KR101363347B1 - 평판 인쇄판의 제판방법 - Google Patents

평판 인쇄판의 제판방법 Download PDF

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Abstract

평판 인쇄판의 제판방법으로서, (a) 친수성 표면을 구비하거나 또는 친수성층이 제공된 지지체, 및 상기 지지체 상의 코팅을 포함하는 평판 인쇄판 원판을 제공하는 단계로서, 상기 코팅은 (i) 광경화성 조성물을 포함하는 적어도 하나의 화상기록층으로서, 상기 조성물은 화상 노광시 자유 라디칼을 형성할 수 있는 화합물을 포함하는 화상기록층 및 (ii) 상기 화상기록층 상부에, 수용성 또는 수팽윤성 폴리머를 포함하는 산소-장벽층을 포함하는 단계, (b) 상기 코팅을 화상 노광시키는 단계, (c) 선택적으로, 상기 원판을 예열 유닛에서 가열시키는 단계, (d) 상기 화상 노광된 원판을 물 또는 수용액으로 처리하여 산소-장벽층의 적어도 일부를 제거하는 단계로서, 이에 의하여 주변광에 의한 코팅의 비노광 영역의 경화가 산소로 인한 자유 라디칼의 퀀칭(quenching)에 의해 억제되는 정도로까지 코팅의 산소 투과율을 증가시키는 단계, (e) 상기 처리된 원판을 평판 인쇄기의 판 실린더 상에 장착하는 단계, 및 (f) 상기 코팅에 축임액 및/또는 잉크를 주입하면서 상기 판 실린더를 회전시켜 현상하는 단계로서, 이에 의하여 상기 화상기록층의 비노광 영역을 제거하는 단계를 포함하는 평판 인쇄판의 제판방법이 개시된다.

Description

평판 인쇄판의 제판방법{Method of making a lithographic printing plate}
본 발명은 평판 인쇄판의 제판방법에 관한 것으로서, 상기 제판방법에 의하여 네거티브형 광폴리머(negative-working photopolymer) 인쇄판 원판은 화상 노광되며, 물 또는 수용액으로 처리되고(이에 의하여 산소장벽층의 적어도 일부가 제거된다), 인쇄기(press)에 장착되어 상기 지지체로부터 비노광 영역을 제거하기 위하여 잉크와 분수를 도포함으로써 온-프레스 제판(on-press processing)된다.
평판 인쇄에서, 인쇄판과 같은 소위 인쇄 마스터는 인쇄기의 실린더 상에 장착된다. 상기 마스터는 그 표면에 평판 화상을 담게되며, 상기 화상에 잉크를 도포하고 이후 잉크를 상기 마스터로부터 일반적으로 종이인 수용체(receiver material)로 전사시킴으로써 인쇄사본이 얻어진다. 종래의, 소위 "습식" 평판 인쇄에서, 수성 분수 용액(aquoues fountain solution)(축임액(dampening liquid)으로도 지칭됨) 뿐만 아니라 잉크도 친수성(또는 소유성, 즉 물-수용성, 잉크 배척성) 영역 뿐만 아니라 친유성(또는 소수성, 즉 잉크 수용성, 발수성) 영역으로 이루어지는 평판 화상으로 공급된다. 소위 "건식(driographic)" 인쇄에서, 평판 화상은 잉크 수용성 및 잉크-배척성(ink-abhesive)(잉크-반발성) 영역으로 구성되며, 건식 인쇄 단계 중, 단지 잉크만이 상기 마스터로 공급된다.
일반적으로 인쇄 마스터는 소위 컴퓨터-to-필름(CtF) 방법에 의해 얻어지는데, 여기서 활자체 선택, 스캐닝, 색분해, 스크리닝, 트래핑, 레이아웃 및 판걸이(imposition)와 같은 다양한 프리-프레스 단계가 디지털화되어 달성되며 각각의 색상 선택은 화상 세터(image setter)를 사용하여 제판용 필름으로 전사된다. 제판 후, 상기 필름은 판 원판으로 지칭되는 화상 형성 재료의 노광용 마스크로 사용될 수 있으며 또한 판 제판 후, 인쇄판이 얻어지고 이 인쇄판은 마스터로 사용될 수 있다. 대략 1995년 이후, 소위 '컴퓨터-to-판'(CtP: computer-to-plate) 방법이 많은 관심을 얻었다. '직접제판(direct-to-plate)'으로도 지칭되는 이 방법은 디지털 문서가 소위 판 세터(plate setter)에 의해 인쇄판 원판으로 직접 전사되기 때문에 필름의 생성을 생략한다. CtP용 인쇄판 원판은 종종 디지털 판으로 지칭된다.
디지털 판은 대충 세 범주로 구분될 수 있다: (i) 은염(silver salt) 확산 전사 메커니즘에 따라 작용하는 은판(silver plate); (ii) 노광시 경화하는 광중합성 조성물을 포함하는 광폴리머 판; 및 (iii) 화상 형성 메커니즘이 열 또는 광열 전환(light-to-heat conversion)에 의해 유발되는 열판(thermal plate). 열판은 주로 830nm 또는 1064nm에서 발광하는 적외선 레이저에 감광성을 갖는다. 광폴리머는 청색, 녹색 또는 적색 광(즉, 450 내지 750nm의 파장 범위), 자색광(즉, 350 내지 450nm의 파장 범위) 또는 적외선(즉, 750 내지 1500nm의 파장 범위)에 감광성을 가질 수 있다. 레이저 소스는 대응하는 레이저 파장에 감광성을 갖는 인쇄판 원판을 노광시키기 위해 점점 더 많이 사용되어 왔다. 일반적으로, Ar 레이저(488nm) 또는 FD-YAG 레이저(532nm)가 가시광선에 감광성을 갖는 광폴리머 판을 노광시키기 위해 사용될 수 있다. 본래 DVD에 의한 데이타 저장용으로 개발된, 저비용의 청색 또는 자색광 레이저 다이오드의 광범위한 입수가능성은 단파장에서 작동되는 판 세터의 제조를 가능하게 하였다. 보다 구체적으로는, 350 내지 450nm에서 발광하는 반도체 레이저가 InGaN 재료를 사용하여 실현되었다. 약 830nm 에서 발광하는 적외선 레이저 다이오드 또는 약 1060nm에서 발광하는 Nd-YAG 레이저가 또한 사용될 수 있다.
일반적으로, 광폴리머 판은 pH > 10을 갖는 알칼리 현상제를 이용하여 제판되며 뒤이어 오염(예를 들어, 산화, 지문, 지방, 기름 또는 먼지), 또는 손상(예를 들어, 판의 취급 중 스크래치에 의함)으로부터 상기 판을 보호하기 위하여 고무칠된다.
광폴리머 판은 또한 문헌에 개시되어 있으며, 상기 문헌에서 습식 제판과 고무칠 단계가 온-프레스 제판으로 대체되며 이에 의하여 화상 형성된 원판이 인쇄기(press)에 장착되고 지지체로부터 비노광 영역을 제거하기 위하여 잉크와 분수를 도포함으로써 온-프레스 제판된다. 이와 같은 판을 제조하는 방법은 WO 93/05446, US 6,027,857, US 6,171,735, US 6,420,089, US 6,071,675, US 6,245,481, US 6,387,595, US 6,482,571, US 6,576,401, US 6,548,222, WO 03/087939, US 2003/16577 및 US 2004/13968에 개시되어 있다. 광폴리머 코팅과 지지체 사이의 부착을 증가시키는 화합물이 또한, EP 851 299, EP 1 091 251, US 2004/214105, EP 1 491 356, US 2005/39620, EP 1 495 866, EP 1 500 498, EP 1 520 694 및 EP 1 557 262에 개시된 바와 같이, 인쇄 단계에서 제판 단계 동안에 노광 영역의 저항을 증가시키고 판의 내구성을 개선시키기 위하여 인쇄판 원판에 첨가될 수 있다.
이와 같은 광폴리머 인쇄판의 온-프레스 제판과 관련된 문제는 일광 안정성의 결핍이다. 즉, 화상은 비노광 영역이 주변광에 노광됨으로써 경화되기 때문에 제판 전에는 안정성이 없고 따라서 노광된 판은 노광 후 짧은 시간 내에 제판될 필요가 있다. 그러나, 온-프레스 제판이 인쇄 작업 중에 가능하지 않기 때문에, 최종 사용자는 노광된 판이 인쇄기에 장착되어 제판될 수 있기 전, 이전 인쇄 작업이 완료될 때까지 기다려야만 한다. 결과적으로, 다음 인쇄 작업을 위한 판의 노광은, 제판되지 않은 판이 주변광에 의해 영향을 받는 것을 방지하기 위하여, 이전 인쇄 작업의 완료 직전까지 늦춰져야 한다. 택일적으로, 노광된 판은 안전-광 조건(safe-light condition)하에서 유지되어야 하지만, 이는 다시 통상적으로 예를 들어 자색광- 및 적외선 감광성 광폴리머 판과 관련된 사용의 용이성 및 편리성을 감소시킨다.
발명의 요약
본 발명의 목적은 노광된 광경화성 인쇄판 원판이 인쇄기에 장착되어 온-프레스 제판 단계를 개시하기 전 무제한 시간 동안 주변광 중에서 보관될 수 있는 평판 인쇄판의 제판방법을 제공하는 것이다. 이 목적은 화상 노광 후, 뒤이어 원판이 물 또는 수용액으로 처리되어 산소장벽층의 적어도 일부가 제거되고, 이에 의하여 상기 코팅의 산소 투과율이, 주변광에 노출시 상기 코팅의 비노광 영역의 추가적인 경화가 대기 산소에 의한 자유 라디칼의 퀀칭(quenching)에 의해 억제되는 정도로까지 증가되는, 구체적인 특징을 갖는 청구항 1에서 한정된 방법에 의해 실현된다. 추가적인 장점으로서, 비노광 영역의 코팅은 지지체로부터 완전히 제거되지 않으며 이 잔류 코팅은 오염 또는 손상으로부터 지지체의 친수성 표면을 보호한다.
본 발명의 다른 구체적인 구현예는 종속항에 한정되어 있다.
발명의 상세한 설명
본 발명에 따르면, 하기 단계들을 포함하는 평판 인쇄판의 제판방법이 제공된다:
(a) 친수성 표면을 구비하거나 또는 친수성층이 제공된 지지체, 및 상기 지지체 상의 코팅을 포함하는 평판 인쇄판 원판을 제공하는 단계로서, 상기 코팅은 (i) 광경화성 조성물을 포함하는 적어도 하나의 화상기록층으로서, 상기 조성물은 화상 노광시 자유 라디칼을 형성할 수 있는 화합물을 포함하는 화상기록층 및 (ii) 상기 화상기록층 상부에, 수용성 또는 수팽윤성 폴리머를 포함하는 산소-장벽층을 포함하는 단계,
(b) 상기 코팅을 화상 노광시키는 단계,
(c) 선택적으로, 상기 원판을 예열 유닛에서 가열시키는 단계,
(d) 상기 화상 노광된 원판을 물 또는 수용액으로 처리하여 산소장벽층의 적어도 일부를 제거하는 단계로서, 이에 의하여 주변광에 의한 상기 코팅의 비노광 영역의 경화가 산소로 인한 자유 라디칼의 퀀칭(quenching)에 의해 억제되는 정도로까지 상기 코팅의 산소 투과율을 증가시키는 단계,
(e) 상기 처리된 원판을 평판 인쇄기의 판 실린더(plate cylinder) 상에 장착하는 단계, 및
(f) 상기 코팅에 축임액 및/또는 잉크를 주입하면서 상기 판 실린더를 회전시켜 현상하는 단계로서, 이에 의하여 상기 화상기록층의 비노광 영역을 제거하는 단계. 상기 판 세터는 상기 원판이 주변광으로부터 차폐되는 전달 수단에 의해 (d) 단계의 상기 현상 유닛에 기계적으로 결합될 수 있다.
본 발명에서, 인쇄판 원판은 판 세터(plate setter)에 의하여 오프-프레스 화상 노광된다. 본 발명의 방법에 사용되는 원판은 네거티브형이며 이에 의하여 노광 영역에서 상기 코팅이 경화된다. 여기서, "경화된"이란 상기 코팅이 인쇄기 상에서 분수 및 잉크에 불용성이 되거나 비분산성이 된다는 것을 의미하고 이는 상기 코팅의 중합 및/또는 가교을 통해 달성될 수 있다.
