우수하여, 정밀한 화상 표시를 행할 수 있다.

당해 광학 필름은 광탄성계수가 10×10^-12/Pa 이하이면 된다. 이것에 의해, 고온고습하에 노출된 경우의 위상차의 변화를 저감할 수 있고, 나아가서는 화면의 시인성의 저하를 억제하며, 또한 정밀한 화상 표시를 행할 수 있다.

당해 광학 필름은 평균 두께가 10μm 이상 500μm 이하이면 된다. 당해 광학 필름의 평균 두께가 상기 범위 미만이면, 필름의 강도, 휨 방지성 등의 특성이 저하되고, 액정 표시 장치의 대화면화에 대응할 수 없게 될 우려가 있다. 한편, 당해 광학 필름의 평균 두께가 상기 범위를 넘으면, 액정 표시 장치의 휘도가 저하되어 버릴 우려가 있고, 또 액정 표시 장치의 박형화의 요구에 반하게 되기도 한다.

당해 광학 필름은 리타데이션값(Re)의 절대값이 50nm 이하이면 된다. 이것에 의해, 투과 광선의 편광 방향의 변환 작용을 억제할 수 있고, 또 화상의 뒤틀림 등의 폐해를 억제할 수 있다.

따라서, 상기 광학 필름의 적어도 일방의 면에 투명 도전층, 하드 코트층, 광확산층 또는 프리즘층을 구비하는 광학 시트는 광학 특성, 내열안정성 등을 향상시킬 수 있고, 나아가서는 외력에 의해 생기는 위상차의 변화를 억제할 수 있다. 그 결과, 당해 광학 시트는 정밀한 화상 표시를 행할 수 있는 동시에, 액정 표시 장치의 대화면화, 박형화를 촉진할 수 있다.

또, 당해 광학 시트를 가지는 액정 표시 모듈에 의하면, 당해 광학 시트가 우수한 광학 특성, 내열안정성 등을 가지고 있기 때문에, 정밀한 화상 표시를 행할 수 있는 동시에, 액정 표시 장치의 대화면화, 박형화를 촉진할 수 있다.

또한, 본 발명에 있어서 「리타데이션값(Re)」은 당해 광학 필름 표면의 평면 상의 결정축 방향 중 직교하는 진상축 방향 및 지상축 방향을 x방향 및 y방향, 광학 필름의 두께를 d, x방향 및 y방향의 굴절율을 nx 및 ny(nx≠ny)로 하고, Re=(ny-nx)d로 계산되는 값을 말한다.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 광학 필름 및 광학 시트는 외력에 의해 생기는 위상차의 변화를 억제하고, 광학적 균일성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 본 발명의 광학 필름, 광학 시트 및 액정 표시 모듈에 의하면, 상세한 화상 표시를 행할 수 있는 동시에, 액정 표시 장치의 대화면화, 박형화를 촉진할 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 광학 필름을 나타내는 모식적 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 따른 투명 도전층을 가지는 광학 시트를 나타내는 모식적 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시형태에 따른 하드 코트층을 가지는 광학 시트를 나타내는 모식적 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시형태에 따른 광확산층을 가지는 광학 시트를 나타내는 모식적 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시형태에 따른 프리즘층을 가지는 광학 시트를 나타내는 모식적 단면도이다.

이하, 적당히 도면을 참조하면서 본 발명의 실시형태를 상세히 설명한다.

도 1의 광학 필름(1)은 시클로올레핀 코폴리머를 주성분으로서 가지고 있다.

광학 필름(1)은 광선을 투과시킬 필요가 있기 때문에 투명 특히 무색 투명으로 형성되어 있다.

광학 필름(1)에 사용되는 시클로올레핀 코폴리머는 환상 올레핀과 에틸렌 등의 올레핀의 공중합체인 비결정성의 환상 올레핀계 수지를 말한다. 환상 올레핀으로서는 다환식의 환상 올레핀과 단환식의 환상 올레핀이 존재하고 있다. 이러한 다환식의 환상 올레핀으로서는 노르보르넨, 메틸노르보르넨, 디메틸노르보르넨, 에틸노르보르넨, 에틸리덴노르보르넨, 부틸노르보르넨, 디시클로펜타디엔, 디히드로디시클로펜타디엔, 메틸디시클로펜타디엔, 디메틸디시클로펜타디엔, 테트라시클로도데센, 메틸테트라시클로도데센, 디메틸시클로테트라도데센, 트리시클로펜타디엔, 테트라시클로펜타디엔 등을 들 수 있다. 또, 단환식의 환상 올레핀으로서는 시클로부텐, 시클로펜텐, 시클로옥텐, 시클로옥타디엔, 시클로옥타트리엔, 시클로도데카트리엔 등을 들 수 있다.

광학 필름(1)은 투명성 및 원하는 강도를 해치지 않는 한 다른 임의 성분을 포함해도 되는데, 상기 시클로올레핀 코폴리머를 바람직하게는 90질량% 이상 포함하고, 더욱 바람직하게는 98질량% 이상 포함한다. 여기서의 임의 성분의 예로서는 자외선 흡수제, 안정제, 활제, 가공조제, 가소제, 내충격조제, 위상차 저감제, 광택제거제, 항균제, 곰팡이방지제 등을 들 수 있다.

광학 필름(1)의 두께(평균 두께)는 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들면 10μm 이상 500μm 이하가 바람직하고, 50μm 이상 450μm 이하가 보다 바람직하며, 80μm 이상 400μm 이하가 더욱 바람직하고, 90μm 이상 300μm 이하가 더욱 바람직하며, 100μm 이상 200μm 이하가 특히 바람직하다. 광학 필름(1)의 두께가 상기 범위 미만이면, 광학 필름(1)의 강도, 휨 방지성 등의 특성이 저하되고, 액정 표시 장치의 대화면화에 대응할 수 없게 될 우려가 있다. 한편, 광학 필름(1)의 평균 두께가 상기 범위를 넘으면, 액정 표시 장치의 휘도가 저하되어 버릴 우려가 있고, 또 액정 표시 장치의 박형화의 요구에 반하게 되기도 한다.

