KR101419477B1 - 이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조방법 - Google Patents

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Abstract

고온의 고주파 플라즈마를 이용하여 모제와 활성제 혼합 분말을 열분해 및 용융 증발시켜 응축시킴으로써 구형이면서 내부가 충진된 적색 형광체를 제조할 수 있는 이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조방법을 제공한다. 이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조방법은 인덕션 코일이 매설된 플라즈마 토치의 하우징 상부에 설치된 노즐을 통하여 불활성의 캐리어가스와 함께 이트리아계 전구체 분말을 분사하며, 고주파 플라즈마 화염에 의해 이트리아계 전구체 분말 중 적어도 일부가 기화될 수 있도록 하는 이트리아계 전구체 분말의 공급단계, 노즐을 감싸듯이 설치되어 노즐과 하우징을 공간적으로 분리하는 튜브의 내측과 외측에 각각 불활성 가스를 포함하는 센트럴가스와 실드가스를 공급하는 단계, 하우징의 적어도 어느 일측에는 사이클론이 설치된 유동라인이 구비되며, 유동라인을 따라 플라즈마 처리된 이트리아계 적색 형광체 나노 입자를 흡입하여 필터에 흡착시키되, 플라즈마 처리된 이트리아계 적색 형광체 나노 입자가 필터에 흡착되기 전 이트리아계 적색 형광체 나노 입자가 불활성의 냉각가스와 접촉되어 나노 분말화되도록 하는 이트리아계 전구체 분말의 플라즈마 처리단계를 포함한다.
Figure R1020070116276
이트리아계, 형광체, 나노, 분말

Description

이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조방법{Y2-XO3:EUX RED PHOSPHOR NANO POWDER MANUFACTURING METHOD}
본 발명은 적색 형광체 나노 분말에 관한 것으로, 보다 상세하게는 이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로, 디스플레이 및 램프용 형광체로는 주로 황화아연(ZnS), 황화카드뮴(CdS), 황화카드뮴아연(ZnCdS) 등과 같은 모체에 귀금속이 도핑된 황화물 형광체들이 사용되어 왔다. 이들 황화물 형광체는 수십 년 동안 연구되면서 발전을 거듭하여, 현재는 더 이상의 효율 증가를 얻기 힘든 수준까지 효율 향상이 이루어졌다. 이로 인해, 몇 년 전까지만 해도 이들 형광체에 대한 연구는 극히 일부의 연구 집단에 의해서만 이루어져 왔다.
그러나, 최근 들어 고화질 텔레비전(HDTV : high definition television)에 대한 관심이 높아지면서 이에 따라 디스플레이의 개발도 활기를 띄고 있다. 그 대표적인 디스플레이가 최근에 각광받는 평판디스플레이인 플라즈마 디스플레이(PDP : plasma display) 및 전계방출형 디스플레이(FED : field emission display)이다. 이들 디스플레이는 종래의 디스플레이와 달리 가볍고 두께가 얇은 특성으로 인하여, 벽걸이형 텔레비젼, 컴퓨터, 캠코더 및 자동항법장치 등 여러 분야에서 응용 가능성을 가지고 있어 많은 관심의 대상이 되고 있다.
한편, 종래의 음극선관(CRT) 디스플레이에서는 황화물 형광체가 우수한 발광특성을 가지고 있어 문제가 없었으나, 평판디스플레이 및 전계방출형 디스플레이에 적용시는 종래의 황화물 형광체를 사용하는데 어려움이 있다. 즉, 평판디스플레이 및 전계방출형 디스플레이는 고진공하에서 형광체들이 발광을 하기 때문에, 종래의 황화물 형광체를 사용하는 경우에는 황화물의 분해에 의한 진공도 저하 및 성능저하의 문제점이 발생한다.
따라서, 상기 황화물 형광체에 대한 문제를 해결하기 위해 산화물 형광체가 개발되어 계속적인 연구가 진행되고 있다.
고온의 고주파 플라즈마를 이용하여 모제와 활성제 혼합 분말을 열분해 및 용융 증발시켜 응축시킴으로써 구형이면서 내부가 충진된 적색 형광체를 제조할 수 있는 이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조방법을 제공한다.