화상 형성 후, 상기 판 원판은, 선택적으로, 이후 "예열"로도 지칭되는 가열 처리되어 중합 및/또는 가교 반응을 향상시키거나 가속화시킨다. 이 예열 단계는 바람직하게는 약 80℃ 내지 150℃의 온도와 바람직하게는 약 5초 내지 1분의 유지 시간 동안, 그리고 바람직하게는 예열 유닛에서 수행된다. 상기 예열 유닛은 IR-램프, UV-램프, 가열된 공기, 가열된 롤 등과 같은 가열 요소를 포함할 수 있다. 상기 예열 유닛은 상기 원판이 주변광으로부터 차폐되는 기계적 판 전달 수단에 의해 상기 판 세터 및 상기 현상 유닛에 결합될 수 있다.
화상 형성 단계 또는 선택적으로 예열 단계에 뒤이어, 상기 판 원판은 물 또는 수용액으로 처리되어 산소장벽층의 적어도 일부가 제거된다. 이 산소장벽층은 화상기록층의 상부에 존재하며 수용성 또는 수팽윤성 폴리머를 포함한다. 결과적으로, 상기 코팅의 산소 투과율은 주변광에 노출시 코팅의 비노광 영역의 경화가 대기 산소에 의한 자유 라디칼의 퀀칭(quenching)에 의해 억제되는 정도로까지 증가된다. 코팅의 비노광 영역의 개선된 안정성이 얻어진다. 즉, 주변광에서 비노광 영역의 바람직하지 않은 경화가 금지되어 일광 안정성 평판 화상을 얻는다.
비노광 영역에서 상기 코팅은 지지체로부터 완전히 제거되지 않기 때문에, 지지체의 친수성 표면은 판에 잔류하는 코팅에 의한 오염(예를 들어, 산화) 및 손상(예를 들어, 스크래치)으로부터 보호된다. 결과적으로, 비노광 영역에서 지지체의 표면을 보호하기 위한 추가적인 고무칠 단계가 필요하지 않은 추가적인 잇점이 얻어진다.
온-프레스 제판 단계에서, 상기 처리된 판 원판은 인쇄기의 판 실린더 상에 장착되고 상기 코팅의 비노광 영역은 상기 코팅에 축임액 및/또는 잉크를 주입하면서 판 실린더를 회전시킴으로써 제거된다. 물 또는 수용액으로의 이러한 처리는, 온-프레스 제판 단계에서, 비노광 영역의 잔류 코팅이 빠르게 제거되는 잇점, 다시 말해서 적은 수의 인쇄된 시트 후에 완전한 세정이 얻어지는 잇점을 갖는다. "세정(clean-out)"이란, 지지체의 친수성 표면을 드러내는, 비노광 영역에서의 코팅의 제거를 의미한다. 결과적으로, 본 발명의 단계는 인쇄기 상에서 판의 더 빠른 시동(faster start-up)이 관찰되는 장점을 갖는다. "더 빠른 시동"이란 노광 영역의 개선된 잉크 수용성을 의미한다.
지지체
특히 바람직한 평판 지지체는 전기화학적으로 연마되고(grained) 양극 처리된(anodized) 알루미늄 지지체이다. 알루미늄의 연마 및 양극 처리는 잘 알려져 있다. 연마에 사용되는 산은 예를 들어 질산 또는 황산일 수 있다. 연마에 사용되는 산은 바람직하게는 염산을 포함한다. 또한 예를 들어 염산 및 초산의 혼합물이 사용될 수 있다. 한편으로는 전극 전압, 산 전해질의 성질과 농도, 또는 전력 소비와 같은 전기화학적 연마 및 양극 처리 파라미터와, 다른 한편으로는 Ra 및 양극처리 중량(알루미늄 표면에 형성된 Al2O3의 g/m2)으로의 얻어진 평판 품질의 관계는 잘 알려져 있다. 다양한 제조 파라미터와 Ra 또는 양극처리 중량의 관계에 관한 상세한 내용은 예를 들어 논문 "Management of Change in the Aluminium Printing Industry", F. R. Mayers, ATB Metallurgie Journal, volume 42 nr. 1-2 (2002) pag. 69에서 발견될 수 있다.
양극 처리된 알루미늄 지지체는 그 표면의 친수성 특성을 개선하기 위하여 소위 후양극 처리될 수 있다. 예를 들어, 알루미늄 지지체는 증가된 온도, 예를 들어 95℃에서 소듐 실리케이트 용액으로 그 표면을 처리함으로써 규산화(silicated)될 수 있다. 다르게는, 포스페이트 처리가 적용될 수 있는데, 이는 무기 플루오라이드를 추가로 포함할 수 있는 포스페이트 용액으로 알루미늄 옥사이드 표면을 처리하는 단계를 포함한다. 추가적으로, 알루미늄 옥사이드 표면은 시트르산 또는 시트레이트 용액으로 세척될 수 있다. 이 처리는 실온 또는 약 30 내지 50℃의 약간 증가된 온도에서 수행될 수 있다. 추가적인 흥미있는 처리는 바이카보네이트 용액으로 알루미늄 옥사이드 표면을 세척하는 단계를 포함한다. 또한 추가적으로, 알루미늄 옥사이드 표면은 폴리비닐포스폰산, 폴리비닐메틸포스폰산, 폴리비닐 알코올의 인산 에스테르, 폴리비닐술폰산, 폴리비닐벤젠술폰산, 폴리비닐알코올의 황산 에스테르, 및 술폰화 지방족 알데하이드와의 반응에 의해 형성된 폴리비닐 알코올의 아세탈로 처리될 수 있다.
또 다른 유용한 후양극 처리는, 폴리아크릴산 용액 또는 아크릴산 모노머 단위를 적어도 30mol% 포함하는 폴리머의 용액, 예를 들어 ALLIED COLLOIDS로부터 상업적으로 입수할 수 있는 폴리아크릴산의 일종인 GLASCOL E15로 처리될 수 있다.
연마되고 양극 처리된 알루미늄 지지체는 판과 같은 시트 형태의 물질이거나, 또는 인쇄기의 인쇄 실린더 둘레를 슬라이드할 수 있는 슬리브(sleeve)와 같은 실린더형 요소일 수 있다.
상기 지지체는 또는 유연성 지지체일 수 있는데, 이에는 이후 '베이스층"으로 지칭되는 친수성층이 제공될 수 있다. 유연성 지지체는 예를 들어, 종이, 플라스틱 필름 또는 알루미늄이다. 플라스틱 필름의 바람직한 예는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름, 셀룰로오스 아세테이트 필름, 폴리스티렌 필름, 폴리카보네이트 필름 등이다. 플라스틱 필름 지지체는 불투명성 또는 투명성일 수 있다. 베이스층은 바람직하게는 포름알데하이드, 글리옥살, 폴리이소시아네이트 또는 가수분해된 테트라-알킬오르소실리케이트와 같은 경화제로 가교된 친수성 바인더로부터 얻어진 가교된 친수성층이다. 가수분해된 테트라-알킬오르소실리케이트로 가교된 친수성 바인더로부터 얻어진 가교된 친수성층이 특히 바람직하다. 친수성 베이스층의 두께는 0.2 내지 25㎛의 범위에서 변할수 있고, 바람직하게는 1 내지 10㎛이다. 베이스층의 바람직한 구현예의 보다 상세한 내용은 예를 들어 EP-A 1 025 992에서 발견될 수 있다.
코팅
지지체 상의 코팅은, 이후 "광경화성층" 또는 "광중합성층"으로도 지칭되는, 광경화성 조성물을 포함하는 적어도 하나의 화상기록층, 및 상기 광경화성층 상에, 수용성 또는 수팽윤성 폴리머를 포함하는 산소장벽층을 포함한다. 상기 코팅은 광경화성층과 지지체 사이에 중간층을 추가로 포함할 수 있다.
광경화성 조성물은, 선택적으로 증감제의 존재하에서, 이후 "자유 라디칼 개시제"로도 지칭되는, 화상 노광시 자유 라디칼을 형성할 수 있는 화합물을 포함한다. 광경화성 조성물은 중합성 화합물, 폴리머 바인더 및 이후 "부착 촉진 화합물"로도 지칭되는, 지지체와 상호작용할 수 있는 화합물을 포함한다. 부착 촉진 화합물은 바람직하게는 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물이며 상기 광경화성층 및/또는 상기 중간층에, 바람직하게는 중간층에 존재할 수 있다.
코팅의 두께는 바람직하게는 0.4 내지 10g/m2, 보다 바람직하게는 0.5 내지 5g/m2, 가장 바람직하게는 0.6 내지 3g/m2의 범위에 이른다.
광중합성층은 바람직하게는 0.4 내지 5.0g/m2, 보다 바람직하게는 0.5 내지 3.0g/m2, 가장 바람직하게는 0.6 내지 2.2g/m2의 범위에 이르는 코팅 두께를 갖는다.
선택적인 중간층은 바람직하게는 0.001 내지 1.5g/m2, 보다 바람직하게는 0.003 내지 1.0g/m2, 가장 바람직하게는 0.005 내지 0.7g/m2의 범위에 이르는 코팅 두께를 갖는다.
부착 촉진 화합물
부착 촉진 화합물은 상기 지지체와 상호작용할 수 있는 화합물, 바람직하게는 부가 중합성 에틸렌성 불포화 결합 및 지지체와 상호작용할 수 있는 관능기, 보다 바람직하게는 연마되고 양극 처리된 알루미늄 지지체와 상호작용할 수 있는 관능기를 갖는 화합물이다. "상호작용"이란 공유결합, 이온결합, 착결합(complex bond), 배위결합 또는 수소 브리지 결합일 수 있으며 또한 흡착 과정, 화학반응, 산-염기 반응, 착물-형성 반응 또는 킬레이트기 또는 리간드의 반응에 의해 형성될 수 있는 결합이 관능기와 지지체 사이에 형성되게 하는 각 타입의 물리 및/또는 화학반응 또는 과정으로 이해된다. 부착 촉진 화합물은 광중합성층 및/또는 광중합성층과 지지체 사이의 중간층에 존재한다.
부착 촉진 화합물은 EP-A 851 299의 3페이지 22행 내지 4페이지 1행, EP-A 1 500 498의 7페이지 단락 [0023] 내지 20페이지 단락 [0052], EP-A 1 495 866의 5페이지 단락 [0030] 내지 11페이지 단락 [0049], EP-A 1 091 251의 3페이지 단락 [0014] 내지 20페이지 단락 [0018], 및 EP-A 1 520 694의 6페이지 단락 [0023] 내지 19페이지 단락 [0060]에 개시된 바와 같은 저분자 화합물 또는 폴리머 화합물 중 적어도 하나로부터 선택될 수 있다. 바람직한 화합물은, 특히 EP-A 851 299의 3페이지 22행 내지 4페이지 1행 및 EP-A 1 500 498의 7페이지 단락 [0023] 내지 20페이지 단락 [0052]에 개시된 바와 같은, 알루미늄 지지체에 흡착할 수 있는 관능기로서 포스페이트기 또는 포스포네이트기를 포함하고 부가 중합성 에틸렌성 이중결합 반응기를 포함하는 그러한 화합물이다. 또한 지지체에 흡착할 수 있는 관능기로서, 이후 "트리알콕시 실란"기로도 지칭되는 트리-알킬-옥시 실란기를 포함하는 화합물이 바람직한데, 알킬은 바람직하게는 메틸 또는 에틸이거나, 또는 트리알콕시 실란기는, 실라놀기로 적어도 부분적으로 가수분해된다. 특히 EP-A 1 557 262의 49페이지 단락 [0279] 및 EP-A 1 495 866의 5페이지 단락 [0030] 내지 11페이지 단락 [0049]에 개시된 바와 같은 부가 중합성 에틸렌성 이중결합 반응기를 갖는 실란 커플링제가 바람직하다.
부착 촉진 화합물은 상기 조성물의 비휘발성 성분 중 1 내지 50wt%, 바람직하게는 3 내지 30wt%, 보다 바람직하게는 5 내지 20wt%의 범위에 이르는 양으로 광중합성층에 존재할 수 있다.
