KR20090008126A

KR20090008126A - 필름 형상 광도파로의 제조 방법

Info

Publication number: KR20090008126A
Application number: KR1020080063318A
Authority: KR
Inventors: 사자두르 라흐만 칸
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2007-07-17
Filing date: 2008-07-01
Publication date: 2009-01-21
Also published as: JP2009025385A; CN101349781A; US20090022466A1; EP2051117A2; US7587114B2

Abstract

절단이나 펀칭에 의하지 않고, 1조각의 필름 형상 광도파로를 간단하게 얻을 수 있는 필름 형상 광도파로의 제조 방법을 제공하는 것으로, 기판(1)상을 복수의 필름 형상 광도파로(W)에 대응하는 영역으로 구획하고, 그 영역마다 언더클래드층(2)과, 그 위의 코어(3)를 형성하여 필름 형상 광도파로(W)화하고, 다음에 각 필름 형상 광도파로(W)를 상기 기판(1)으로부터 각각 박리하는 것을 특징으로 한다.

Description

필름 형상 광도파로의 제조 방법{FILM-SHAPED OPTICAL WAVEGUIDE PRODUCTION METHOD}

본 발명은 광통신, 광정보처리, 그 밖에 일반 광학에서 널리 사용되는 필름 형상 광도파로의 제조 방법에 관한 것이다.

광도파로는 광도파로 디바이스, 광집적 회로, 광배선 기판 등의 광디바이스에 편성되어 있고 광통신, 광정보처리, 그 밖에 일반 광학의 분야에서 널리 사용되고 있다. 광도파로는 통상, 광의 통로인 코어가 소정 패턴으로 형성되고, 그 코어를 덮도록 언더클래드층과 오버클래드층이 형성되어 있다.

광도파로의 제조 방법으로서는 예를 들어, 기판 상에 광도파로를 복수, 연속적으로(인접하는 광도파로 사이의 간극이 없는 상태로) 형성하고, 그 후 다이싱 등에 의해 인접하는 광도파로 사이의 경계를 기판과 함께 절단하고, 기판이 부착된 광도파로를 1개(조각)마다 얻는 방법이 제안되어 있다(예를 들어, 일본 공개특허공보 2003-172839호 참조). 또한, 언더클래드층으로서 필름을 사용하고, 그 필름상에 코어 및 오버클래드층을 형성함으로써, 복수의 필름 형상 광도파로를 형성하고 그 필름체로부터 펀칭이나 레이저광에 의해 광도파로를 개별로 절단하고, 필름 형 상 광도파로를 1조각 마다 얻는 방법이 제안되어 있다(예를 들어 일본 공개특허공보 2006-154447호 참조).

그러나, 상기와 같이 절단에 의해 광도파로를 1조각마다 얻는 방법에 있어서, 다이싱이나 레이저광에 의한 경우는 개별로 절단할 필요가 있으므로 생산성이 낮다. 특히, 광도파로는 그 용도에 따라 전체의 형상이 복잡해지는 경우가 많고, 이 복잡한 형상에 따라서 절단하기는 곤란하여 생산성이 낮아진다. 또한, 펀칭에 의한 경우는 광도파로의 형상마다 펀칭용 틀(型)을 제작할 필요가 있으므로 제조 비용이 높아진다. 또한, 절단시에 발생하는 절삭 찌꺼기가 광도파로에 부착되어, 광도파로의 품질의 신뢰성을 저하시킬 우려도 있다. 이와 같이, 이들 방법은 상기의 점에서 개선의 여지가 있다.

본 발명은 이와 같은 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 절단이나 펀칭에 의하지 않고 1조각의 필름 형상 광도파로를 간단하게 얻을 수 있는 필름 형상 광도파로의 제조 방법의 제공을 그 목적으로 한다.

