KR101092096B1

KR101092096B1 - 방전 램프들의 제조 방법

Info

Publication number: KR101092096B1
Application number: KR1020107004697A
Authority: KR
Inventors: 로타르 히츠슈케; 프랭크 볼콤머
Original assignee: 오스람 아게
Priority date: 2007-08-01
Filing date: 2007-08-01
Publication date: 2011-12-12
Also published as: US20100159780A1; WO2009015694A1; JP5235995B2; EP2171741B1; CN101765898A; DE502007005808D1; JP2010534918A; US8123583B2; TW200919535A; ATE489721T1; EP2171741A1; KR20100040950A

Abstract

본 발명은 2-단계 충진 프로세스를 이용하여 방전 램프를 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.

Description

방전 램프들의 제조 방법{PRODUCTION METHOD FOR DISCHARGE LAMPS}

본 발명은 방전 램프를 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.

방전 램프들은 방전 가스를 포함하는 폐쇄된 방전관을 갖는다. 따라서, 방전 램프들을 제조하기 위한 방법은 상기 방전 가스의 유입 및 상기 방전관의 실링을 포함한다.

방전 가스 대기 하의 진공 로(vacumm furnace)에서 방전관 부분들을 조립하고 실링하는 것이 알려져 있다. 상기 방전 가스 대기가 형성되기 이전에, 상기 로로부터 원하지 않는 가스들 및 상기 방전관 부분들로부터 흡착질들을 제거하기 위해서 상기 방전관 부분들을 에워싸는 상기 진공 로가 비워진다.

펌핑관을 이용하여 방전관들을 펌핑하고 그 후에 그들을 방전 가스로 채우는 것이 추가로 알려져 있다. 충진 이후에, 상기 펌핑관들은 종래에는 퓨징(fusing)에 의해 실링되고; 선택적으로, 돌출 부분들이 제거된다.

DE 101 47 727 A1은 방전관 부분들을 조립하고 상기 조립된 방전관들을 채우기 위한 연속 로를 개시한다. 이러한 경우에, 상기 방전관 부분들은 상기 방전 가스의 대기로 유입되어 이러한 대기에서 조립되는 동안 또한 실링된다.

DE 102 25 612 A1은 방전관 부분들을 조립 및 실링하기 위한 챔버를 개시한다. 상기 방전관 부분들을 둘러싸는 상기 챔버는 적절한 양의 압력 하에서 상기 방전 가스로 가득 채워지고, 그에 따라 상기 방전 가스가 상기 방전관 부분들 주변에서 플러싱(flushing)한다.

본 발명의 목적은, 상기 방전관을 채우고 폐쇄하는 것에 대해서 바람직한 방전 램프의 제조를 위한 방법을 제공하는 것이다.

본 발명은 방전 램프를 제조하기 위한 방법에 관한 것이고, 상기 방법은 단계들: 상기 방전 램프의 개방된 방전관을 조립하는 단계 및 제1 가스의 환경에서 상기 제1 가스로 상기 방전관을 채우는 단계를 갖고, 상기 방법은 이후의 단계: 상기 방전관의 외부 환경으로부터 분리된 공급 용기을 이용하여 상기 조립된 방전관에서 상기 제1 가스에 제2 가스를 부가하는 단계를 특징으로 한다.

바람직한 구성들은 종속항들의 청구 내용이고, 마찬가지로 이하에서 보다 상세하게 기술될 것이다.

본 발명은 펌핑관을 통해서 방전관을 펌핑하고 채우는 것이 큰 지출을 수반한다는 생각에 기초하고: 펌핑을 위해서는 특정한 시간이 필요하고, 원하는 순도를 성취하기 위해서는 상당한 펌핑 전력을 이용하는 것이 필수적이며, 그리고 대응하는 시스템들이 복잡하여 따라서 고가이다. 특히 큰 방전관들을 갖는 경우, 예컨대 긴 대각선을 갖는 평판 방사체에 대한 방전관들은, 상기 방전관의 큰 내부 표면(그 위에 흡착질이 흡착될 수 있음) 때문에 원하는 순도를 보장하는 것이 어렵다. 게다가, 일부 방전 램프들은 펌핑 동안에 파괴된다.