부착 촉진 화합물은 상기 조성물의 비휘발성 성분 중 적어도 50wt%, 바람직하게는 적어도 80wt%, 보다 바람직하게는 적어도 90wt%, 가장 바람직하게는 100wt%의 양으로 중간층에 존재할 수 있다.
중합성 화합물 및 중합 개시제
본 발명의 한 구현예에 따르면, 중합성 모노머 또는 올리고머는 적어도 하나의 에폭시 또는 비닐 에테르 관능기를 포함하는 모노머 또는 올리고머이고, 개시제는, 선택적으로 증감제의 존재하에 노광시 자유산을 생성할 수 있는 브뢴스테드 산 생성제이며, 상기 개시제는 이후 "양이온성 광개시제" 또는 "양이온성 개시제"로도 지칭된다.
적당한 다관능성 에폭시 모노머는, 예를 들어, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산 카르복실레이트, 비스-(3,4-에폭시시클로헥실메틸) 아디페이트, 이관능성 비스페놀 A 에피클로로히드린 에폭시 레진 및 다관능성 에피클로로히드리니테트라페닐올 에탄 에폭시 레진을 포함한다.
적당한 양이온성 광개시제는, 예를 들어, 트리아릴술포늄 헥사플루오로안티모네이트, 트리아릴술포늄 헥사플루오로포스페이트, 디아릴아이오도늄 헥사플루오로안티모네이트, 및 할로알킬 치환 s-트리아진을 포함한다. 대부분의 양이온성 개시제는 또한 광 또는 열 분해 동안에 브뢴스테드 산을 생성할 뿐만 아니라 자유 라디칼도 생성하기 때문에 자유 라디칼 개시제로도 알려져 있다.
본 발명의 보다 바람직한 구현예에 따르면, 상기 중합성 모노머 또는 올리고머는 적어도 하나의 말단 에틸렌성기를 갖는, 이후 "자유-라디칼 중합성 모노머"로도 지칭되는 에틸렌성 불포화 화합물이고, 상기 개시제는 선택적으로 증감제의 존재하에 노광시 자유라디칼을 생성할 수 있는 화합물이며, 상기 개시제는 이후 "자유 라디칼 개시제"로도 지칭된다.
적당한 자유 라디칼 중합성 모노머는, 예를 들어, 에틸렌 글리콜, 트리메틸올프로판, 펜타에리쓰리톨, 에톡시화 에틸렌 글리콜 및 에톡시화 트리메틸올프로판의 (메트)아크릴레이트 에스테르, 다관능성 우레탄화 (메트)아크릴레이트, 및 에폭시화 (메트)아크릴레이트와 같은 다관능성 (메트)아크릴레이트 모노머, 및 올리고머성 아민 디아크릴레이트를 포함한다. (메트)아크릴 모노머는 또한 (메트)아크릴레이트기 외에 다른 이중결합 또는 에폭사이드기를 가질 수 있다. (메트)아크릴레이트 모노머는 또한 (카르복실산과 같은) 산성 또는 (아민과 같은) 염기성 관능기를 포함할 수 있다.
직접 또는 증감제의 존재하에 노광시 자유 라디칼을 생성할 수 있는 모든 자유 라디칼 개시제가 본 발명의 자유 라디칼 개시제로 사용될 수 있다. 적당한 자유 라디칼 개시제는, 예를 들어, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 및 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐-2-모폴리노 프로판-1-온)]과 같은 아세토페논의 유도체; 벤조페논; 벤질; 3-벤조일-7-메톡시 쿠마린 및 7-메톡시 쿠마린과 같은 케토쿠마린; 잔톤; 티오잔톤; 벤조인 또는 알킬 치환 안트라퀴논; 디아릴아이오도늄 헥사플루오로안티모네이트, 디아릴아이오도늄 트리플레이트, (4-(2-히드록시테트라데실-옥시)-페닐) 페닐아이오도늄 헥사플루오로안티모네이트, 트리아릴술포늄 헥사플루오로포스페이트, 트리아릴술포늄 p-톨루엔술포네이트, (3-페닐프로판-2-온일) 트리아릴 포스포늄 헥사플루오로안티모네이트, 및 N-에톡시(2-메틸)피리디늄 헥사플루오로포스페이트, 및 미국특허번호 5,955,238, 6,037,098, 및 5,629,354에 개시된 것과 같은 오늄염과 같은 오늄염; 테트라부틸암모늄 트리페닐(n-부틸)보레이트, 테트라에틸암모늄 트리페닐(n-부틸)보레이트, 디페닐아이오도늄 테트라페닐보레이트, 및 트리페닐술포늄 트리페닐(n-부틸)보레이트, 및 미국특허번호 6,232,038 및 6,218,076에 개시된 것과 같은 보레이트염과 같은 보레이트염; 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(p-메톡시-스티릴)-s-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시-나프트-1-일)-s-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 및 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[(4-에톡시-에틸렌옥시)-펜-1-일]-s-트리아진, 및 미국특허번호 5,955,238, 6,037,098, 6,010,824 및 5,629,354에 개시된 것과 같은 s-트리아진과 같은 할로알킬 치환 s-트리아진; 및 타이타노센(비스(에타.9-2,4-시클로펜타디엔-1-일) 비스[2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)페닐)티타늄)을 포함한다. 오늄염, 보레이트염, 및 s-트리아진은 바람직한 자유 라디칼 개시제들이다. 바람직한 오늄염은 디아릴아이오도늄염 및 트리아릴술포늄염이다. 바람직한 보레이트염은 트리아릴알킬보레이트염이다. 바람직한 s-트리아진은 트리클로로메틸 치환된 s-트리아진이다.
알려진 광중합개시제가 본 발명의 조성물에 사용될 수 있으며, 본 발명의 바람직한 구현예에서 본 발명에 따른 광중합성 조성물은 광중합개시제 단독으로 또는 추가적인 광개시제와의 조합으로 헥사아릴-비스이미다졸(HABI; 트리아릴-이미다졸의 다이머) 화합물을 포함한다.
헥사아릴-비스이미다졸의 제조방법은 DE 1470 154에 개시되어 있으며 광중합성 조성물에서 이의 사용은 EP 24 629, EP 107 792, US 4 410 621, EP 215 453 및 DE 3 211 312에 기록되어 있다. 바람직한 유도체는, 예를 들어, 2,4,5,2',4',5'-헥사페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라키스(3-메톡시페닐)비스이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라키스(3,4,5-트리메톡시페닐)비스이미다졸, 2,5,2',5'-테트라키스(2-클로로페닐)-4,4'-비스(3,4-디메톡시페닐)비스이미다졸, 2,2'-비스(2,6-디클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-니트로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-디-o-톨릴-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-에톡시페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸 및 2,2'-비스(2,6-디플루오로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸이다. HABI 광개시제의 양은 일반적으로 광중합성 조성물의 비휘발성 성분의 총중량에 대하여 0.01 내지 30wt%, 바람직하게는 0.5 내지 20wt%의 범위에 이른다.
증감제로서 형광증백제(optical brightener)와 광개시제로서 헥사아릴비스이미다졸의 조합에 의해 본 발명의 범주에서 매우 높은 민감도가 얻어질 수 있다.
헥사아릴비스이미다졸 화합물 외에 적당한 종류의 광개시제는 방향족 케톤, 방향족 오늄염, 유기 퍼옥사이드, 티오 화합물, 케토옥심 에스테르 화합물, 보레이트 화합물, 아지늄 화합물(azinium compounds), 메탈로센 화합물, 활성 에스테르 화합물 및 탄소-할로겐 결합을 갖는 화합물을 포함하지만, 바람직하게는 상기 조성물은 비-붕소(non-boron)를 함유 광중합개시제를 포함하며, 특히 바람직하게는 상기 광중합개시제는 붕소 화합물을 포함하지 않는다. 본 발명에 적당한 광개시제의 많은 구체적인 예는 EP-A 1 091 247에서 발견될 수 있다. 다른 바람직한 개시제는 트리할로 메틸 술폰이다.
바람직하게는 헥사아릴비스이미다졸 화합물 및/또는 메탈로센 화합물은 단독으로 또는 다른 적당한 광개시제, 특히 방향족 케톤, 방향족 오늄염, 유기 퍼옥사이드, 티오 화합물, 케토옥심 에스테르 화합물, 아지늄 화합물, 활성 에스테르 화합물 또는 탄소 할로겐 결합을 갖는 화합물과의 조합으로 사용된다.
본 발명의 바람직한 구현예에서 헥사아릴비스이미다졸 화합물은 본 발명의 광중합성 조성물에서 사용되는 모든 광개시제의 50mol%이상, 바람직하게는 적어도 80mol%, 특히 바람직하게는 적어도 90mol%를 구성한다.
본 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 상기 중합성 모노머 또는 올리고머는 적어도 하나의 에폭시 또는 비닐 에테르 관능기를 포함하는 모노머 또는 올리고머와 적어도 하나의 말단 에틸렌성기를 갖는 중합성 에틸렌성 불포화 화합물의 조합일 수 있으며, 상기 개시제는 양이온성 개시제와 자유 라디칼 개시제의 조합일 수 있다. 적어도 하나의 에폭시 또는 비닐 에테르 관능기를 포함하는 모노머 또는 올리고머와 적어도 하나의 말단 에틸렌성기를 갖는 중합성 에틸렌성 불포화 화합물은 에틸렌성기 및 에폭시 또는 비닐 에테르기를 모두 포함하는 동일한 화합물일 수 있다. 이와 같은 화합물의 예는 글리시딜 아크릴레이트와 같은 에폭시 관능성 아크릴 모노머를 포함한다. 자유 라디칼 개시제와 양이온성 개시제는 화합물이 모두 자유 라디칼 및 유리산을 생성할 수 있는 경우에는 동일한 화합물일 수 있다. 이와 같은 화합물의 예는, 증감제의 존재하에 자유 라디칼 및 유리산을 생성할 수 있는, 디아릴아이오도늄 헥사플루오로안티모네이트와 같은 다양한 오늄염 및 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[(4-에톡시에틸렌옥시)-펜-1-일]-s-트리아진과 같은 s-트리아진을 포함한다.
광중합성층은 또한 다관능성 모노머를 포함할 수 있다. 이 모노머는 에틸렌성 불포화기 및/또는 에폭시 또는 비닐 에테르기로부터 선택된 적어도 2개의 관능기를 포함한다. 광폴리머 코팅에 사용하는 특별한 다관능성 모노머는 하기 특허의 인용 문헌(cited reference)을 포함하여 US 6,410,205, US 5,049,479, EP 1079276, EP 1369232, EP 1369231, EP 1341040, US 2003/0124460, EP 1241002, EP 1288720 및 하기 참고서적에 개시되어 있다: Chemistry & Technology UV & EB formulation for coatings, inks & paints - Volume 2 - Prepolymers and Reactive Diluents for UV and EB Curable Formulations, N. S. Allen, M.A. Johnson, P.K.T. Oldering, M.S. Salim.- P.K.T. - Oldring 편집 - 1991 - ISBN 0 947798102. 단독으로 또는 다른 (메트)아크릴레이트 다관능성 모노머와의 조합으로 사용될 수 있는 우레탄 (메트)아크릴레이트 다관능성 모노머가 특히 바람직하다.
광중합성층은 또한 공개시제(co-initiator)를 포함할 수 있다. 일반적으로, 공개시제는 자유 라디칼 개시제 및/또는 양이온성 개시제와의 조합으로 사용된다. 광폴리머 코팅에 사용하는 특별한 공개시제는 하기 특허의 인용 문헌(cited reference)을 포함하여 US 6,410,205, US 5,049,479, EP 1079276, EP 1369232, EP 1369231, EP 1341040, US 2003/0124460, EP 1241002, EP 1288720 및 하기 참고서적에 개시되어 있다: Chemistry & Technology UV & EB formulation for coatings, inks & paints - Volume 3 - Photoinitiators for Free Radical and Cationic Polymerisation, K.K. Dietliker - P.K.T. Oldring 편집 - 1991- ISBN 0 947798161.