상기의 목적을 달성하기 위해 본 발명의 필름 형상 광도파로의 제조 방법은 기판상에, 복수의 필름 형상 광도파로를 형성하는 필름 형상 광도파로의 제조 방법으로서, 상기 기판상을 복수의 필름 형상 광도파로에 대응하는 영역으로 구획하고, 그 영역마다 언더클래드층과, 그 위의 코어를 형성하여 필름 형상 광도파로를 형성하고, 다음에 형성된 각 필름 형상 광도파로를 상기 기판으로부터 각각 박리하는 구성을 취한다.

본 발명의 필름 형상 광도파로의 제조 방법에서는 기판상을 복수의 필름 형상 광도파로에 대응하는 영역으로 구획하고, 그 영역마다 필름 형상 광도파로를 형성한다. 이 때문에, 형성된 각 필름 형상 광도파로를 기판으로부터 각각 박리함으로써, 필름 형상 광도파로를 1조각 마다 얻을 수 있다. 즉, 본 발명의 필름 형상 광도파로의 제조 방법에서는 필름 형상 광도파로를 1조각마다 얻을 때, 절단이나 펀칭을 할 필요가 없다. 그 결과, 절삭 찌꺼기가 광도파로에 부착되지 않고 광도파로의 신뢰성을 저하시키는 일도 없다. 또한, 생산성을 높게 할 수 있어 제조 비용을 억제할 수 있다. 또한, 필름 형상 광도파로가 복잡한 형상을 하고 있어도 기판상에 형성된 필름 형상 광도파로를 간단히 기판으로부터 박리하는 것만으로 좋으므로, 필름 형상 광도파로의 형상에 의한 생산성의 저하가 발생하지 않는다.

특히, 상기 언더클래드층의 형성이 상기 기판상의 거의 전면에 감광성 수지층을 형성하고, 상기 구획한 영역에 대응하는 상기 감광성 수지층의 부분을 선택적으로 노광하고, 그 노광부분을 언더클래드층에 형성함으로써 실시되는 경우에는, 기판상에서 각 필름 형상 광도파로에 대응하는 개개의 언더클래드층의 형성이 한번에 끝나므로, 언더클래드층의 형성을 효율 좋게 실시할 수 있다. 또한, 상기 기판상의 「거의 전면」이라는 것은 필름 형상 광도파로가 형성되는 영역의 의미이다.

또한, 상기 코어의 단부가 렌즈부에 형성되어 있는 경우에는 별도로 외부 렌즈를 설치하지 않아도 코어로부터 출사되는 광의 발산을 효율 좋게 억제하는 효과, 또는 코어에 입사하는 광을 효율 좋게 집속시키는 효과를 갖는다.

다음에, 본 발명의 실시 형태를 도면에 기초하여 상세하게 설명한다.

도 1~도 4는 본 발명의 필름 형상 광도파로의 제조 방법의 일 실시형태를 도시하고 있다. 상기 실시 형태는 요약하면, 기판(1) 상에서 구획된 영역마다, 언더클래드층(2)을 형성하고〔도 1(c) 참조〕, 그 각 언더클래드층(2) 상에 코어(3)를 형성한 후〔도 2(c) 참조〕, 그 코어(3)를 피복하는 오버클래드층(4)을 형성함으로써〔도 3(c) 참조〕, 기판(1) 상에 언더클래드층(2)과 코어(3)와 오버클래드층(4)으로 이루어진 필름 형상 광도파로(W)를, 인접하는 필름 형상 광도파로(W) 사이에 간극을 두고 복수 형성하고, 그 후 형성된 각 필름 형상 광도파로(W)를 상기 기판(1)으로부터 각각 박리하는 방법이다.

보다 상세하게 설명하면 본 발명의 필름 형상 광도파로의 제조 방법은 예를 들어 다음과 같이 하여 실시된다.