조립, 즉 방전관 부분들의 연결과 방전관들을 가스로 채우는 것이 동시에 수행될 수 있다는 개념에 의해서 본 발명이 부가로 동기부여된다.

마지막으로, 본 발명은, 방전 가스 대기에서 대응하게 채워지고 폐쇄되는 방전관들의 경우에, 예컨대 연속 로에서 네온/크세논 대기 하에서 방전 램프 부분들을 조립함으로써, 상기 방전 가스의 일부가 일반적으로 상기 환경으로 새어나가고 따라서 상실된다는 개념에 기초한다. 한편, 이것은 경제적으로 불리한데, 왜냐하면 방전 가스들, 예컨대 크세논에 대해 일반적으로 이용되는 가스들의 일부가 상기 제조 방법의 비용들에 상당히 기여하기 때문이다. 게다가, 상기 환경으로 새어나가는 성분들을 포함할 수 있는 상기 방전 가스는, 예컨대 화학적으로 매우 반응적이고, 환경적으로 해로우며 그리고/또는 독성 가스들의 경우에, 다른 이유들을 위해 방지되어야 한다. 상기 방전관에 유입되지 않는 가스를 수집하는 모으는 것과 그것을 재활용하는 것은 상당할 수 있는 추가적인 장비 지출을 필요로 한다.

언급한 바와 같이, 상기 방전 가스는 일반적으로 다수의 성분들, 예컨대 헬륨, 네온, 아르곤 및 크세논을 포함한다. 이제, 본 발명의 사상은 상기 방전 가스에 대해 최종적으로 원하는 상기 성분들을 제1 가스 및 제2 가스로 분할하고, 초기에는 제1 가스의 환경에서 개방된 방전관을 채우는 것이다. 상기 방전 관이 조립되고 적어도 부분적으로 폐쇄된 이후에, 제어된 방식으로 상기 방전관에 상기 제2 가스를 유입함으로써 상기 방전 가스가 최종적으로 완성된다.

제2의 충진 단계를 위해, 상기 방전관의 환경으로부터 분리되는 공급 용기이 이용되고, 즉 그것은 그 자체로서 상기 환경을 형성하지 않는다. 상기 방전관의 내부와 상기 방전관의 외부 환경의 교환이 여기에서는 이용되지 않지만, 대신에 상기 제2 가스가 특정한 용기으로 제한되고 그러므로 제어된 방식으로 유입된다. 여기서, 상기 환경은 따라서 상기 방전관의 내부 공간이 아닌 외부 환경을 의미하는 것으로 의도된다. 보다 상세하게 처리되는 각각의 경우에, 라인을 통해 상기 제2 가스를 공급하고 상기 라인을 상기 방전관의 대응하는 용기g opening)에 연결하는 모두, 그리고 또한 상기 방전관의 완전한 실링 이후에 분리된 용기을 개방함으로서 두 개의 가스들의 이후의 혼합에 대한 방전관으로 상기 제2 가스가 채워진 상기 분리된 용기을 맞추는 것이 실행가능하다. 제1의 경우에, 상기 공급 용기은 상기 방전관의 외부에 있지만, 그것의 환경의 작은 부분에만 있고 상기 환경의 나머지로부터 분리된다. 제2의 경우에, 그것은 상기 방전관에 놓이고 그러므로 로 경계에 의해서 상기 외부 환경으로부터 이미 분리된다. 두 경우들 모두에서 중요한 것은 상기 제2 가스가 과도한 양들이 아니라 제어된 방식으로, 즉, 상기 환경으로 상기 제2 가스가 확산되는 것을 방지하면서 유입된다는 것이다.

제1의 충진 단계 이후에 상기 조립체에 의해 상기 방전관이 바람직하게 완전히 밀폐되게 실링됨에도 불구하고, 이것이 꼭 그러하지는 않다. 예컨대, 폐쇄 이후에 비교적 작은 구멍이 상기 방전관에 남을 수 있고, 상기 제2 가스가 이러한 구멍을 통해서 유입된다. 하지만, 이러한 목적을 위해 상기 방전관이 재-개방될 수 있다. 대안적으로, 상기 방전관은 폐쇄되어 상기 제2 가스의 분리된 용기을 이미 포함할 수 있다.

