KR101395492B1 - 광도파로의 제조 방법 - Google Patents

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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 코어를 높게 형성해도 코어의 상부가 폭방향으로 팽창되지 않도록 할 수 있는 광도파로의 제조 방법을 제공하는 것으로, 언더클래드층(2) 등의 표면에, 자외선 경화형 수지를 도포한 후 그 도포층(3a)에 대해서 파장 330~400㎚의 범위 내의 자외선(L)을 소정 패턴으로 조사하고, 그 조사된 부분을 경화시켜 코어를 형성하는 것을 특징으로 한다.

Description

광도파로의 제조 방법{MANUFACTURING METHOD FOR OPTICAL WAVEGUIDE}
본 발명은 광통신, 광정보 처리, 그 밖의 일반 광학에서 널리 사용되는 광도파로의 제조 방법에 관한 것이다.
광도파로는 광도파로 디바이스, 광집적회로, 광배선 기판 등의 광디바이스에 편입되어 있고 광통신, 광정보 처리, 그 밖의 일반 광학 분야에서 널리 사용되고 있다. 광도파로로서는 예를 들어 언더클래드층상에, 코어가 소정 패턴으로 형성되고, 상기 코어를 포함하도록 오버클래드층이 형성된 3층 구조인 것을 들 수 있다(예를 들어, 일본 공개특허공보 2005-173039호).
상기 코어의 패턴 형성은 코어의 형성 재료로서 자외선 경화형 수지를 사용하고, 이를 예를 들어 언더클래드층 상에 도포한 후, 코어 패턴에 대응하는 개구 패턴이 형성되어 있는 포토마스크를 통하여 자외선에 의해 노광한다. 상기 노광된 부분이 경화되어 코어가 된다. 그 후, 현상함으로써 미노광 부분을 용해시켜 제거하고, 코어 패턴을 형성한다.
그런데, 최근 전자 광학 기기의 소형화가 진행됨에 따라서, 광도파로의 정밀화(코어 패턴의 소 피치화)가 요구되고 있다. 한편, 광도파로와 광학부품의 접속에서, 코어로부터 출사되는 광을 정확하게 광학부품에 전달시키기 위해서는 코어의 높이가 높은 편이, 광빔의 높이가 높아지므로 유리한 것으로 생각된다.
그러나, 광도파로를 정밀화(코어 패턴을 소피치화)한 상태에서, 단순하게 코어의 높이를 높게 하면, 노광했을 때 도 7에 도시한 바와 같이, 코어(30)의 상부가 폭방향으로 팽창하고, 인접하는 코어(30)끼리 그 상부에서 접촉된다는 문제가 발생한다. 인접하는 코어(30)끼리 접촉되면, 광전달에 지장을 초래한다. 또한, 도 7에서 부호 1은 광도파로를 제조하기 위한 기대, 부호 2는 언더클래드층이다.
본 발명은 이와 같은 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 코어를 높게 형성해도, 코어의 상부가 폭방향으로 팽창되지 않도록 할 수 있는 광도파로의 제조 방법의 제공을 그 목적으로 한다.
상기의 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 광도파로의 제조 방법은 평판 형상의 베이스의 표면에, 자외선 경화형 수지를 도포한 후, 그 도포층에 대해서 자외선을 소정 패턴으로 조사하고, 그 조사한 부분을 경화시켜 코어를 형성하는 공정을 구비한 광도파로의 제조 방법에 있어서, 자외선 조사시에서의 코어 상부의 폭방향의 팽창에 의한 코어끼리의 접촉을 방지하기 위해, 상기 자외선으로서 파장 330~400㎚의 범위 내의 자외선을 선택하여 사용하고, 상기 코어를 폭이 10~30㎛의 범위 내, 높이가 15~90㎛의 범위 내, 폭과 높이의 비가 폭:높이=1:1~1:5의 범위 내, 인접하는 코어와 코어 사이의 폭이 10~30㎛의 범위 내가 되도록 형성하는 구성을 취한다.