우선, 도 1(a)~(c)에 도시한 바와 같이 하여 상기 기판(1) 상에서 구획된 영역마다 언더클래드층(2)을 형성한다. 즉, 우선 상기 기판(1)〔도 1(a) 참조〕을 준비한다. 상기 기판(1)으로서는 특별히 한정되는 것은 아니고, 그 형성 재료로서는 예를 들어 유리, 석영, 실리콘, 수지, 금속 등을 들 수 있다. 또한, 기판(1)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 통상 20㎛~5㎜의 범위 내로 설정된다.

다음에, 도 1(a)에 도시한 바와 같이, 상기 기판(1)상에 전면적으로 언더클래드층(2)의 형성 재료인 감광성 수지가 용매에 용해되어 있는 바니시를 도포한다. 상기 바니시의 도포는 예를 들어, 스핀 코트법, 딥핑법, 캐스팅법, 인젝션법, 잉크 젯법 등에 의해 실시된다. 그리고, 그것을 50~120℃×10~30분간의 가열 처리에 의해 건조시킨다. 이에 의해, 언더클래드층(2)에 형성되는 감광성 수지층(2a)을 형성한다. 상기 감광성 수지층(2a)의 두께는 통상 5~50㎛의 범위 내로 설정된다.

다음에, 도 1(b)에 도시한 바와 같이, 상기 감광성 수지층(2a)의 상방에, 언더클래드층(2)의 패턴에 대응하는 개구 패턴이 형성되어 있는 노광 마스크(M1)를 배치하고 상기 노광 마스크(M1)를 통하여 상기 감광성 수지층(2a)을 조사선(L1)에 의해 노광한다. 상기 노광용 조사선(L1)으로서는 예를 들어 가시광, 자외선, 적외선, X선, α선, β선, γ선 등이 사용된다. 바람직하게는 자외선이 사용된다. 자외선을 사용하면 큰 에너지를 조사하고 큰 경화 속도를 수득할 수 있고, 또한 조사 장치도 소형이고 저렴하고 생산 비용의 저감화를 도모할 수 있기 때문이다. 자외선의 광원으로서는 예를 들어 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등 등을 들 수 있고, 자외선의 조사량은 통상, 10~10000mJ/㎠, 바람직하게는 50~3000mJ/㎠이다.

상기 노광후, 광반응을 완결시키기 위해 가열 처리를 실시한다. 상기 가열 처리는 80~250℃, 바람직하게는 100~200℃에서 10초~2시간, 바람직하게는 5분~1시간의 범위 내에서 실시한다.

다음에 도 1(c)에 도시한 바와 같이 현상액을 사용하여 현상을 실시함으로써, 상기 감광성 수지층(2a)에서의 미노광 부분을 용해시켜 제거하고, 잔존한 감광성 수지층(2a)을 언더클래드층(2)의 패턴으로(구획된 영역마다) 형성한다. 상기 언더클래드층(2)의 패턴은 복수의 잔존 감광성 수지층(2a)이 나열 설치되어 이루어 지고, 인접하는 잔존 감광성 수지층(2a) 사이에는 간극이 벌어져 있다. 또한, 상기 현상은 예를 들어 침지법, 스프레이법, 퍼들링법 등이 사용된다. 또한, 현상액으로서는 예를 들어 유기계의 용매, 알칼리계 수용액을 함유하는 유기계의 용매 등이 사용된다. 이와 같은 현상액 및 현상 조건은 감광성 수지 조성물의 조성에 의해 적절하게 선택된다.

상기 현상 후, 언더클래드층(2)의 패턴으로 형성된 잔존 감광성 수지층(2a) 중의 현상액을 가열 처리에 의해 제거한다. 상기 가열 처리는 통상 80~120℃×10~30분간의 범위 내에서 실시된다. 이에 의해, 상기 언더클래드층(2)의 패턴으로 형성된 잔존 감광성 수지층(2a)을 각각 언더클래드층(2)으로 형성한다.

