KR100990617B1 - 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법에 관한 것으로, 코어물질을 레이저 가공설비로 식각하여 코어패턴을 갖는 코어층을 형성함으로써, 별도의 포토 마스크 등의 사용이 필요없이 간단한 장치 및 공정에 의해 광도파로용 인쇄회로기판을 제조할 수 있는 방법을 제공한다.
레이저, 도파로, 클래드층, 코어층, 식각, 개구 마스크

Description

광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법{A method of manufacturing a printed circuit board for optical waveguides}
본 발명은 인쇄회로기판 상에 전기신호 및 광신호를 전송하기 위한 전기배선 및 광배선을 갖는 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법에 관한 것이다.
정보의 고속화 및 대용량화에 따라 전기신호의 전송속도와 전송용량을 높이는 기술이 요구되고 있다. 그러나, 전기배선을 이용한 일반 인쇄회로기판의 경우 전송속도의 한계(2.5Gbps이하), 전기 선로간의 누화특성(crosstalk), 실장밀도의 제약, 및 EMI(Electromagnetic Interference)등의 영향으로 대용량 고속전송에 한계가 있다.
따라서, 광섬유/광도파로를 인쇄회로기판 내에 내장(embedding)시켜 광배선(optical layer)과 전기배선(Electric layer)을 적층으로 구성한 하이브리드(hybrid) 구조를 갖는 광도파로용 인쇄회로기판에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다.
통상적으로 광배선은 고 투명성 폴리머 소재로 제작되며, 광신호가 실제 전송되는 사각단면을 갖는 코어층와 이를 둘러싼 코어층에 비해 낮은 굴절율을 갖는 클래드부로 구성되고, 사각단면의 코어층는 통상 사진 식각 공법 또는 자외선 레이저를 코어물질에 조사하여 굴절율을 변화시키는 공법 등을 이용하여 제작되고 있다.
이와 관련하여, 도 1 내지 도 3에는 사진 식각 공법을 이용한 종래기술 1에 따른 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법을 설명하기 위한 공정단면도가 도시되어 있으며, 이를 참조하여 그 제조방법을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 베이스 기판(11)에 하부 클래드층(12)을 형성하고 그 위로 코어물질(13)을 도포한다(도 1 참조).
다음, 상기 코어물질(13)을 사진 식각 공법 등을 통해서 패터닝하여 코어층(15)을 형성한다(도 2 참조).
이때, 사진 식각 공법은 소정의 패턴을 갖는 포토 마스크(photo mask)를 사용하여 코어물질(13)에 자외선을 조사하여 노광을 수행하고, 노광 후 미노광 영역을 현상액(예를 들어, 아세톤)으로 용해시켜 제거하여 코어층(15)을 형성하는 것이다.
마지막으로, 상기 코어층(15)이 형성된 하부 클래드층(12) 상에 상부 클래드층(16)을 형성하여 광도파로용 인쇄회로기판을 완성한다(도 3 참조).
또한, 도 4 내지 도 6에는 자외선 레이저를 코어물질에 조사하여 굴절율을 변화시키는 공법을 이용한 종래기술 2에 따른 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법 을 설명하기 위한 공정단면도가 도시되어 있으며, 이를 참조하여 그 제조방법을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 베이스 기판(21)에 하부 클래드층(22)을 형성하고 그 위로 고 굴절율의 폴리머층(23) 도포한다(도 4 참조).
다음, 상기 폴리머층(23) 중 코어패턴이 될 부분을 제외하고 자외선 레이저광을 조사하여 굴절율을 변화시킨다(도 5). 이때, 자외선 조사영역은 자외선 레이저광에 의해 굴절율이 저하되어 측면 클래드층(25B)의 기능을 수행하고, 자외선 비조사영역은 측면 클래드층(25B)보다 높은 굴절율을 갖는 코어층(25A)의 기능을 수행하게 된다.