전체적으로, 그러므로 본 발명은 상기 방전관의 전체 환경에서, 예컨대 연속 로에서 상기 제2 가스로 채우는 단계를 방지한다.

따라서, 상기 방전관의 화학적으로 문제가 없거나 또는 비교적 유리한 성분들을 상기 제1 가스에 부가하고 - 그리고 다른 성분들을 상기 제2 가스에 부가하는 것이 바람직하다.

상기 제2 가스의 임의의 손실 또는 확산이 작게 유지되거나 또는 심지어 방지될 수 있기 때문에, 어쩌면 상기 제2 가스의 성분들의 정교한 복구가 또한 회피될 수 있다.

따라서, 본 발명은 상기 제2 가스를 이용하여 특정한 방전 가스의 제어된 유입을 가능하게 한다. 본 발명에 따르면, 그러므로 상기 제2 가스 및 상기 제1 가스는 상이해야하고, 특히 상기 방전관의 전체 환경에서의 또는 그로부터의 충진이 유리한 성분들은 전체적으로 또는 적어도 실질적으로 상기 제1 가스에 할당되어야 하며, 제어된 유입이 특정한 장점인 다른 성분들이 대응하게 상기 제2 가스에 우세하게 할당되어야 한다. 이것은 또한 상기 방전 가스 성분들의 부분 압력의 도움으로 양자화될 수 있고: 상기 제2 가스가 상기 방전 가스에서의 부분 압력이 상기 제2 가스로 인해 적어도 70%인, 보다 바람직하게 적어도 90% 또는 심지어 98%인 성분을 포함하는 것이 바람직하다. 즉: 상기 방전 가스는 상기 제2 가스로의 충진 단계에 본질적으로 또는 거의 배타적으로 기인할 수 있는 적어도 하나의 성분을 포함하여야 한다.

조립 이전의 상기 방전관의 바람직하게 비교적 큰 개구부는 상기 제1 가스로 상기 방전관을 신속하게 채우는 것을 가능하게 하거나, 또는 특히 여전히 분리되는 방전관 부분들의 경우에는 심지어 상기 제1 가스로 플러싱한다. 상기 제1 가스를 이용한 상기 방전관의 그러한 플러싱으로 인해, 상기 방전관은 깨끗해질 수 있고 부가적인 오염물 ― 원하지 않는 가스들의 형태인 오염물들을 포함함 ― 이 부가로 방지될 수 있다. 진공 로의 경우와 같이 챔버의 정교한 배기(evacuation)가 여기서 회피될 수 있다.

가스 대기에서 방전관들이 충분히 폐쇄될 때에, 상기 방전관에서의 이러한 가스의 성분들의 부분 압력들은 폐쇄 동안의 상기 가스의 온도에 의존한다. 이러한 것에 기인하는 제조 허용오차(manufacturing tolerance)들이 상기 방전 가스의 특정한 성분들에 대해 방지하고자 의도되면, 이러한 성분들이 상기 제2 가스에 부가될 수 있다.

상기 방전관을 깨끗하게 하고 오염되지 않도록 하기 위해서, 상기 제1의 용기 단계를 위해 연속 로를 이용하는 한편 또한 연속 로에서 상기 제1 가스를 이용하는 것이 바람직하다. 이를 위해, 상기 방전관 주변의 상기 제1 가스의 흐름이 상기 연속 로에서 수립된다. 상기 제1 및 제2 가스들 사이의 상기 방전 가스 성분들의 분배에 종속하여, 상기 제1 가스의 복구가 실행될 필요가 없을 수도 있다 ― 심지어 높은 스루풋들로.

게다가, 시간 및 에너지의 관점에서 소모적인, 배치(batch) 방식으로 동작하는 로들이 그러한 것처럼, 연속 로들이 냉각 상태로부터 일정하게 과열될 필요는 없고; 이는 큰 램프들에 대한 큰 로들의 경우에 특히 사실이다.