본 발명자는 코어를 높게 형성했을 때 코어의 상부가 폭방향으로 팽창되는 원인에 대해서 연구를 거듭했다. 그 결과, 그 원인은 조사하는 자외선의 파장에 있다는 지식을 얻었다. 즉, 조사하는 자외선은 통상, 자외선 조사 장치(예를 들어, 미카사사 제조, MA-60F)에 의한 자외선이지만, 그 자외선의 파장에는 365㎚를 주파장으로 436㎚, 310㎚, 248㎚에 파장 피크가 존재하고 있다. 그 중 310㎚, 248㎚와 같은 단파장의 자외선이 존재하면, 코어의 상부가 폭방향으로 팽창되는 것을 밝혀냈다. 그리고 더욱 연구를 거듭한 결과, 조사하는 자외선을 파장 330~400㎚의 범위 내의 자외선으로 하면, 코어를 높게 형성해도 코어의 상부가 폭방향으로 팽창되지 않도록 할 수 있는 것을 발견하여 본 발명에 도달했다.
본 발명의 광도파로의 제조 방법에서는 코어를 형성할 때 자외선 경화형 수지에 대해서 파장 330~400㎚의 자외선을 조사하므로, 코어를 높게 형성해도 코어의 상부가 폭방향으로 팽창되지 않는다. 그 결과, 광도파로를 정밀화(코어 패턴을 소피치화)해도 인접하는 코어끼리 그 상부에서 접촉되지 않는다.
다음에, 본 발명의 실시 형태를 도면에 기초하여 상세하게 설명한다.
도 1~도 5는 본 발명의 광도파로의 제조 방법의 일 실시 형태를 도시하고 있다. 상기 실시형태에서는 기대(基臺)(1)의 표면에, 언더클래드층(2)과 코어(3)와 오버클래드층(4)으로 이루어진 광도파로(도 5 참조)를 제조할 때, 상기 코어(3)의 형성 재료로서 자외선 경화형 수지를 사용하고, 그것을 도포하여 이루어진 도포 층(3a)(도 3 참조)에 대해서 파장 330~400㎚의 범위 내의 자외선(L)(도 3 참조)을 조사한다. 이것이 본원 발명의 특징이다.
보다 상세하게 설명하면, 우선 도 1에 도시한 바와 같이, 상기 광도파로를 제조하는 평판 형상의 기대(1)를 준비한다. 상기 기대(1)로서는 특별히 한정되는 것은 아니고, 그 형성 재료로서는 예를 들어 수지, 유리, 실리콘, 금속 등을 들 수 있고, 상기 수지로서는 예를 들어 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에스테르, 폴리아크릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리노르보르넨, 폴리이미드 등을 들 수 있다. 또한, 기대(1)의 두께도 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상 20㎛[필름형상의 기대(1)]~5㎜[판 형상의 기대(1)]의 범위 내로 설정된다.
다음에, 상기 기대(1)의 표면의 소정 영역에, 언더클래드층(2)을 형성한다. 상기 언더클래드층(2)의 형성 재료로서는 폴리이미드 수지, 에폭시 수지, 광중합성 수지 등을 들 수 있다. 그리고, 상기 언더클래드층(2)의 형성 방법은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 상기 수지가 용매에 용해되어 있는 바니시를 기대(1) 상에 도포한 후, 경화함으로써 실시된다. 상기 바니시의 도포는 예를 들어 스핀코트법, 딥핑법, 캐스팅법, 인젝션법, 잉크젯법 등에 의해 실시된다. 또한, 상기 경화는 언더클래드층(2)의 형성 재료나 두께 등에 의해 적절하게 실시되고, 예를 들어 언더클래드층(2)의 형성 재료로서 폴리이미드 수지가 사용되는 경우에는 300~400℃×60~180분간의 가열 처리에 의해 실시되고, 언더클래드층(2)의 형성 재료로서 광중합성 수지가 사용되는 경우에는 1000~5000mJ/㎠의 자외선을 조사한 후, 80~120℃×10~30분간의 가열 처리에 의해 실시된다. 그리고, 언더클래드층(2)의 두께는 통 상, 멀티모드 광도파로의 경우에는 5~50㎛로 설정되고, 싱글 모드 광도파로의 경우에는 1~20㎛로 설정된다.
