KR101229694B1

KR101229694B1 - 유체 가열기 및 그 제조 방법과, 유체 가열기를 구비한 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

Info

Publication number: KR101229694B1
Application number: KR1020107022571A
Authority: KR
Inventors: 고우키치 히로시로; 다카유키 도시마
Original assignee: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Priority date: 2008-06-02
Filing date: 2009-02-12
Publication date: 2013-02-05
Also published as: KR20110028428A; WO2009147871A1; US8701308B2; US20110099838A1; JP5184631B2; JPWO2009147871A1

Abstract

유체 가열기(20)는, 가열 대상의 유체가 흐르는 유로관(26)과, 유로관(26)을 가열하는 가열부(23)를 구비하고 있다. 유로관(26)의 내부에는, 하나 또는 복수의 충전재(30)가 마련되어 있다. 기판 처리 장치(60)는, 휘발성을 갖는 유기 용제의 액체를 공급하는 공급원(92)과, 공급원(92)에 의해 공급되는 유기 용제의 액체를 가열하여 유기 용제의 증기를 생성하는 상술한 유체 가열기(20)와, 기판(W)을 수용하고, 이 수용된 기판(W)의 건조를 행하는 챔버(65)이며, 유체 가열기(20)에 의해 생성된 유기 용제의 증기가 공급되는 챔버(65)를 구비하고 있다.

Description

유체 가열기 및 그 제조 방법과, 유체 가열기를 구비한 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법{FLUID HEATER, MANUFACTURING METHOD THEREOF, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE EQUIPPED WITH A FLUID HEATER, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD}

본 발명은, 유체의 가열을 행하는 유체 가열기 및 그 제조 방법과, 유체 가열기를 구비한 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것으로, 특히, 유로관의 내주면에 대하여 어떠한 가공도 행하지 않으면서 유로관 내를 흐르는 유체에 대한 가열에 있어서의 열전달 효율 및 균일성을 향상시킬 수 있는 유체 가열기 및 그 제조 방법과, 유체 가열기를 구비한 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다.

일반적으로, 반도체 제조 장치에 있어서의 제조 공정에서는, 반도체 웨이퍼나 LCD용 유리 등의 기판(이하, 간단히 「웨이퍼」라고도 함)을, 약액이나 린스액 등의 세정액이 저류된 세정조에 순차적으로 침지하여 세정을 행하는 세정 처리 방법이 널리 채용되고 있다. 또한, 세정 후의 웨이퍼의 표면에, 예컨대 이소프로필알코올(IPA) 등의 휘발성을 갖는 유기 용제의 증기를 접촉시켜, 이 유기 용제의 증기를 웨이퍼의 표면에 응축 또는 흡착시키고, 그 후 N₂ 가스(질소 가스) 등의 비활성 가스를 웨이퍼의 표면에 공급함으로써 웨이퍼의 표면에 있는 수분의 제거 및 건조를 행하는 건조 처리 방법이 알려져 있다[예컨대, 일본 특허 공개 제2007-5479호 공보(JP2007-5479A) 등 참조].

여기서, 상술한 바와 같은 건조 처리 방법에 있어서, 웨이퍼가 수용된 챔버에 유기 용제의 증기를 공급할 때에, 유기 용제의 액체를 가열하여 증발시킴으로써 유기 용제의 증기를 생성하는 유체 가열기가 이용되고 있다. 즉, 유기 용제 공급원으로부터 유기 용제의 액체가 유체 가열기에 공급되고, 이 유체 가열기에 의해 유기 용제의 액체가 가열됨으로써 유기 용제의 증기가 생성되며, 웨이퍼가 수용된 챔버에 대하여 이 생성된 유기 용제의 증기가 공급되도록 되어 있다. 이러한 유체 가열기로서는, 예컨대 일본 특허 공개 제2007-17098호 공보(JP2007-17098A) 등에 개시된 것이 알려져 있다.

일본 특허 공개 제2007-17098호 공보 등에 나타내는 종래의 유체 가열기는, 할로겐 램프 등의 열원 램프와, 이 열원 램프를 포위하도록 배치되고, 가열할 유기 용제의 액체가 흐르는 나선 형상의 유로관을 구비하고 있다. 그리고, 나선 형상의 유로관에 유기 용제의 액체가 흐르고, 유로관이 열원 램프에 의해 가열됨으로써 유로관 내를 흐르는 유체도 가열되며, 이것에 의해 유로관 내에서 유기 용제의 증기가 생성되도록 되어 있다.

상술한 바와 같은, 유체의 가열을 행하는 유체 가열기에 있어서, 나선 형상의 유로관의 내주면이 연마 처리되어 있어, 이 내주면의 표면 거칠기가 작은 경우에는, 즉 유로관의 내주면에 요철이 거의 또는 전혀 없는 경우에는, 그 유로관 내를 흐르는 유체는 난류가 아니라 층류가 된다. 이 경우에는, 유로관 내에서의 중심 부분을 흐르는 유체의 속도와 유로관의 내주면 부근을 흐르는 유체의 속도가 다르게 된다. 즉, 유로관 내에서의 중심 부분을 흐르는 유체의 속도가 유로관의 내주면 부근을 흐르는 유체의 속도보다도 커진다. 또한, 유로관 내에서의 중심 부분을 흐르는 유체에 대한 가열 정도보다도, 유로관의 내주면 부근을 흐르는 유체에 대한 가열 정도가 커진다. 이 때문에, 유로관 내를 흐르는 유체가 난류가 아니라 층류인 경우에는, 유로관 내를 흐르는 유체를 균일하게 가열할 수 없다는 문제가 있다.

또한, 유로관의 내주면의 표면 거칠기가 작은 경우에는, 유로관 내를 흐르는 유체에 접촉하는 유로관의 내주면의 표면적이 작아지기 때문에, 외부의 열원 램프로부터 유로관 내의 유체로의 열의 전달 면적이 작아져, 유로관 내를 흐르는 유체에 대한 열전달 효율이 낮아져 버린다는 문제가 있다.

한편, 유로관의 내주면에 대한 연마 처리를 행하지 않아, 이 유로관의 내주면의 표면 거칠기가 큰 경우에는, 유로관 내에 유체를 장기간 흘렸을 때에 이 유로관의 내주면에 먼지가 남았을 때에는, 유로관의 내주면에 부착된 먼지를 씻어내는 것이 용이하지 않다는 문제가 있다.