이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조방법은 인덕션 코일이 매설된 플라즈마 토치의 하우징 상부에 설치된 노즐을 통하여 불활성의 캐리어가스와 함께 이트리아계 전구체 분말을 분사하며, 고주파 플라즈마 화염에 의해 이트리아계 전구체 분말 중 적어도 일부가 기화될 수 있도록 하는 이트리아계 전구체 분말의 공급단계, 노즐을 감싸듯이 설치되어 노즐과 하우징을 공간적으로 분리하는 튜브의 내측과 외측에 각각 불활성 가스를 포함하는 센트럴가스와 실드가스를 공급하는 단계, 하우징의 적어도 어느 일측에는 사이클론이 설치된 유동라인이 구비되며, 유동라인을 따라 플라즈마 처리된 이트리아계 적색 형광체 나노 입자를 흡입하여 필터에 흡착시키되, 플라즈마 처리된 이트리아계 적색 형광체 나노 입자가 필터에 흡착되기 전 이트리아계 적색 형광체 나노 입자가 불활성의 냉각가스와 접촉되어 나노 분말화되도록 하는 이트리아계 전구체 분말의 플라즈마 처리단계를 포함한다.
이트리아계 전구체 분말의 플라즈마 처리단계는 플라즈마 화염에 의해 이트리아계 전구체 분말이 용융 및 기화되는 단계, 플라즈마 화염에 의해 용융 및 기화된 이트리아계 적색 형광체 입자를 플라즈마 토치 하단부에서 냉각가스에 의해 급 냉시켜 나노 분말화하는 단계, 플라즈마 처리된 이트리아계 적색 형광체 나노 입자의 크기에 따라 반응챔버에서 1차 분리되는 단계, 반응챔버의 일측에 연결되어 가벼운 입자를 상방향 배출되도록 하는 사이클론을 통해 2차 분리되는 단계, 사이클론을 통과한 이트리아계 적색 형광체 나노 입자는 냉각가스라인에 연결된 챔버를 거쳐 필터에 흡착되는 필터링 단계, 필터에 흡착된 이트리아계 적색 형광체 나노 분말을 탈착시켜 회수하는 단계를 포함할 수 있다.
실드가스는 불활성 가스와 산소가 혼합된 기체를 사용할 수 있다.
고주파 플라즈마 파워는 15~150kW이며, 캐리어가스로 불활성 가스 5~40slpm, 센트럴가스로 불활성 가스 5~40slpm, 실드가스로 불활성 가스 10~120slpm과 산소 60~120slpm, 냉각가스로 불활성 가스 0~400slpm를 공급할 수 있다.
노즐 선단의 노즐팁은 인덕션 코일 매설구간(D)의 중앙으로부터 하측 3cm 이내에 배치되도록 조절될 수 있다.
상기한 제조방법에 의해 제조되는 이트리아계 적색 형광체 나노 분말의 입자 크기는 80nm~100nm의 크기를 가지며 각진 구형의 형태를 가질 수 있다.
이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조방법은 산화 분위기 챔버 내에 고주파 플라즈마를 발생시킨 후 이트리아계 전구체 분말을 투입하여 기화 및 응축과정을 거치면서 이트리아계 적색 형광체 나노 분말을 대량으로 제조할 수 있다.
본 발명의 제조방법에 따라 합성된 이트리아계 적색 형광체 나노 분말은 종래 솔-젤법이나 분무열분해법에 의한 형광체 입자 보다 구형의 형태에 가깝고, 분 포가 균일하며 구의 내부가 충진된 상태이면서 입자 사이의 응집이 없으며, 특히 낮은 열처리 온도에서도 발광 강도가 좋은 형광체들을 얻을 수 있어 플라즈마 디스플레이, 전계방출 디스플레이 등에 폭넓게 적용할 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 이하에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 본 명세서 및 도면에서 동일한 부호는 동일한 구성요소를 나타낸다.
본 발명의 실시예는 고주파 플라즈마(RF Plasma)를 이용하여 100마이크론 이하의 형광체 모체 및 활성제가 포함된 전구체 분말로부터 나노 분말을 제조한다. 즉, 형광체 모체 및 활성제가 포함된 전구체 분말을 제조하고 미세분말 공급장치를 통하여 고온의 고주파 플라즈마 반응기로 통과시켜 열분해함으로써 형광체 나노입자로 제조한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 완벽한 구형의 형태로 분포가 균일할 뿐만 아니라 구의 내부가 충진된 상태의 형광체 나노 분말을 단시간에 제조할 수 있어 플라즈마 디스플레이, 전계방출형 디스플레이 및 음극선관의 램프용으로 적합한 구형의 형태를 갖는 적색 형광체를 제조할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조장치의 개략 구성도이며, 도 2는 도 1에 도시한 플라즈마 토치의 단면을 도시한 모식 도이다.