다음에, 도 2에 도시한 바와 같이 상기 언더클래드층(2)의 표면에 코어(3)(도 4 참조)의 형성 재료인 자외선 경화형 수지를 도포하고, 도포층(3a)을 형성한다. 상기 자외선 경화형 수지는 상기 언더클래드층(2) 및 하기 오버클래드층(4)(도 5 참조)의 형성 재료보다도 굴절률이 큰 재료가 사용된다. 상기 굴절률의 조정은 예를 들어 상기 언더클래드층(2), 코어(3), 오버클래드층(4)의 각 형성재료의 종류의 선택이나 조성 비율을 조정하여 실시할 수 있다. 그리고, 상기 도포층(3a)의 형성은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 자외선 경화형 수지가 용매에 용해되어 있는 바니시를 언더클래드층(2) 상에 도포한 후, 건조함으로써 실시된다. 또한, 상기 바니시의 도포는 상기와 동일하게, 예를 들어 스핀코트법, 딥핑법, 캐스팅법, 인젝션법, 잉크젯법 등에 의해 실시된다. 또한, 상기 건조는 50~120℃×10~30분간의 가열 처리에 의해 실시된다.
그리고, 도 3에 도시한 바와 같이, 상기 건조시킨 도포층(3a)의 표면을, 투광성을 갖는 커버 필름(C)으로 덮고, 그 위에 원하는 코어(3)(도 4 참조) 패턴에 대응하는 개구 패턴이 형성되어 있는 포토마스크(M)를 설치한다. 그 후, 상기 포토마스크(M) 및 커버 필름(C)을 통하여, 도포층(3a)에 파장 330~400㎚의 범위 내의 자외선(L)을 조사한다. 상기 조사된 부분이, 후에 코어(3)가 된다. 상기 특정 파장의 자외선(L)은 통상의 자외선 조사 장치(예를 들어, 미카사사 제조, MA-60F)로부터의 자외선(L)을, 특정 파장만을 투과시키는 필터(예를 들어, 오프트라인사 제 조, 밴드패스필터)(F)에 투과시킴으로써 얻어진다. 자외선(L)의 광원으로서는 예를 들어 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등을 들 수 있고, 자외선(L)의 조사량은 통상, 10~10000mJ/㎠, 바람직하게는 50~4000mJ/㎠이다.
상기 노광[자외선(L)의 조사] 후, 포토마스크(M) 및 커버 필름(C)을 제거한다. 그 후, 광반응을 완결시키기 위해 가열 처리를 실시한다. 상기 가열 처리는 70~250℃, 바람직하게는 80~200℃에서, 10초~2시간, 바람직하게는 5분~1시간의 범위내에서 실시한다. 그 후, 현상액을 사용하여 현상을 실시함으로써, 도포층(3a)에서의 미노광 부분을 용해시켜 제거하고, 도포층(3a)을 패턴 형성한다(도 4 참조). 그리고, 그 패턴 형성된 도포층(3a) 중의 현상액을 가열 처리에 의해 제거하고, 도 4에 도시한 바와 같이 코어(3)를 형성한다. 상기 가열 처리는 통상, 80~120℃×10~30분간 실시된다. 또한, 현상은 예를 들어 침지법, 스프레이법, 퍼들링법 등이 사용된다. 또한, 현상제로서는 예를 들어, 유기계의 용매, 알칼리계 수용액을 함유하는 유기계의 용매 등이 사용된다. 이와 같은 현상제 및 현상 조건은 자외선 경화형 수지의 조성에 의해 적절하게 선택된다.
또한, 형성된 코어(3)의 크기는 특별히 한정되지 않지만, 광도파로를 정밀화(코어 패턴을 소피치화)하는 경우에는 코어(3)의 폭은 10~30㎛의 범위내로 설정되고, 코어(3)의 높이(두께)는 15~90㎛의 범위 내로 설정된다. 또한, 코어(3)의 폭과 높이의 비는 폭:높이=1:1~1:5의 범위 내로 설정된다. 또한, 인접하는 코어(3)와 코어(3) 사이의 폭은 10~30㎛의 범위 내로 설정된다. 이와 같이, 본 발명에서는 코어(3)를 그 폭에 대해서 높이를 높게 형성해도, 코어(3)의 상부에서는 폭 방향으로 팽창되지 않는다. 이 때문에, 인접하는 코어(3)와 코어(3) 사이의 폭을 좁게 해도, 인접하는 코어(3)끼리 그 상부에서 접촉되지 않는다.
