KR101074952B1 - 포토레지스트 코팅장치 및 코팅방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 포토레지스트 코팅장치로, 보다 상세하게는 노즐과 기판에 피해 없이 포토레지스트를 안정하게 코팅하는 장치 및 방법에 관한 것이다.

본 발명은 기판에 포토레지스트를 코팅하는 노즐과, 상기 노즐의 하단에 일체로 형성되며 포토레지스트를 배출하는 선단 토출부와, 상기 선단 토출부의 선단에 위치하여 상기 기판의 이물질을 제거하는 이물질 방지턱을 포함하는 것을 특징으로 포토레지스트 코팅장치를 형성한다.

또한, 상기 노즐에 센서를 부착하여 노즐의 포토레지스트의 토출과 이동을 제어할 수 있다.

전술한 바와 같은 포토레지스트 코팅장치로 상기 노즐과 상기 이물질 방지턱이 일체로 형성됨으로 인하여 공정이 단순해지고, 상기 이물질 방지턱이 이물질을 우선적으로 제거함으로서 상기 이물질에 의한 노즐 선단 토출부의 피해를 방지할 수 있을 뿐 아니라, 노즐의 포토레지스트의 토출과 이동을 제어함으로서 이물질에 의한 노즐과 기판의 피해를 방지할 수 있다.

포토레지스트, 코팅, 이물질, 제거, 노즐

Description

포토레지스트 코팅장치 및 코팅방법{COATING DEVICE OF PHOTORESIST AND COATING METHOD THEREOF}

도 1은 종래의 포토레지스트 코팅장치를 나타내는 사시도.

도 2a 및 도 2b는, 도 1에 도시된 포토레지스트 코팅장치를 나타내는 단면도.

도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 포토레지스트 코팅장치를 나타내는 사시도.

도 4는 도 3에 도시된 포토레지스트 코팅장치를 나타내는 단면도.

도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 포토레지스트 코팅장치를 나타내는 단면도.

도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 포토레지스트 코팅장치의 노즐을 나타낸 단면도.

도 7은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 포토레지스트 코팅장치를 나타낸 사시도.

도 8은 도 7에서 도시한 포토레지스트 코팅장치를 나타낸 단면도.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 간단한 설명>

1 : 스테이지 10 : 기판

50 : 노즐 70 : 포토레지스트층

80 : 이물질 100 : 슬릿 노즐

100a : 이물질 방지턱 100b : 선단 토출부

300 : 포토레지스트 공급부 400 : 구동 이송부

500 : 제어부 600 : 판독부

1100 : 발광부 1200 : 수광부

본 발명은 액정표시장치(Liquid Crystal Display Device)를 위한 제조장치에 관한 것으로, 좀 더 자세하게는 기판(Substrate) 상에 포토레지스트(Photoresist)를 코팅(Coating)하는 포토레지스트 코팅장치 및 코팅방법에 관한 것이다.

액정표시장치는 핵심적인 구성요소로서 액정패널을 포함하는데, 이는 광학적 이방성과 분극성질을 띠는 액정층을 사이에 두고 대향하는 제 1 및 제 2 기판을 포함한다.

이때 양 기판의 마주보는 면에는 각각 전계 생성전극이 형성되어있는 바, 이들간의 전압차를 통해 액정분자의 배열방향을 인위적으로 조절하고, 이때 변화되는 빛의 투과율을 통해 여러 가지 화상을 디스플레이(Display) 한다.

현재에는 스위칭 소자를 사용하여 액정패널에 정의된 다수의 화소(Pixel)를 독립적으로 제어하는 능동행렬(Active-Matrix) 방식의 액정표시장치가 널리 사용되 는데, 이때 스위칭 소자로서 박막트랜지스터(Thin Film Transistor : TFT)를 사용한 것이, 잘 알려진 박막트랜지스터형 액정표시장치(TFT-LCD)이다.

이와 같이 구성된 액정표시장치의 제조공정은 크게 기판 제작공정, 셀 제조공정 및 모듈 공정의 세 가지 공정으로 나눌 수 있다.

먼저, 기판 제작공정은 세정된 유리 기판을 사용하여 각각 박막트랜지스터 제작과 칼라필터 제작 공정으로 나눈다.