광학 필름(1)의 광탄성계수는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 10×10^-12/Pa 이하, 바람직하게는 9×10^-12/Pa 이하, 특히 바람직하게는 8×10^-12/Pa 이하가 된다. 광학 필름(1)의 광탄성계수가 상기 범위를 넘으면, 고온고습하에 노출된 경우의 위상차의 변화가 커지고, 시인성이 저하될 우려가 있다. 한편, 광학 필름(1)의 광탄성계수가 상기 범위 이내이면, 고온고습하에 노출된 경우의 위상차의 변화를 저감할 수 있고, 나아가서는 화면의 시인성의 저하를 억제하여, 정밀한 화상 표시를 행할 수 있다.

광학 필름(1)의 리타데이션값(Re)의 절대값은 특별히 한정되지 않지만 예를 들면 50nm 이하, 바람직하게는 15nm 이하, 특히 바람직하게는 5nm 이하가 된다. 광학 필름(1)은 이와 같이 리타데이션값(Re)을 작게 함으로써, 예를 들면 광학 필름(1)이 광확산 시트에 사용된 경우에는, 이 광확산 시트에 의한 투과 광선의 편광 방향의 변환 작용을 억제하고, 편광판 등의 투과축 방향으로의 편광의 최적화 및 제어성에 대하여 당해 광확산 시트가 미치는 영향을 억제할 수 있다. 또, 광학 필름(1)이 편광판의 표면에 배열설치된 경우에는 화상의 뒤틀림 등의 폐해를 억제할 수 있다.

광학 필름(1)으로서는 통상 산술 평균 표면 거칠기(Ra)가 0.02 이상 0.06 이하인 것을 사용할 수 있다. 또 광학 필름(1)에는 필요에 따라서 매트 처리를 행할 수 있다. 이와 같은 매트 처리를 시행한 광학 필름(1)의 산술 평균 표면 거칠기(Ra)는 바람직하게는 0.07 이상 2 이하, 더욱 바람직하게는 0.1 이상 1 이하로 할 수 있다. 광학 필름(1)의 표면 거칠기를 이러한 범위로 제어함으로써, 필름 원반 제조후의 처리에 있어서의 흠집 발생이 방지되고, 취급성이 향상된다. 또, 일반적으로 제조된 필름 원반의 권취를 행할 때에는 필름의 폭방향의 양단을 엠보스 가공(널링 처리)하여 블로킹을 방지할 필요가 있다. 필름에 널링 처리를 행한 경우, 필름의 양단의 처리 개소는 사용할 수 없게 되기 때문에, 그 부분은 재단·폐기해야한다. 또, 필름의 권취 작업에 있어서는, 흠집 발생을 방지하기 위해서 보호막에 의해 마스킹을 행하는 경우도 있다. 그러나, 광학 필름(1)의 산술 평균 표면 거칠기를 상기와 같은 소정의 범위로 함으로써, 널링 처리를 행하지 않고 블로킹을 방지할 수 있으므로, 제조 공정이 간략화되고, 필름폭 방향의 양단 부분도 사용 가능하게 되는 동시에, 필름의 고장을 발생시키지 않고, 길게 권취할 수 있다. 또, 광학 필름(1)이 적당한 표면 거칠기를 가짐으로써, 권취시의 흠집 발생이 효과적으로 억제되어, 상기와 같은 마스킹도 불필요하게 된다.

광학 필름(1) 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 합성 수지의 플레이크 원료 및 가소제 등의 첨가제를 종래 공지의 혼합 방법으로 혼합하고, 미리 열가소성 수지 조성물로 하고 나서, 광학 필름을 제조할 수 있다. 이 열가소성 수지 조성물은 예를 들면 옴니믹서 등의 혼합기로 프리블렌드한 후, 얻어진 혼합물을 압출 혼련함으로써 얻어진다. 이 경우, 압출 혼련에 사용하는 혼련기는 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들면, 단축 압출기, 2축 압출기 등의 압출기나 가압 니더 등의 종래 공지의 혼련기를 사용할 수 있다.

광학 필름(1)의 성형의 방법으로서는, 예를 들면, 용액 캐스트법(용액 유연법), 용융 압출법, 캘린더법, 압축 성형법 등 공지의 방법을 들 수 있다. 이들 중에서도 용액 캐스트법(용액 유연법), 용융 압출법이 바람직하다. 이 때, 미리 압출 혼련한 열가소성 수지 조성물을 사용해도 되고, 합성 수지와, 가소제 등의 다른 첨가제를 따로따로 용매에 용해하여 균일한 혼합액으로 한 후, 용액 캐스트법(용액 유연법)이나 용융 압출법의 필름 성형 공정에 제공해도 된다.

용액 캐스트법(용액 유연법)에 사용되는 용매로서는 예를 들면 클로로포름, 디클로로메탄 등의 염소계 용매; 톨루엔, 크실렌, 벤젠, 및 이들의 혼합 용매 등의 방향족계 용매; 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, n-부탄올, 2-부탄올 등의 알코올계 용매; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, 디옥산, 시클로헥산온, 테트라히드로푸란, 아세톤, 메틸에틸케톤(MEK), 아세트산에틸, 디에틸에테르; 등을 들 수 있다. 이들 용매는 1종만 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 용액 캐스트법(용액 유연법)을 행하기 위한 장치로서는, 예를 들면, 드럼식 캐스팅 머신, 밴드식 캐스팅 머신, 스핀 코터 등을 들 수 있다.