다음에, 도 2(a)~(c)에 도시한 바와 같이 하여 상기 언더클래드층(2) 상에, 코어(3)를 형성한다. 즉, 우선 도 2(a)에 도시한 바와 같이 상기 언더클래드층(2)을 덮도록 기판(1) 상에, 코어(3)〔도 2(c) 참조〕로 형성되는 감광성 수지층(3a)을 형성한다. 상기 감광성 수지층(3a)의 형성은 도 1(a)에서 설명한, 언더클래드층(2)으로 형성되는 감광성 수지층(2a)의 형성 방법과 동일하게 하여 실시되고, 그 두께(언더클래드층(2) 상에서의 두께)는 통상, 5~30㎛의 범위내로 설정된다. 또한, 상기 코어(3)의 형성 재료는 상기 언더클래드층(2) 및 후기의 오버클래드층(4)〔도 3(c) 참조〕의 형성 재료보다도 굴절률이 큰 재료가 사용된다. 상기 굴절률의 조정은 예를 들어 상기 언더클래드층(2), 코어(3), 오버클래드층(4)의 각 형성 재료의 종류의 선택이나 조성 비율을 조정하여 실시할 수 있다.

다음에, 도 2(b)에 도시한 바와 같이 상기 감광성 수지층(3a)의 상방에, 코 어(3)〔도 2(c) 참조〕의 패턴에 대응하는 개구 패턴이 형성되어 있는 노광 마스크(M2)를 배치하고, 상기 노광 마스크(M2)를 통하여 상기 감광성 수지층(3a)을 조사선(L2)에 의해 노광한 후 가열 처리를 실시한다. 상기 노광 및 가열 처리는 도 1(b)에서 설명한 언더클래드층(2)의 형성 방법과 동일하게 하여 실시된다.

계속해서, 도 2(c)에 도시한 바와 같이, 현상액을 사용하여 현상을 실시함으로써, 상기 감광성 수지층(3a)에서의 미노광 부분을 용해시켜 제거하고 언더클래드층(2) 상에 잔존한 감광성 수지층(3a)을 코어(3)의 패턴으로 형성한다. 그 후, 그 잔존 감광성 수지층(3a) 중의 현상액을 가열 처리에 의해 제거하여 코어(2)로 형성한다. 상기 현상 및 가열 처리는, 도 1(c)에서 설명한 언더클래드층(2)의 형성 방법과 동일하게 하여 실시된다. 또한, 상기 실시 형태에서는 상기 노광 및 현상에 의해 코어(3)의 양단부를 평면에서 보아 볼록 형상의 렌즈부에 형성하고 있다. 그 일단부의 렌즈부는 코어(3)에 입사되는 광을 집속시키고, 타단부의 렌즈부는 코어(3)로부터 출사하는 광의 발산을 억제한다.

그리고, 도 3(a)~(c)에 도시한 바와 같이 하여 상기 언더클래드층(2) 상에, 오버클래드층(4)을 형성한다. 즉, 우선 도 3(a)에 도시한 바와 같이, 상기 코어(3)와 상기 언더클래드층(2)을 덮도록 기판(1) 상에, 오버클래드층(4)〔도 3(c) 참조〕으로 형성되는 감광성 수지층(4a)을 형성한다. 상기 감광성 수지층(4a)의 형성은 도 1(a)에서 설명한, 언더클래드층(2)으로 형성되는 감광성 수지층(2a)의 형성 방법과 동일하게 하여 실시되고, 그 두께(언더클래드층(2) 상에서의 두께)는 통상 20~100㎛의 범위 내로 설정된다.

다음에, 도 3(b)에 도시한 바와 같이, 상기 감광성 수지층(4a)의 상방에, 오버클래드층(4)〔도 3(c) 참조〕의 패턴에 대응하는 개구 패턴이 형성되어 있는 노광 마스크(M3)를 배치하고, 상기 노광 마스크(M3)를 통하여 상기 감광성 수지층(4a)을 조사선(L3)에 의해 노광한 후 가열 처리를 실시한다. 상기 노광 및 가열 처리는 도 1(b)에서 설명한 언더클래드층(2)의 형성 방법과 동일하게 하여 실시된다.