광중합성층은 또한 억제제를 포함할 수 있다. 광폴리머 코팅에 사용하는 특별한 억제제는 US 6,410,205, EP 1288720 및 2004년 5월 6일에 출원된 미공개 특허출원 EP-A 04101955에 개시되어 있다.
광중합성층의 바인더
광중합성층은 또한 바인더를 포함할 수 있다. 바인더는 광범위한 일련의 유기 폴리머로부터 선택될 수 있다. 다양한 바인더의 조성물들이 또한 사용될 수 있다. 유용한 바인더는, 예를 들어, 염소화 폴리알킬렌(특히, 염소화 폴리에틸렌 및 염소화 폴리프로필렌), 폴리메타크릴산 알킬 에스테르 또는 알케닐 에스테르(특히 폴리메틸 (메트)아크릴레이트, 폴리에틸 (메트)아크릴레이트, 폴리부틸 (메트)아크릴레이트, 폴리이소부틸 (메트)아크릴레이트, 폴리헥실 (메트)아크릴레이트, 폴리(2-에틸헥실) (메트)아크릴레이트 및 폴리알킬 (메트) 아크릴레이트, (메트) 아크릴산 알킬 에스테르 또는 알케닐 에스테르와 다른 공중합성 모노머(특히, (메트)아크릴로니트릴, 비닐 클로라이드, 비닐리덴 클로라이드, 스티렌 및/또는 부타디엔)의 코폴리머, 폴리비닐 클로라이드(PVC), 비닐클로라이드/(메트)아크릴로니트릴 코폴리머, 폴리비닐리덴 클로라이드(PVDC), 비닐리덴클로라이드/(메트)아크릴로니트릴 코폴리머, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 피롤리돈, 비닐 피롤리돈 또는 알킬화 비닐 피롤리돈의 코폴리머, 폴리비닐 카프로락탐, 비닐 카프로락탐의 코폴리머, 폴리 (메트)아크릴로니트릴, (메트)아크릴로니트릴/스티렌 코폴리머, (메트)아크릴아미드/알킬 (메트)아크릴레이트 코폴리머, (메트)아크릴로니트릴/부타디엔/스티렌 (ABS) 터폴리머, 폴리스티렌, 폴리(α-메틸스티렌), 폴리아미드, 폴리우레탄, 폴리에스테르, 메틸 셀룰로오스, 에틸 셀룰로오스, 아세틸 셀룰로오스, 히드록시-(C1-C4-알킬)셀룰로오스, 카르복시메틸 셀룰로오스, 폴리비닐 포르말 및 폴리비닐 부티랄을 포함한다. 특히 바람직한 바인더는 모노머 단위로서 비닐카프로락탐, 비닐피롤리돈 또는 알킬화 비닐피롤리돈을 갖는 폴리머들이다. 알킬화 비닐피롤리돈 폴리머는 비닐피롤리돈 폴리머 백본에 알파-올레핀을 그래프팅시킴으로써 얻어질 수 있다. 이와 같은 제품의 일반적인 예는 ISP로부터 상업적으로 입수할 수 있는 Agrimer AL Graft 폴리머가 있다. 알킬화기의 길이는 C4에서부터 C30까지 변화될 수 있다. 다른 유용한 바인더는 카르복실기를 함유하는 바인더, 특히 α,β-불포화 카르복실산의 모노머 단위 또는 α,β-불포화 디카르복실산의 모노머 단위(바람직하게는 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 비닐아세트산, 말레산 또는 이타콘산)를 포함하는 코폴리머가 있다. 용어 "코폴리머"는 본 발명의 범주에서 적어도 2개의 서로 다른 모노머의 단위를 포함하는 폴리머, 따라서 또한 터폴리머 이상의 혼합 폴리머로도 이해되어야 한다. 유용한 코폴리머의 특별한 예는 크로톤산의 단위와 알킬 (메트)아크릴레이트 및/또는 (메트)아크릴로니트릴의 단위를 함유하는 코폴리머뿐만 아니라 (메트)아크릴산의 단위와 알킬 (메트)아크릴레이트, 알릴 (메트)아크릴레이트 및/또는 (메트)아크릴로니트릴의 단위를 함유하는 코폴리머 및 비닐아세트산/알킬 (메트)아크릴레이트 코폴리머가 있다. 또한 말레산 무수물 또는 말레산 모노알킬 에스테르의 단위를 함유하는 코폴리머가 적당하다. 이러한 것들 중에는, 예를 들어, 말레산 무수물과 스티렌, 불포화 에테르 또는 에스테르 또는 불포화 지방족 탄화수소의 단위를 함유하는 코폴리머 및 이와 같은 코폴리머로부터 얻어진 에스테르화 제품이다. 추가적인 적당한 바인더는 히드록실-함유 폴리머를 분자내 디카르복실산 무수물과 반응(conversion)시킴으로써 얻어질 수 있는 제품이다. 추가적인 유용한 바인더는 산(acid) 수소 원자를 갖는 기가 존재하는 폴리머가 있으며, 이러한 기의 일부 또는 전부는 활성 이소시아네이트와 반응한다. 이러한 폴리머의 예는 지방족 또는 방향족 술포닐 이소시아네이트 또는 포스핀산 이소시아네이트와 히드록실-함유 폴리머를 반응시킴으로써 얻어진 제품이다. 또한 지방족 또는 방향족 히드록실기를 갖는 폴리머, 예를 들어 충분한 수의 유리 OH기를 갖는 에폭시 레진뿐만 아니라 히드록시알킬 (메트)아크릴레이트, 알릴 알코올, 히드록시스티렌 또는 비닐 알코올의 단위를 함유하는 코폴리머가 적당하다. 특히 유용한 바인더 및 특히 유용한 반응성 바인더는 EP 1 369 232, EP 1 369 231, EP 1 341 040, US 2003/0124460, EP 1 241 002, EP 1 288 720, US 6,027,857, US 6,171,735 및 US 6,420,089에 개시되어 있다.
바인더로 사용된 상기 유기 폴리머는 일반적으로 600 내지 700,000, 바람직하게는 1000 내지 350,000의 평균 분자량(Mw)을 가진다. 10 내지 250, 바람직하게는 20 내지 200의 산가(acid number), 또는 50 내지 750, 바람직하게는 100 내지 500의 히드록실가(hydroxyl number)를 갖는 폴리머가 더욱 바람직하다. 바인더의 양은 조성물의 비휘발성 성분의 총중량에 대하여, 일반적으로 10 내지 90wt%, 바람직하게는 20 내지 80wt%의 범위에 이른다.
또한 특히 적당한 바인더는 비닐아세테이트와 비닐알코올의 코폴리머이며, 바람직하게는 10 내지 98mol%, 보다 바람직하게는 20 내지 95mol%, 가장 바람직하게는 30 내지 75mol% 함량의 비닐알코올을 포함하고, 최선의 결과는 40 내지 56mol%의 비닐알코올로 얻어진다. DIN 53 401에서 정의된 바와 같은 방법에 의해 측정된, 비닐아세테이트와 비닐알코올의 코폴리머의 에스테르가는 바람직하게는 25 내지 700mgKOH/g, 보다 바람직하게는 50 내지 500mgKOH/g, 가장 바람직하게는 100 내지 300mgKOH/g의 범위에 이른다. 비닐아세테이트와 비닐알코올의 코폴리머의 점도는 DIN 53 015에서 정의된 바와 같이 20℃에서 4wt% 수용으로 측정되며 상기 점도는 바람직하게는 3 내지 60mPa·s, 보다 바람직하게는 4 내지 30mPa·s, 가장 바람직하게는 5 내지 25mPa·s의 범위에 이른다. 비닐아세테이트와 비닐알코올 공중합체의 평균 분자량(Mw)은 바람직하게는 5,000 내지 500,000g/mol, 보다 바람직하게는 10,000 내지 400,000g/mol, 가장 바람직하게는 15,000 내지 250,000g/mol의 범위에 이른다.
다른 바람직한 바인더는 EP 152 819 B1의 2페이지 50행-4페이지 20행, 및 EP 1 043 627 B1의 3페이지 단락 [0013]에 개시되어 있다.
폴리머 바인더는 또한 소수성 백본, 및 예를 들어 친수성 폴리(알킬렌 옥사이드) 세그먼트를 포함하는 측쇄기(pendant group)를 포함할 수 있다. 폴리머 바인더는 또한 소수성 백본에 결합된 측쇄 시아노기를 포함할 수 있다. 이와 같은 바인더들의 조합이 또한 사용될 수 있다. 일반적으로 이 폴리머 바인더는 실온에서 고체이며, 일반적으로 비엘라스토머 열가소성 물질이다. 이 폴리머 바인더는 친수성 영역과 소수성 영역을 모두 포함하며, 이는 현상성을 촉진시킴으로써 노광 영역과 비노광 영역의 차별화를 향상시키는데 중요한 것으로 여겨진다. 이 폴리머 바인더는 일반적으로 약 10,000 내지 250,000, 보다 일반적으로 약 25,000 내지 200,000 범위의 수평균 분자량(Mn)에 의해 특징지워진다. 중합성 조성물은 이 폴리머 바인더의 분리된 입자(discrete particle)를 포함할 수 있다. 바람직하게는 분리된 입자는 중합성 조성물에 현탁된 폴리머 바인더의 입자이다. 분리된 입자의 존재는 비노광 영역의 현상성을 촉진시키는 경향이다. 본 구현예에 따른 폴리머 바인더의 구체적인 예는 US 6,899,994, 2004/0260050, US 2005/0003285, US 2005/0170286 및 US 2005/0123853에 개시되어 있다. 본 구현예의 폴리머 바인더뿐만 아니라 화상 형성성층(imageable layer)은 선택적으로 하나 이상의 공바인더(co-binder)를 포함할 수 있다. 일반적인 공바인더는 셀룰로오스 유도체, 폴리 비닐 알코올, 폴리 아크릴산, 폴리(메트)아크릴산, 폴리 비닐 피롤리돈, 폴리락타이드, 폴리 비닐 포스폰산, 알콕시 폴리에틸렌 글리콜 (메트)아크릴레이트의 코폴리머와 같은 합성 코폴리머와 같은 수용성 또는 수분산성 폴리머가 있다. 공바인더의 구체적인 예는 US 2004/0260050, US 2005/0003285 및 US 2005/0123853에 개시되어 있다. 인쇄판 원판의 화상 형성성층은, 본 구현예에 따르며 US 2004/0260050, US 2005/0003285 및 US 2005/0123853에 보다 상세히 설명되어 있는 바인더 및 선택적으로 공바인더를 포함한다.
계면활성제
다양한 계면활성제가 원판의 고무 용액으로의 현상성을 허용하거나 향상시키기 위해 광중합성층에 첨가될 수 있다. 폴리머 계면활성제와 저분자 계면활성제가 사용될 수 있다. 비이온성 계면활성제가 바람직하다. 바람직한 비이온성 계면활성제는 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 및 에틸렌 글리콜과 프로필렌 글리콜의 코폴리머와 같은 하나 이상의 폴리에테르 세그먼트를 함유하는 폴리머 및 올리고머가 있다. 바람직한 비이온성 계면활성제의 예는 프로필렌 글리콜과 에틸렌 글리콜의 블록 코폴리머(또한 프로필렌 옥사이드와 에틸렌 옥사이드의 블록 코폴리머로도 지칭됨); 에톡시화 또는 프로폭시화 아크릴레이트 올리고머; 및 폴리에톡시화 알킬페놀 및 폴리에톡시화 지방 알코올이다. 비이온성 계면활성제는 바람직하게는 코팅의 0.1 내지 30wt%, 보다 바람직하게는 0.5 내지 20wt%, 및 가장 바람직하게는 1 내지 15wt% 범위의 양으로 첨가된다.