용융 압출법으로서는 T다이법, 인플레이션법 등을 들 수 있다. 용융 압출시의 필름의 성형 온도는 바람직하게는 150℃ 이상 350℃ 이하, 보다 바람직하게는 200℃ 이상 300℃ 이하이다. T다이법으로 필름 성형하는 경우는, 공지의 단축 압출기나 2축 압출기의 선단부에 T다이를 부착하고, 필름형상으로 압출한 필름을 권취하여, 롤형상의 필름을 얻을 수 있다. 이 때, 권취 롤의 온도를 적당히 조정하고, 압출 방향으로 연신을 가함으로써, 1축 연신 공정으로 하는 것도 가능하다. 또, 압출 방향과 수직인 방향으로 필름을 연신하는 공정을 더함으로써, 축차 2축 연신, 동시 2축 연신 등의 공정을 더하는 것도 가능하다.

광학 필름(1)은 미연신 필름이어도 되고, 연신 필름이어도 된다. 연신하는 경우는 1축 연신 필름이어도 되고, 2축 연신 필름이어도 된다. 2축 연신 필름으로 하는 경우는 동시 2축 연신한 것이어도 되고, 축차 2축 연신한 것이어도 된다. 2축 연신한 경우는 기계 강도가 향상되고 필름 성능이 향상된다.

연신 공정을 행하는 경우의 연신 온도로서는 필름 원료의 열가소 수지 조성물의 유리 전이 온도 부근에서 행하는 것이 바람직하고, 구체적으로는 (유리 전이 온도-30)℃~(유리 전이 온도+100)℃에서 행하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 (유리 전이 온도-20)℃~(유리 전이 온도+80)℃이다. 연신 온도가 (유리 전이 온도-30)℃보다 낮으면 충분한 연신 배율이 얻어지지 않기 때문에 바람직하지 않다. 연신 온도가 (유리 전이 온도+100)℃보다 높으면, 수지의 유동(플로우)이 일어나 안정적인 연신을 행할 수 없게 되기 때문에 바람직하지 않다.

면적비로 정의되는 연신 배율은 바람직하게는 1.1배 이상 25배 이하의 범위, 보다 바람직하게는 1.3배 이상 10배 이하의 범위로 할 수 있다. 연신 배율이 1.1배보다 작으면, 연신에 따른 인성의 향상으로 이어지지 않기 때문에 바람직하지 않다. 연신 배율이 25배보다 크면, 연신 배율을 높이는 만큼의 효과가 확인되지 않는다.

연신 속도(일방향)로서는 바람직하게는 10~20000%/분의 범위, 보다 바람직하게는 100~10000%/분의 범위이다. 10%/분보다 느리면, 충분한 연신 배율을 얻기 위해서 시간이 걸리고, 제조 비용이 높아지기 때문에 바람직하지 않다. 20000%/분보다 빠르면, 연신 필름의 파단 등이 일어날 우려가 있기 때문에 바람직하지 않다. 또한, 광학 필름(1)의 광학 등방성이나 역학 특성을 안정화시키기 위해서, 연신 처리후에 열처리(어닐링) 등을 행할 수도 있다.

가소제로서는 특별히 한정되지 않지만, 광학 필름(1)에 헤이즈를 발생시키거나, 또는 광학 필름(1)으로부터 블리드 아웃 또는 휘발하지 않도록, 합성 수지와 수소 결합 등에 의해 상호 작용 가능한 작용기를 가지고 있는 것이 바람직하다. 이러한 가소제의 예로서는, 특별히 한정되지 않지만, 인산에스테르계 가소제, 프탈산에스테르계 가소제, 트리멜리트산에스테르계 가소제, 피로멜리트산계 가소제, 다가 알코올계 가소제, 글리콜레이트계 가소제, 구연산에스테르계 가소제, 지방산에스테르계 가소제, 카르복실산에스테르계 가소제, 폴리에스테르계 가소제 등을 들 수 있다.

당해 광학 필름(1)은 광탄성계수가 작은 시클로올레핀 코폴리머를 주성분으로 하고 있다. 그 결과, 당해 광학 필름(1)은 디스플레이의 발열 등에 의한 외력에 의해 생기는 위상차의 변화를 억제할 수 있다. 따라서, 당해 광학 필름(1)은 광학적 균일성이 우수하여, 정밀한 화상 표시를 행할 수 있다.

도 2의 광학 시트(11)는 광학 필름(1)으로 이루어지는 기재층(12)과, 투명 도전층(13)을 가지고 있다. 광학 시트(11)는 기재층(12)의 일방의 면에 투명 도전층(13)이 적층되어 있다.

투명 도전층(13)은 아몰퍼스층으로서 구성되어도 되고, 결정질층으로서 구성되어도 된다. 또, 투명 도전층(13)은 아몰퍼스 및 결정질이 혼합된 층으로 구성되어도 된다. 투명 도전층(13)의 두께(평균 두께)는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 10nm 이상 100nm 이하로 되어 있다.

광학 시트(11)의 제조 방법으로서는, 예를 들면, 스퍼터링용 가스 및 산소 가스를 포함하는 혼합 가스 중에서, In₂O₃ 및 SnO₂를 포함하는 타겟을 사용한 스퍼터링법을 들 수 있다. 이러한 스퍼터링법으로서는 직류 전원을 사용한 표준적인 마그네트론 스퍼터링법 외에, RF(Radio Frequency) 스퍼터링법, 듀얼 마그네트론 스퍼터링법 등, 각종 스퍼터링법을 채용할 수 있다.

또한, 투명 도전층(13)의 제조에 관해서는, 필요에 따라서 전처리로서 아르곤 가스나 질소 가스 등의 불활성 가스 분위기하에서의 플라즈마 처리 등의 표면 개질 처리를 행해도 된다. 또, 기재층(12)의 일방의 면에 언더코트층을 적층하고, 이 언더코트층을 통하여 투명 도전층(13)을 형성해도 된다.

당해 광학 시트(11)는 기재층(12)으로서 시클로올레핀 코폴리머를 사용하고 있으므로 광학 특성, 내열안정성 등을 향상시킬 수 있다. 당해 광학 시트(11)는 외력에 의해 생기는 위상차의 변화를 억제할 수 있어, 표시 불균일의 발생을 억제할 수 있다. 따라서, 당해 광학 시트(11)는 정밀한 화상 표시를 행할 수 있고, 액정 표시 장치의 대화면화, 박형화를 촉진할 수 있다.