본 발명은, 이러한 점을 고려하여 이루어진 것으로, 유로관의 내부에 하나 또는 복수의 충전재를 마련함으로써, 유로관 내를 흐르는 유체를 층류가 아니라 난류로 되게 하여, 유로관 내를 흐르는 유체의 속도를 대략 균일하게 함으로써 유체를 대략 균일하게 가열하고, 또한 충전재를 유로관의 내부에 마련함으로써 유로관 내를 흐르는 유체에 접촉하는 가열 부분의 표면적을 크게 하며, 이것에 의해 유로관 내를 흐르는 유체에 대한 열전달 효율을 크게 할 수 있는 유체 가열기 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

또한, 본 발명은, 상술한 바와 같은 유체 가열기를 구비한 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은, 유체의 가열을 행하는 유체 가열기로서, 가열할 유체가 흐르는 유로관과, 상기 유로관을 가열하는 가열부와, 상기 유로관의 내부에 마련된 하나 또는 복수의 충전재를 구비한 것을 특징으로 한다.

이러한 유체 가열기에 따르면, 액체나 기체로 이루어지는 가열 대상의 유체가 흐르는 유로관의 내부에, 하나 또는 복수의 충전재가 마련되어 있다. 이 때문에, 유로관 내를 흐르는 유체를 층류가 아니라 난류로 되게 하여, 유로관 내를 흐르는 유체의 속도를 대략 균일하게 할 수 있다. 이 때문에, 유로관 내에서 유체를 대략 균일하게 가열할 수 있게 된다. 또한, 충전재를 유로관의 내부에 마련함으로써 유로관 내를 흐르는 유체에 접촉하는 가열 부분의 표면적이 커진다. 이 때문에, 유로관 내를 흐르는 유체에 대한 열전달 효율을 크게 할 수 있게 된다.

본 발명의 유체 가열기에 있어서, 상기 충전재는 도열성(導熱性)을 갖는 것이 바람직하다. 이때에, 상기 충전재는 금속, 실리콘, 세라믹 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 것이 보다 바람직하다.

본 발명의 유체 가열기에 있어서, 상기 충전재는, 불소 수지에 의해 코팅된 것이 바람직하다. 이때에, 상기 충전재는, 상기 불소 수지에 의해 상기 유로관의 내벽에 고정되어 있는 것이 보다 바람직하다.

본 발명의 유체 가열기에 있어서, 상기 충전재의 형상은 구형, 원기둥형 또는 원통형인 것이 바람직하다. 또한, 상기 충전재는 중실(中實) 또는 중공의 것으로 이루어지는 것이 바람직하다. 또한, 상기 충전재는 섬유형 또는 메시형의 것으로 이루어지는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명의 유체 가열기에 있어서, 상기 유로관은 나선 형상의 것으로 이루어지는 것이 바람직하다.

본 발명의 유체 가열기에 있어서, 상기 가열부는 램프 히터로 이루어지는 것이 바람직하다. 또는, 상기 가열부는 유도 가열형 히터로 구성되어 있어도 된다. 또는, 상기 가열부는 저항 가열식 히터로 구성되어 있어도 된다.

본 발명은, 유체의 가열을 행하는 유체 가열기의 제조 방법으로서, 대략 직선형의 유로관을 준비하는 공정과, 상기 유로관의 내부에 하나 또는 복수의 충전재를 충전하는 공정과, 하나 또는 복수의 충전재가 충전된 유로관을 나선 형상으로 변형시키는 공정과, 상기 유로관을 가열하는 가열부를 설치하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.

이러한 유체 가열기의 제조 방법에 따르면, 유로관이 나선 형상으로 되어 있고, 이 유로관의 내부에 마련된 충전재도 나선 형상으로 되는 유체 가열기를 제조할 수 있다.

본 발명의 유체 가열기의 제조 방법에 있어서는, 상기 유로관의 내부에 충전재를 충전하는 공정 후에, 상기 충전재에 불소 수지를 코팅하는 공정을 실시하는 것이 바람직하다. 이때에, 상기 충전재에 불소 수지를 코팅하는 공정은, 상기 유로관을 나선 형상으로 변형시키는 공정 후에 행해지는 것이 보다 바람직하다. 또한, 이 경우, 상기 유로관을 나선 형상으로 변형시키는 공정 후이면서, 상기 충전재에 불소 수지를 코팅하는 공정 전에, 상기 유로관 내를 약액으로 세정하는 공정을 실시하는 것이 보다 바람직하다. 여기서, 상기 약액은 산성의 약액인 것이 보다 바람직하다.

본 발명의 유체 가열기의 제조 방법에 있어서는, 상기 충전재의 형상은 대략 직선형으로 되어 있고, 상기 유로관을 나선 형상으로 변형시킬 때에, 이 유로관의 내부에 충전된 충전재도 나선 형상으로 변형되는 것이 바람직하다.

본 발명은, 기판의 처리를 행하는 기판 처리 장치로서, 휘발성을 갖는 유기 용제의 액체를 공급하는 공급원과, 상기 공급원에 의해 공급되는 유기 용제의 액체를 가열하여 유기 용제의 증기를 생성하는 상술한 유체 가열기와, 기판을 수용하고, 이 수용된 기판의 건조를 행하며, 상기 유체 가열기에 의해 생성된 유기 용제의 증기가 공급되는 챔버를 구비한 것을 특징으로 한다.

이러한 기판 처리 장치에 따르면, 유체 가열기에 있어서 유로관 내를 흐르는 유체에 대한 가열에 있어서의 열전달 효율 및 균일성을 향상시킬 수 있기 때문에, 유기 용제의 액체를 확실하게 증발시켜 유기 용제의 증기를 생성할 수 있고, 챔버에 유기 용제의 증기를 확실하게 공급할 수 있다.

본 발명은, 기판의 건조를 행하는 기판 처리 방법으로서, 기판을 챔버 내에 수용하기 전에, 상술한 유체 가열기에서의 충전재를 미리 가열하는 공정과, 충전재가 미리 가열된 상기 유체 가열기에 휘발성을 갖는 유기 용제의 액체를 공급하고, 이 유체 가열기에 의해 유기 용제의 액체를 가열하여 유기 용제의 증기를 생성하는 공정과, 기판이 수용된 챔버 내에 유기 용제의 증기를 공급함으로써 기판을 건조하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.