마지막으로, 상기 코어층(25A) 및 측면 클래드층(25B) 상에 상부 클래드층(106) 을 형성하여 광도파로용 인쇄회로기판(20)을 완성한다(도 6)
그러나, 종래기술 1의 사진 식각 공법에 의해 코어층(15)를 형성하는 경우에는 포토 마스크의 사용이 필요하였다. 특히, 광 전송 손실을 줄이기 위해 코어패턴의 측면조도를 작게 형성하기 위해서는 마스크 패턴이 깨끗한 고가의 포토 마스크를 사용해야 하는 문제점이 있었다. 나아가, 현상공정에서 코어층(15)과 하부 클래드층(12) 사이의 접착력이 충분하지 않을 경우(코어층(15) 계면의 조도가 작은 경우) 코어 배선이 제대로 형성하기 어렵고, 반면 코어층(15) 계면의 조도를 크게 할 경우 광손실이 증가하는 문제가 있어 기계적/화학적 표면처리가 어려운 문제점이 있었다.
또한, 종래기술 2의 자외선 레이저 조사에 의해 코어물질의 굴절율을 변화시켜 코어층(25A)를 형성하는 경우에는 코어물질이 자외선 레이저 조사에 의해 굴절율이 변하는 특정 물질로 제한되는 문제점이 있었다. 또한, 자외선 레이저를 조사하여 자외선 조사 영역과 비조사 영역 사이의 굴절율을 변화시키는 간접적인 방식으로 코어패턴을 형성하였기 때문에 그 경계가 반드시 분명하지 아니하여 미세패턴을 갖는 광배선을 구현하는데 어려움이 있었다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 레이저 가공설비로 코어물질을 식각하는 간단한 장치 및 간단한 공정에 의해 코어층을 형성할 수 있는 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법은, (A) 베이스 기판 상에 하부 클래드층을 형성하는 단계, (B) 상기 하부 클래드층 상에 코어물질을 적층 또는 코팅하는 단계, (C) 코어패턴을 갖는 코어층을 형성하기 위해 상기 코어물질에 트렌치를 레이저로 가공하는 단계, 및 (D) 상기 하부 클래드층 및 상기 코어층 상에 상부 클래드층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 베이스 기판은 절연층의 일면 또는 양면에 회로패턴이 형성된 인 쇄회로기판인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 (C) 단계는, (C1) 위치 조정이 가능한 X-Y 테이블 상에 상기 하부 클래드층 및 상기 코어물질이 순차적으로 형성된 상기 베이스기판을 배치하는 단계, (C2) 상기 X-Y 테이블의 상부에 배치된 개구 마스크의 개구와 트렌치가 형성될 영역이 일치되도록 상기 X-Y 테이블의 위치를 조정하는 단계, 및 (C3) 레이저로 상기 트렌치를 가공하여 코어패턴을 갖는 코어층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 레이저는 CO2 레이저인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 개구 마스크의 개구는 직선형상의 모서리부를 갖는 다각형 개구 인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 (C3) 단계에서, 상기 X-Y 테이블의 위치를 조정하여 길이방향으로 상기 트렌치를 가공하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 (C3) 단계에서, 상기 코어패턴은 직각방향으로 광신호를 전송하기 위해 수직구조를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 (D) 단계 이후에, (E) 수직하게 배치된 상기 코어패턴 영역이 45°방향으로 비스듬이 가공되도록 상기 개구 마스크를 이용하여 상기 레이저로 홈부를 가공하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 (E) 단계 이후에, (F) 상기 홈부의 측면에 금속미러를 코팅하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 레이저 가공 설비를 이용하여 코어물질을 식각하여 코어층을 형성함으로써, 별도의 포토 마스크 등의 사용할 필요없이 간단한 장치 및 간단한 공정에 의해 광도파로용 인쇄회로기판을 제조할 수 있다.
또한, 본 발명은 정밀가공이 가능한 레이저 가공 설비를 이용하여 코어패턴의 측면 조도를 줄임으로써, 고가의 포토 마스크를 사용하거나 표면이 깨끗한 스탬프를 제조할 필요없이 광도파로용 인쇄회로기판을 제조할 수 있다.