다음에, 도 5에 도시한 바와 같이, 상기 코어(3)를 포함하도록, 후에 오버클래드층(4)이 되는 바니시를 상기 언더클래드층(2)과 동일한 재료를 사용하여 동일한 방법으로 도포한다. 계속해서 실시되는 도포층의 경화도, 상기 언더클래드층(2)을 형성하는 경우와 동일하게 하여 실시되고, 예를 들어 오버클래드층(4)의 형성 재료로서 폴리이미드 수지가 사용되는 경우에는 가열 처리가 실시되고, 광중합성 수지가 사용되는 경우에는, 자외선 조사한 후에 가열 처리가 실시된다. 이에 의해, 오버클래드층(4)이 형성된다. 상기 오버클래드층(4)의 형성 재료로서는 상기 언더클래드층(2)과 동일한 재료를 들 수 있지만, 그 중 상기 오버클래드층(4)의 형성 재료는 상기 언더클래드층(2)의 형성 재료와 동일해도 좋고, 달라도 좋다. 그리고, 오버클래드층(4)의 두께는 통상, 멀티모드 광도파로의 경우에는 5~100㎛로 설정되고, 싱글 모드 광도파로의 경우에는 1~20㎛로 설정된다.
이와 같이 하여 기대(1)의 표면에, 언더클래드층(2)과 코어(3)와 오버클래드층(4)으로 이루어진 광도파로가 형성된다.
그리고, 상기 광도파로를 사용할 때에는 기대(1)를 언더클래드층(2)으로부터 박리하여 사용해도 좋고, 기대(1)를 박리하지 않고 광도파로와 함께 사용해도 좋다.
도 6은 본 발명의 광도파로의 제조 방법의 다른 실시 형태를 도시하고 있다. 상기 실시 형태에서는 상기 실시 형태의 광도파로의 제조 방법에 있어서, 언더클래 드층(2)을 대신하여, 평판 형상의 기판(5a)과, 상기 기판(5a)의 표면에 형성된 금속 박막(5b)으로 이루어진 베이스(5)를 사용하고, 그 금속 박막(5b)의 표면에, 상기 코어(3) 및 오버클래드층(4)을 형성하고 있다. 그리고, 상기 금속 박막(5b)의 표면은 코어(3)를 통과하는 빛의 반사면으로서 작용한다. 그 이외의 부분은 상기 실시 형태와 동일하고, 동일한 부분에는 동일한 부호를 붙이고 있다. 그리고, 작용·효과도 상기 실시 형태와 동일하다.
보다 상세하게 설명하면, 상기 기판(5a)로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 수지 기판, 유리 기판, 실리콘 기판 등을 들 수 있다. 상기 수지 기판의 형성 재료로서는 예를 들어 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에스테르, 폴리아크릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리노르보르넨, 폴리이미드 등을 들 수 있다. 그 두께도 특별히 한정되지 않지만, 통상 2~5㎜의 범위 내로 설정된다.
상기 금속 박막(5b)의 형성은 도금 또는 증착에 의해 형성된다. 그 금속 박막(5b)의 형성 재료로서는 예를 들어 니켈, 구리, 은, 금, 크롬, 알루미늄, 아연, 주석, 코발트, 텅스텐, 백금, 파라듐 및 이들 2종 이상의 원소를 포함하는 합금 재료 등을 들 수 있다. 그 두께는 특별히 한정되지 않지만 통상 50㎚~5㎛의 범위 내로 설정된다.
상기 실시 형태의 광도파로의 제조 방법은 우선 평판 형상의 기판(5a)을 준비하고, 그 기판(5a)의 표면에 도금 또는 증착에 의해 상기 금속 박막(5b)을 형성한다. 그리고, 상기 금속 박막(5b)의 표면에 상기 실시 형태와 동일하게 하여, 코어(3) 및 오버클래드층(4)을 형성한다. 이와 같이 하여, 상기 광도파로가 얻어진 다.
또한, 각 실시 형태에서는 오버클래드층(4)을 형성하고 있지만, 상기 오버클래드층(4)은 필수는 아니고, 경우에 따라서 오버클래드층(4)을 형성하지 않고 광도파로를 구성해도 좋다. 또한, 상기 오버클래드층(4)을 대신하여 상기 금속 박막(5b)(도 6 참조)과 동일한 금속 박막을 도금 또는 증착에 의해 형성해도 좋다.