이러한 기판 처리 방법에 따르면, 기판의 세정 처리 등을 행하는 동안에 유체 가열기의 충전재를 미리 가열해 두고, 그 후, 충전재가 미리 가열된 유체 가열기에 유기 용제의 액체를 공급하며, 이 유체 가열기에 의해 유기 용제의 액체를 가열하여 유기 용제의 증기를 생성하고, 그 후, 기판을 챔버 내에 수용하고, 이 챔버 내에 유기 용제의 증기를 공급함으로써 기판의 건조를 행할 수 있게 된다. 이와 같이, 기판에 대하여 건조 처리 이외의 다른 처리(예컨대 세정 처리)를 행하는 동안에 유체 가열기에 있어서 충전재를 미리 가열해 둠으로써, 유기 용제의 증기의 생성을 신속하게 행할 수 있게 되어, 기판에 대한 건조 처리를 보다 신속하게 행할 수 있게 된다.

도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 유체 가열기의 구성의 개략을 도시하는 구성도이다.
도 2는 도 1에 도시하는 유체 가열기의 I-I라인을 따라 취하여 화살표 방향에서 본 단면도이다.
도 3은 도 1 및 도 2에 도시하는 유체 가열기의 유로관의 내부에 마련된 충전재의 구성을 도시하는 설명도이다.
도 4는 도 1 및 도 2에 도시하는 유체 가열기의 유로관의 내부에 마련된 충전재의 다른 구성을 도시하는 설명도이다.
도 5는 본 실시형태에 따른 유체 가열기의 가열부의 다른 구성의 개략을 도시하는 구성도이다.
도 6은 본 실시형태에 따른 유체 가열기의 가열부의 또 다른 구성의 개략을 도시하는 구성도이다.
도 7은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 기판 처리 장치의 구성의 개략을 도시하는 구성도이다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 하나의 실시형태에 대해서 설명한다. 먼저, 본 실시형태에 따른 유체 가열기에 대해서 상세히 서술한다. 여기서, 도 1 내지 도 6은, 본 실시형태에 따른 유체 가열기를 도시하는 도면이다. 이 중, 도 1은 본 실시형태에 따른 유체 가열기의 구성의 개략을 도시하는 구성도이고, 도 2는 도 1에 도시하는 유체 가열기의 I-I라인을 따라 취하여 화살표 방향에서 본 단면도이다. 또한, 도 3은 도 1 및 도 2에 도시하는 유체 가열기의 유로관의 내부에 마련된 충전재의 구성을 도시하는 설명도이다. 또한, 도 4는 도 1 및 도 2에 도시하는 유체 가열기의 유로관의 내부에 마련된 충전재의 다른 구성을 도시하는 설명도이다. 또한, 도 5는 본 실시형태에 따른 유체 가열기의 가열부의 다른 구성의 개략을 도시하는 구성도이고, 도 6은 본 실시형태에 따른 유체 가열기의 가열부의 또 다른 구성의 개략을 도시하는 구성도이다.

본 실시형태에 따른 유체 가열기(20)는, 액체나 기체로 이루어지는 유체의 가열을 행하는 것이다. 이 유체 가열기(20)는, 통형 용기(22)와, 이 통형 용기(22)의 내부에 마련되고, 가열 대상의 유체가 흐르는 예컨대 스테인리스관으로 이루어지는 유로관(26)과, 유로관(26)을 가열하는 할로겐 램프 히터(가열부)(23)와, 유로관(26)의 내부에 마련된 다수의 충전재(30)를 구비하고 있다. 이하, 이러한 유체 가열기(20)의 각 구성 요소의 상세에 대해서 서술한다.

도 1 및 도 2에 도시하는 바와 같이, 통형 용기(22)의 중심의 부위에 있어서 그 통형 용기(22)의 길이 방향(도 1의 좌우 방향)을 따라 할로겐 램프 히터(23)가 대략 직선형으로 연장되어 있다. 그리고, 유로관(26)은, 할로겐 램프 히터(23)를 포위하도록 마련되고, 그 중심이 할로겐 램프 히터(23)의 중심과 대략 일치하는 나선 형상으로 되어 있다. 상술한 바와 같이, 이 유로관(26)은 예컨대 스테인리스관으로 이루어진다.

통형 용기(22)의 내주면에는 단열재(21)가 부착되어 있다. 또한, 통형 용기(22)의 양 개구 단부는, 각각 단열재(21)를 고정한 단부 부재(22a, 22b)에 의해 폐색되어 있다.

도 1에 도시하는 바와 같이, 유로관(26)의 일단은, 통형 용기(22)의 한쪽의 단부 부재(22a)를 관통하여 유체의 유입구(24)를 형성하고, 타단은 통형 용기(22)의 다른쪽의 단부 부재(22b)를 관통하여 유체의 유출구(25)를 형성하고 있다. 이 경우, 나선 형상의 유로관(26)을, 할로겐 램프 히터(23)로부터의 복사광을 외측으로 새게 하지 않을 정도로 서로 근접하여 배열해도 되고, 가열 효율을 높이기 위해서 서로 접촉하여 배열해도 된다.

유로관(26)의 유출구(25)측 부근에는, 할로겐 램프 히터(23)에 의해 가열되어 유출구(25)를 통하여 유출되는 유체의 온도를 검출하는 온도 센서(29)가 배치되어 있다. 또한, 할로겐 램프 히터(23)에는, 이 할로겐 램프 히터(23)의 발열량을 조정하는 전류 조정기(40)가 접속되어 있다. 도 1에 도시하는 바와 같이, 이들 온도 센서(29)와 전류 조정기(40)는 각각 제어부(50)에 전기적으로 접속되어 있으며, 온도 센서(29)에 의해 검출된 온도가 제어부(50)에 전달되고, 제어부(50)로부터의 제어 신호가 전류 조정기(40)에 전달되어, 가열된 유체가 미리 정해진 온도로 유지되도록 전류 조정기(40)의 제어가 행해지도록 되어 있다.

또한, 도 1 및 도 2에 도시하는 바와 같이, 유로관(26)의 내부에는 다수의 충전재(30)가 충전되어 있다. 각 충전재(30)는 각각 도열성(導熱性)의 재료, 구체적으로는 예컨대 구리, 금, 은 등의 금속, 실리콘, 세라믹 또는 이들의 혼합물로 구성되어 있다.

각 충전재(30)의 형상에 대해서 도 3을 이용하여 상세히 서술한다. 도 3의 (a) 내지 (f)는, 각각 충전재(30)의 여러 가지 형상을 도시하는 상면도 및 측면도이다.