도 1과 도 2를 참조하여 이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조공정 및 장치에 대하여 설명한다.
일반적으로, 산화물 형광체는 종래 황화물 형광체와 달리 디스플레이에서 발광을 위한 에너지원인 자외선이나 전자빔에 매우 안정하기 때문에, 평판디스플레이용 형광체로 사용되고 있다. 그 대표적인 예가 알루미늄산염(aluminate), 규산염(silicate), 티탄산염(titanate), 붕산염(borate) 등이 있다.
다양한 산화물계 형광체 중에서도 화학식 1로 표시되는 Y2-xO3:Eux 는 음극선관, 플라즈마 디스플레이, 전계방출 디스플레이와 같은 디스플레이와 삼파장 램프에서 광범위하게 쓰여지는 중요한 적색 형광체이다.
Y2 - xO3:Eux
상기 화학식 1에서 x는 0≤ x ≤0.2이다.
현재, 상기 형광체를 제조하는 방법으로는 대부분 고상법 및 액상법에 의해 제조되고 있다.
그러나, 고상법에 의해 제조되는 경우 각각의 구성 성분들의 산화물을 혼합하고 반복되는 고온열처리 및 분쇄공정을 거쳐 최종적으로 원하는 다성분 산화물 형광체를 제조하므로, 고상법으로 순수한 조성을 얻기 위해서는 고온과 장시간의 공정을 거쳐야 한다. 또한, 반복되는 열처리 및 분쇄과정을 거치면서 형광체 입자 에 불순물이 함유될 수 있으며, 제조된 입자들의 크기가 일반적으로 수 마이크론에 해당되며 표면이 거칠고 형태가 불균일한 문제가 있다.
이러한 고상법의 문제점을 해결하기 위하여 액상법을 이용한 제조방법이 연구되고 있다. 액상법은 공침법이나 솔-젤법과 같은 방법을 사용하는 것으로, 매우 낮은 온도에서 원하는 다성분의 형광체를 제조할 수 있다. 또한, 분자수준에서 도핑물질의 혼합이 가능하기 때문에, 보다 낮은 열처리 온도에서 좋은 형광특성을 기대할 수 있다. 그러나, 액상법에 의하여 제조되는 다성분계 산화물 형광체들은 입자의 형태가 매우 불균일하기 때문에, 평판디스플레이용으로 사용되기 어렵다.
특히, 모노크리닉상은 621nm에서 주 발광을 하기 때문에 색순도는 좋지만 휘도가 떨어지기 때문에 고휘도를 요하는 분야에서는 적용이 어렵다. 그래서, 현재 일반적인 디스플레이나 램프에서 쓰이는 큐빅상을 얻기 위해서는 장시간 고온의 열처리 과정을 거쳐야 한다.
따라서, 보다 간단한 공정으로 플라즈마 디스플레이, 전계방출형 디스플레이 및 종래의 음극선관(CRT)과 램프용으로 널리 사용될 수 있도록 크기와 형태가 균일하며 우수한 발광특성을 가지는 Y2-xO3:Eux 형광체의 제조방법을 개발해야 할 필요성이 대두되어 왔다.
본 발명은 형광체 모체 및 활성제의 전구체 분말을 제조하여 미세분말 공급장치 통하여 고온의 고주파 플라즈마 내부에서 열분해 및 용융으로 형광체 나노입자를 제조하는 방법에 의해 구형의 응집이 없는 균일한 형태이면서 구의 내부가 충 진된 Y2-xO3:Eux 형광체 입자를 제조할 수 있다.
[이트리아계 전구체 분말의 공급단계]
고주파 플라즈마를 이용한 이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조에는 생산성을 고려하여 100마이크론 이하의 형광체 모체 및 활성제가 포함된 전구체 혼합분말(이하 "이트리아계 전구체 분말"이라 함)을 사용한다. 이트리아계 전구체 분말은 공급장치(3)에 저장되었다가, 캐리어가스 공급라인(4a)을 따라 캐리어가스와 함께 플라즈마 토치(10)로 공급된다. 여기서, 캐리어가스는 아르곤 가스를 사용할 수 있다. 도면 부호 1은 아르곤 가스가 저장되는 아르곤 탱크이다.