증감제
광경화성 조성물은 또한 증감제를 포함할 수 있다. 매우 바람직한 증감제는 350nm 내지 450nm, 바람직하게는 370nm 내지 420nm, 보다 바람직하게는 390nm 내지 415nm의 흡수 스펙트럼을 갖는, 자색광 흡수 증감제이다. 특히 바람직한 증감제는 EP 1 349 006의 단락 [0007] 내지 [0009], 2003년 9월 22일 출원된 EP-A-3103499, 및 WO 2004/047930, 및 이들 특허출원의 인용문헌에 개시되어 있다. 다른 매우 바람직한 증감제는 750nm 내지 1300nm, 바람직하게는 780nm 내지 1200nm, 보다 바람직하게는 800nm 내지 1100nm의 흡수 스펙트럼을 갖는, 적외선 흡수 염료이다. 특히 바람직한 증감제는 헵타메틴시안(heptamethinecyane) 염료, 특히 EP 1 359 008의 단락 [0030] 내지 [0032]에 개시된 염료이다. 다른 바람직한 증감제는 450nm 내지 750nm의 흡수 스펙트럼을 갖는, 청색광, 녹색광 또는 적색광 흡수 증감제이다. 유용한 증감제는 US 6,410,205, US 5,049,479, EP 1 079 276, EP 1 369 232, EP 1 369 231, EP 1 341 040, US 2003/0124460, EP 1 241 002 및 EP 1 288 720에 개시된 감광 염료로부터 선택될 수 있다.
착색제
코팅의 광중합성층 또는 다른 층은 또한 착색제를 포함할 수 있다. 착색제는 광중합성층이나 상기 광중합성층의 아래 또는 위의 별개의 층에 존재할 수 있다. 물 또는 수용액으로의 처리 후, 착색제의 적어도 일부는 경화된 코팅 영역에 잔류하며 비노광 영역에서 선택적으로 착색제를 포함하는 상부층의 적어도 일부를 제거함으로써 가시화상이 지지체 상에 생성될 수 있다.
착색제는 염료 또는 안료일 수 있다. 염료 또는 안료는 상기 염료 또는 안료를 포함하는 층이 인간 관찰자를 위해 착색되는 경우에 착색제로 사용될 수 있다.
착색제는 안료일 수 있다. 유기 안료, 무기 안료, 카본 블랙, 금속 분말 안료 및 형광 안료와 같은 다양한 타입의 안료가 사용될 수 있다. 유기 안료가 바람직하다.
유기 안료의 구체적인 예는 퀴나크리돈 안료, 퀴나크리돈퀴논 안료, 디옥사진 안료, 프탈로시아닌 안료, 안트라피리미딘 안료, 안탄트론 안료, 인단트론 안료, 플라반트론 안료, 페릴렌 안료, 디케토피롤로피롤 안료, 페리논 안료, 퀴노프탈론 안료, 안트라퀴논 안료, 티오인디고 안료, 벤즈이미다졸론 안료, 이소인돌리논 안료, 아조메틴 안료, 및 아조 안료를 포함한다.
착색제로 사용가능한 안료의 구체적인 예는 다음이다(여기서 C.I.는 색지수(Color Index)의 약자이고; 청색 착색 안료는 인간 관찰자에 청색으로 보이는 안료로 이해되며; 다른 착색 안료들도 비슷한 방식으로 이해된다):
- C.I. 안료 블루 1, C.I. 안료 블루 2, C.I. 안료 블루 3, C.I. 안료 블루 15 : 3, C.I. 안료 블루 15 : 4, C.I. 안료 블루 15 : 34, C.I. 안료 블루 16, C.I. 안료 블루 22, C.I. 안료 블루 60 등; 및 C.I. 배트 블루 4, C.I. 배트 블루 60 등을 포함하는 청색 착색 안료;
- C.I. 안료 레드 5, C.I. 안료 레드 7, C.I. 안료 레드 12, C.I. 안료 레드 48 (Ca), C.I. 안료 레드 48 (Mn), C.I. 안료 레드 57 (Ca), C.I. 안료 레드 57 : 1, C.I. 안료 레드 112, C.I. 안료 레드 122, C.I. 안료 레드 123, C.I. 안료 레드 168, C.I. 안료 레드 184, C.I. 안료 레드 202, 및 C.I. 안료 레드 209를 포함하는 적색 착색 안료;
- C.I. 안료 옐로우 1, C.I. 안료 옐로우 2, C.I. 안료 옐로우 3, C.I. 안료 옐로우 12, C.I. 안료 옐로우 13, C.I. 안료 옐로우 14C, C.I. 안료 옐로우 16, C.I. 안료 옐로우 17, C.I. 안료 옐로우 73, C.I. 안료 옐로우 74, C.I. 안료 옐로우 75, C.I. 안료 옐로우 83, C.I. 안료 옐로우 93, C.I. 안료 옐로우 95, C.I. 안료 옐로우 97, C.I. 안료 옐로우 98, C.I. 안료 옐로우 109, C.I. 안료 옐로우 110, C.I. 안료 옐로우 114, C.I. 안료 옐로우 128, C.I. 안료 옐로우 129, C.I. 안료 옐로우 138, C.I. 안료 옐로우 150, C.I. 안료 옐로우 151, C.I. 안료 옐로우 154, C.I. 안료 옐로우 155, C.I. 안료 옐로우 180, 및 C.I. 안료 옐로우 185를 포함하는 황색 착색 안료;
- 오렌지색 착색 안료는 C.I. 안료 오렌지 36, C.I. 안료 오렌지 43, 및 이러한 안료들의 혼합물을 포함한다.
- 녹색 착색 안료는 C.I. 안료 그린 7, C.I. 안료 그린 36, 및 이러한 안료들의 혼합물을 포함한다.
- 흑색 착색 안료는 다음을 포함한다: Mitsubishi Chemical Corporation에 의해 제조된 안료, 예를 들어, No. 2300, No. 900, MCF 88, No. 33, No. 40, No. 45, No. 52, MA 7, MA 8, MA 100, 및 No. 2200 B; Columbian Carbon Co., Ltd.에 의해 제조된 안료, 예를 들어, Raven 5750, Raven 5250, Raven 5000, Raven 3500, Raven 1255, 및 Raven 700; Cabot Corporation에 의해 제조된 안료, 예를 들어, Regal 400 R, Regal 330 R, Regal 660 R, Mogul L, Monarch 700, Monarch 800, Monarch 880, Monarch 900, Monarch 1000, Monarch 1100, Monarch 1300, 및 Monarch 1400; 및 Degussa에 의해 제조된 안료, 예를 들어, Color Black FW 1, Color Black FW 2, Color Black FW 2 V, Color Black FW 18, Color Black FW 200, Color Black S 150, Color Black S 160, Color Black S 170, Printex 35, Printex U, Printex V, Printex 140 U, Special Black 6, Special Black 5, Special Black 4A, 및 Special Black 4.
갈색 안료, 보라색 안료, 형광 안료 및 금속 분말 안료와 같은 다른 타입의 안료가 또한 착색제로 사용될 수 있다. 상기 안료들은 착색제로서 단독으로 또는 2 이상의 안료의 조합으로 사용될 수 있다.
시안 안료를 포함하는 청색 착색 안료가 바람직하다.
상기 안료는 안료 입자가 표면 처리되지 않거나 표면 처리되어 사용될 수 있다. 바람직하게는, 상기 안료는 표면 처리된다. 표면 처리 방법은 안료의 표면에 레진의 표면 코트를 도포하는 방법, 계면활성제를 도포하는 방법, 및 반응성 물질(예를 들어, 실란 커플링제, 에폭시 화합물, 폴리이소시아네이트 등)를 결합시키는 방법을 포함한다. 표면 처리된 안료의 적당한 예는 WO 02/04210에 개시된 개질 안료가 있다. 구체적으로는 WO 02/04210에 개시된 청색 착색 개질 안료가 본 발명에서 착색제로 바람직하다.
상기 안료는 바람직하게는 10㎛미만, 보다 바람직하게는 5㎛미만 그리고 특히 바람직하게는 3㎛미만인 입자 크기를 갖는다. 안료를 분산시키는 방법은 잉크 또는 토너 등의 제조에 사용되는 임의의 알려진 분산 방법일 수 있다. 분산 기기는 초음파 분산기, 샌드 밀, 어트리터(attritor), 펄밀(pearl mill), 슈퍼밀, 볼밀, 임펠러, 디스펜서, KD밀, 콜로이드밀, 다이나트론, 3-롤밀 및 프레스 니더(press kneader)를 포함한다. 이들의 상세한 내용은 "Latest Pigment Applied Technology"(CMC Publications, 1986년 출판)에 개시되어 있다.
분산제는 소위 자기분산 안료의 분산물 제조에서 생략될 수 있다. 자기분산 안료의 구체적인 예는 안료 표면이 분산액체와 상용(compatible)될 수 있는 방식으로 표면 처리된 안료가 있다. 수성 매질에서 자기분산 안료의 일반적인 예는 입자 표면에 커플링된 이온성기 또는 이온화가능기 또는 폴리에틸렌옥사이드 사슬을 갖는 안료가 있다. 이온성기 또는 이온화가능기의 예는 카르복실산기, 술폰산, 인산 또는 포스폰산와 같은 산기 또는 이의 염, 및 이러한 산의 알칼리 금속염이다. 자기분산 안료의 적당한 예는 WO 02/04210에 개시되어 있고 이러한 안료들이 본 발명에서 바람직하다. WO 02/04210의 청색 착색 자기분산 안료가 바람직하다.
일반적으로, 코팅에서 안료의 양은 약 0.005g/m2 내지 2g/m2, 바람직하게는 약 0.007g/m2 내지 0.5g/m2, 보다 바람직하게는 약 0.01g/m2 내지 0.2g/m2, 가장 바람직하게는 약 0.01g/m2 내지 0.1g/m2의 범위일 수 있다.
착색제는 또한 염료일 수 있다. 인간 관찰자를 위해 착색된, 상업적으로 입수가능한 염료 또는 예를 들어, "Dye Handbook"(Organic Synthetic Chemistry Association에 의해 편집되어 1970년에 출판됨)에 개시된 염료와 같은 임의의 알려진 염료가 광중합성 코팅에서 착색제로 사용될 수 있다. 이들의 구체적인 예는 아조 염료, 금속 착염 아조 염료, 피라졸론 아조 염료, 안트라퀴논 염료, 프탈로시아닌 염료, 카르비오늄(carbionium) 염료, 퀴논이민 염료, 메틴 염료 등을 포함한다. 프탈로시아닌 염료가 바람직하다. 적당한 염료는 염형성 유기 염료이며 친유성 염료(oil-soluble dye) 및 염기성 염료로부터 선택될 수 있다. 이들의 구체적인 예는 다음이다(여기서 CI는 색지수의 약어임): 오일 옐로우 101, 오일 옐로우 103, 오일 핑크 312, 오일 그린 BG, 오일 블루(blue) GOS, 오일 블루 603, 오일 블랙 BY, 오일 블랙 BS, 오일 블랙 T-505, 빅토리아 퓨어(pure) 블루, 크리스탈 바이올렛 (CI42555), 메틸 바이올렛 (CI42535), 에틸 바이올렛, 로다민 B (CI415170B), 말라카이트 그린 (CI42000), 메틸렌 블루 (CI52015). 또한, GB 2 192 729에 개시된 염료가 착색제로 사용될 수 있다.
일반적으로, 코팅에서 염료의 양은 약 0.005g/m2 내지 2g/m2, 바람직하게는 약 0.007g/m2 내지 0.5g/m2, 보다 바람직하게는 약 0.01g/m2 내지 0.2g/m2, 가장 바람직하게는 약 0.01g/m2 내지 0.1g/m2의 범위일 수 있다.
인화제(printing-out agent)
코팅의 광중합성층 또는 다른 층은 또한 인화제, 즉 노광시 코팅의 색상을 변화시킬 수 있는 화합물을 포함할 수 있다. 원판의 화상 노광 후, 이후 "인화 화상(print-out image)"으로도 지칭되는 가시화상이 생성될 수 있다. 상기 인화제는 EP-A-1 491 356의 19 및 20페이지 단락 [0116] 내지 [0119], 및 US 2005/8971의 17페이지 단락 [0168] 내지 [0172]에 개시된 것과 같은 화합물일 수 있다. 바람직한 인화제는 2005년 7월 1일에 출원된 비공개 PCT 출원 PCT/EP 2005/053141의 9페이지 1행 내지 20페이지 27행에 개시된 화합물이다. 2005년 6월 21일에 출원된 비공개 특허출원 EP 05 105 440.1의 5페이지 32행 내지 32페이지 9행에 개시된 것과 같은 IR-염료가 보다 바람직하다.