도 3의 (a)에 도시하는 바와 같이, 충전재(30)는 중실(中實)의 구형의 것이어도 된다. 또한, 도 3의 (b)에 도시하는 바와 같이, 충전재(30)는 메시형의 구형의 것이어도 된다. 도 3의 (b)에 도시하는 바와 같은 충전재(30)에 있어서는, 메시는 구형의 내부까지 메워져 있다. 또한, 도 3의 (c)에 도시하는 바와 같이, 충전재(30)는, 내부에 공간이 마련된 메시형의 구형의 것이어도 된다. 또한, 도 3의 (d)에 도시하는 바와 같이, 충전재(30)는 중실의 원기둥형의 것이어도 된다. 또한, 도 3의 (e)에 도시하는 바와 같이, 충전재(30)는 원통형의 것이어도 된다. 또한, 도 3의 (f)에 도시하는 바와 같이, 충전재(30)는 섬유형의 것으로 구성되어 있어도 된다. 또한, 충전재(30)의 형상은 도 3의 (a) 내지 도 3의 (f)에 도시하는 것으로 한정되는 일은 없고, 도 3의 (a) 내지 도 3의 (f) 이외의 형상의 것으로 되어 있어도 된다.

또한, 도 4에 도시하는 바와 같이, 다수의 충전재(30)를 유로관(26)의 내부에 충전하는 대신에, 1개의 나선 형상의 충전재(32)를 유로관(26)의 내부에 마련해도 된다. 도 4에 도시하는 바와 같은, 나선 형상의 충전재(32)가 내부에 마련된 나선 형상의 유로관(26)을 갖는 유체 가열기(20A)의 제조 방법에 대해서 이하에 설명한다.

도 4에 도시하는 바와 같은 구조의 유체 가열기(20A)를 제조할 때에, 먼저 대략 직선형의 유로관(26)을 준비한다. 다음으로, 유로관(26)의 내부에, 대략 직선형의 충전재(32)를 그 유로관(26)을 따라 충전한다. 그리고, 충전재(32)가 충전된 유로관(26)을 나선 형상으로 변형시킨다. 여기서, 대략 직선형의 유로관(26)을 나선 형상으로 변형시킬 때에, 이 유로관(26)의 내부에 충전된 충전재(32)도 나선 형상으로 변형된다. 마지막으로, 나선 형상의 유로관(26)에 포위되도록, 대략 직선형으로 연장되는 할로겐 램프 히터(23)를 나선 형상의 유로관(26)의 내부에 설치한다. 이렇게 해서, 도 4에 도시하는 바와 같은 구조의 유체 가열기(20A)가 얻어진다.

또한, 도 1 내지 도 3에 도시하는 충전재(30)나, 도 4에 도시하는 충전재(32)는, 불소 수지에 의해 코팅되어 있는 것이 바람직하다. 충전재(30) 등이 구리, 금, 은 등의 금속으로 구성되어 있는 경우, 이 충전재(30) 등을 불소 수지에 의해 코팅함으로써, 충전재(30) 등이 유로관(26)의 내벽에 충돌함으로 인하여 이 충전재(30) 등으로부터 금속 파티클이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 충전재(30) 등은, 불소 수지에 의해 유로관(26)의 내벽에 고정되는 것이 보다 바람직하다. 이것에 의해, 충전재(30) 등이 유로관(26) 내에서 움직이는 것을 방지할 수 있다.

이하에서, 도 1 내지 도 3에 도시하는 충전재(30)나, 도 4에 도시하는 충전재(32)에 불소 수지를 코팅하는 방법에 대해서, 일본 특허 공개 소화 제53-132035호 공보(JP53-132035A)를 참조하여 설명한다. 먼저, 충전재(30)나 충전재(32)를, 유로관(26)의 내부에 충전된 상태로 한다. 다음으로, 불소 수지의 분체를 대전시키면서 유동화한다. 그리고, 이 유동화된 불소 수지의 분체를 유로관(26)의 내부로 보내고, 충전재(30) 등의 표면에 정전적인 부착을 행하게 한다. 또는, 불소 수지의 분체를 공기 등의 기체와 함께 분출 노즐로부터 분출하고, 이 분출 노즐 부분에서 불소 수지의 분체를 대전시키며, 분출 노즐로부터 분출된 불소 수지의 분체를 유로관(26)의 내부로 보내어, 충전재(30) 등의 표면에 정전적인 부착을 행하게 해도 된다.

충전재(30)나 충전재(32)에 불소 수지를 코팅하는 또 다른 방법으로서는, 충전재(30) 등을 미리 불소 수지의 용융 온도 이상으로 예열해 두고, 이 예열된 충전재(30) 등에 불소 수지의 분체를 분무함으로써 부착시키는 방법이 고려된다. 또 다른 방법으로서는, 유동 침지법에 의해 충전재(30) 등에 불소 수지를 코팅하는 방법이 고려된다.

여기서, 상술한 바와 같은 코팅에 이용되는 불소 수지의 분체로서는, 예컨대 2 ㎛∼400 ㎛의 범위 내의 입자 직경 및 0.1 g/㎤∼1.2 g/㎤의 범위 내의 부피 밀도를 가지며, 입도 분포가 비교적 좁은 것을 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 불소 수지의 분체의 형상은 비교적 구형에 가까운 것이 바람직하다.

또한, 충전재(30)나 충전재(32)에 불소 수지를 코팅하는 또 다른 방법으로서는, 일본 특허 공개 제2007-179047호 공보(JP2007-179047A) 등에 나타내는 바와 같이, 충전재(30) 등의 외주면에 불소 수지의 피막을 용융 또는 소성에 의해 코팅하는 방법이 고려된다.

또한, 도 4에 도시하는 바와 같은 구조의 유체 가열기(20A)를 제조할 때에, 충전재(32)에 불소 수지를 코팅할 때에는, 먼저, 코팅 전의 충전재(32)가 충전된 유로관(26)을 나선 형상으로 변형시킨 후, 이 유로관(26)의 내부를 황산 등의 산성의 약액으로 세정한다. 이것에 의해, 유로관(26)을 나선 형상으로 변형할 때에 유로관(26)이나 충전재(32)로부터 발생하는 금속 파티클 등의 먼지를 제거할 수 있고 유로관(26)의 내벽의 표면 상태를 정돈할 수 있게 된다.

그리고, 유로관(26)의 내부를 산성의 약액으로 세정한 후, 상술한 방법에 의해 유로관(26) 내에 있는 충전재(32)를 불소 수지에 의해 코팅한다. 이때에, 충전재(32)를 불소 수지에 의해 유로관(26)의 내벽에 고정하도록 한다. 마지막으로, 나선 형상의 유로관(26)에 포위되도록, 대략 직선형으로 연장되는 할로겐 램프 히터(23)를 나선 형상의 유로관(26)의 내부에 설치한다.