상기 방전 가스는, 어려운 분광학에 의해서 상기 방전 가스를 분석하거나, 또는 심지어 그것을 예방하는 성분들을 포함할 수 있다. 공동-분석되도록 의도되지 않는 방전 가스 성분들은 상기 제2 가스와 함께 상기 방전관으로 유입될 수 있다. 일 구성에서, 상기 방전관에서의 상기 제1 가스의 스펙트럼 분석은 그러므로 상기 방전관을 적어도 부분적으로 폐쇄한 이후에 그리고 상기 제2 가스를 유입하기 이전에 실시된다. 이러한 상황에서, 예컨대 크세논/네온 혼합물의 경우에, 상기 크세논이 상기 제2 가스에 의해서 유입될 수 있다. 다른 광 희가스(noble gas)들과 유사하게, 네온은 크세논보다 실질적으로 높은 여기 에너지를 갖고 그에 따라 오염물들이 상기 방전 방사의 분광학에 의해서 검출될 수 있다. 그것의 상대적으로 낮은 여기 에너지 때문에, 크세논은 일반적으로 이것을 방해할 것이다.

예컨대, 제1의 충진 단계 이후에, 그러한 분광학 검사가 상기 로 외부의 보조 전극들, 예컨대 간단한 메탈 스트립들의 도움으로 로컬 방전을 점화시킴으로써 실시될 수 있다. 그 후에 상기 보조 전극들이 제조 프로세스의 나머지를 방해하지 않고 완성된 램프 상에서 존재하지 않도록, 상기 보조 전극들이 제거될 수 있다.

일 실시예에서, 상기 제2 가스는 충진 스파우트(filling spout)를 통해서 상기 방전관으로 유입된다. 예컨대, 상기 충진 스파우트는 상기 방전관을 폐쇄하기 이전에 이미 상기 방전관 부분 상에 적용될 수 있고, 특히 이러한 단계 이후뿐만 아니라 그 이전에 또한 실링될 수 있다. 대안적으로, 하지만, 스파우트는 또한 폐쇄 이후에 남아있는 상기 방전관의 구멍 상에서 위치할 수 있고, 상기 제2 가스는 이러한 구멍을 통해 유입될 수 있다. 그 결과로서, 이러한 스파우트는 예컨대 상기 방전관을 이용해 퓨징될 수 있다. 그 후에 상기 충진 스파우트는, 예컨대 그것을 파괴함으로써, 상기 제2의 충진 단계 이전에 개방될 수 있다.

본 발명의 다른 특정한 실시예에서, 상기 제2 가스의 앰풀(ampoule)이 상기 제1의 충진 단계 및 조립 동안에 상기 방전광으로 에워싸지고, 그 후에 개방된다. 이러한 방식으로, 상기 방전관에 유입된 상기 제2 가스의 양이 정확하게 제어될 수 있다.

상기 앰풀은 예컨대 레이저 또는 다른 전자기파들의 도움으로 파괴될 수 있다. 일단 그것이 개방되면, 상기 제2 가스는 상기 제1 가스와 혼합되어 상기 방전 가스를 형성한다.

상기 앰풀이 상기 방전관의 가장자리에서 지지되는(held) 것이 바람직하다. 상기 앰풀이 발광 영역의 외부에 있으면, 그것은 상기 방전 램프에 의해 전달되는 광을 방해하지 않을 것이다. 게다가, 특히 상기 방전관의 모서리 상에서, 상기 앰풀은 그것이 공간적으로 방전을 제한하지 않도록 지지될 수 있다. 바람직하게, 상기 언급된 진단들을 실시하는 것을 가능하게 하기 위해서, 코팅되지 않은 방전관 윈도우들, 특히 발광 물질의 층에서의 개구부들은 상기 앰풀에 대한 홀더와 동일한 영역 또는 그 옆에서 제공될 수 있다.

원칙적으로, 상기 제1 가스는 복구 절차의 대상일 수 있다. 하지만, 본 발명에 따른 2-단계 프로세스는 특히 상기 제1 가스가 바람직하게 보다 간단하게 처리될 수 있도록 가스들에 대한 상기 충진 프로세스를 제2 단계로서 실시하는 것을 가능하게 한다.