콘트라스트
화상 노광 및 물 또는 수용액으로의 처리 후 형성된 화상의 콘트라스트는 비노광 영역에서의 광학 밀도에 대한 노광 영역에서의 광학 밀도 사이의 차이로 정의되며, 이 콘트라스트는 가능한 한 높은 것이 바람직하다. 이는 최종 사용자로 하여금, 원판이 이미 노광되었는지 여부와 고무 용액으로 제판되었는지 여부를 즉시 확인할 수 있게 하며, 서로 다른 색상 선택을 구별할 수 있게 하고 제판된 판 원판 상의 화상 품질을 검사할 수 있게 한다.
콘트라스트는 노광 영역에서의 광학 밀도의 증가 및/또는 비노광 영역에서의 광학 밀도의 감소에 따라 증가한다. 노광 영역에서 광학 밀도는 노광 영역에 남아 있는 착색제의 양 및 소광계수(extinction coefficient)와 인화제에 의해 형성된 색상의 강도에 따라 증가할 수 있다. 비노광 영역에서 착색제의 양은 가능한 한 적은 것이 바람직하며 칼라 인화제의 강도도 가능한 한 낮은 것이 바람직하다. 광학 밀도는 몇가지 필터(예를 들어, 시안, 마젠타, 옐로우)를 장착한 광학 밀도계(optical densitometer)에 의해 반사율로 측정될 수 있다. 노광 영역과 비노광 영역에서 광학 밀도의 차이는 바람직하게는 적어도 0.3, 보다 바람직하게는 적어도 0.4, 가장 바람직하게는 적어도 0.5의 값을 갖는다. 콘트라스 값에 대한 구체적인 상한치는 없지만, 일반적으로 상기 콘트라스트는 3.0 이하이거나 심지어는 2.0이하이다. 인간 관찰자에 대한 우수한 시각적 콘트라스트를 얻기 위하여 착색제의 색상 타입이 또한 중요할 수 있다. 착색제용으로 바람직한 색상은 시안색 또는 청색이다즉, 청색이란 인간 관찰자에 청색으로 보이는 색상을 의미한다.
상부층
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 상기 코팅은 이후 "오버코트층" 또는 "오버코트"로도 지칭되는 산소장벽층으로 작용하는 상부층을 포함할 수 있다. 상부층에 사용될 수 있는 바람직한 바인더는 폴리비닐 알코올 및 하기 특허 및 특허출원의 인용문헌을 포함하여 2003년 9월 22일에 출원된 EP-A-3103498, US 6,410,205 및 EP 1 288 720에 개시된 폴리머가 있다. 상부층용으로 가장 바람직한 바인더는 폴리비닐알코올이다. 폴리비닐알코올은 바람직하게는 74mol% 내지 99mol%의 범위에 이르는 가수분해도를 갖는다. 폴리비닐알코올의 중량평균 분자량은 DIN 53 015에서 정의된 바와 같이 20℃에서 4wt%의 수용액의 점도에 의해 측정될 수 있으며, 이 점도수(viscosity number)는 바람직하게는 3 내지 26, 보다 바람직하게는 3 내지 15, 가장 바람직하게는 3 내지 10의 범위에 이른다.
일반적으로, 상부층의 코팅 두께는 바람직하게는 0.25 내지 1.75g/m2, 보다 바람직하게는 0.25 내지 1.3g/m2, 가장 바람직하게는 0.25 내지 1.0g/m2이다. 본 발명의 보다 바람직한 구현예에서, 상부층은 0.25 내지 1.75g/m2의 코팅 두께를 가지며, 74mol% 내지 99mol%의 범위에 이르는 가수분해도 및 3 내지 26의 범위에 이르는 전술한 바와 같은 점도수를 갖는 폴리비닐알코올을 포함한다.
상부층은 또한 전술한 바와 같은 고무 용액의 화합물로부터 선택된 성분을 포함할 수 있다.
노광
화상 노광 단계는 판 세터에서, 즉 약 830nm를 방출시키는 레이저 다이오드, 약 1060nm를 방출시키는 NdYAG 레이저, 약 400nm를 방출시키는 바이올렛 레이저, 또는 Ar 레이저와 같은 가스 레이저와 같은 레이저, 또는 예를 들어 디지털 미러 장치에 의한 디지털 변조 UV-노광, 또는 마스크와 접촉하는 종래의 노광에 의해 원판을 화상 노광시키는데 적합한 노광 장치에서 오프-프레스로 수행된다. 본 발명의 바람직한 구현예에서, 원판은 IR-광 또는 자색광을 방출시키는 레이저에 의해 화상 노광된다.
예열
이 화상 노광 단계 후, 원판은 중합 및/또는 가교 반응을 향상시키거나 가속시키기 위하여 예열 유닛에서 가열될 수 있다. 바람직한 구현예에서, 이 예열 단계는 바람직하게는 10분 미만, 바람직하게는 5분 미만, 보다 바람직하게는 1분 미만의 시간 내에 수행될 수 있으며, 가장 바람직하게는 상기 예열은 화상 노광 후 즉, 즉 30초 미만 내에 수행될 수 있다. 가열 단계가 개시될 수 있기 전에 시간 제한은 없지만, 원판은 노광 후 가능한 한 빨리 가열되며, 일반적으로 수초 후 판을 예열 유닛으로 이송하고 가열 단계를 개시한다. 이 예열 단계에서, 원판은 바람직하게는 80℃ 내지 150℃의 온도에서 바람직하게는 5초 내지 1분의 유지시간 동안 가열된다. 예열 유닛은 바람직하게는 IR-램프, UV-램프, 가열 공기, 가열 금속롤 등과 같은 가열 요소이 제공된다.
물 또는 수용액으로의 처리
화상 노광 또는 선택적으로 예열 단계 후, 원판은 뒤이어 물 또는 수용액으로 처리되어 산소장벽층의 적어도 일부가 제거되고, 이에 의하여 코팅의 산소 투과율이, 주변광에 노출시 코팅의 비노광 영역의 경화가 대기 산소에 의한 자유 라디칼의 퀀칭(quenching)에 의해 억제되는 정도로까지 증가된다. 이 처리에서 코팅은 비노광 영역에서 지지체로부터 완전히 제거되지 않기 때문에 지지체의 친수성 표면은 판에 잔류하는 코팅에 의해 보호된다. 본 발명의 바람직한 구현예에서, 이 처리 후 판에 잔류하는 코팅은 실질적으로 광경화성층 또는 광경화성층의 일부이다.
이 처리에서, 산소장벽층의 적어도 일부는 원판의 코팅에 물 또는 수용액, 바람직하게는 물을 공급함으로써 제거된다. 이 처리에서 사용된 물 또는 수용액의 온도는 바람직하게는 10℃ 내지 85℃, 보다 바람직하게는 15℃ 내지 65℃, 가장 바람직하게는 18℃ 내지 55℃ 범위이다. 전통적인 현상기기에서 사용된 방법과 같은 몇가지 방법이 사용될 수 있으며, 상기 방법에서 물 또는 수용액은 수작업에 의하거나 자동 처리 장치에서, 선택적으로 회전 브러시와 같은 기계적 러빙과 조합되어, 함침 패드로의 러빙, 디핑법, 스프레잉법, 제팅법, 또는 스핀 코팅, 롤 코팅, 슬롯 코팅 또는 그라비어 코팅과 같은 모든 코팅법, 또는 주입(pouring-in)에 의해 판에 도포될 수 있다. 이 방법에서 본질적으로, 코팅의 적어도 일부는 비노광 영역에서 친수성 표면을 보호하기 위해 판에 잔류한다. 본 발명의 바람직한 구현예에서, 코팅의 적어도 3wt%, 보다 바람직하게는 적어도 5wt%, 가장 바람직하게는 적어도 6wt%가 판에 잔류한다. 본 발명의 또 다른 구현예에서, 산소장벽층의 적어도 70wt%, 보다 바람직하게는 적어도 85%가 제거되며, 가장 바람직하게는 산소장벽층이 실질적으로 완전히 제거된다. 본 발명의 또 다른 구현예에서, 판에 잔류하는 코팅은 적어도 0.1g/m2, 보다 바람직하게는 적어도 0.13g/m2, 가장 바람직하게는 적어도 0.15g/m2이다.
이 처리에서 물 또는 수용액이 사용되며, 바람직하게는 물이 사용된다. 용어 수성(aqueous)은, 물 또는 알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 부탄올, 이소-아밀 알코올, 옥탄올, 세틸 알코올 등; 글리콜, 예를 들어 에틸렌 글리콜; 글리세린; N-메틸 피롤리돈; 메톡시프로판올; 및 케톤, 예를 들어 2-프로판온 및 2-부탄온; 등과 같은 수혼화성 유기용매와 물의 혼합물을 포함한다. 수혼화성 유기용매는 이러한 혼합물에 50wt%이하, 바람직하게는 20wt%미만, 보다 바람직하게는 10wt%미만으로 존재할 수 있으며, 가장 바람직하게는 유기용매가 수용액에 존재하지 않는다.
상기 수용액은 물 또는 물과 수혼화성 용매의 혼합물에 용해되거나 분산된 화합물을 추가로 포함할 수 있다. 이와 같은 화합물은 비공개 특허출원 PCT/EP 2005/052298의 6페이지 1행 내지 11페이지 35행에 개시된 것과 같은 고무칠 용액에 사용된 화합물로부터 선택될 수 있다.
온-프레스 제판
노광된, 선택적으로 노광되고 예열된, 원판은 상기 원판의 코팅에 축임액 및/또는 잉크를 주입하면서 실린더를 회전시킴으로써 온-프레스 제판된다(즉, 원판은 평판 인쇄기의 판 실린더 상에 장착되어 있을 때 제판됨). 바람직한 구현예에서, 단지 축임액만이 인쇄기의 시동 중에 판에 공급된다. 판 실린더가 다수회, 바람직하게는 50회 미만 및 가장 바람직하게는 5회 미만 회전된 후, 잉크 공급도 개시된다. 택일적인 구현예에서, 축임액 및 잉크의 공급이 동시에 개시되거나 또는 축임액의 공급이 개시되기 전 다수회의 회전 동안에 단지 잉크만이 공급될 수 있다.
실시예
알루미늄 지지체 S-1의 제조:
두께 0.3mm의 알루미늄 호일에 NaOH 34g/l를 함유하는 수용액을 70℃에서 6초 동안 스프레잉함으로써 탈지(degrease)시키고 탈염수로 3.6초 동안 세척하였다. 이어서 HCl 15g/l, SO4 2 - 이온 15g/l 및 Al3 + 이온 5g/l을 함유하는 수용액에서 교류 전류를 사용하여 온도 37℃ 및 전류 밀도 약 100A/dm2로 8초 동안 상기 호일을 전기화학적으로 연마하였다. 이어서 상기 알루미늄 호일을 황산 145g/l를 함유하는 수용액으로 80℃에서 5초 동안 에칭시킴으로써 디스머트(desmut)시키고 탈염수로 4초 동안 세척하였다. 뒤이어 황산 145g/l을 함유하는 수용액에서 온도 57℃ 및 전류 밀도 33A/dm2로 10초 동안 상기 호일을 양극 산화시키고, 이어서 탈염수로 7초 동안 세척하고 70℃에서 폴리비닐포스폰산 2.2g/l을 함유하는 용액을 스프레잉함으로써 4초 동안 후처리하고, 탈염수로 3.5초 동안 세척하고 120℃에서 7초 동안 건조시켰다.
이렇게 얻은 지지체는 간섭계(interferometer) NT1100으로 측정한 경우 표면 거칠기(Ra) 0.35 내지 0.4㎛를 갖는 특징이 있었고, 양극처리 중량 4.0g/m2을 가졌다.
알루미늄 지지체 S-2의 제조:
Agfa-Gevaert로부터 상업적으로 입수할 수 있는 수성 알칼리 현상제 용액인, PD91로 처리하고 이어서 물로 세척함으로써 폴리비닐포스폰산 층을 부분적으로 제거한다는 점을 제외하고는 지지체 S-1에 대하여 설명된 것과 동일한 방법으로 이 지지체의 제조를 수행하였다.