그런데, 본 실시형태의 유체 가열기에 있어서, 유로관(26)을 가열하기 위한 가열부로서는, 도 1 및 도 2에 도시하는 바와 같은 할로겐 램프 히터(23)로 한정되는 일은 없다. 다른 가열부로서는, 예컨대 도 5에 도시하는 바와 같이, 유도 가열형 히터로 이루어지는 것을 이용해도 된다. 보다 구체적으로는, 나선 형상의 유로관(26)으로서 스테인리스관을 이용하고, 이 나선 형상의 유로관(26)의 주위에 절연체(33)를 사이에 두고 코일(34)을 마련하고 있다. 그리고, 고주파 전원(35)에 의해 코일(34)에 고주파를 인가함으로써, 나선 형상의 유로관(26)에 대하여 코일(34)의 자기장을 방해하는 방향(도 5의 좌측 방향)으로 유도기전력을 발생시키고, 유로관(26)에 유도 전류가 흐름으로써 그 줄열(Joule's Heat)에 의해 유로관(26)을 가열하도록 되어 있다. 이때에, 충전재(30)가 금속제의 것이면, 이 충전재(30)에도 유도 전류가 흘러, 그 줄열에 의해 충전재(30)가 가열되게 된다. 이와 같이 코일(34) 및 고주파 전원(35)으로 이루어지는 유도 가열형 히터를 이용함으로써, 유로관(26)의 가열을 행할 수 있고, 충전재(30)가 금속제의 것이면 이 충전재(30)의 가열도 행할 수 있다.

또한, 유로관(26)을 가열하기 위한 가열부의 또 다른 예로서는, 예컨대 도 6에 도시하는 바와 같이, 저항 가열식 히터로 이루어지는 것을 이용해도 된다. 보다 구체적으로는, 대략 직선형으로 연장되는 유로관(26)의 주위에 띠형의 리본 히터나 러버 히터(rubber heater), 튜브형의 세라믹 히터 등의 저항 가열식 히터(36)를 휘감는다. 이러한 저항 가열식 히터(36)는, 니크롬선 등의 발열 도체(36a)에 전류를 흘림으로써 발열을 행하도록 되어 있다. 여기서, 저항 가열식 히터(36)를 유로관(26)에 휘감는 경우에도, 유로관(26)과 저항 가열식 히터(36) 사이에 간극이 생기는 경우가 있기 때문에, 이 간극에 도열성을 갖는 부재(37)를 마련할 수도 있다.

이상과 같이 본 실시형태의 유체 가열기(20)에 따르면, 액체나 기체로 이루어지는 가열 대상의 유체가 흐르는 유로관(26)의 내부에, 하나 또는 복수의 충전재(30)가 마련되어 있다. 이 때문에, 유로관(26) 내를 흐르는 유체를 층류가 아니라 난류로 되게 하여, 유로관(26) 내를 흐르는 유체의 속도를 대략 균일하게 할 수 있다. 이 때문에, 유로관(26) 내에서 유체를 대략 균일하게 가열할 수 있게 된다. 또한, 충전재(30)를 유로관(26)의 내부에 마련함으로써 유로관(26) 내를 흐르는 유체에 접촉하는 가열 부분의 표면적이 커진다. 이 때문에, 유로관(26) 내를 흐르는 유체에 대한 열전달 효율을 크게 할 수 있게 된다.

또한, 충전재(30)는 도열성을 갖고 있기 때문에, 할로겐 램프 히터(23)에 의해 유로관(26)이 가열될 때에 충전재(30)도 충분히 가열되게 되어, 충전재(30)가 갖는 열이 유로관(26) 내를 흐르는 유체에 직접 전달되게 된다. 이 때문에, 유로관(26) 내를 흐르는 유체에 대한 가열 정도를 보다 한층 크게 할 수 있다. 도열성을 갖는 충전재(30)로서는, 예컨대 구리, 금, 은 등의 금속, 실리콘, 세라믹 또는 이들의 혼합물 등을 들 수 있으나, 이러한 예에 한정되는 일은 없고, 도열성을 갖는 다른 부재를 이용해도 된다.

또한, 충전재(30)는 불소 수지에 의해 코팅된 것이기 때문에, 충전재(30)가 구리, 금, 은 등의 금속으로 구성되어 있는 경우에는, 충전재(30)가 유로관(26)의 내벽에 충돌함으로써 이 충전재(30)로부터 금속 파티클이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 충전재(30)가 불소 수지에 의해 유로관(26)의 내벽에 고정되어 있는 경우에는, 충전재(30)가 유로관(26) 내에서 움직이는 것을 방지할 수 있다.

또한, 본 발명에 있어서는, 충전재(30)가 도열성을 갖는 것에 한정되는 일은 없다. 충전재(30)로서, 예컨대 발포 스티롤이나 수지를 이용해도 된다.

또한, 충전재(30)의 형상을 구형, 원기둥형 또는 원통형으로 함으로써, 유로관(26) 내를 흐르는 유체에 대한 충전재(30)의 접촉 면적을 크게 할 수 있고, 유로관(26) 내를 흐르는 유체에 접촉하는 가열 부분의 표면적도 커진다. 또한, 충전재(30)로서 섬유형 또는 메시형의 것을 이용한 경우라도, 유로관(26) 내를 흐르는 유체에 대한 충전재(30)의 접촉 면적을 크게 할 수 있고, 유로관(26) 내를 흐르는 유체에 접촉하는 가열 부분의 표면적도 커진다. 그러나, 충전재(30)의 형상은 상술한 바와 같은 것에 한정되는 일은 없다.

또한, 유로관(26)이 나선 형상의 것이기 때문에, 유로관(26)이 대략 직선형인 경우와 비교하여 그 유로관(26)이 차지하는 스페이스를 작게 할 수 있고, 유체 가열기(20)를 보다 콤팩트한 것으로 할 수 있다.

다음으로, 도 1 등에 도시하는 바와 같은 유체 가열기(20)를 구비한 기판 처리 장치(60)에 대해서 도 7을 이용하여 설명한다. 도 7은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 기판 처리 장치(60)의 구성의 개략을 도시하는 구성도이다.