도 3의 광학 시트(21)는 광학 필름(1)으로 이루어지는 기재층(12)과, 하드 코트층(22)을 가지고 있다. 광학 시트(21)는 기재층(12)의 일방의 면에 하드 코트층(22)이 적층되어 있다.

하드 코트층(22)을 형성하는 수지로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 활성 에너지선 경화 수지를 들 수 있다. 이러한 활성 에너지선 경화 수지의 예로서는 우레탄아크릴레이트계 수지, 폴리에스테르아크릴레이트계 수지, 에폭시아크릴레이트계 수지, 폴리올아크릴레이트계 수지, 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 하드 코트층(22)의 두께(평균 두께)는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 3μm 이상 50μm 이하로 할 수 있다.

광학 시트(21)는 기재층(12)의 일방의 면에 활성 에너지선 경화 수지를 도포하고 건조시킴으로써 제조할 수 있다. 활성 에너지선 경화 수지의 도포 방법으로서는 기재층(12)의 일방의 면에 활성 에너지선 경화 수지를 균일하게 도포할 수 있는 방법이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 스핀 코트법, 스프레이법, 슬라이드 코트법, 딥법, 바 코트법, 롤 코터법, 스크린 인쇄법 등 각종 방법을 들 수 있다.

당해 광학 시트(21)는 기재층(12)으로서 시클로올레핀 코폴리머를 사용하고 있으므로 광학 특성, 내열안정성 등을 향상시킬 수 있다. 당해 광학 시트(21)는 내열안정성 등을 향상시킬 수 있고, 외력에 의해 생기는 위상차의 변화를 억제할 수 있다. 또, 당해 광학 시트(21)는 하드 코트층(22)을 가지는 것에 의해, 내찰상성을 향상시킬 수 있고, 취급 용이성을 높일 수 있다.

도 4의 광학 시트(31)는 광학 필름(1)으로 이루어지는 기재층(12)과, 광확산층(32)을 가지고 있다. 광학 시트(31)는 기재층(12)의 일방의 면에 광확산층(32)이 적층되어 형성되어 있다.

광확산층(32)은 표면에 미소 또한 랜덤한 요철형상을 가지고 있다. 광확산층(32)은 표면의 미세요철형상에 의해, 투과 광선을 확산시키는 기능을 나타낸다. 광확산층(32)이 가지는 요철형상은 바인더 중에 분산되는 광확산제에 의해 형성할 수 있다.

광확산층(32)에 사용되는 광확산제는 광선을 확산시키는 성질을 가지는 입자이며, 무기 필러와 유기 필러로 크게 구별된다. 무기 필러로서는 구체적으로는 실리카, 수산화알루미늄, 산화알루미늄, 산화아연, 황산바륨, 마그네슘실리케이트, 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 또, 유기 필러의 구체적인 재료로서는 아크릴 수지, 아크릴로니트릴 수지, 폴리우레탄, 폴리염화비닐, 폴리스티렌, 폴리아크릴로니트릴, 폴리아미드 등을 사용할 수 있다. 그 중에서도 투명성이 높은 아크릴 수지가 바람직하고, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)가 특히 바람직하다. 광확산제의 형상으로서는 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들면 구형상, 방추형상, 침형상, 봉형상, 입방형상, 판형상, 비늘조각형상, 섬유형상 등을 들 수 있고, 그 중에서도 광확산성이 우수한 구형상의 비즈가 바람직하다.

광확산제의 평균 입자 직경의 하한으로서는 1μm, 특히 2μm, 또한 5μm가 바람직하다. 한편, 광확산제의 평균 입자 직경의 상한으로서는 50μm, 특히 20μm, 또한 15μm가 바람직하다. 광확산제의 평균 입자 직경이 상기 범위 미만이면, 광확산제에 의해 형성되는 광확산층(32) 표면의 요철이 작아지고, 광학 시트(31)로서 필요한 광확산성을 만족하지 못할 우려가 있다. 반대로, 광확산제의 평균 입자 직경이 상기 범위를 넘으면, 광학 시트(31)의 두께가 증대하고, 또한, 균일한 확산이 곤란하게 된다.

광확산제의 배합량(바인더의 형성 재료인 폴리머 조성물 중의 기재 폴리머 100부에 대한 고형분 환산의 배합량)의 하한으로서는 10부, 특히 20부, 또한 50부가 바람직하고, 이 배합량의 상한으로서는 500부, 특히 300부, 또한 200부가 바람직하다. 이것은 광확산제의 배합량이 상기 범위 미만이면, 광확산성이 불충분하게 되어버리고, 한편, 광확산제의 배합량이 상기 범위를 넘으면 광확산제를 고정하는 효과가 저하되기 때문이다. 또한, 프리즘 시트의 표면측에 배열설치되는 소위 상용 광확산 시트의 경우, 높은 광확산성을 필요로 하지 않기 때문에, 광확산제의 배합량으로서는 10부 이상 40부 이하, 특히 10부 이상 30부 이하가 바람직하다.

바인더는 기재 폴리머를 포함하는 폴리머 조성물을 가교 경화시킴으로써 형성된다. 이 바인더에 의해 기재층(12) 표면에 광확산제가 대략 등밀도로 배치 고정된다. 또한, 바인더를 형성하기 위한 폴리머 조성물은 기재 폴리머 이외에 예를 들면 미소 무기 충전제, 경화제, 대전 방지제, 가소제, 분산제, 각종 레벨링제, 자외선 흡수제, 항산화제, 점성 개질제, 윤활제, 광안정화제 등이 적당히 배합되어도 된다.