본 발명은 특히 소위 평판 방사체들의 제조에 관한 것이고, 상기 평판 방사체들은 방전관이 평편하고 그것의 두께에 대해 상대적으로 큰 포맷(format)을 갖도록 구성된다. 종래에는, 상기 평판 방사체의 긴 측면들이 두 개의 본질적으로 평면-평행(plane-parallel) 플레이트들에 의해서 형성된다. 상기 플레이트들이 구성될 수 있고, 그 명칭 "평판 방사체"에도 불구하고 그 단어의 엄격한 의미에서 평평할 필요는 없다.

본 발명은 추가로 특히 유전체 장벽 방전 램프들의 제조에 관한 것이다. 여기서, 상기 방전을 유지하기 위한 전력이 상기 방전 가스로부터 유전적으로 분리된 전극들을 통해서 상기 방전 가스로 용량적으로(capacitively) 입력된다.

예시적인 실시예들의 도움으로 이하에서 본 발명이 보다 상세하게 기술될 것이다. 개시된 개별 특징들은 또한 도시된 것 이외의 조합들로 본 발명에 본질적일 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 방법을 실시하기 위한 연속 로를 도시한다.
도 2는 도 1의 연속 로의 개선예들을 도시한다.
도 3은 본 발명에 따른 제조 방법의 일부가 실행된 이후의 방전 관을 도시한다.
도 4는 도 3의 대안적 옵션에 대한 개략적인 묘사를 도시한다.

도 1은 방전관들(3)을 형성하기 위해서 방전관 부분들(2)을 조립하기 위한 연속 로(1)를 도시한다. 상기 로의 개구부(5)를 통해 컨베이어 벨트(4) 상에서 도면에서의 우측에서 좌측으로 상기 방전관 부분들(2)이 상기 연속 로(1)에 유입되고, 조립된 방전관들(3)은 개구부(6)를 통해서 상기 로(1)의 외부로 전달된다.

상기 방전관 부분들(2)은 상기 완성된 방전관(3)의 상부(위) 및 하부(아래)에 대응한다. 상기 방전관(3)은 유전체 장벽 평판 방사체들에 대해 의도된다. 외부(outer-lying) 전극들, 또는 그들의 접점들이 이후의 방법 단계들(미도시)에서 본질적으로 알려진 방식으로 적용된다.

그들이 상기 로(1)에 유입되기 이전에, 본질적으로 알려진 클리닝 및 프로세싱 단계들이 상기 방전관 부분들(2) 상에서 이미 수행되고; 예컨대, 상기 방전관 부분들의 내부 면들은 발광 물질 및 특히 반사기 층을 이용하여 사전에 코팅된다.

상기 연속 로(1)는 로 내부를 가열하기 위한 가열 엘리먼트들(7)을 포함한다. 추가의 가열 엘리먼트들(9)을 이용해 가스 공급기들(8)이 제공된다. 상기 로 내부는 상기 가열 엘리먼트들(7) 및 제1 가스에 의해서 가열되고, 이는 상기 가스 공급기들(8)을 통해 유입되어 상기 가열 엘리먼트들(9)에 의해서 가열된다.

초기에 여전히 분리된 방전관 부분들(2)을 조립하기 위해서, SF₆ 유리 조각들이 스페이서(spacer)들로서 그들 사이에 위치한다. 상기 연속 로(1)에서의 높은 온도 때문에, 이러한 부드럽고 상단의 방전관 부분들(2)이 하단 방전관 부분(2) 위로 낮추어진다. 상기 방전관 부분들(2)의 모서리들에는 유리 솔더가 제공되고, 상기 유리 솔더는 상기 연속 로(1)에서 용해되고 이에 의해 상기 방전관 부분들(2)이 서로 밀폐하게 조립된다.

실제 충진 이전에, 솔벤트들 또는 바인더 성분들과 같은 유기 물질들의 잔류 습기 및 가능한 잔류 성분들을 제거하기 위해서, 상기 방전관 부분들 또는 상기 조립된 방전관들이 본질적으로 알려진 방식으로 깨끗해지고 플러싱되어야 한다.