도 7에 도시하는 기판 처리 장치(60)는, 반도체 웨이퍼(W)(이하, 간단히 「웨이퍼」라고도 함)의 약액 처리나 세정 처리를 행하는 액 처리부(62)와, 액 처리부(62)의 상방에 마련되고, 이 액 처리부(62)에서의 세정 처리가 종료된 웨이퍼(W)의 건조를 행하는 건조 처리부(61)를 구비하고 있다. 여기서, 액 처리부(62)는, 웨이퍼(W)에 대하여 미리 정해진 약액[예컨대, 희불산 수용액(DHF), 암모니아-과산화수소수(APF), 황산-과산화수소수(SPM) 등]에 의한 처리를 행하고, 그 후에 순수(DIW)에 의해 세정 처리를 행하도록 되어 있다. 또한, 기판 처리 장치(60)는, 복수(예컨대 50장)의 웨이퍼(W)를 유지할 수 있는 웨이퍼 가이드(64)를 구비하고 있다. 이 웨이퍼 가이드(64)는, 액 처리부(62)와 건조 처리부(61) 사이에서 이동(승강) 가능하게 되어 있다. 기판 처리 장치(60)의 상방에는 팬 필터 유닛(FFU, 도시하지 않음)이 배치되어 있고, 이 팬 필터 유닛에 의해 기판 처리 장치(60)에 청정한 공기가 다운플로우로서 공급되도록 되어 있다.

도 7에 도시하는 바와 같이, 액 처리부(62)는 약액이나 순수를 저류하는 저류조(69)를 갖고 있다. 이 저류조(69)에 약액과 순수가 교대로 저류되고, 웨이퍼(W)를 약액이나 순수에 침지함으로써 웨이퍼(W)의 약액 처리나 세정 처리를 각각 행하도록 되어 있다.

건조 처리부(61)에는, 웨이퍼(W)를 수용하기 위한 챔버(65) 및 챔버(65)를 내부에 형성하는 챔버벽(67)이 마련되어 있다.

액 처리부(62)에 마련된 저류조(69) 근방의 분위기와, 건조 처리부(61)에 마련된 챔버(65)의 분위기는, 이들의 중간에 수평 방향으로 슬라이드 가능하게 배치된 셔터(63)에 의해 격리하거나, 또는 연통(連通)시킬 수 있도록 되어 있다. 이 셔터(63)는, 액 처리부(62)의 저류조(69)에서 액 처리를 행할 때와, 저류조(69)와 챔버(65) 사이에서 웨이퍼(W)를 웨이퍼 가이드(64)에 의해 이동시킬 때에는, 셔터 박스(66)에 수용되어, 저류조(69) 근방의 분위기와 챔버(65)의 분위기가 연통 상태가 된다. 한편, 셔터(63)를 챔버(65) 바로 아래에 배치한 상태에서는, 셔터(63)의 상면에 마련된 시일 링(63a)이 챔버벽(67)의 하단에 접촉함으로써, 챔버(65)의 하면 개구가 기밀하게 폐색되도록 되어 있다.

챔버(65)의 내부에는, 수증기와 IPA(이소프로필알코올)의 증기를 혼합하여 또는 단독으로 챔버(65) 내에 공급하기 위한 유체 노즐(70)이 배치되어 있다. 유체 노즐(70)에는 배관(80)이 접속되어 있고, 배관(80)은 도중에서 배관(80a, 80b)으로 분기되며, 각각 순수 공급원(91) 및 IPA 공급원(92)에 접속되어 있다. 그리고, 배관(80a)에 마련된 개폐 밸브(82)를 개방하고, 유량 제어 밸브(85)를 조작함으로써 미리 정해진 유량의 순수가 유체 가열기(20)에 보내지고, 이 유체 가열기(20)에 의해 순수가 가열됨으로써 수증기가 생성된다. 마찬가지로, 배관(80b)에 마련된 개폐 밸브(83)를 개방하고, 유량 제어 밸브(86)를 조작함으로써 미리 정해진 유량의 IPA의 액체가 유체 가열기(20)에 보내지고, 이 유체 가열기(20)에 의해 IPA의 액체가 가열됨으로써 IPA의 증기가 생성된다. 이들 수증기 및 IPA 증기는 단독으로, 또는 배관(80)에서 혼합되어, 유체 노즐(70)로부터 챔버(65) 내에 분사된다.

또한, 챔버(65)의 내부에는, 미리 정해진 온도로 가열된 N₂ 가스(질소 가스)를 챔버(65) 내에 분사하기 위한 N₂ 가스 노즐(71)이 마련되어 있다. 도 7에 도시하는 바와 같이, N₂ 가스 공급원(93)으로부터는 실온의 N₂ 가스가 개폐 밸브(84)를 개방함으로써 유체 가열기(20)에 공급되도록 되어 있다. 그리고, 유체 가열기(20)에 의해 N₂ 가스가 미리 정해진 온도로 가열되고, 이 가열된 N₂ 가스를 N₂ 가스 공급 라인(81)을 통해 N₂ 가스 노즐(71)로부터 챔버(65) 내에 분사시킬 수 있도록 되어 있다.

또한, 챔버(65)의 내부에는, 챔버(65) 내의 분위기 가스를 배출하기 위한 배기 노즐(72)이 마련되어 있다. 이 배기 노즐(72)에는, 챔버(65) 내로부터의 자연 배기를 행하기 위한 자연 배기 라인과, 챔버(65) 내로부터의 강제 배기를 행하기 위한 강제 배기 라인이 마련되어 있다.

또한, 기판 처리 장치(60)에는, 상술한 각 구성 요소의 제어를 행하는 제어부(99)가 마련되어 있다. 이 제어부(99)는, 기판 처리 장치(60)의 각 구성 요소에 접속되어, 각 구성 요소의 동작[구체적으로는, 예컨대 챔버벽(67)의 덮개 부분의 승강, 웨이퍼 가이드(64)의 승강, 셔터(63)의 슬라이드, 각 밸브(82, 83, 84, 85, 86)의 개폐 등]을 제어하도록 되어 있다. 본 실시형태에 있어서, 제어부(99)에는, 공정 관리자가 기판 처리 장치(60)를 관리하기 위해서 커맨드의 입력 조작 등을 행하는 키보드나, 기판 처리 장치(60)의 가동 상황을 가시화하여 표시하는 디스플레이 등으로 이루어지는 데이터 입출력부(97)가 접속되어 있다. 또한, 제어부(99)에는, 기판 처리 장치(60)에서 실행되는 각종 처리를 제어부(99)에 의한 제어로 실현하기 위한 제어 프로그램이나, 처리 조건에 따라 기판 처리 장치(60)의 각 구성 요소에 처리를 실행시키기 위한 프로그램(즉, 레시피)이 기억된 기억 매체(98)가 접속되어 있다. 기억 매체(98)는, ROM이나 RAM 등의 메모리, 하드디스크, CD-ROM, DVD-ROM 등의 디스크형 기억 매체, 그 외의 공지된 기억 매체로 구성될 수 있다.