상기 기재 폴리머로서는 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들면 아크릴계 수지, 폴리우레탄, 폴리에스테르, 불소계 수지, 실리콘계 수지, 폴리아미드이미드, 에폭시 수지, 자외선 경화형 수지 등을 들 수 있고, 이들의 폴리머를 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 특히, 상기 기재 폴리머로서는 가공성이 높고, 도공 등의 수단으로 용이하게 광학산층(32)을 형성할 수 있는 폴리올이 바람직하다. 또, 바인더에 사용되는 기재 폴리머 자체는 광선의 투과성을 높이는 관점에서 투명이 바람직하고, 무색 투명이 특히 바람직하다.

상기 폴리올로서는 폴리에스테르폴리올, 또는 수산기 함유 불포화 단량체를 포함하는 단량체 성분을 중합하여 얻어지고, 또한 (메타)아크릴 단위 등을 가지는 아크릴폴리올이 바람직하다. 이러한 폴리에스테르폴리올 또는 아크릴폴리올을 기재 폴리머로 하는 바인더는 내후성이 높고, 광확산층(32)의 황변 등을 억제할 수 있다. 또한, 이 폴리에스테르폴리올과 아크릴폴리올의 어느 한쪽을 사용해도 되고, 양쪽을 사용해도 된다.

또한, 상기 폴리에스테르폴리올 및 아크릴폴리올 중의 수산기의 개수는 1분자당 2개 이상이면 특별히 한정되지 않지만, 고형분 중의 수산기가가 10 이하이면 가교 점수가 감소하고, 내용제성, 내수성, 내열성, 표면 경도 등의 피막물성이 저하되는 경향이 있다.

상기 기재 폴리머로서는 시클로알킬기를 가지는 폴리올도 바람직하다. 이와 같이 바인더를 구성하는 기재 폴리머로서의 폴리올 중에 시클로알킬기를 도입함으로써, 바인더의 발수성, 내수성 등의 소수성이 높아지고, 고온고습 조건하에서의 광학 시트(31)의 내휨성, 치수안정성 등이 개선된다. 또, 광확산층(32)의 내후성, 경도, 두께감, 내용제성 등의 도막 기본 성능이 향상된다. 또한, 표면에 유기 폴리머가 고정된 미소 무기 충전제와의 친화성 및 미소 무기 충전제의 균일 분산성이 더욱 양호해진다.

상기 시클로알킬기로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 시클로운데실기, 시클로도데실기, 시클로트리데실기, 시클로테트라데실기, 시클로펜타데실기, 시클로헥사데실기, 시클로헵타데실기, 시클로옥타데실기 등을 들 수 있다.

상기 시클로알킬기를 가지는 폴리올은 시클로알킬기를 가지는 중합성 불포화 단량체를 공중합함으로써 얻어진다. 이 시클로알킬기를 가지는 중합성 불포화 단량체는 시클로알킬기를 분자 내에 적어도 하나 가지는 중합성 불포화 단량체이다. 이 중합성 불포화 단량체로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, tert-부틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 시클로도데실(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.

또, 폴리머 조성물 중에는 경화제로서 이소시아네이트를 함유하면 된다. 이와 같이 폴리머 조성물 중에 이소시아네이트 경화제를 함유함으로써, 한층 더 강고한 가교 구조가 되어, 광확산층(32)의 피막물성이 더욱 향상된다. 이 이소시아네이트로서는 상기 다작용 이소시아네이트 화합물과 동일한 물질이 사용된다. 그 중에서도 피막의 황변색을 방지하는 지방족계 이소시아네이트가 바람직하다.

특히, 기재 폴리머로서 폴리올을 사용하는 경우, 폴리머 조성물 중에 배합하는 경화제로서 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소프론디이소시아네이트 및 크실렌디이소시아네이트의 어느 1종 혹은 2종 이상 혼합하여 사용하면 된다. 이들 경화제를 사용하면, 폴리머 조성물의 경화 반응 속도가 커지기 때문에, 대전 방지제로서 미소 무기 충전제의 분산 안정성에 기여하는 양이온계의 것을 사용해도, 양이온계 대전 방지제에 의한 경화 반응 속도의 저하를 충분히 보충할 수 있다. 또, 이러한 폴리머 조성물의 경화 반응 속도의 향상은 바인더 중으로의 미소 무기 충전제의 균일 분산성에 기여한다. 그 결과, 광학 시트(31)는 열, 자외선 등에 의한 휨이나 황변을 현격히 억제할 수 있다.

또, 상기 폴리머 조성물 중에 자외선 흡수제를 함유하면 된다. 이와 같이 자외선 흡수제를 함유하는 폴리머 조성물로 바인더를 형성함으로써, 당해 광학 시트(31)에 자외선 커트 기능이 부여되어, 백라이트 유닛의 램프로부터 발생되는 미량의 자외선을 커트하여, 자외선에 의한 액정층의 파괴를 방지할 수 있다.

이러한 자외선 흡수제로서는 자외선을 흡수하고, 효율적으로 열 에너지로 변환할 수 있는 것이고, 또한 광에 대하여 안정적인 화합물이면 특별히 한정되는 것은 아니며 공지의 것을 사용할 수 있다. 그 중에서도 자외선 흡수 기능이 높고, 상기 기재 폴리머와의 상용성이 양호하며, 기재 폴리머 중에 안정적으로 존재하는 살리실산계 자외선 흡수제, 벤조페논계 자외선 흡수제, 벤조트리아졸계 자외선 흡수제 및 시아노아크릴레이트계 자외선 흡수제가 바람직하고, 이들 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 것을 사용하면 된다. 또, 자외선 흡수제로서는 분자쇄에 자외선 흡수기를 가지는 폴리머(예를 들면, (주)니혼쇼쿠바이의 「유더블 UV」 시리즈 등)도 적합하게 사용된다. 이 분자쇄에 자외선 흡수기를 가지는 폴리머를 사용함으로써, 바인더의 주폴리머와의 상용성이 높고, 자외선 흡수제의 블리드 아웃 등에 의한 자외선 흡수 기능의 열화를 방지할 수 있다. 또한, 분자쇄에 자외선 흡수기를 가지는 폴리머를 바인더의 기재 폴리머로 하는 것도 가능하다. 또, 이 자외선 흡수기가 결합된 폴리머를 바인더의 기재 폴리머로 하고, 또한 이 기재 폴리머 중에 자외선 흡수제를 함유하는 것도 가능하며, 자외선 흡수 기능을 보다 향상시킬 수 있다.