[센트럴가스 및 실드가스의 공급단계]
플라즈마 토치(10)에는 캐리어가스와 함께 센트럴가스와 실드가스가 공급된다. 센트럴가스로는 캐리어가스와 마찬가지로 아르곤 가스가 사용될 수 있으며, 실드가스로는 아르곤과 산소가 혼합된 가스가 사용될 수 있다. 도면부호 2는 산소 가스가 저장되는 산소 탱크이며, 4b, 4c는 각각 센트럴가스 공급라인, 실드가스 공급라인이다.
[이트리아계 전구체 분말의 플라즈마 처리단계]
1) 용융 및 기화
이트리아계 전구체 분말의 플라즈마 처리는 고주파 플라즈마 토치(10)에 의해 이루어진다. 고주파 플라즈마 토치(10)에 의해 발생되는 플라즈마 온도는 약 5,000K~10,000K로서 고온의 플라즈마 화염에 의해 이트리아계 전구체 분말은 용융 및 기화된다.
플라즈마 토치(10)의 구조를 살펴보면, 주요하게는 플라즈마 토치(10)는 인덕션 코일(12)이 둘레를 따라 감기듯이 매설되어 있는 중공의 하우징(11)과, 하우징(11) 상부에서 삽입 설치된 노즐(13)과, 노즐(13) 직경보다 크며 하우징(11)의 내주면 직경보다 작게 형성되어 노즐(13)을 감싸듯이 설치된 튜브(14)를 구비한다. 도 2의 도면보호 12a는 전력공급라인이다.
이러한 구조의 플라즈마 토치(10)에 의하면, 이트리아계 적색 형광체 분말 플라즈마 처리 과정 중 이트리아계 전구체 분말은 캐리어가스와 함께 노즐(13)을 통해 분사된다. 센트럴가스는 튜브(14)를 통해 노즐(13) 외벽에 분사된다. 그리고 실드가스는 인덕션 코일(12)이 매설된 하우징(11) 내주면에 기화된 이트리아계 적색 형광체 입자가 흡착되지 않도록 튜브(14)와 하우징(11) 내주면 사이로 주입된다.
이때, 이트리아계 전구체 분말의 플라즈마 처리에 의해 얻어지는 이트리아계 적색 형광체 나노 분말의 입도는, 고주파 플라즈마 파워, 인덕션 코일 매설구간과의 관계에서 플라즈마 토치(10) 내부로 삽입 설치된 노즐(13)의 노즐팁(13a) 위치, 노즐 반경, 가스(캐리어가스, 센트럴가스, 실드가스)의 양 및 속도, 실드가스의 종류, 용융 및 기화된 이트리아계 적색 형광체 입자를 급냉시키는 냉각가스의 양 및 속도에 주로 영향을 받으며, 이러한 요소들의 최적 조건을 정립하는 것이 필요하다.
하우징(11) 내 노즐팁(13a)의 배치 조건을 살펴보면, 도 2에 도시한 바와 같 이, 노즐팁(13a)은 하우징(11)에 인덕션 코일 매설구간(D)의 정중앙 높이로부터 그 상측으로 약 3cm 내외의 범위에 위치되는 것이 바람직하다. 노즐팁(13a)이 상측에 위치될 수록 이트리아계 적색 형광체 나노 분말의 입도는 작아지나 노즐팁(13a)이 상측에 위치하는 경우 노즐팁(13a) 및 그 주변부품의 손상원인이 될 수 있으며, 반대로 노즐팁(13a)이 하측에 위치될 수록 부품의 손상은 저감되나 이트리아계 적색 형광체 나노 분말의 입도가 커진다. 따라서, 위와 같은 수치범위에서 가장 적당한 이트리아계 적색 형광체 나노 분말의 입도와 플라즈마 토치(10)의 부품 수명을 최적화할 수 있다.
2) 급냉
위와 같이 플라즈마 화염에 의해 용융 및 기화된 이트리아계 적색 형광체 입자를 플라즈마 토치(10) 하단부에서 냉각가스에 의해 급냉시켜 나노 분말화한다. 이러한 냉각가스에는 아르곤과 같은 불활성 가스가 사용될 수 있다.