또한, 본 발명은 레이저 조사에 의한 식각공정을 사용함으로써, 별도의 현상액을 사용할 필요가 없어 보다 친환경적인 동시에 간단한 제조방법을 제공하며, 코어물질을 자외선광 조사에 의해 굴절율이 변하는 물질이거나 광경화성이 우수한 물질과 같은 특정물질로 한정할 필요가 없이 재료선정에 구애를 받지 않고 더욱 용이하게 광도파로용 인쇄회로기판을 제조할 수 있다.
또한, 본 발명은 오토-스케일링(Auto-Scaling) 기능을 갖는 레이저 가공 설비를 사용함으로써, 패턴정합을 자동적으로 보정하면서 광도파로용 인쇄회로기판을 제조할 수 있다.
또한, 본 발명은 레이저 가공 설비의 정밀성을 이용하여 미세패턴을 갖는 광도파로용 인쇄회로기판을 제조할 수 있다.
본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되어지는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예들로부터 더욱 명백해질 것이다. 또 한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 7 내지 도 10은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법을 설명하기 위한 공정단면도이고, 도 11은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 레이저 가공설비와 이를 이용한 코어층 형성방법을 설명하기 위한 도면이며, 도 12 내지 도 14는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 광도파로에서 직각으로 광신호를 전송하기 위한 구조를 제조하는 방법을 설명하기 위한 공정 평면도이다.
도 7 내지 도 10을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 도 7에 도시한 바와 같이, 베이스 기판(101) 상에 하부 클래드층(102)을 형성한다.
여기서, 베이스 기판(101)은 광도파로 형성을 위한 지지체 기능을 수행하고, 전기신호를 전달하기 위한 전기배선을 제공하기 위한 것으로서, 본 도면에서는 베이스 기판(101)으로서 양면에 회로층이 형성된 절연층을 일례로 도시하였으나, 특 별히 이에 한정되는 것은 아니며, 일면에 회로층이 형성된 절연층도 포함된다 할 것이다. 이때, 회로층은 후술하는 광배선(광도파로)과 함께 전기신호를 전달하게 된다.
한편, 비록 본 도면에서는 회로층이 형성된 베이스 기판(101)에 하부 클래드층(102)을 형성하는 것으로 도시하였으나, 회로형성용 금속층을 갖는 절연층에 하부 클래드층(102)을 형성하고 광도파로 형성 후에 회로형성용 금속층을 패터닝하여 회로층을 형성하는 것 또한 본 발명의 범주 내에 포함된다고 할 것이며, 나아가, 절연층을 베이스 기판(101)으로 하고, 이후 어디티브(Additive) 방식에 의해 회로층을 형성하는 것 또한 본 발명의 범주 내에 포함된다고 할 것이다.
또한, 베이스 기판(101)에 사용되는 재료는 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 석영 유리판, 규소 웨이퍼, 세라믹 기판, 유리 에폭시 수지 기판, 폴리이미드 필름, 폴리(에틸렌 테레프탈레이드)(PET) 필름, 및 동박과 같은 회로형성용 금속층, 연성, 경성, 경연성 인쇄회로기판 등이 사용될 수 있다.
한편, 하부 클래드층(102)과 베이스 기판(101)의 접착성을 향상시키기 위해, 하부 클래드층(102)이 형성되는 베이스 기판(101)의 일면을 실란 커플링제 또는 알루미늄 킬레이트제로 표면처리를 실시할 수 있다.
하부 클래드층(102)은 통상의 클래드 필름을 베이스 기판(101) 상에 적층하여 형성하는 것이 전형적이나, 특별히 이에 한정되지 않고 스핀코팅과 같은 코팅기술, 스크린 인쇄 등의 공지된 모든 방법을 이용하여 형성될 수 있다.
여기서, 하부 클래드층(102)의 재료는 후술하는 코어층(105)을 구성하는 코 어물질(103)보다 굴절율이 낮아야 하며, 예를 들어, 코어물질(103)의 굴절률 및 하부 클래드층(102)의 굴절율의 차이가 약 0.1 내지 5%가 되는 것이 바람직하다. 또한, 코어물질(103)과 충분한 접착성을 갖는 것을 선택하는 것이 바람직하다.