바인더의 기재 폴리머에 대한 상기 자외선 흡수제의 함유량의 하한으로서는 0.1질량%, 특히 1질량%, 또한 3질량%가 바람직하고, 자외선 흡수제의 상기 함유량의 상한으로서는 10질량%, 특히 8질량%, 또한 5질량%가 바람직하다. 이것은 기재 폴리머에 대하여 자외선 흡수제의 질량비가 상기 하한보다 작으면, 광학 시트(31)의 자외선 흡수 기능을 효과적으로 나타낼 수 없기 때문이며, 반대로 자외선 흡수제의 질량비가 상기 상한을 넘으면, 기재 폴리머에 악영향을 미쳐, 바인더의 강도, 내구성 등의 저하를 초래하기 때문이다.

상기 자외선 흡수제 대신 또는 자외선 흡수제와 함께, 자외선 안정제(분자쇄에 자외선 안정기가 결합한 기재 폴리머를 포함함)를 사용하는 것도 가능하다. 이 자외선 안정제에 의해, 자외선에서 발생하는 래디컬, 활성 산소 등이 불활성화되어, 자외선 안정성, 내후성 등을 향상시킬 수 있다. 이 자외선 안정제로서는 자외선에 대한 안정성이 높은 힌더드아민계 자외선 안정제가 적합하게 사용된다. 또한, 자외선 흡수제와 자외선 안정제를 병용함으로써, 자외선에 의한 열화 방지 및 내후성이 현격히 향상된다.

또한, 폴리머 조성물 중에 대전 방지제를 혼련하면 된다. 이와 같이 대전 방지제가 혼련된 폴리머 조성물로 바인더를 형성함으로써, 당해 광학 시트(31)에 대전 방지 효과가 발현되어, 먼지를 빨아들이거나, 프리즘 시트 등과의 중합이 곤란해지는 등의 정전기의 대전에 의해 발생하는 문제를 방지할 수 있다. 또 대전 방지제를 표면에 코팅하면 표면의 끈적임이나 오탁이 생기는데, 이와 같이 폴리머 조성물 중에 혼련함으로써 이러한 폐해는 저감된다. 이러한 대전 방지제로서는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들면 알킬황산염, 알킬인산염 등의 음이온계 대전 방지제, 제4암모늄염, 이미다졸린 화합물 등의 양이온계 대전 방지제, 폴리에틸렌글리콜계, 폴리옥시에틸렌소르비탄모노스테아린산에스테르, 에탄올아미드류 등의 비이온계 대전 방지제, 폴리아크릴산 등의 고분자계 대전 방지제 등이 사용된다. 그 중에서도 대전 방지 효과가 비교적 큰 양이온계 대전 방지제가 바람직하고, 소량의 첨가로 대전 방지 효과가 나타난다.

또, 광학 시트(31)는 기재층(12)의 타방의 면에 스티킹 방지층(도시하지 않음)이 적층되어 있어도 된다. 이러한 스티킹 방지층은 바인더 중에 소량의 비즈가 이간하여 분산되고, 이 비즈의 하부가 바인더의 이면으로부터 돌출된 구조를 가지는 것이며, 광학 시트(31)의 이면(광확산층(32)이 적층된 면과 반대의 면)이 도광판의 표면 등과 밀착하여 간섭 줄무늬가 생겨버리는 문제를 방지하고 있다.

광학 시트(31)의 제조 방법으로서는, (a) 바인더를 구성하는 조성물에 광확산제를 혼합함으로써 광확산층용 조성물을 제조하는 공정과, (b) 광확산층용 조성물을 기재 필름(12)의 표면에 적층하고 경화시킴으로써 광확산층(32)을 형성하는 공정을 가지는 제조 방법을 들 수 있다. 이러한 광확산층(32)용 조성물을 기재층(12)에 적층하는 수단으로서는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들면, 스핀 코트법, 스프레이법, 슬라이드 코트법, 딥법, 바 코트법, 롤 코터법, 스크린 인쇄법 등 각종 방법을 들 수 있다. 또한, 광확산층(32)을 적층함에 있어서는, 필요에 따라서 전처리로서 아르곤 가스나 질소 가스 등의 불활성 가스 분위기하에서의 플라즈마 처리 등의 표면 개질 처리를 행해도 된다.

당해 광학 시트(31)는 기재층(12)으로서 시클로올레핀 코폴리머를 사용하고 있으므로 광학 특성, 내열안정성 등을 향상시킬 수 있다. 당해 광학 시트(21)는 내열안정성 등을 향상시킬 수 있고, 외력에 의해 생기는 위상차의 변화를 억제할 수 있다.

또, 액정 표시 장치에 있어서는, 광선의 이용 효율을 향상시키기 위해, 액정 표시 소자의 이면측 편광판(또는 그 이면측의 반사 편광판)의 투과 방향에 입사 광선의 편광 방향(광선의 편광 성분의 최대 평면 방향)이 합치하도록 백라이트, 각종 광학 시트 등의 편광 특성이 설계되어 있다. 따라서, 당해 광학 시트(31)는 기재층(12)의 리타데이션값(Re)의 절대값을 50nm 이하, 바람직하게는 15nm 이하, 특히 바람직하게는 5nm 이하로 함으로써, 당해 광학 시트(31)에 의한 투과 광선의 편광 방향의 변환 작용을 억제하고, 편광판 등의 투과축 방향으로의 편광의 최적화 및 제어성에 대하여 당해 광학 시트(31)가 미치는 영향을 억제할 수 있다.