여기서, 상기 박막트랜지스터 제작공정은 하부 기판 상에 복수의 박막트랜지스터와 화소전극을 제작하는 공정을 말하는 것이며, 칼라필터 제조공정은 차광막이 형성된 상부 기판 상에 염료나 안료를 사용하여 R. G. B 색상의 칼라필터층을 형성하여 공통전극을 형성하는 공정을 일컫는다.

또한, 셀 공정은 박막트랜지스터 공정이 완료된 상기 하부 기판과 칼라필터 공정이 완료된 상기 상부 기판의 두 기판 사이에 일정한 간격이 유지되도록 스페이서(Spacer)를 산포하고 합착한 후, 액정을 주입하여 액정표시장치 셀을 제조하는 공정이며, 마지막으로 모듈 공정은 신호처리를 위한 회로부를 제작하고 박막트랜지스터 액정표시장치 패널과 신호처리회로부를 연결시켜 모듈을 제작하는 공정이다.

여기서, 상기 기판 제작공정은 기판 상에 증착된 박막을 패터닝(Patterning)하기 위해 포토리소그라피(Photolithography), 식각(Etching), 세정(Cleaning)과 같은 단위 공정이 이루어지는 데, 이와 같은 단위 공정은 상기 박막의 형성에 따라 다수의 반복 작업을 요한다.

이와 같은 단위 공정은 상기 박막이 증착된 기판 상에 포토레지스트(Photoresist)를 먼저 패터닝 시킨 다음 상기 박막을 식각한 후 상기 포토레지스트를 제거하여 상기 박막을 패터닝 시키는 방법으로 이루어진다.

특히, 상기 포토레지스트의 패터닝은 상기 박막을 정확하게 패터닝하기 위한 기초작업으로 액정표시장치 제조공정에 없어서는 안될 중요한 공정단계이다.

이러한 상기 포토레지스트 패터닝 공정은 기판 상에 상기 포토레지스트를 코팅(Coating)한 후, 상기 포토레지스트 상에 이미 제작된 마스크(Mask)를 얼라인(Align)시켜 자외선을 노광시킨 다음, 상기 자외선에 의해 노광된 부분과 노광되지 않은 부분에 차이를 두어 현상시킴으로써 이루어진다.

이때 기판 상에 포토레지스트를 코팅하기 위한 장치중 일부가, 일례로 포토레지스트 노즐(Nozzle)이다.

도 1은 종래의 포토레지스트 코팅장치를 나타내는 사시도이다.

상기 도 1에 도시한 바와 같이, 종래의 포토레지스트 코팅장치는 유리기판(10)이 올려진 스테이지(1 : Stage)와, 상기 기판(10) 상에 포토레지스트 물질을 코팅시키는 노즐(50)이 장착되어 있다.

이때 기판(1)은 유리등의 투명 절연기판이 사용될 수 있다.

그리고 도시하진 않았지만, 포토레지스트 코팅장치는 포토레지스트 공급부와, 구동 이송부를 포함한다.

상기 포토레지스트 공급부는 포토레지스트를 저장하는 포토레지스트 저장탱크와, 여기에 저장된 포토레지스트를 노즐(50)로 공급하는 공급관을 포함하고, 상기 구동 이송부는 상기 노즐(50)을 이송하며, 상기 노즐(50)은 기판(10)의 폭에 대 응되는 길이를 가진다.

특히, 상기 노즐(50)은 기판(10) 일방향으로부터 타방향으로 스캔(Scan) 운동할 수 있고, 포토레지스트를 토출하면서 기판(10)을 스캔하여 포토레지스트(70)를 전면 코팅한다.

도 2a 및 도 2b는, 도 1에 도시된 포토레지스트 코팅장치를 나타내는 단면도이다.

도 2a 및 도 2b에 도시한 바와 같이, 스테이지(1) 및 기판(10) 상에 이물질(80)이 있는 상태에서 포토레지스트(70)을 코팅하면, 이에 대처할 수 있는 어떠한 수단도 가지지 못함으로 인해 노즐(50) 및 기판(10)이 파손되거나 또는 불균일한 포토레지스트이 형성되는 것이다.