상기 로 내부는 상기 가스 공급기들(8)을 통해서 상기 제1 가스, 헬륨/네온 혼합물로 가득 채워진다. 상기 헬륨/네온 혼합물은, 상기 연속 로의 개구부들(5 및 6) 및 로 내부를 통해 일정한 흐름을 보장하는데에 충분한 압력을 이용하여 유입된다. SF₆ 유리 조각들 이외에, 상기 가스 공급기들(8)을 통해 유입되는 상기 제1 가스만이 상기 연속 로 내부의 초기에 여전히 분리된 방전관 부분들(2) 사이에 위치한다. 상기 SF₆ 유리 조각들이 부드럽게 되자마자, 상기 방전관 부분(2)의 상부가 상기 방전관 부분(2)의 하부로 낮추어질 때에 상기 제1 가스가 에워싸진다.

도 2는 가스 흡입 라인들(10) 및 펌프(11)가 보충된 도 1의 연속 로를 도시한다. 여기서, 상기 제1 가스는 주로 상기 가스 흡입 라인들(10) 쪽으로 흐른다. 희가스들이 흡수되고 그 후에 본질적으로 알려진 방식(미도시)으로 복구된다.

다양한 작업 방법들이 실시되는 다수의 로 챔버들을 갖는 연속 로를 이용하는 제조 방법이 DE 101 47 727 A1에서 상세하게 제시된다. 더 나은 이해를 위해서, 이것이 참조된다.

도 3은 방금 기술한 바와 같이 조립되는 상기 방전관들(3) 중 하나를 도시한다. 그것은 상기 He/Ne 혼합물을 밀폐적으로 에워싸고; 그것은 추가로 외부 모서리에 지지되는 앰풀들(12)을 포함하며, 상기 앰풀들은 작은 측면 채널들에서 제공되고 단면이 원형이다. 상기 앰풀들 자체, 그리고 상기 앰풀들이 지지되는 상기 방전관(3)의 내부 면은, 상기 방전관(3)의 상기 내부 면의 나머지와 같이, 발광 물질 또는 반사기 층으로 코팅되지 않는다. 두 개의 앰풀 채널들 사이에서, 도 3은 또한 실제 방전 용기을 형성하고 종래에 다른 곳에서 이미 기술된, 단면이 더 큰 채널들을 도시한다.

IR 레이저가 상기 앰풀들을 개방시키는데에 바람직하게 이용된다. 예컨대, 마이크로파가 또한 이용될 수 있다. 임의의 경우에, 상기 앰풀들의 부영역들로 입력되는 에너지는 온도 경도(temperature gradient)를 생성하고, 이는 물질 압력들에 의한 파괴를 야기한다. 이를 위해, 상기 부영역들, 예컨대 상기 앰풀 팁들은 예컨대 금속-코팅된다.

상기 방전관은 40 cm 폭이고, 70 cm 길이이며, 평균적으로 내부적으로 0.3 cm 높이지만 국부적으로는 0.55 cm까지의 높이(내부 높이)이다. 상기 앰풀들은 1 mm 두께의 석영 벽들을 갖고, 67 cm의 길이이며, 3 mm의 내부 직경을 갖는다. 상기 앰풀들(12) 내부의 10 바(bar)의 크세논 압력(실내 온도에서)은 상기 앰풀들이 레이저 조사에 의해서 개방되고 상기 크세논이 상기 방전관(3)으로 분배될 때에, 상기 방전관(3) 내부에서 0.1 바의 부분 압력을 제공한다(실내 온도에서).

상기 앰풀들을 개방하기 이전에, 상기 He/Ne 혼합물의 방출 스펙트럼이 검사된다. 따라서 오염물들이 검출될 수 있고 추가의 결함이 있는 방전 램프들의 제조가 방지될 수 있다.

도 4는 충진 스파우트(13)를 이용하는 제2의 충진 단계의 다른 변형예를 약술한다. 상기 레이저는 개스킷(14)에 의해서 충진 용기(15)으로 유입되고, 이러한 충진 용기(15)에서 배열된 그것의 단부에서 실링된다.

상기 충진 스파우트(13)의 다른 단부는 좌측에 도식적으로 표시된 상기 방전관(16) 쪽으로 개방된다.