이때, 냉각가스는 플라즈마 화염에 의해 용융 및 기화되는 이트리아계 적색 형광체 입자가 유입되는 반응챔버(20)의 상부에서 직접 분사될 수 있으나, 후술하는 사이클론(30) 전단계 혹은 후단계의 이트리아계 적색 형광체 나노 입자 유동라인(도 1 중 챔버 31)에서 공급될 수도 있다.
[1차 이트리아계 적색 형광체 나노 입자 분리단계]
플라즈마 처리된 이트리아계 적색 형광체 나노 입자는 그 입자 크기에 따라 반응챔버(20)에서 1차 분리된다. 즉, 진공펌프(70)에 의해 대기압 이하로 압력으로 유지되는 반응챔버(20) 내 이트리아계 적색 형광체 나노 입자는 사이클론(30) 측으 로 유동되는데, 이때 마이크론 입자 크기의 이트리아계 적색 형광체 입자는 그 무게에 의해 반응챔버(20) 바닥에 떨어진다.
[2차 이트리아계 적색 형광체 나노 입자 분리단계]
반응챔버(20)의 후단에는 반응챔버(20)에 연결되어 가벼운 입자는 상방향 배출되도록 하는 사이클론(30)이 설치된다. 플라즈마 처리된 이트리아계 적색 형광체 나노 입자 중 비교적 큰 나노입자는 사이클론(30)을 통과하면서 하방향 떨구어져 분리된다.
[필터링단계]
사이클론(30)을 통과한 이트리아계 적색 형광체 나노 입자는 냉각가스라인(40)이 연결된 챔버(31)을 거쳐 필터(50) 측으로 유동되는데, 이러한 유동라인을 따라 이동하면서 이트리아계 적색 형광체 나노 입자의 온도는 점차 하강하게 되며, 얻고자 하는 이트리아계 적색 형광체 나노 분말은 최종적으로 필터(50)에 흡착된다.
[이트리아계 적색 형광체 나노 분말 수거 및 폐가스 처리단계]
필터(50)에 흡착된 이트리아계 적색 형광체 나노 분말은 백플러싱(back flushing)을 하여 탈착시켜 하단의 수거통으로 회수한다. 그리고, 필터(50) 및 진공펌프(70)를 통과하여 수집된 가스는 소각로(80)로 보내어져 소각된다.
아래의 표 1에는 플라즈마 파워, 투입되는 가스의 유량 및 속도, 종류를 조절함을 통해 얻어진 최적 공정조건을 기재하였다.
구 분 공 정 조 건
플라즈마 파워 20kW~60kW

가 스		 캐리어가스 Ar: 5slpm~40 slpm
센트럴가스 Ar: 5slpm~40 slpm
실드가스 Ar: 10slpm~100 slpm
O2: 60slpm~120 slpm
냉각가스 Ar: 0slpm~400 slpm
위 표 1에서, 이트리아계 적색 형광체 온도 20℃ 대기압(14.7psi)에서 측정한 유량을 표시(LPM ; Liter/Minute)한 것이다.
도 3 내지 도 5는 본 발명의 실시예에 따라 제조된 이트리아계 적색 형광체 나노 분말의 사진으로서, 도 3은 X선 회절분석(XRD) 사진, 도 4는 투과전자현미경(TEM) 사진, 도 5는 입도분포도이다.
도 3 내지 도 5는 위와 같이 이트리아계 적색 형광체 공정조건에 따라 제조된 이트리아계 적색 형광체 나노 분말의 일례를 분석한 결과데이터이다.
이트리아계 전구체 분말 이트리아계 적색 형광체 플라즈마의 고온에 의해 열분해 및 재성장 과정을 거쳐 이트리아계 적색 형광체 나노 분말로 합성되는데, 필터를 통해 수거된 나노 분말의 상은 X선 회절분석(XRD) 결과(도 3 참조), 이트리아계 적색 형광체 결정상이 잘 형성되었음을 확인할 수 있었다.
또한, 투과전자현미경(TEM)과 입도 분석기를 통해 이트리아계 적색 형광체 나노 분말의 모양과 크기를 확인하였다. 그 결과는 각각 도 4와 도 5에 나타나 있으며 도면에서 확인할 수 있는 바와 같이 입자의 크기는 평균 90nm의 크기를 가지며 각진 구형의 형태를 지니고 있는 것을 알 수 있었다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조장치의 개략 구성도이다.