하부 클래드층(102)을 형성하기 위한 이러한 재료로, 예를 들어, 에폭시 수지 및 폴리이미 수지 전구물질을 포함하며, 보다 구체적으로, 3,4-에폭시시클로헥세닐메틸을 비롯한 지환족 에폭시 화합물과 같은 에폭시 화합물, 비스페놀 A 에폭시 수지, 베스페놀 F 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F 에폭시 수지, 나프탈렌 에폭시 수지, 지방족 에폭시 수지, 및 불소화 에폭수 수지 등을 단독으로 또는 이들을 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
또한, 접착을 증진시키기 위하여 필요에 따라 실란 또는 티타네이트 커플링제와 같은 화합물, 및 가요성 부여제, 산화방지제, 및 소포제 등을 첨가할 수 있다.
다음, 도 8에 도시한 바와 같이, 하부 클래드층(102) 상에 코어물질(103)을 적층 또는 코팅한다.
이때, 코어물질(103)의 적층 또는 도포는 통상의 액상 코어물질을 디스펜싱(dispensing), 잉크젯(ink jet), 인쇄 등의 당업계에 공지된 방법을 사용하여 하부 클래드층(102) 상에 형성한 후, 프리-베이킹(pre-baking)을 하여 경화시키는 방법을 통해서 수행될 수 있으나, 특별히 이에 한정되는 것은 아니다.
한편, 본 발명은 레이저로 코어물질(103)을 식각하여 코어층을 형성하기 때문에, 사진 식각 공법 또는 자외선 레이저 조사에 의한 굴절율 변화에 의해 코어층 을 형성하는 종래기술과 달리 광경화성 에폭시 수지 등으로 코어물질(103)이 특별히 한정되지 않는다.
다음, 도 9에 도시한 바와 같이, 코어물질을 레이저로 가공하여 코어패턴을 갖는 코어층(105)을 형성한다.
이때, 코어층(105)은 레이저에 의한 식각공정을 통하여 코어물질 중 코어패턴이 될 영역의 양쪽에 직선형상의 모서리부를 갖는 다각형 개구 마스크(204)를 사용하는 레이저 가공설비를 이용하여 그 길이방향으로 트렌치(104; trench)를 가공함으로써 형성된다.
한편, 레이저, 특히 장파장 레이저로 트렌치(104)를 가공하는 경우 회절현상 이 트렌치(104)는 경면의 측면 구조를 갖게 된다. 즉, 트렌치(104) 가공시 도 11에 도시한 바와 같은 개구 마스크(204)의 경계에서 레이저광의 회절현상에 의해 경면의 측면 구조가 형성되게 된다.
다음, 도 10에 도시한 바와 같이, 코어층(105) 상에 상부 클래드층(106)을 형성한다. 상부 클래드층(106)을 형성하기 위해 사용할 수 있는 방법의 예는 상기 기술한 바와 같은 하부 클래드층(102)을 형성하기 위한 것들과 동일한 방법을 포함한다. 상부 클래드층(106)을 형성하는데 사용하는 재료는 하부 클래드층(102)을 형성하는데 사용하는 재료와 동일한 것이 바람직하다.
이와 같은 제조공정에 따라 전기배선과 광배선을 모두 갖는 하이브리드 구조의 광도파로용 인쇄회로기판이 제조된다.
도 11을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 레이저 가공설비와 이를 이용한 코어층 형성방법을 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 레이저 가공설비는 레이저광 발생기(201), X-Y 테이블(203), 개구 마스크(204)를 포함하여 구성된다.
레이저광 발생기(201)는 레이저광(202)을 출사하기 위한 것으로서, 코어물질을 식각하기 위한 식각용 레이저광 발생기, 예를 들어 CO2 레이저광 발생기가 사용된다. 이 레이저광 발생기는 그 파워를 펄스 형태 또는 연속형태로 제어가능하며, 코어물질(103)의 두께에 따라 가공깊이를 제어할 수 있는 것이 바람직하다.