좀 더 자세히, 일반적인 노즐(50)은 단순히 기판(10) 상에 포토레지스트를 토출하여 코팅하는 역할을 할 뿐, 기판(10) 상에 이물질(80)이 존재하더라도 이에 대응할 수 있는 어떠한 기능도 갖지 못한다.

따라서 이물질(80)이 존재할 경우 노즐(41)과 부딪혀 노즐(50) 또는 기판(10)이 파손되는 문제가 있다.

본 발명은 기판 상에 이물질이 존재하여도 균일한 포토레지스트를 구현할 수 있고, 특히 이로 인한 노즐 또는 기판의 파손에 효과적으로 대처할 수 있는 포토레지스트 노즐을 제공하는데 그 목적이 있다.

상기한 목적을 달성하기 위한, 본 발명에 따른 포토레지스트 코팅장치는 기판에 포토레지스트를 코팅하는 노즐과, 상기 노즐의 하단에 일체로 형성되며 포토레지스트를 배출하는 선단 토출부와, 상기 선단 토출부의 선단에 위치하여 상기 기판의 이물질로 부터 상기 노즐의 선단 토출부를 보호하는 이물질 방지턱을 포함하는 점에 그 특징이 있다.

이하, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명을 보다 상세하게 설명하고자 한다.

도 3 내지 도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅장치를 나타낸 도면이다.

도 3 내지 도 5에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 포토레지스트 코팅장치는 기판(10)에 포토레지스트를 코팅하는 노즐(100)과, 상기 노즐(100)의 하부에 일체로 형성되는 선단 토출부(100b) 및 상기 노즐(100)의 선단에 이물질 방지턱(100a)이 구비된 것이다.

이때 상기 노즐(100)은 기판(10) 상에, 상기 기판(10)을 가로지르도록 나란히 배열되는 슬릿 형태인 것을 특징으로 한다.

상기 노즐(100)은 상기 기판(10)의 일 모서리의 길이와 같거나 큰 것을 특징으로 한다. 또한 상기 노즐(100)은 상기 기판(10) 일방향으로부터 타방향으로 스캔하며 상기 포토레지스트를 토출한다.

상기 노즐의 선단 토출부(100b)는 노즐(100)의 하단에 위치하여 포토레지스트를 토출하는 역할을 하며 상기 노즐(100)과 함께 일체형으로 제작된다.

상기 이물질 방지턱(100a)은 상기 노즐(100)의 운동 방향 전방에서 기판(10) 위에 이물질(80)이 존재할 때에는 상기 이물질(80)을 제거하며, 상기 기판 아래에 이물질(80)이 존재할 때는 노즐(100)을 보호하는 것을 특징으로 한다.

도시하지는 않았지만, 상기 포토레지스트 코팅장치는, 상기 포토레지스트를 저장하고 상기 노즐(100)로 포토레지스트를 공급하는 포토레지스트 공급부 및 상기 노즐(100)을 이송시키는 이송 구동부를 더욱 포함하는 것을 특징으로 한다.

이때 기판(10)은 본 발명에 따른 포토레지지스트 코팅장치의 처리대상물인 액정표시장치용 기판으로서, 일반적인 경우와 마찬가지로 유리등의 투명 절연기판이 될 수 있다.

이들 노즐(100)의 선단 토출부(100b) 및 이물질 방지턱(100a)은 기판(10) 상부에 위치하여 기판(10)을 가로지르도록 위치되고, 상기 기판(10)의 일 모서리의 길이와 실질적으로 동일하거나 큰 것이 바람직하다.

또한 노즐(100)은 기판(10) 일방향으로부터 타방향으로 스캔 운동할 수 있는데, 특히 이물질 방지턱(100a)은 상기 노즐(100)의 운동 방향 전방에 위치하여 함께 이동되는 것을 특징으로 한다.

따라서 이물질 방지턱(100a)이 먼저 이물질(80)의 유무를 확인하여 노즐(100)을 보호하는 것이다.