도 5의 광학 시트(41)는 광학 필름(1)으로 이루어지는 기재층(12)과, 프리즘층(42)을 가지고 있다. 광학 시트(41)는 기재층(12)의 일방의 면에 복수의 볼록조 프리즘부가 스트라이프형상으로 형성된 프리즘층이 적층되어 형성되어 있다.

프리즘층(42)은 표면에 스트라이프형상으로 형성되는 복수의 돌조 프리즘부에 의해 높은 법선 방향측으로의 굴절 기능을 가지고 있다.

프리즘층(42)은 광선을 투과시킬 필요가 있으므로 투명 특히 무색 투명의 합성 수지로 형성되어 있고, 기재층(12)과 동일한 또는 상이한 1종 또는 2종 이상의 수지를 사용할 수 있다. 프리즘층(42)을 구성하는 소재의 굴절율의 하한으로서는 1.3, 특히 1.45가 바람직하고, 그 상한으로서는 1.8, 특히 1.6이 바람직하다.

볼록조 프리즘부는 삼각기둥형상으로 형성되어 있다. 볼록조 프리즘부의 단면형상은 일반적으로는 정각이 90°, 저각이 45°의 직각이등변삼각형으로 되어 있다.

볼록조 프리즘부의 저면의 폭(W)의 하한으로서는 10μm가 바람직하고, 30μm가 특히 바람직하다. 한편, 상기 폭(W)의 상한으로서는 1000μm가 바람직하고, 400μm가 특히 바람직하다. 이것은 돌조 프리즘부의 저면의 폭(W)이 상기 하한보다 작으면, 돌조 프리즘부의 형성이 곤란하며, 반대로 돌조 프리즘부의 저면의 폭(W)이 상기 상한을 넘으면, 번쩍거림, 휘도 불균일 등이 발생할 우려가 있기 때문이다.

광학 시트(41)의 제조 방법은 상기 구조의 것을 형성할 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니며, 기재층(12)을 제작한 후에 프리즘층(42)을 별도로 형성하는 방법과, 기재층(12)과 프리즘층(42)을 일체 성형하는 방법이 가능하며, 구체적으로는

(a) 프리즘층(42) 표면의 반전 형상을 가지는 시트형에 합성 수지를 적층하고, 그 시트형을 떼어냄으로써 광학 시트(41)를 형성하는 방법,

(b) 프리즘층(42) 표면의 반전 형상을 가지는 금형에 용융 수지를 주입하는 사출 성형법,

(c) 시트화된 수지를 재가열하여 상기와 동일한 금형과 금속판 사이에 끼워 프레스하여 형상을 전사하는 방법,

(d) 프리즘층(42) 표면의 반전 형상을 둘레면에 가지는 롤형과 다른 롤 사이에 용융 상태의 수지를 통과시키고, 상기 형상을 전사하는 압출 시트 성형법,

(e) 기재층(12)에 자외선 경화형 수지를 도포하고, 상기와 마찬가지의 반전 형상을 가지는 시트형, 금형 또는 롤형으로 눌러 미경화의 자외선 경화형 수지에 형상을 전사하고, 자외선을 쏘아 자외선 경화형 수지를 경화시키는 방법,

(f) 상기와 마찬가지의 반전 형상을 가지는 금형 또는 롤형에 미경화의 자외선 경화성 수지를 충전 도포하고, 기재층(12)으로 눌러 고르게 하고, 자외선을 쏘아 자외선 경화형 수지를 경화시키는 방법,

(g) 자외선 경화형 수지 대신에 전자선 경화형 수지를 사용하는 방법

등이 있다.

당해 광학 시트(41)는 기재층(12)으로서 시클로올레핀 코폴리머를 사용하고 있으므로 광학 특성, 내열안정성 등을 향상시킬 수 있다. 당해 광학 시트(41)는 내열안정성 등을 향상시킬 수 있고, 외력에 의해 생기는 위상차의 변화를 억제할 수 있다.

또, 액정 표시 장치에 있어서는, 광선의 이용 효율을 향상시키기 위해, 액정 표시 소자의 이면측 편광판(또는 그 이면측의 반사 편광판)의 투과 방향에 입사 광선의 편광 방향(광선의 편광 성분의 최대 평면 방향)이 합치하도록 백라이트, 각종 광학 시트 등의 편광 특성이 설계되어 있다. 따라서, 당해 광학 시트(41)는 기재층(12)의 리타데이션값(Re)의 절대값을 50nm 이하, 바람직하게는 15nm 이하, 특히 바람직하게는 5nm 이하로 함으로써, 당해 광학 시트(41)에 의한 투과 광선의 편광 방향의 변환 작용을 억제하고, 편광판 등의 투과축 방향으로의 편광의 최적화 및 제어성에 대하여 당해 광학 시트(41)가 미치는 영향을 억제할 수 있다.

(실시예)

이하, 실시예에 기초하여 본 발명을 상세하게 서술하는데, 이 실시예의 기재에 기초하여 본 발명이 한정적으로 해석되는 것은 아니다.

[실시예 1]

시클로올레핀 코폴리머(폴리플라스틱사제 「T0PAS 8007」)를 사용하고, 예비 건조한 후, 단축 압출기(L/D=35)를 사용하여 냉각 롤 상에 용융 압출을 행하고, 인취 장치를 사용하여 두께 100μm의 광학 필름을 제작했다.

[실시예 2]

실시예 1에서 제작한 광학 필름에 스퍼터링 처리로 IT0 처리를 행하여, 광학 필름의 일방의 면에 투명 도전층을 가지는 광학 시트(투명 도전성 시트)를 제작했다.

[실시예 3]

실시예 1에서 제작한 광학 필름에 하드 코트제(닛폰고세이카가쿠코교사제 「시코우 UV-7605B」)를 막두께 5μm가 되도록 도포하여 경화시켜, 광학 필름의 일방의 면에 하드 코트층을 가지는 광학 시트(하드 코트 필름)를 제작했다.