계속해서, 도 3(c)와 같이, 현상액을 사용하여 현상을 실시함으로써, 상기 감광성 수지층(4a)에서의 미노광 부분을 용해시켜 제거하고, 언더클래드층(2) 상에 잔존한 감광성 수지층(4a)을 오버클래드층(4)의 패턴으로 형성한다. 그 후, 그 잔존 감광성 수지층(4a) 중의 현상액을 가열 처리에 의해 제거하고, 오버클래드층(4)으로 형성한다. 상기 현상 및 가열 처리는 도 1(c)에서 설명한 언더클래드층(2)의 형성 방법과 동일하게 하여 실시된다. 또한, 상기 실시 형태에서는 코어(3)의 양단부의 렌즈부에 대응하는 부분에는 오버클래드층(4)을 형성하고 있지 않다(렌즈부가 오버클래드층(4)의 단면으로부터 돌출되어 있다).

이와 같이 하여 기판(1) 상에, 언더클래드층(2)과 코어(3)와 오버클래드층(4)으로 이루어진 필름 형상 광도파로(W)를, 인접하는 필름 형상 광도파로(W) 사이에 간극을 두고 복수개 형성할 수 있다. 이 경우, 노광마스크(M1, M2, M3)의 개구 패턴의 형상을 적절하게 설정함으로써, 복잡한 형상의 필름 형상 광도파로(W)를 형성할 수 있다.

그 후, 도 4(a), (b)에 도시한 바와 같이 하여 상기 필름 형상 광도파로(W) 를 기판(1)으로부터 박리한다. 즉, 우선, 도 4(a)에 도시한 바와 같이 진공 흡인 스테이지(V) 상에, 기판(1)의 하면을 접촉시키고, 기판(1)을 에어 흡착에 의해 고정한다. 이어서, 각 오버클래드층(4)의 상면을 진공 흡착기(도시하지 않음)로 흡착하고, 그 상태에서 그 흡착 부분을 들어 올린다. 이에 의해 도 4(b)에 도시한 바와 같이, 각 오버 클래드층(4)과 함께 그 오버클래드층(4)에 대응하는 코어(3)와 언더클래드층(2)을 접착시킨 상태에서, 각 필름 형상 광도파로(W)의 언더클래드층(2)을 기판(1)으로부터 박리한다. 여기에서, 기판(1)과 언더클래드층(2) 사이의 접착력은 그 형성 재료로부터, 오버클래드층(4)과 코어(3) 및 언더클래드층(2) 사이의 접착력 및 코어(3)와 언더클래드층(2) 사이의 접착력보다도 약하고, 상기와 같이 함으로써 간단하게 박리할 수 있다. 이와 같이 하여 절단하지 않고 필름 형상 광도파로(W)를 1조각 마다 얻을 수 있다.

또한, 상기 실시 형태에서는 언더클래드층(2)의 형성에서, 언더클래드층(2)의 형성 재료로서 감광성 수지를 사용하여, 상기 언더클래드층(2)의 패턴 형성(구획된 영역마다 형성)을 노광 및 현상에 의해 실시했지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 언더클래드층(2)의 형성 재료로서 폴리이미드 수지, 에폭시 수지 등의 열경화성 수지를 사용하여, 언더클래드층(2)을 패턴 형성하는 경우에는 그 패턴에 대응하는 틀을 기판(1)상에 재치하고, 그 틀내에서 상기 열경화성 수지가 용매에 용해되어 있는 바니시를 도포한 후, 가열 처리(통상, 300~400℃×60~180분간)에 의해 경화시키는 등하여 언더클래드층(2)을 형성해도 좋다.