상기 충진 용기(15)은 제1 밸브(17)에 의해 가스 아웃렛(outlet)과 그리고 제2 밸브(18)에 의해 가스 인렛(inlet)과 연결된다. 그것은 표시된 바와 같은 가열기(19)를 추가로 포함한다. 상기 충진 용기(15)은 추가적인 충진 장치의 컴포넌트이고, 즉, 상기 연속 로의 컴포넌트가 아니며, 여기서 약술한 방식으로 상기 용기 스파우트(13)를 에워싼다. 상기 충진 스파우트(13)의 외부 영역 및 상기 충진 용기(15)의 내부는 두 개의 밸브들(17, 18) 및 상기 가스 인렛 및 아웃렛을 이용하여 플러싱 단계에 의해서 깨끗해진다. 임의로, 깨끗하게 하기 위한 목적들을 위해, 폐쇄된 상기 제2 밸브 및 개방된 상기 제1 밸브를 이용하여 그것이 또한 펌핑될 수도 있다.

상기 가스 인렛을 통해 상기 충진 용기(15)으로 이전에 유입된 제2 가스를 상기 방전관의 내부로 유입하기 위해서, 단부 상에서의 금속 코팅으로의 마이크로파 조사 또는 IR 레이저에 의해서, 또는 기계적 기구(미도시, 상기 충진 용기(15)으로의 피드-스루(feed-through))에 의해서 상기 충진 스파우트(13)가 개방된다. 이러한 경우에, 상기 충진 스파우트(13)를 개방한 이후에 상기 방전관에서 원하는 방전 가스 혼합물을 자동으로 유도할 수 있는 가스 압력이 셋업된다.

상기 제2의 충진 단계가 완료되면, 상기 충진 스파우트(13)가 용해에 의해서 짧아지고 실링되며, 램프 기술에서 소위 램프 스템들로 일반적으로 알려진 방식으로 프레임을 이용하여 제거된다. 그것은 바람직하게 상기 방전관의 상부 유리를 구성하는 것과 동일한 유리 물질로 구성된다.

설명한 방식에서, 제2의 충진 단계는 도 3과 관련하여 이미 기술한 앰풀 기술에 대한 대안으로서 실시될 수 있다. 두 실시예들의 상기 제1의 충진 단계는 동일하다.

Claims

방전 램프를 제조하기 위한 방법으로서,
상기 방전 램프의 개방된 방전관을 조립하는 단계;
연속 로(continuous furnace)(1)에서 상기 방전관을 제1 가스로 채우는 단계; 및
상기 조립된 방전관의 환경으로부터 분리된 공급 용기를 이용하여, 상기 조립된 방전관에서 상기 제1 가스에 제2 가스를 부가하는 단계
를 포함하는,
방전 램프를 제조하기 위한 방법.
제1항에 있어서,
상기 조립 및 상기 방전관을 상기 제1 가스로 채우는 것이 연속 로(1)에서 수행되는,
방전 램프를 제조하기 위한 방법.
제2항에 있어서,
상기 제1 가스는 상기 방전관의 주위에서 흐르는,
방전 램프를 제조하기 위한 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 방전관에서의 상기 제1 가스의 스펙트럼 분석이 상기 방전관을 폐쇄한 이후에 그리고 상기 제2 가스를 유입하기 이전에 수행되는,
방전 램프를 제조하기 위한 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제2 가스는 충진 스파우트(filling spout)를 통해서 상기 방전관으로 유입되는,
방전 램프를 제조하기 위한 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 방전관은 상기 제1 가스를 채운 이후에 완전하게 폐쇄되고, 상기 제2 가스의 앰풀(ampoule, 12)을 포함하며, 이후에 상기 앰풀(12)이 개방되는,
방전 램프를 제조하기 위한 방법.
제6항에 있어서,
상기 앰풀(12)은 전자기파들에 의해서 개방되는,
방전 램프를 제조하기 위한 방법.
제6항에 있어서,
상기 앰풀(12)은 상기 방전관의 모서리(edge) 상에서 지지되는,
방전 램프를 제조하기 위한 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 방전 램프는 평판 방사체(flat radiator)인,
방전 램프를 제조하기 위한 방법.