중간층 I-1의 제조:
표 1에 특정된 것과 같은 성분들을 혼합함으로써 중간층 I-1용 코팅 조성물을 제조하였다. 생성된 용액을 지지체 상에 바 코터로 코팅하였다. 코팅 후, 순환식 오븐에서 120℃에서 1분 동안 상기 판을 건조시켰다.
표 1: 중간층 용액의 조성 및 건조층의 두께
조성/성분 I-1
Sipomer PAM 100(1)
(g)		 1.0
Dawanol PM (2)
(g)		 125
건조 두께
(g/m2)		 0.08
(1) Sipomer PAM 100은 RHODIA로부터 얻은 포스페이트 관능성 특수 메타크릴레이트 모노머이다. 이 화합물은 메틸-tert-부틸에테르로의 추출, 하층상(lower phase)의 수집, 및 뒤이은 파라-메톡시페놀 250ppm(parts per million)의 첨가에 의해 처리되었다.
(2) Dawanol PM은 Dow Chemical Company의 상표로서, 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르이다.
광경화성층 P-1의 제조:
표 2에 특정된 것과 같은 성분들을 혼합함으로써 광경화성층 P-1용 코팅 조성물을 제조하였다. 중간층 I-1(원판 타입 1) 또는 중간층 I-1이 없는 지지체(원판 타입 2) 상에 바 코터를 사용하여 상기 생성된 용액을 코팅하였다. 코팅 후, 순환식 오븐에서 120℃에서 1분 동안 상기 두 타입의 판 원판을 건조시켰다. 결과적인 도포량은 0.75g/m2이었다.
표 2: 광경화성층 용액의 조성
조성/성분 P-1
Alcotex 552P (1)
(g)		 3.75
IR-dye-01 (2)
(g)		 0.1775
TBMPS (3)
(g)		 0.2219
FST 426R (4)
(g)		 2.0375
Edaplan LA411 (5)
(g)		 0.3750
Dowanol PM
(g)		 39.63
(1) Alcotex 552P는 Synthomer로부터 상업적으로 입수할 수 있는, 가수분해도 55mol%를 갖는 40wt% 폴리비닐알코올 수용액이다.
(2) IR-dye-01은 하기 구조를 갖는다
Figure 112008034291753-pct00001
여기서, -OTos는 토실레이트 음이온을 나타낸다.
(3) TBMPS는 트리-브로모-메틸페닐 술폰이다.
(4) FST 426R은 2,2,4-트리메틸-헥사메틸렌디이소시아네이트 1몰과 히드록시에틸메타크릴레이트 2몰로부터의 반응 생성물 88.2wt%를 함유하는 2-부탄온 용액(25℃에서 점도 3.30mm2/s)이다.
(5) Edaplan LA411은 Munzing Chemie로부터 얻은 계면활성제(Dow Chemical Company의 상표명인 Dowanol PM® 1% 용액)이다.
오버코트층 OC-1의 제조:
광경화성층의 상부에 표 3에서 한정된 것과 같은 조성을 갖는 수용액을 코팅하고 110℃에서 2분 동안 건조시켰다. 이렇게 형성한 보호성 오버코트는 건조 두께 2.0g/m2를 가졌다.
표 3: 오버코트 용액의 조성
성분 OC-1
부분적으로 가수분해된 폴리비닐알코올(가수분해도 88%, 20℃의 4wt% 용액에서 점도 4mPa·s)
(g)		 17.03
부분적으로 가수분해된 폴리비닐알코올(가수분해도 88%, 20℃의 4wt% 용액에서 점도 8mPa·s)
(g)		 7.43
완전히 가수분해된 폴리비닐알코올(가수분해도 98%, 20℃의 4wt% 용액에서 점도 6mPa·s)
(g)		 14.87
Acticide LA1206 (1)
(g)		 0.26
Metolat FC 355 (2)
(g)		 0.38
Lutensol A8 (90%) (3)
(g)		 0.032
물
(g)		 960
(1) Acticide LA1206은 Thor로부터 상업적으로 입수할 수 있는 살생물제이다.
(2) Metolat FC 355는 Munzing Chemie로부터 상업적으로 입수할 수 있는 에톡시화 에틸렌디아민이다.
(3) Lutensol A8(90wt%)은 BASF로부터 상업적으로 입수할 수 있는 표면활성제이다.
스트립(strip)의 절단
모든 다양한 층의 코팅 및 건조 동안에, 주변광으로부터 판을 보호하였다. 각 타입의 원판을 수개의 스트립으로 절단하였으며 주변광으로부터 보호되도록 이러한 스트립들을 저장하였다.
노광
100mJ/cm2 내지 300mJ/cm2 사이에서 변화하는 다양한 에너지로 Creo Trendsetter IR-레이저(830nm)를 사용하여 각 타입의 원판 중 2개의 스트립에 화상을 형성하였다.
물로의 처리 및 일광 안정성 시험
화상 노광 단계에 뒤이어, 오버코트 및 광경화성층의 일부를 제거하기 위하여, Agfa-Gevaert로부터 상업적으로 입수할 수 있는 VSP-프로세서의 물세척 및 건조부로 각 원판 타입당 1개의 스트립을 통과시켰다. 각 원판 타입의 또 다른 스트립은 물로 처리하지 않았다.
각 원판 타입의 물로 처리된 스트립 및 물로 처리되지 않은 스트립을 30분 동안 일광에 노출시켰다.
표 4는 인쇄판 원판의 조성 및 물 처리 여부를 요약한다.
표 4: 원판 조성
원판 타입 Al 지지체 중간층 광경화성층 오버코트층 물 처리
타입 1-처리 S-2 I-1 P-1 OC-1 yes
타입 1-비처리 S-2 I-1 P-1 OC-1 no
타입 2-처리 S-2 P-1 OC-1 yes
타입 2-비처리 S-2 P-1 OC-1 no
온-프레스 제판
뒤이어 각 원판 타입당 이러한 2개의 스트립을 GT046 인쇄기(Heidelberger Druckmaschinen AG로부터 입수 가능함)에 장착하였으며, K+E Novavit 800 Skinnex 잉크(BASF Drucksysteme GmbH의 상표) 및 분수 액체로서 10% 이소프로판올 중 3% FS101(AGFA의 상표), 압축성 블랭킷 및 오프셋 종이를 사용함으로써 인쇄 작업을 개시하였다. 세정(clean-out)은 지지체의 친수성 표면을 드러내는, 비노광 영역에서의 코팅의 제거이며, 이는 완전 노광 영역(또는 스크린의 100% 망점(dot) 영역)에서는 광학 밀도(인쇄된 시트 상에서 측정됨)가 탁월한 잉크 수용성을 나타내는, 적어도 1.5인 반면에 비노광 영역에서는 0.0인 광학 밀도를 얻는데 필요한 시트의 수로 정의된다. <5 표시는 2, 3 또는 4매의 시트를 인쇄한 후 완전 세정이 얻어진다는 것을 의미하며; >250은 심지어는 250매의 시트를 인쇄한 후에도 세정이 불충분함을 의미한다. 불충분한 세정은 코팅의 일부가 비노광 영역에서 판에 잔류하여 인쇄기에 토닝(toning), 즉 인쇄된 시트 상의 비노광 영역에서의 바람직하지 않은 잉크 수용성을 초래할 수 있다. 인쇄된 시트 상의 비화상 영역에 수용된 잉크의 양에 따라, 토닝은 비화상 영역에서의 회색 밀도값(grey-density value)에 대응하는 다양한 수준으로 관찰될 수 있다. "토닝"은 비화상 영역에서 광학 밀도의 증가가 인쇄된 시트의 시각적 검사에 의해 관찰될 수 있다는 것을 의미하며; "토닝 없음"은 인쇄된 시트의 시각적 검사에 의할 경우 비화상 영역에 잉크가 없음을 의미한다.
표 5는 처리 및 비처리된 원판에 대하여 얻은 결과를 요약한다.
표 5: 결과
실시예 번호 원판 타입 세정(시트 수) 토닝
발명 실시예 1 타입 1-처리 <5 토닝 없음
비교 실시예 1 타입 1-비처리 >250 토닝
발명 실시예 2 타입 2-처리 <5 토닝 없음
비교 실시예 2 타입 2-비처리 >250 토닝
물 처리후 남아 있는 코팅 두께
Agfa-Gevaert로부터 상업적으로 입수할 수 있는 VSP-프로세서의 물처리 및 건조부를 통과시키기 전과 후에 원판 타입 1 및 원판 타입 2의 비노광된 스트립의 중량를 재었으며, 이러한 2개의 원판 타입의 경우에 물처리에서 제거된 코팅의 양을 계산하였다.
이 물처리 후에, 고무 용액(Gum-1)을 사용하는 고무칠 프로세서에 상기 스트립들을 통과시켜 코팅의 잔류 부분을 제거하였다. 상기 스트립을 물로 완전히 세척하여 흡착된 고무를 판으로부터 제거하였으며, 이를 건조시키고 다시 중량를 재어 물처리 후 코팅의 잔량을 계산하였다.
Gum-1은 하기와 같이 제조된 용액이다:
탈염수 750g에
Dowfax 3B2(Dow Chemical로부터 상업적으로 입수가능) 100ml
1,3-벤젠 디술폰산 디소듐염(Riedel de Haan으로부터 입수가능) 31.25g
Versa TL77(Alco Chemical로부터 입수할 수 있는 폴리스티렌 술폰산) 31.25ml
트리소듐 시트레이트 디하이드레이트 10.4g
Acticide LA1206(Thor의 살생물제) 2ml
Polyox WSRN-750(Union Carbide로부터 입수가능) 2.08g을 교반하면서 첨가하고 탈염수를 추가로 첨가하여 1000g이 되게 하였음.
pH는 7.2 내지 7.8 사이이다.
이러한 처리들의 각 단계에서, 기준(reference)으로 시안 세팅 및 비코팅 알루미늄 판을 사용하여, GRETAG-MACBETH AG로부터 상업적으로 입수할 수 있는 Gretag Macbeth D19C 밀도계로 판 상에서 광학 밀도(이후 "OD"로도 지칭됨)를 측정하였다.
결과를 표 6에 요약하였다.
표 6: 처리의 각 단계에서 코팅 두께 및 광학 밀도
원판 타입 처리 코팅 두께
(g/m2)
실험 (이론)		 중량 손실
(%)		 OD

타입 1
 1 단계: 물처리 전 2.528 (2.83) 0.29
2 단계: 물처리 후 0.193 92.4 0.07
3 단계: 제판 후 0.00 100 0.00

타입 2
 1 단계: 물처리 전 2.282 (2.75)
2 단계: 물처리 후 0.165 92.8
3 단계: 제판 후 0.00 100
표 5에서 발명 실시예들은 타입 1(원판이 중간층에 부착 촉진 화합물을 포함한다) 및 타입 2(부착 촉진 화합물이 없는 원판)의 화상 노광된 원판이 물로 처리되었을 경우 개선된 일광 안정성을 나타낸다는 것을 증명한다. 표 6에서 이러한 물 처리 후에 코팅의 약 7 내지 8wt%가 비노광 영역에서 지지체 상에 잔류한다는 것이 증명된다. 온-프레스 제판에서, 발명 실시예의 인쇄판은 2, 3 또는 4매의 시트(5매 미만의 시트) 인쇄 후 빠르고 완전한 세정을 나타내며 인쇄기 상에서 토닝은 관찰되지 않는다. 표 5의 비교 실시예들에서, 원판들은 화상 노광 후 물로 처리되지 않았으며 일광에 대한 안정성이 없다. 심지어 250매의 시트 인쇄 후에도 세정은 얻어지지 않으며 인쇄기 상에는 토닝이 나타난다.