또한, 상기 실시 형태에서는 코어(3)의 양단부를 렌즈부로 형성했지만, 코 어(3)의 일단부만 렌즈부로 형성해도 좋고, 양단부 모두 렌즈부로 형성하지 않아도 좋다. 또한, 상기 실시 형태에서는 코어(3)의 양단부(렌즈부에 대응하는 부분)에는 오버클래드층(4)을 형성하고 있지 않지만, 오버클래드층(4)을 형성해도 좋다.

그리고, 상기 실시 형태에서는 필름 형상 광도파로(W)를 기판(1)으로부터 박리할 때, 에어 흡착에 의해 기판(1)을 고정했지만, 그 고정 방법은 다른 것이어도 좋고 예를 들어 필름 형상 광도파로(W)가 형성되어 있지 않은 기판(1) 상의 부분을, 단순히 손가락이나 지그 등으로 눌러도 좋다.

또한, 상기 실시 형태에서는 오버클래드층(4)을 형성하고 있지만, 상기 오버클래드층(4)은 필수는 아니고, 경우에 따라서 오버클래드층(4)을 형성하지 않고 필름 형상 광도파로를 구성해도 좋다.

다음에, 실시예에 대해서 설명한다. 단, 본 발명은 실시예에 한정되는 것은 아니다.

[실시예 1]

〔언더클래드층 및 오버클래드층의 형성 재료〕

비스페녹시에탄올플루오렌디글리시딜에테르(성분 A) 35중량부, 지환식 에폭시 수지인 3’,4’-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트(다이세르 가가쿠샤 제조, 세록사이드 2021P)(성분 B) 40중량부, (3’,4’-에폭시시클로헥산)메틸-3’,4’-에폭시시클로헥실-카르복실레이트(다이세르 가가쿠샤 제조, 세록사이드 2081)(성분 C) 25중량부, 4,4-비스〔디(β-히드록시에톡시)페닐설피니오〕페닐설피드-비스-헥사플루오로안티모네이트의 50% 프로피온카보네이트 용액(광 산 발생제: 성분 D) 1중량부를 혼합함으로써, 언더클래드층 및 오버클래드층의 형성 재료를 조제했다.

〔코어의 형성 재료〕

상기 성분 A: 70중량부, 1,3,3-트리스{4-〔2-(3-옥세타닐)〕부톡시페닐}부탄: 30중량부, 상기 성분 D: 0.5중량부를 락트산 에틸 28중량부에 용해함으로써, 코어의 형성 재료를 조제했다.

〔필름 형상 광도파로의 제작〕

우선, 유리 기판(두께 1.0㎜) 상에 전면적으로, 상기 언더클래드층의 형성 재료를 스핀코트법에 의해 도포한 후, 100℃×15분간의 건조 처리를 실시하고, 감광성 수지층을 형성했다. 다음에, 형성하는 언더클래드층의 패턴과 동일한 형상의 개구 패턴이 형성된 합성 석영계의 노광 마스크를 통하여, 2000mJ/㎠의 자외선 조사에 의한 노광을 실시한 후, 150℃×60분간의 가열 처리를 실시했다. 다음에, γ-부티로락톤 수용액을 사용하여 현상함으로써 미노광 부분을 용해 제거한 후, 100℃×15분간의 가열 처리를 실시함으로써, 언더클래드층(두께 25㎛)을 형성했다.

다음에, 상기 언더클래드층을 덮도록 유리 기판상에, 상기 코어의 형성 재료를 스핀코트법에 의해 도포한 후, 100℃×15분간의 건조 처리를 실시하고, 감광성 수지층을 형성했다. 다음에, 그 감광성 수지층의 상방에, 코어의 패턴과 동일한 형상의 개구 패턴이 형성된 합성 석영계의 노광 마스크를 배치했다. 그리고, 그 상방으로부터 컨텍트 노광법으로 4000mJ/㎠의 자외선 조사에 의한 노광을 실시한 후, 120℃×15분간의 가열 처리를 실시했다. 다음에, γ-부티로락톤 수용액을 사 용하여 현상함으로써, 미노광 부분을 용해 제거한 후 120℃×30분간의 가열 처리를 실시함으로써, 코어(두께 24㎛)를 형성했다. 코어의 양단부는 상기 노광 및 현상에 의해, 평면에서 보아 볼록 형상의 렌즈부로 형성했다.