여기서, 레이저광 발생기(201)는 출사되는 레이저광(202)이 X-Y 테이블(203)을 향하도록 그 상부에 배치되는 것이 바람직하나, 레이저광의 광로를 전환할 수 있는 별도의 광로 전환용 미러(미도시)를 사용함으로써 적절히 배치될 수 있다.
X-Y 테이블(203)은 기판을 지지 또는 이송하기 위한 것으로, 그 상부에 코어물질이 적층 또는 도포된 베이스 기판(101)에 배치된다. 여기서, X-Y 테이블(203)을 이동시킴으로써 길이방향으로 트렌치를 가공하게 된다. 그러나, 좁은 범위의 트렌치를 가공하는 경우에는 개구 마스크(204)와 베이스 기판(101) 사이에 배치된 광학계(미도시)를 이용하여 가공이 가능하므로 반드시 테이블(203)의 이동이 요구되지는 않는다.
개구 마스크(204)는 코어물질(103)에 도달하는 레이저의 범위를 한정하며, 레이저광(202)이 조사되는 방향으로 X-Y 테이블(203)의 상부에 배치된다. 여기서, 다각형 개구는 트렌치를 길이방향으로 직선형태로 가공가능하도록 직선 형상의 모서리부를 가지는 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상술한 바와 같은 레이저 가공설비를 이용하여 코어층(105)을 형성하는 방법을 간단히 설명하면 다음과 같다.
먼저, 하부 클래드층(102) 및 코어물질(103)이 순차적으로 형성된 베이스 기판(101)을 X-Y 테이블(203) 상부에 배치한다.
다음, 코어물질의 상부에 개구 마스크(204)의 개구가 코어패턴 일측의 트렌치 형성 영역을 노출하도록 X-Y 테이블(203)을 이용하여 베이스 기판(101)의 위치를 조정한다.
다음, 레이저광 발생기를 작동하여 출사되는 레이저광으로 코어물질(103)에 트렌치(104)를 펄스 형태로 중첩가공하거나 연속형태로 가공한다. 이때, 트렌치(104)를 길이방향으로 가공하기 위해 X-Y 테이블(203)을 이용하여 베이스 기판(101)의 위치를 계속 조정함으로써 트렌치(104)를 가공한다.
마지막으로, X-Y 테이블(203)을 특정 피치만큼 이동하여 코어패턴 타측의 다른 트렌치 형성영역을 노출하도록 이동시키고 레이저광을 이용하여 트렌치(104)를 형성한다. 상기와 같은 공정을 통해 복수의 트렌치를 가공함으로써 코어층(105)을 형성한다.
도 12 내지 도 14를 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 광도파로 에서 직각으로 광신호를 전송하기 위한 구조를 제조하는 방법을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 도 12에 도시한 바와 같이, 베이스 기판(101)에 하부 클래드층(102) 및 코어물질(103)을 순차적으로 형성하고, 수직구조의 코어패턴이 형성되도록 레이저광으로 트렌치를 형성한다. 이때, 트렌치가 형성된 부분에는 하부 클래드층(102)이 노출된다.
다음, 도 13에 도시한 바와 같이, 코어층 상에 상부 클래드층(106)을 형성하고, 수직하게 절곡된 코어패턴 영역이 45°방향으로 비스듬이 가공되도록 개구 마스크(204)를 배치하고 레이저광을 조사하여 홈부를 형성한다. 이때, X-Y 테이블을 이용하여 베이스 기판(101)을 이동시킴으로써 소정 길이방향의 홈부가 형성된다.
마지막으로, 도 14에 도시한 바와 같이, 홈부의 측면, 특히 코어패턴이 접하는 홈부의 측면에 금속미러(205)를 코팅한다. 상기와 같이 금속미러(205)를 코팅함으로써 광신호는 직각으로 광로가 변경되어 전송되게 된다.
상술한 바와 같이, 개구 마스크를 갖는 레이저 설비를 이용하여 직각으로 광신호를 전송하기 위한 구조 또한 간단하게 제조할 수 있다.
이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함은 명백하다고 할 것이 다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.