그리고, 필요에 따라, 데이터 입출력부(97)로부터의 지시 등에 의해 임의의 레시피를 기억 매체(98)로부터 호출하여 제어부(99)에 실행시킴으로써, 제어부(99)의 제어하에서, 기판 처리 장치(60)에서의 원하는 처리가 행해진다.

다음으로, 상술한 바와 같은 기판 처리 장치(60)를 이용한 웨이퍼(W)의 처리 방법에 대해서 설명한다. 또한, 이하에 나타내는 바와 같은 일련의 약액 처리, 세정 처리 및 건조 처리는, 기억 매체(98)에 기억된 프로그램(레시피)에 따라, 제어부(99)가 기판 처리 장치(60)의 각 구성 요소를 제어함으로써 행해진다.

처음에, 액 처리부(62)의 저류조(69)와 건조 처리부(61)의 챔버(65)를 셔터(63)에 의해 격리하고, 또한, 챔버(65) 내를 N₂ 가스로 채우며, 또한 그 내부 압력이 대기압과 동일한 상태로 한다. 한편, 저류조(69)에 미리 정해진 약액을 저류한다. 이 상태에서, 웨이퍼 가이드(64)는 건조 처리부(61)의 챔버(65) 내에 배치되어 있다.

그리고, 챔버(65) 내에의 N₂ 가스의 공급을 정지시키고, 외부의 기판 반송 장치(도시하지 않음)로부터 웨이퍼 가이드(64)에 50장의 웨이퍼(W)를 전달한다. 그 후, 배기 노즐(72)로부터 강제 배기를 행하면서, 액 처리부(62)의 저류조(69)와 건조 처리부(61)의 챔버(65)가 연통되도록 셔터(63)를 슬라이드시킨다.

계속해서 웨이퍼 가이드(64)를 강하시켜, 유지한 웨이퍼(W)를 저류조(69)에 저류된 약액에 미리 정해진 시간 동안 침지시킨다. 이 약액에 의한 웨이퍼(W)의 처리가 종료되면, 웨이퍼(W)를 저류조(69) 내에 침지시킨 채, 순수를 저류조(69) 내에 공급하여, 저류조(69) 내의 약액을 순수로 치환하고, 웨이퍼(W)의 세정 처리를 행한다. 또한, 저류조(69)에 있어서 약액으로부터 순수로의 치환은, 배액관(排液管; 69a)을 통해 저류조(69)로부터 약액을 배출하고, 그 후에 저류조(69)에 순수를 공급함으로써 행해도 된다.

여기서, 상술한 바와 같은 웨이퍼(W)의 약액 처리나 세정 처리를 행하는 동안에, 각 유체 가열기(20)에 있어서, 도열성의 충전재(30)를 미리 할로겐 램프 히터(23)에 의해 가열해 둔다. 구체적으로는, 유로관(26)을 미리 할로겐 램프 히터(23)에 의해 가열함으로써, 이 유로관(26)이 고온 상태가 되어, 이 유로관(26)에 의해 충전재(30)도 가열되게 된다.

웨이퍼(W)의 약액 처리 및 세정 처리가 종료되면, 챔버(65)로부터의 배기를 강제 배기 라인으로부터 자연 배기 라인으로 전환하고, 미리 정해진 온도로 가열된 N₂ 가스를 N₂ 가스 노즐(71)로부터 챔버(65) 내에 공급하여, 챔버(65) 내를 가열된 N₂ 가스 분위기로 유지한다. 이것에 의해, 챔버(65) 내가 따뜻해지고 챔버벽(67)이 따뜻해지며, 이후에 IPA 증기를 챔버(65) 내에 공급했을 때에, 챔버벽(67)에서의 IPA 증기의 결로를 억제할 수 있다.

그리고, 챔버(65) 내에 가열된 N₂ 가스의 공급을 행한 후에, 유체 노즐(70)에 의해 챔버(65) 내에 수증기의 공급을 행한다. 이것에 의해, 챔버(65) 내가 수증기 분위기로 채워진다. 그 후, 웨이퍼(W)를 챔버(65) 내에 수용하기 위해서, 웨이퍼 가이드(64)를 끌어 올리기 시작한다. 여기서, 웨이퍼(W)는 수증기로 채워져 있는 공간으로 끌어 올려지기 때문에 건조되지 않으므로, 이 단계에서 웨이퍼(W)에 워터마크가 형성되는 일은 없다.

웨이퍼(W)가 챔버(65)에 수용되는 위치까지 상승하면 웨이퍼 가이드(64)를 끌어올리는 것을 정지시키고, 셔터(63)를 폐쇄하여 저류조(69)와 챔버(65)를 격리한다. 그리고, 웨이퍼(W)를 챔버(65) 내의 미리 정해진 위치에 유지하면, 유체 노즐(70)에 의해 챔버(65) 내에의 IPA 증기의 공급을 개시한다. 이것에 의해, 웨이퍼(W)의 표면에 부착되어 있는 순수가 IPA로 치환된다. 이때, 웨이퍼(W)의 표면의 액의 표면 장력의 변화가 완만하기 때문에, 액막의 두께에 불균일이 발생하는 일이 없고, 웨이퍼(W)에 마련된 회로 패턴의 볼록부에 가해지는 표면 장력의 밸런스도 무너지기 어렵기 때문에, 패턴 쓰러짐의 발생을 방지할 수 있다. 또한, 이와 같이 웨이퍼(W) 면내에서 실질적으로 동시에 건조를 행함으로써, 워터마크의 형성을 억제할 수 있다.

미리 정해진 시간, IPA 증기를 공급함으로써 웨이퍼(W)의 표면에 IPA의 액막이 형성되면, 챔버(65) 내에의 IPA 증기의 공급을 정지하고, 계속해서 웨이퍼(W)의 건조 처리를 행한다. 이 건조 처리는, 예컨대, 미리 정해진 온도로 가열된 N₂ 가스를 챔버(65) 내에 공급하여 웨이퍼(W)의 표면으로부터 IPA를 휘발, 증발시키고, 그 후에 실온의 N₂ 가스를 챔버(65) 내에 공급하여 웨이퍼(W)를 미리 정해진 온도로 냉각한다고 하는 순서에 의해 행할 수 있다.