다음에, 실시예에 대해서 비교예와 함게 설명한다. 단, 본 발명은 실시예에 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
〔언더클래드층 및 오버클래드층의 형성 재료〕
비스페녹시에탄올플루오렌디글리시딜에테르(성분 A) 35중량부, (3’,4’-에폭시시클로헥산)메틸3’,4’-에폭시시클로헥실카르복실레이트(다이셀 가가쿠사 제조, 세록사이드 2021P)(성분 B) 40중량부, 지환식 에폭시 수지(다이셀 가가쿠사 제조, 세록사이드 2081P)(성분 C) 25중량부, 4,4-비스〔디(β히드록시에톡시)페닐설피니오〕페닐설피드-비스-헥사플루오로안티모네이트의 50% 프로피온카보네이트 용액(광산 발생제: 성분 D) 1중량부를 혼합함으로써, 언더클래드층 및 오버클래드층의 형성 재료를 조제했다.
〔코어의 형성 재료〕
상기 성분 A: 70중량부, 1,3,3-트리스{4-〔2-(3-옥세타닐)〕부톡시페닐}부탄: 30중량부, 상기 성분 D: 0.5중량부를 락트산 에틸 28중량부에 용해함으로써, 코어의 형성 재료를 조제했다.
〔광도파로의 제작〕
우선, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름〔기대: 120㎜×120㎜×188㎛(두께)〕의 표면에, 상기 언더클래드층의 형성 재료를 스핀코트법에 의해 도포한 후, 자외선 장치(미카사사 제조, MA-60F)를 사용하여 2000mJ/㎠의 자외선 조사를 실시했다. 계속해서, 100℃×15분간의 가열 처리를 실시함으로써 언더클래드층(두께 20㎛)을 형성했다.
그리고, 상기 언더클래드층의 표면에, 상기 코어의 형성 재료를 스핀코트법에 의해 도포한 후, 100℃×5분간의 건조 처리를 실시했다. 다음에, 그 표면에, 투광성을 갖는 폴리카보네이트제 커버필름(두께 40㎛)을 설치하고, 또한 그 커버필름의 표면에, 개구 패턴(코어 패턴)이 형성된 합성 석영계의 포토마스크를 설치했다. 그리고, 상방의 상기 자외선 조사 장치로부터 밴드패스필터(오프토라인사 제조)에 투과시켜 얻은 파장 355~375㎚의 자외선을, 상기 포토마크스 및 커버필름을 향하여 4000mJ/㎠에서 조사했다. 다음에, 상기 포토마스크 및 커버 필름을 제거한 후, 80℃×15분간의 가열 처리를 실시했다. 다음에, γ-부티로락톤 수용액을 사용하여 현상함으로써 미노광 부분을 용해 제거한 후, 100℃×15분간의 가열 처리를 실시함으로써 코어(폭 20㎛, 높이 80㎛, 인접하는 코어와 코어간의 폭 20㎛)를 형성했다. 형성된 코어에서 그 폭은 높이 방향으로 균일하고 인접하는 코어끼리 접촉되지 않았다.
다음에, 상기 코어를 포함하도록, 상기 오버클래드층의 형성 재료를 스핀 코트법에 의해 도포한 후, 상기 자외선 조사 장치를 사용하여 2000mJ/㎠의 자외선 조 사를 실시했다. 계속해서, 120℃×15분간의 가열처리를 실시함으로써, 오버클래드층(언더클래드층 표면으로부터의 두께 100㎛)을 형성했다.
이와 같이 하여 상기 기대 상에 언더클래드층, 코어 및 오버클래드층이 상기 순서로 적층되어 이루어진 광도파로를 제조할 수 있었다.
[실시예 2]
상기 실시예 1에서 개구 패턴이 다른 포토마스크를 사용함으로써, 크기가 다른 코어(폭 12㎛, 높이 48㎛, 인접하는 코어와 코어 간의 폭 12㎛)를 형성했다. 그 이외에는 상기 실시예 1과 동일하게 했다.
상기 실시예 2도, 형성된 코어에서 그 폭은 높이 방향으로 균일하고, 인접하는 코어끼리 접촉되는 일은 없었다.
[실시예 3]
상기 실시예 1에서 별도의 밴드패스필터(오프토라인사 제조)를 사용함으로써, 코어의 형성 재료의 도포층에 조사하는 자외선의 파장을 330~400㎚로 했다. 그 이외에는 상기 실시예 1과 동일하게 했다.