도 1 내지 도 3은 사진 식각 공법을 이용한 종래기술 1에 따른 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법을 설명하기 위한 공정단면도이다.
도 4 내지 도 6은 자외선 레이저 조사를 이용한 종래기술 2에 따른 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법을 설명하기 위한 공정단면도이다.
도 7 내지 도 10은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법을 설명하기 위한 공정단면도이다.
도 11은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 레이저 가공설비와 이를 이용한 코어층 형성방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 12 내지 도 14는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 광도파로에서 직각으로 광신호를 전송하기 위한 구조를 제조하는 방법을 설명하기 위한 공정 평면도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
101 : 베이스 기판 102 : 하부 클래드층
103 : 코어물질 104 : 트렌치
105 : 코어층 106 : 상부 클래드층
201 : 레이저광 발생기 203 : X-Y 테이블
204 : 개구 마스크 205 : 금속미러

Claims (10)

  1. (A) 베이스 기판 상에 하부 클래드층을 형성하는 단계;
    (B) 상기 하부 클래드층 상에 코어물질을 적층 또는 코팅하는 단계;
    (C) 코어패턴을 갖는 코어층을 형성하기 위해 상기 코어물질에 트렌치를 CO2 레이저로 가공하는 단계; 및
    (D) 상기 하부 클래드층 및 상기 코어층 상에 상부 클래드층을 형성하는 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법.
  2. (A) 베이스 기판 상에 하부 클래드층을 형성하는 단계;
    (B) 상기 하부 클래드층 상에 코어물질을 적층 또는 코팅하는 단계;
    (C) 코어패턴을 갖는 코어층을 형성하기 위해 상기 코어물질에 트렌치를 레이저로 가공하는 단계; 및
    (D) 상기 하부 클래드층 및 상기 코어층 상에 상부 클래드층을 형성하는 단계;
    를 포함하며,
    상기 (C) 단계는:
    (C1) 위치 조정이 가능한 X-Y 테이블 상에 상기 하부 클래드층 및 상기 코어물질이 순차적으로 형성된 상기 베이스기판을 배치하는 단계;
    (C2) 상기 X-Y 테이블의 상부에 배치된 개구 마스크의 개구와 트렌치가 형성될 영역이 일치되도록 상기 X-Y 테이블의 위치를 조정하는 단계; 및
    (C3) 레이저로 상기 트렌치를 가공하여 코어패턴을 갖는 코어층을 형성하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 (C) 단계는,
    (C1) 위치 조정이 가능한 X-Y 테이블 상에 상기 하부 클래드층 및 상기 코어물질이 순차적으로 형성된 상기 베이스기판을 배치하는 단계;
    (C2) 상기 X-Y 테이블의 상부에 배치된 개구 마스크의 개구와 트렌치가 형성될 영역이 일치되도록 상기 X-Y 테이블의 위치를 조정하는 단계; 및
    (C3) 레이저로 상기 트렌치를 가공하여 코어패턴을 갖는 코어층을 형성하는 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법.
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 레이저는 CO2 레이저인 것을 특징으로 하는 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법.
  5. 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,
    상기 개구 마스크의 개구는 직선형상의 모서리부를 갖는 다각형 개구 인 것을 특징으로 하는 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법.
  6. 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,
    상기 (C3) 단계에서,
    상기 X-Y 테이블의 위치를 조정하여 길이방향으로 상기 트렌치를 가공하는 것을 특징으로 하는 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법.
  7. 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,
    상기 (C3) 단계에서,
    상기 코어패턴은 직각방향으로 광신호를 전송하기 위해 수직구조를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 (D) 단계 이후에,
    (E) 수직하게 배치된 상기 코어패턴 영역이 45°방향으로 비스듬이 가공되도록 상기 개구 마스크를 이용하여 상기 레이저로 홈부를 가공하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 (E) 단계 이후에,
    (F) 상기 홈부의 측면에 금속미러를 코팅하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법.
  10. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 베이스 기판은 절연층의 일면 또는 양면에 회로패턴이 형성된 인쇄회로기판인 것을 특징으로 하는 광도파로용 인쇄회로기판의 제조방법.
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