Claims (10)

  1. 평판 인쇄판의 제판방법으로서,
    (a) 친수성 표면을 구비하거나 또는 친수성층이 제공된 지지체, 및 상기 지지체 상의 코팅을 포함하는 평판 인쇄판 원판을 제공하는 단계로서, 상기 코팅은 (i) 광경화성 조성물을 포함하는 적어도 하나의 화상기록층으로서, 상기 조성물은 화상 노광시 자유 라디칼을 형성할 수 있는, 헥사아릴-비스이미다졸 또는 트리할로 메틸 술폰으로부터 선택된 화합물을 포함하는 화상기록층 및 (ii) 상기 화상기록층 상부에, 수용성 또는 수팽윤성 폴리머를 포함하는 산소장벽층을 포함하는 단계,
    (b) 상기 코팅을 판 세터(plate setter)에서 레이저에 의해 화상 노광시키는 단계,
    (d) 상기 화상 노광된 원판을, 물 또는 수용액이 상기 원판의 코팅에 공급되는 현상 유닛에서 처리하는 단계로서,
    - 이에 의하여 상기 산소장벽층 및 화상기록층의 일부가 비노광 영역에서 상기 지지체로부터 제거되고, 이에 의하여 주변광에 의한 상기 코팅의 비노광 영역의 경화가 산소로 인한 자유 라디칼의 퀀칭(quenching)에 의해 억제되는 정도로까지 상기 화상기록층의 잔여 부분의 산소 투과율을 증가시키고,
    - 이에 의하여 상기 화상기록층의 잔여 부분이 상기 친수성 표면을 보호하는 단계,
    (e) 상기 처리된 원판을 평판 인쇄기의 판 실린더 상에 장착하는 단계, 및
    (f) 상기 코팅에 축임액 및 잉크 중 적어도 하나를 주입하면서 상기 판 실린더를 회전시켜 현상하는 단계로서, 이에 의하여 비노광 영역에서 상기 화상기록층의 잔여 부분을 제거하는 단계를 포함하는 평판 인쇄판의 제판방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 화상기록층의 잔여 부분은 상기 코팅의 적어도 3wt%인 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 화상기록층의 잔여 부분은 적어도 0.1g/m2인 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, (d) 단계에서 상기 현상 유닛에는 상기 처리 동안 상기 코팅을 러빙하거나, 브러싱하거나, 또는 러빙 및 브러싱 하기 위한 적어도 하나의 롤러가 제공되는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 물 또는 상기 수용액은 상기 코팅에 상기 물 또는 상기 수용액을 제팅하거나 스프레잉함으로써 (d) 단계에서 상기 코팅에 공급되는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, (b) 단계 후 (d) 단계 전에 상기 원판을 예열 유닛에서 가열시키는 단계(c)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제6항에 있어서, (b) 단계 후 (d) 단계 전에 상기 원판은 예열 유닛에서 5초 내지 1분의 유지시간 동안 80℃ 내지 150℃의 온도에서 가열되며, 상기 예열 유닛은 상기 원판이 주변광으로부터 차폐되는 기계적 판 전달 수단에 의해 상기 판 세터 및 상기 현상 유닛에 결합되는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광경화성 조성물은 IR-흡수 화합물을 추가로 포함하며, (b) 단계에서 상기 코팅은 IR-복사선에 화상 노광되는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광경화성 조성물은 자색광 흡수 화합물을 추가로 포함하며, (b) 단계에서 상기 코팅은 자색광에 화상 노광되는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, (d) 단계에서 물이 상기 처리에 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1369230A1 (en) * 2002-06-05 2003-12-10 Kba-Giori S.A. Method of manufacturing an engraved plate
DE602006009919D1 (de) * 2006-08-03 2009-12-03 Agfa Graphics Nv Flachdruckplattenträger
JP5258237B2 (ja) * 2006-09-14 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
EP2065211B1 (en) 2007-11-30 2010-05-26 Agfa Graphics N.V. A method for treating a lithographic printing plate
EP2098376B1 (en) 2008-03-04 2013-09-18 Agfa Graphics N.V. A method for making a lithographic printing plate support
ES2365885T3 (es) 2008-03-31 2011-10-13 Agfa Graphics N.V. Un método para tratar una plancha de impresión litográfica.
JP5711168B2 (ja) 2012-02-27 2015-04-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法
JP5715975B2 (ja) 2012-02-29 2015-05-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷版の製造方法
BR112018068753A2 (pt) 2016-03-16 2019-01-22 Agfa Nv método para processar uma chapa de impressão litográfica
CN106939531A (zh) * 2017-03-20 2017-07-11 南宁东印时代广告有限公司 胶版纸
EP3431290B1 (en) * 2017-07-20 2021-09-08 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3474073B1 (en) * 2017-10-17 2022-12-07 Agfa Offset Bv A method for making a printing plate
EP3495891B1 (en) * 2017-12-08 2021-06-16 Agfa Nv A method for making a lithographic printing plate
EP3793830B1 (en) * 2018-05-14 2023-03-29 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
WO2020120402A1 (en) * 2018-12-10 2020-06-18 Agfa Nv On-press processing of a uv or violet-sensitized lithographic printing plate
EP3922462B1 (en) * 2020-06-08 2023-03-01 Agfa Offset Bv Lithographic photopolymer printing plate precursor with improved daylight stability

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030165777A1 (en) * 2001-06-04 2003-09-04 Teng Gary Ganghui Negative lithographic printing plate comprising a specific compound in the photosensitive layer

Family Cites Families (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL296772A (ko) 1962-03-21
US4252887A (en) 1979-08-14 1981-02-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5-triphenylimidazole compounds as photoinitiators
US4459349A (en) 1981-03-27 1984-07-10 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Photosensitive resin composition
US4410621A (en) 1981-04-03 1983-10-18 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan
JPS5956403A (ja) 1982-09-27 1984-03-31 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合性組成物
DE3404366A1 (de) 1984-02-08 1985-08-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch auf basis eines diazoniumsalz-polykondensationsprodukts und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
US4622286A (en) 1985-09-16 1986-11-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoimaging composition containing admixture of leuco dye and 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer
JPH065384B2 (ja) 1986-06-12 1994-01-19 富士写真フイルム株式会社 感光性印刷版
DE3832032A1 (de) 1988-09-21 1990-03-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
US5258263A (en) 1991-09-10 1993-11-02 Polaroid Corporation Printing plate and methods of making and use same
US6010824A (en) 1992-11-10 2000-01-04 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive resin composition containing a triazine compound and a pre-sensitized plate using the same, and photosensitive resin composition containing acridine and triazine compounds and a color filter and a pre-sensitized plate using the same
US5629354A (en) 1995-02-28 1997-05-13 Eastman Kodak Company Photopolymerization initiator system comprising a spectral sensitizer and a polycarboxylic acid co-initiator
US5910395A (en) 1995-04-27 1999-06-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Negative-acting no-process printing plates
JPH09239942A (ja) 1996-03-08 1997-09-16 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要平版印刷原版及びその製版方法
US6514668B1 (en) 1996-12-26 2003-02-04 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive lithographic printing plate
EP0869393B1 (en) 1997-03-31 2000-05-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition
US6218076B1 (en) 1997-08-26 2001-04-17 Showa Denko K.K. Stabilizer for organic borate salts and photosensitive composition containing the same
US6232038B1 (en) 1998-10-07 2001-05-15 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition, image-forming material and image-forming method employing it
EP1025992B1 (en) 1999-02-02 2003-07-23 Agfa-Gevaert A method for making positive printing plates
DE19915717A1 (de) 1999-04-08 2000-10-12 Agfa Gevaert Ag Aufzeichnungsmaterial mit pigmentgefärbter strahlungsempfindlicher Schicht
DE10022786B4 (de) 1999-05-12 2008-04-10 Kodak Graphic Communications Gmbh Auf der Druckmaschine entwickelbare Druckplatte
US6071675A (en) 1999-06-05 2000-06-06 Teng; Gary Ganghui On-press development of a lithographic plate comprising dispersed solid particles
DE19940921A1 (de) 1999-08-27 2001-03-01 Agfa Gevaert Ag Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE19944073A1 (de) 1999-09-14 2001-03-15 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit Deckschicht
JP4037015B2 (ja) 1999-09-22 2008-01-23 富士フイルム株式会社 光重合性組成物、画像形成材料及び平版印刷版用版材
US6558873B1 (en) 1999-10-05 2003-05-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
US6245481B1 (en) 1999-10-12 2001-06-12 Gary Ganghui Teng On-press process of lithographic plates having a laser sensitive mask layer
EP1099981B1 (en) * 1999-11-09 2012-10-03 FUJIFILM Corporation Photosensitive material processing device
WO2002004210A1 (en) 2000-07-06 2002-01-17 Cabot Corporation Printing plates comprising modified pigment products
US6548222B2 (en) 2000-09-06 2003-04-15 Gary Ganghui Teng On-press developable thermosensitive lithographic printing plates
US6576401B2 (en) 2001-09-14 2003-06-10 Gary Ganghui Teng On-press developable thermosensitive lithographic plates utilizing an onium or borate salt initiator
US6482571B1 (en) 2000-09-06 2002-11-19 Gary Ganghui Teng On-press development of thermosensitive lithographic plates
US6387595B1 (en) 2000-10-30 2002-05-14 Gary Ganghui Teng On-press developable lithographic printing plate having an ultrathin overcoat
CN1221863C (zh) * 2000-11-20 2005-10-05 富士胶片株式会社 热敏平版印版前驱体
JP4098483B2 (ja) 2001-03-12 2008-06-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4266077B2 (ja) 2001-03-26 2009-05-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
US6899994B2 (en) 2001-04-04 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments
US7261998B2 (en) 2001-04-04 2007-08-28 Eastman Kodak Company Imageable element with solvent-resistant polymeric binder
US6893797B2 (en) 2001-11-09 2005-05-17 Kodak Polychrome Graphics Llc High speed negative-working thermal printing plates
US6572222B2 (en) 2001-07-17 2003-06-03 Eastman Kodak, Company Synchronizing printed droplets in continuous inkjet printing
EP1288720B1 (en) 2001-08-29 2012-02-01 FUJIFILM Corporation Plate-making method of printing plate
JP2003252939A (ja) 2002-03-01 2003-09-10 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
EP1349006B1 (en) 2002-03-28 2013-09-25 Agfa Graphics N.V. Photopolymerizable composition sensitized for the wavelength range from 300 to 450 nm.
US7659046B2 (en) 2002-04-10 2010-02-09 Eastman Kodak Company Water-developable infrared-sensitive printing plate
US7172850B2 (en) 2002-04-10 2007-02-06 Eastman Kodak Company Preparation of solvent-resistant binder for an imageable element
EP1359008B1 (de) 2002-04-29 2005-08-31 Agfa-Gevaert Strahlungsempfindliches Gemisch, damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, und Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte
JP2004012706A (ja) 2002-06-05 2004-01-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US20040009426A1 (en) 2002-06-05 2004-01-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Infrared photosensitive composition and image recording material for infrared exposure
US6902865B2 (en) 2002-07-22 2005-06-07 Gary Ganghui Teng Non-alkaline aqueous development of thermosensitive lithographic printing plates
US7052418B2 (en) 2002-11-26 2006-05-30 Lifetime Products, Inc. Basketball backboard
JP2005014348A (ja) 2003-06-25 2005-01-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP4418714B2 (ja) * 2003-07-10 2010-02-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
ATE491968T1 (de) 2003-07-22 2011-01-15 Fujifilm Corp Flachdruckplattenvorläufer und lithographisches druckverfahren
JP2005067006A (ja) 2003-08-22 2005-03-17 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版
JP4644458B2 (ja) 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
CN100537260C (zh) * 2003-10-25 2009-09-09 爱克发印艺公司 含有光滑铝载体的负性热平版印刷的印刷版前体
ATE378174T1 (de) 2004-01-23 2007-11-15 Fujifilm Corp Lithographiedruckplattenvorläufer und lithographisches druckverfahren
DE602004006378T2 (de) * 2004-04-21 2008-01-10 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur genauen Belichtung von kleinen Punkten auf eine Wärmeempfindliche positiv arbeitende Flachdruckplatte
DK1751625T3 (da) * 2004-05-19 2012-02-27 Agfa Graphics Nv Fremgangsmåde til fremstilling af fotopolymerplade
CN1984778B (zh) 2004-07-08 2010-12-29 爱克发印艺公司 阴片热敏平版印刷版前体的制备方法
ES2303991T3 (es) 2005-06-21 2008-09-01 Agfa Graphics N.V. Elemento de formacion de imagen sensible al calor.

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030165777A1 (en) * 2001-06-04 2003-09-04 Teng Gary Ganghui Negative lithographic printing plate comprising a specific compound in the photosensitive layer

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