그리고, 상기 코어와 상기 언더클래드층상을 덮도록 유리 기판상에, 상기 오버클래드층의 형성 재료를 스핀코트법에 의해 도포한 후, 100℃×15분간의 건조 처리를 실시하고 감광성 수지층을 형성했다. 다음에, 그 감광성 수지층의 상방에, 오버클래드층의 패턴과 동일한 형상의 개구 패턴이 형성된 합성 석영계의 노광 마스크를 위치 결정했다. 그리고, 그 상방으로부터, 컨택트 노광법에서 2000mJ/㎠의 자외선 조사에 의한 노광을 실시한 후, 150℃×60분간의 가열 처리를 실시했다. 다음에, γ-부티로락톤 수용액을 사용하여 현상함으로써 미노광 부분을 용해 제거한 후, 100℃×15분간의 가열 처리를 실시함으로써 오버클래드층(두께 35㎛)을 형성했다.

그 후, 진공 흡인 스테이지상에, 상기 유리 기판의 하면을 접촉시키고, 유리 기판을 에어 흡착에 의해 고정했다. 다음에, 각 오버클래드층의 상면을 진공 흡착기(다이요샤 제조, TUS-B)로 흡착하고, 그 상태에서 그 흡착 부분을 들어 올림으로써, 각 오버클래드층과 함께, 그 오버클래드층에 대응하는 코어와 언더클래드층을 접착시킨 상태에서, 각 필름 형상 광도파로의 언더클래드층을 기판으로부터 박리했다. 이와 같이 하여, 언더클래드층, 코어 및 오버클래드층이, 이 순서로 적층되어 이루어진 필름 형상 광도파로를, 절단하지 않고 1조각마다 얻을 수 있었다.

도 1의 (a)~(c)는 본 발명의 필름 형상 광도파로의 제조 방법의 일 실시형태에서의 언더클래드층의 형성 방법을 모식적으로 도시한 설명도,

도 2의 (a)~(c)는 상기 필름 형상 광도파로의 제조 방법의 일 실시형태에서의 코어의 형성 방법을 모식적으로 도시한 설명도,

도 3의 (a)~(c)는 상기 필름 형상 광도파로의 제조 방법의 일 실시형태에서의 오버클래드층의 형성 방법을 모식적으로 도시한 설명도, 및

도 4의 (a), (b)는 상기 필름 형상 광도파로의 제조 방법의 일 실시형태에서의 필름 형상 광도파로를 기판으로부터 박리하는 방법을 모식적으로 도시한 설명도이다.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명

W: 필름 형상 광도파로 1: 기판

2: 언더클래드층 3: 코어

Claims

복수의 필름 형상 광도파로를 형성하는 필름 형상 광도파로의 제조 방법에 있어서, 기판상을 복수의 필름 형상 광도파로에 대응하는 영역으로 구획하고, 그 영역마다 언더클래드층과, 그 위의 코어를 형성하여 필름 형상 광도파로를 형성하고, 다음에 형성된 각 필름 형상 광도파로를 상기 기판으로부터 각각 박리하는 것을 특징으로 하는 필름 형상 광도파로의 제조 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 언더클래드층의 형성이, 상기 기판상의 거의 전면에 감광성 수지층을 형성하고, 상기 구획한 영역에 대응하는 상기 감광성 수지층의 부분을 선택적으로 노광하고, 그 노광 부분을 언더클래드층에 형성함으로써 실시되는 것을 특징으로 하는 필름 형상 광도파로의 제조방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

상기 코어의 단부가 렌즈부에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 필름 형상 광도파로의 제조 방법.