또한, 이러한 건조 처리에 있어서, 웨이퍼(W)의 표면의 IPA를 균일하게 휘발시킴으로써, 웨이퍼(W)에 마련된 회로 패턴의 볼록부에 가해지는 표면 장력의 밸런스가 무너지기 어렵고, 이에 따라 패턴 쓰러짐의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 웨이퍼(W)의 표면에 IPA만이 존재하는 상태로부터 건조를 행하기 때문에, 워터마크의 형성도 억제할 수 있다.

웨이퍼(W)의 건조가 종료되면, 외부로부터 도시하지 않은 기판 반송 장치가 웨이퍼 가이드(64)에 액세스하여, 웨이퍼(W)를 기판 처리 장치(60)로부터 반출한다. 이렇게 해서, 기판 처리 장치(60)에서의 일련의 웨이퍼(W)의 처리가 종료된다.

상술한 바와 같은 기판 처리 방법에 따르면, 웨이퍼(W)를 챔버(65) 내에 수용하기 전에 있어서, 웨이퍼(W)의 약액 처리나 세정 처리를 행하는 동안에 유체 가열기(20)의 충전재(30)를 미리 가열해 두고, 그 후, 충전재(30)가 미리 가열된 유체 가열기(20)에 대하여 IPA의 액체를 공급하며, 이 유체 가열기(20)에 의해 IPA의 액체를 가열하여 IPA 증기를 생성하고, 웨이퍼(W)가 수용된 챔버(65) 내에 IPA 증기를 공급함으로써 웨이퍼(W)의 건조를 행하고 있다. 이와 같이, 웨이퍼(W)에 대하여 건조 처리 이외의 다른 처리(예컨대, 약액 처리나 세정 처리)를 행하는 동안에 유체 가열기(20)에 있어서 충전재(30)를 미리 가열해 둠으로써, IPA 증기를 신속하게 생성할 수 있게 되어, 웨이퍼(W)에 대한 건조 처리를 보다 신속하게 행할 수 있게 된다.

Claims

유체의 가열을 행하는 유체 가열기로서,
가열 대상의 유체가 흐르는 유로관과,
상기 유로관을 가열하는 가열부와,
상기 유로관의 내부에 마련된 하나 또는 복수의 충전재
를 구비한 것을 특징으로 하는 유체 가열기.
제1항에 있어서, 상기 충전재는 도열성(導熱性)을 갖는 것을 특징으로 하는 유체 가열기.
제2항에 있어서, 상기 충전재는 금속, 실리콘, 세라믹 또는 이들의 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유체 가열기.
제1항에 있어서, 상기 충전재는, 불소 수지에 의해 코팅된 것을 특징으로 하는 유체 가열기.
제4항에 있어서, 상기 충전재는, 상기 불소 수지에 의해 상기 유로관의 내벽에 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 유체 가열기.
제1항에 있어서, 상기 충전재의 형상은 구형, 원기둥형 또는 원통형인 것을 특징으로 하는 유체 가열기.
제1항에 있어서, 상기 충전재는 중실(中實) 또는 중공의 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 유체 가열기.
제1항에 있어서, 상기 충전재는 섬유형 또는 메시형의 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 유체 가열기.
제1항에 있어서, 상기 유로관은 나선 형상의 것으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유체 가열기.
제1항에 있어서, 상기 가열부는 램프 히터를 포함하는 것을 특징으로 하는 유체 가열기.
제1항에 있어서, 상기 가열부는 유도 가열형 히터를 포함하는 것을 특징으로 하는 유체 가열기.
제1항에 있어서, 상기 가열부는 저항 가열식 히터를 포함하는 것을 특징으로 하는 유체 가열기.
유체의 가열을 행하는 유체 가열기의 제조 방법으로서,
직선형의 유로관을 준비하는 공정과,
상기 유로관의 내부에 하나 또는 복수의 충전재를 충전하는 공정과,
하나 또는 복수의 충전재가 충전된 유로관을 나선 형상으로 변형시키는 공정과,
상기 유로관을 가열하는 가열부를 설치하는 공정
을 포함하는 것을 특징으로 하는 유체 가열기의 제조 방법.
제13항에 있어서, 상기 유로관의 내부에 충전재를 충전하는 공정 후에, 상기 충전재에 불소 수지를 코팅하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 유체 가열기의 제조 방법.
제14항에 있어서, 상기 충전재에 불소 수지를 코팅하는 공정은, 상기 유로관을 나선 형상으로 변형시키는 공정 후에 행해지는 것을 특징으로 하는 유체 가열기의 제조 방법.
제15항에 있어서, 상기 유로관을 나선 형상으로 변형시키는 공정 후이며, 상기 충전재에 불소 수지를 코팅하는 공정 전에, 상기 유로관 내를 약액으로 세정하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 유체 가열기의 제조 방법.
제16항에 있어서, 상기 약액은 산성의 약액인 것을 특징으로 하는 유체 가열기의 제조 방법.
제13항에 있어서, 상기 충전재의 형상은 직선형으로 되어 있고,
상기 유로관을 나선 형상으로 변형시킬 때에, 이 유로관의 내부에 충전된 충전재도 나선 형상으로 변형되는 것을 특징으로 하는 유체 가열기의 제조 방법.
기판의 처리를 행하는 기판 처리 장치로서,
휘발성을 갖는 유기 용제의 액체를 공급하는 공급원과,
상기 공급원에 의해 공급되는 유기 용제의 액체를 가열하여 유기 용제의 증기를 생성하는 제1항에 기재된 유체 가열기와,
기판을 수용하고, 이 수용된 기판의 건조를 행하는 챔버이며, 상기 유체 가열기에 의해 생성된 유기 용제의 증기가 공급되는 챔버
를 구비한 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
기판의 건조를 행하는 기판 처리 방법으로서,
기판을 챔버 내에 수용하기 전에, 제1항에 기재된 유체 가열기에서의 충전재를 미리 가열하는 공정과,
충전재가 미리 가열된 상기 유체 가열기에 휘발성을 갖는 유기 용제의 액체를 공급하고, 이 유체 가열기에 의해 유기 용제의 액체를 가열하여 유기 용제의 증기를 생성하는 공정과,
기판이 수용된 챔버 내에 유기 용제의 증기를 공급함으로써 기판을 건조하는 공정
을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.