KR101107077B1 - 플라즈마 세정 장치 - Google Patents
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- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
- B08B7/0035—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by radiant energy, e.g. UV, laser, light beam or the like
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Abstract
Description
도2는 도1에서 플라즈마 세정되는 이차 전지의 분해 사시도이다.
도3은 도2의 Ⅲ-Ⅲ 선을 따라 자른 단면도이다.
도4는 도1의 제1, 제2 플라즈마 헤드와 리드탭의 배치 상태를 도시한 사시도이다.
도5는 도4의 제1, 제2 플라즈마 헤드의 단면도이다.
20 : 캔 30 : 캡 조립체
100 : 이차 전지 200 : 챔버
300 : 플라즈마 헤드 400 : 간격 조절부
500 : 배기 덕트 310, 320 : 제1, 제2 플라즈마 헤드
311, 321 : 덕트 312, 322 : 양전극
313, 323 : 음전극 314, 324 : 가이드
315, 325 : 방출구 316, 326 : 세라믹 단부
410, 420 : 제1, 제2 간격 조절부 411, 421 : 제1, 제2 브래킷
412, 422 : 제1, 제2 리드 스크류 600 : 높이 조절부
610 : 지지대 620 : 회전 지지부
630 : 리드 스크류 G1, G2 : 제1, 제2 간격
Claims (9)
- 대기압 공간을 형성하는 챔버;
상기 챔버에 내장되고, 대기압 플라즈마를 발생하여, 상기 챔버에 제공되는 이차 전지를 향하여 상기 대기압 플라즈마를 방출하여 적어도 상기 이차 전지의 일부를 세정하는 플라즈마 헤드;
상기 플라즈마 헤드에 설치되어 상기 이차 전지의 일부와 상기 플라즈마 헤드 사이의 간격을 조절하는 간격 조절부; 및
상기 플라즈마 헤드의 일측에 구비되어 상기 챔버의 외부로 연결되어 세정시 발생되는 가스를 배출하는 배기 덕트를 포함하며,
상기 플라즈마 헤드는,
상기 이차 전지의 양측에 서로 마주하여 배치되는 제1 플라즈마 헤드와 제2 플라즈마 헤드를 포함하고,
상기 간격 조절부는,
상기 제1 플라즈마 헤드를 지지하여 상기 챔버에 설치되어 상기 제1 플라즈마 헤드와 상기 이차 전지 사이의 간격을 조절하는 제1 간격 조절부와
상기 제2 플라즈마 헤드를 지지하여 상기 챔버에 설치되어 상기 제2 플라즈마 헤드와 상기 이차 전지 사이의 간격을 조절하는 제2 간격 조절부를 포함하는
플라즈마 세정 장치. - 삭제
- 삭제
- 제1 항에 있어서,
상기 제1 플라즈마 헤드와 상기 제2 플라즈마 헤드 사이의 수직 하방에 설치되어, 상기 제1 플라즈마 헤드와 상기 제2 플라즈마 헤드 사이에서 상기 이차 전지의 높이를 조절하는 높이 조절부를 더 포함하는 플라즈마 세정 장치. - 제1 항에 있어서,
상기 제1 플라즈마 헤드와 상기 이차 전지의 일부 사이의 제1 간격 및
상기 제2 플라즈마 헤드와 상기 이차 전지의 일부 사이의 제2 간격은
각각 2 내지 4mm 범위를 포함하는 플라즈마 세정 장치. - 제1 항에 있어서,
상기 플라즈마 헤드는,
소스 가스를 공급하는 덕트,
상기 덕트의 일측에 구비되어 상기 덕트에 연결되어 서로 마주하는 양전극과 음전극,
상기 양전극과 상기 음전극의 내표면에 형성되어 통로를 형성하는 가이드, 및
상기 양전극, 상기 음전극 및 상기 가이드의 끝에서 상기 통로에 연결되는 방출구를 형성하는 세라믹 단부를 포함하는 플라즈마 세정 장치. - 제6 항에 있어서,
상기 가이드는,
상기 통로에 요철 구조를 형성하는 플라즈마 세정 장치. - 제6 항에 있어서,
상기 이차 전지에 연결되는 리드탭의 두께는 0.05 내지 0.15mm 이고,
상기 세라믹 단부와 상기 리드탭 사이의 간격은 2 내지 4mm 범위를 포함하는 플라즈마 세정 장치. - 제6 항에 있어서,
상기 이차 전지의 캔의 두께는 0.3내지 0.4mm이고,
상기 세라믹 단부와 상기 캔 사이의 간격은 2 내지 4mm 범위를 포함하는 플라즈마 세정 장치.
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KR20080060241A (ko) * | 2005-10-17 | 2008-07-01 | 오씨 외를리콘 발처스 악티엔게젤샤프트 | 원거리 플라즈마 소스를 이용한 대면적 pecvd 장치용클리닝 방법 |
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KR20050004995A (ko) * | 2003-07-01 | 2005-01-13 | 삼성전자주식회사 | 플라즈마를 이용하는 기판 가공 장치 |
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