도 2는 도 1에 도시한 플라즈마 토치의 단면을 도시한 모식도이다.
도 3 내지 도 5는 본 발명의 실시예에 따라 제조된 이트리아계 적색 형광체 나노 분말의 사진으로서, 도 3은 X선 회절분석(XRD) 사진, 도 4는 투과전자현미경(TEM) 사진, 도 5는 입도분포도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
1 : 아르곤 탱크 2 : 산소탱크
3 : 공급장치 4a : 캐리어가스 공급라인
4b : 센트럴가스 공급라인 4c : 실드가스 공급라인
10 : 플라즈마 토치 11 : 하우징
12 : 인덕션 코일 12a : 전력공급라인
13 : 노즐 14 : 튜브
20 : 반응챔버 30 : 사이클론
31 : 챔버 40 : 냉각가스 공급라인
50 : 필터 60 : 수거통
70 : 진공펌프 80 : 소각로

Claims (6)

  1. 플라즈마 토치의 하우징에 설치된 노즐을 통하여 불활성의 캐리어가스와 함께 이트리아계 전구체 분말을 분사하며, 고주파 플라즈마 화염에 의해 이트리아계 전구체 분말 중 적어도 일부가 기화될 수 있도록 하는 이트리아계 전구체 분말의 공급단계;
    상기 노즐을 감싸듯이 설치되어 상기 노즐과 상기 하우징을 공간적으로 분리하는 튜브의 내측과 외측에 각각 불활성 가스를 포함하는 센트럴가스와 실드가스를 공급하는 단계;
    상기 하우징의 적어도 어느 일측에는 사이클론이 설치된 유동라인이 구비되며, 상기 유동라인을 따라 플라즈마 처리된 이트리아계 적색 형광체 나노 입자를 흡입하여 필터에 흡착시키되, 플라즈마 처리된 이트리아계 적색 형광체 나노 입자가 필터에 흡착되기 전 이트리아계 적색 형광체 나노 입자가 불활성의 냉각가스와 접촉되어 나노 분말화되도록 하는 이트리아계 전구체 분말의 플라즈마 처리단계
    를 포함하는 이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 이트리아계 전구체 분말의 플라즈마 처리단계는
    상기 플라즈마 화염에 의해 이트리아계 전구체 분말이 용융 및 기화되는 단계;
    상기 플라즈마 화염에 의해 용융 및 기화된 이트리아계 적색 형광체 입자를 플라즈마 토치 하단부에서 냉각가스에 의해 급냉시켜 나노 분말화하는 단계;
    상기 플라즈마 처리된 이트리아계 적색 형광체 나노 입자의 크기에 따라 반응챔버에서 1차 분리되는 단계;
    상기 반응챔버의 일측에 연결되어 가벼운 입자를 상방향 배출되도록 하는 사이클론을 통해 2차 분리되는 단계;
    상기 사이클론을 통과한 이트리아계 적색 형광체 나노 입자는 냉각가스라인에 연결된 챔버를 거쳐 필터에 흡착되는 필터링 단계;
    상기 필터에 흡착된 이트리아계 적색 형광체 나노 분말을 탈착시켜 회수하는 단계를 포함하는 이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 실드가스는 불활성 가스와 산소가 혼합된 기체인 이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조방법.
  4. 제1항에 있어서,
    고주파 플라즈마 파워는 15~150kW이며, 캐리어가스로 불활성 가스 5~40slpm, 센트럴가스로 불활성 가스 5~40slpm, 실드가스로 불활성 가스 10~120slpm과 산소 60~120slpm, 냉각가스로 불활성 가스 0~400slpm를 공급하는 이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 하우징에는 인덕션 코일이 매설되며, 상기 노즐 선단의 노즐팁은 상기 인덕션 코일 매설구간(D)의 중앙으로부터 하측 3cm 이내에 배치되도록 조절되는 이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조방법.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 필터를 통해 수거된 이트리아계 적색 형광체 나노 분말의 입자 크기는 80nm~100nm의 크기를 가지며 각진 구형의 형태를 갖는 이트리아계 적색 형광체 나노 분말 제조방법.
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