[실시예 4]

실시예 1에서 제작한 광학 필름에 광확산제를 혼합한 도료를 도포함으로써, 광학 필름의 일방의 면에 광확산층을 가지는 광학 시트(광확산 시트)를 제작했다.

[실시예 5]

실시예 1에서 제작한 광학 필름에 드라이 광경화성 필름(히타치카세이코교사제 「SR-3000」을 가압하여 첩합시키고, 요철 패턴이 형성된 성형형에 감압 상태에서 롤러로 가열, 가압하여 드라이 광경화성 필름에 요철 패턴을 형성하고, 자외선을 조사하여 드라이 광경화성 필름을 경화시키고, 성형형으로부터 분리하여, 광학 필름의 일방의 면에 프리즘층을 가지는 광학 시트(프리즘 시트)를 제작했다.

[비교예 1]

폴리카보네이트계 수지(이데미츠코우산사제 「타플론 A2200」)를 사용하고, 실시예 1과 마찬가지로 하여 두께 100μm의 광학 필름을 제작했다.

[비교예 2]

비교예 1에서 제작한 광학 필름에 스퍼터링 처리로 ITO 처리를 행하여, 광학 필름의 일방의 면에 투명 도전층을 가지는 광학 시트(투명 도전성 시트)를 제작했다.

[비교예 3]

비교예 1에서 제작한 광학 필름에 실시예 3과 마찬가지의 하드 코트제를 막두께 5μm가 되도록 도포하여 경화시켜, 광학 필름의 일방의 면에 하드 코트층을 가지는 광학 시트(하드 코트 필름)를 제작했다.

[비교예 4]

비교예 1에서 제작한 광학 필름에 실시예 4와 마찬가지의 광확산제를 혼합한 도료를 도포함으로써, 광학 필름의 일방의 면에 광확산층을 가지는 광학 시트(광확산 시트)를 제작했다.

[비교예 5]

비교예 1에서 제작한 광학 필름에 실시예 5와 마찬가지의 처리를 행하여, 광학 필름의 일방의 면에 프리즘층을 가지는 광학 시트(프리즘 시트)를 제작했다.

박형 액정 표시 장치의 백라이트 유닛에 실시예 4 및 실시예 5의 광확산 시트 및 프리즘 시트를 사용하고, 이 액정 표시 장치의 편광판 보호 시트로서 실시예 3의 하드 코트 필름을 사용하고, 또한 이 액정 표시 장치의 투명 전극으로서 실시예 2의 투명 도전성 시트를 사용하여, 60℃, 85%RH의 고온고습조 내에서 96시간의 점등 시험을 했다. 또 마찬가지로, 박형 액정 표시 장치의 백라이트 유닛에 비교예 4 및 비교예 5의 광확산 시트 및 프리즘 시트를 사용하고, 이 액정 표시 장치의 편광판 보호 시트로서 비교예 3의 하드 코트 필름을 사용하고, 또한 이 액정 표시 장치의 투명 전극으로서 비교예 2의 투명 도전성 시트를 사용하여, 60℃, 85%RH의 고온고습조 내에서 96시간의 점등 시험을 했다. 그 결과를 하기 표 1에 나타낸다.

<뒤틀림 평가>

상기 점등 시험 후에 각 실시예 및 비교예의 광학 시트를 떼어내고, 육안에 의해 뒤틀림의 유무를 하기 기준으로 평가했다.

○ : 뒤틀림은 확인되지 않음

× : 뒤틀림이 확인됨

(외관 평가)

상기 점등 시험 개시로부터 96시간 경과시에 육안으로 표시 화면을 확인하고, 표시 화면의 변화를 하기 기준으로 평가했다.

○ : 표시 화면의 변화는 확인되지 않음

× : 표시 화면에 색의 변화(뿌옇게 됨)가 확인됨

상기 표 1에 나타내는 바와 같이, 실시예 2로부터 실시예 5의 광학 시트에는 뒤틀림은 확인되지 않고, 또 표시 화면이 뿌옇게 되는 것도 확인되지 않으며, 발열 등의 외력에 대하여 요구되는 충분한 내성을 가지고 있는 것을 알 수 있었다. 한편, 비교예 2로부터 비교예 5의 광학 시트에는 뒤틀림이 확인되고, 또 표시 화면이 뿌옇게 되는 것도 확인되는 점에서, 발열 등의 외력에 대하여 요구되는 충분한 내성을 가지고 있지 않은 것을 알 수 있었다.

이상과 같이, 본 발명의 광학 필름 및 광학 시트는, 외력에 의해 생기는 위상차의 변화가 작고, 광학적 균일성이 우수하다. 따라서, 본 발명의 광학 필름, 광학 시트 및 액정 표시 모듈은 정밀한 화면 표시가 가능함과 동시에, 액정 표시 장치의 대화면화, 박형화를 촉진하는데도 적합하다.

1…광학 필름 11…광학 시트
12…기재층 13…투명 도전층
21…광학 시트 22…하드 코트층
31…광학 시트 32…광확산층
41…광학 시트 42…프리즘층

Claims (9)

1. 시클로올레핀 코폴리머를 90 질량% 이상 포함하고, 리타데이션값(Re)의 절대값이 50 nm 이하인 광학 필름과,
   상기 광학 필름의 적어도 일방의 면에 적층되는 투명 도전층
   을 구비하는 것을 특징으로 하는 광학 시트.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 광학 필름의 광탄성계수가 10×10^-12/Pa 이하인 것을 특징으로 하는 광학 시트.
3. 제 1 항에 있어서, 상기 광학 필름의 평균 두께가 10 μm 이상 500 μm 이하인 것을 특징으로 하는 광학 시트.
4. 제 1 항, 제 2 항 또는 제 3 항에 기재된 광학 시트를 가지는 것을 특징으로 하는 액정 표시 모듈.
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