상기 실시예 3도, 형성된 코어에서 그 폭은 높이 방향으로 균일하고, 인접하는 코어끼리 접촉되지 않았다.
[비교예 1]
상기 실시예 1에서 밴드패스필터를 사용하지 않고 자외선(파장 240~440㎚)를 조사하여 코어(높이 80㎛)를 형성했다. 그 이외에는 상기 실시예 1과 동일하게 했다.
상기 비교예 1에서는 형성된 코어가 상부에서 폭방향으로 팽창되어 인접하는 코어끼리 접촉되었다.
[비교예 2]
상기 실시예 2에서 밴드패스필터를 사용하지 않고 자외선(파장 240~440㎚)을 조사하고 코어(높이 48㎛)를 형성했다. 그 이외에는 상기 실시예 2와 동일하게 했다.
이 비교예 2에서도 형성된 코어가 상부에서 폭방향으로 팽창되어, 인접하는 코어끼리 접촉되었다.
[비교예 3]
상기 실시예 3에서 또 다른 밴드패스필터(오프토라인사 제조)를 사용함으로써, 코어의 형성 재료의 도포층에 조사하는 자외선의 파장을 310~400㎚로 했다. 그 이외에는 상기 실시예 3과 동일하게 했다.
상기 비교예 3에서도 형성된 코어가 상부에서 폭방향으로 팽창되어, 인접하는 코어끼리 접촉되었다.
상기 실시예 1~실시예 3 및 비교예 1~비교예 3의 결과로부터 코어의 형성에서 실시예 1~실시예 3과 같이, 조사하는 자외선의 파장을 330~400㎚의 범위 내로 설정하면, 형성된 코어의 폭은 높이 방향으로 균일해지고, 비교예 1~비교예 3과 같이, 조사하는 자외선에 330㎚를 하회하는 파장이 포함되어 있으면, 코어가 상부에서 폭방향으로 팽창되는 것을 알 수 있다.
도 1은 본 발명의 광도파로의 제조 방법의 일 실시형태를 모식적으로 도시한 단면도,
도 2는 상기 광도파로의 제조 방법을 모식적으로 도시한 단면도,
도 3은 상기 광도파로의 제조 방법을 모식적으로 도시한 단면도,
도 4는 상기 광도파로의 제조 방법을 모식적으로 도시한 단면도,
도 5는 상기 광도파로의 제조 방법을 모식적으로 도시한 단면도,
도 6은 본 발명의 광도파로의 제조 방법의 다른 실시 형태를 모식적으로 도시한 단면도 및
도 7은 종래의 광도파로의 제조 방법을 모식적으로 도시한 단면도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
2: 언더클래드층 3a: 도포층
L: 자외선

Claims (5)

  1. 평판 형상의 베이스의 표면에, 자외선 경화형 수지를 도포한 후, 그 도포층에 대해서 자외선을 소정 패턴으로 조사하고, 그 조사한 부분을 경화시켜 코어를 형성하는 공정을 구비한 광도파로의 제조 방법에 있어서,
    자외선 조사시에서의 코어 상부의 폭방향의 팽창에 의한 코어끼리의 접촉을 방지하기 위해, 상기 자외선으로서 파장 330~400㎚의 범위 내의 자외선을 선택하여 사용하고, 상기 코어를 폭이 10~30㎛의 범위 내, 높이가 15~90㎛의 범위 내, 폭과 높이의 비가 폭:높이=1:1~1:5의 범위 내, 인접하는 코어와 코어 사이의 폭이 10~30㎛의 범위 내가 되도록 형성하는 것을 특징으로 하는 광도파로의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 자외선의 파장 330~400㎚의 선택은 자외선 조사장치로부터의 자외선을 특정 파장만을 투과시키는 필터에 투과시킴으로써 이루어진 것을 특징으로 하는 광도파로의 제조 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 베이스는 기판과, 상기 기판의 표면에 형성된 금속박막으로 이루어지고, 상기 코어 형성용 자외선 경화형 수지의 도포는 상기 금속박막의 표면에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 광도파로의 제조 방법.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 금속박막의 형성은 도금 또는 증착에 의해 실시되고, 상기 금속박막의 두께를 50nm~5㎛의 범위 내로 형성하는 것을 특징으로 하는 광도파로의 제조 방법.
  5. 삭제
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