또한 상기 이물질(80)이 기판(10) 위에 존재할 때에는 이물질 방지턱(100a)이 이물질을 제거하고 노즐(100)의 선단 토출부(100b)가 포토레지스트를 토출하는 것이다.

결국 본 발명에 따른 포토레지스트 코팅장치를 일반적인 그것과 비교하면, 포토레지스트가 토출되기 전, 상기 이물질 방지턱(100a)이 상기 노즐(100)의 선단 토출부(100b)를 보호할 뿐만 아니라 기판(10) 위의 이물질(80)을 스켄 방향으로 밀어 냄으로써 상기 이물질(80)을 제거하는 이물질 방지턱(100a)을 포함하는 것이라 할 수 있다.

이때 상기 이물질 방지턱(100a)을 통해 기판(10)의 이물질을 확인하는 이유는 상기 노즐(100)의 선단 토출부(100b)를 보호하고, 기판(10) 위에 존재할 수 있는 이물질(80)을 제거하기 위한 것으로, 이를 통해 이물질이 제거된 기판(10) 상에 노즐(100)의 선단 토출부(100b)가 포토레지스트를 토출한다.

즉, 본 발명에 따른 포토레지스트 코팅장치는, 기판(10)의 폭에 대응되는 길이를 가지고 상기 기판(10) 상을 가로지르도록 나란히 배열되며, 포토레지스트를 토출하는 노즐(100)의 선단 토출부(100b)와 상기 노즐(100)의 선단 토출부(100b)를 보호하고, 기판 상의 이물질(80)을 제거하는 이물질 방지턱(100a)을 포함한다.

상기 노즐(100)은 기판(10)의 일방향으로부터 타방향으로 스캔 운동을 하면서 포토레지스트를 기판(10)에 토출하고, 이물질 방지턱(100a)은 상기 노즐(100)의 운동방향 전방에 위치되어 노즐(100)의 선단 토출부(100b)의 피해를 막고, 상기 기판(10) 위의 이물질(80)을 제거하는 것을 특징으로 한다.

이때 노즐(100)의 선단 토출부(100b)와 기판(10) 사이 간격 d는 10 내지 300㎛로 유지할 수 있는데, 비록 별도의 도면으로 도시하지는 않았지만, 상기 노즐(100)이 고정되고, 대신 기판(10)이 슬라이딩될 수 도 있는 것이다.

도 6은 본 발명에 제 2 실시예에 따른 이물질 방지턱을 나타낸 단면도이다.

도 6에 도시한 바와 같이, 상기 이물질 방지턱(100a)의 선단부는 일정 각도(θ)를 이루도록 기울기를 가지는 것이 가능하다.

즉, 앞서 언급한 바와 같이 본 발명에 따른 포토레지스트 코팅장치에 포함된 이물질 방지턱(100a)의 역할은, 노즐(100)의 선단 토출부(100b)가 포토레지스트를 토출하기 전 기판 상의 이물질 유무를 판단하여 상기 노즐(100)의 선단 토출부(100b)를 보호하고, 상기 기판 상의 이물질을 제거하기 위한 것인데, 이로 인해 상기 기판에 영향을 줄 수 있다.

따라서 바람직하게는 이물질 방지턱(100a)의 각도(θ)는 1° 내지 85°로 일정한 경사를 유지하고, 스캔운동 방향으로 이동하면서 이물질(80)을 제거하도록 하는 것이 유리하다.

즉, 노즐(100)의 스캔 시작점을 기판 일단이라 하고, 마지막으로 도달되는 부분을 기판 타단이라 하면, 상기 노즐(100)의 선단 토출부(100b)가 기판과 실질적으로 수직하게 포토레지스트를 토출하는 것에 반해, 이물질 방지턱(100a)은 기판(10) 상단으로부터 85°보다 작은 예각을 이루도록 기울어진 것이 바람직하다.

이때 목적에 따라 최초 제조시, 노즐(100)의 선단 토출부(100b)의 이물질 방지턱(100a) 사이의 거리(D) 및 상기 이물질 방지턱(100a)과 기판 상단으로부터 각도(θ)는 조절될 수 있다.

도 7 및 도 8은 본 발명의 제 3 실시예의 포토레지스트 코팅장치를 나타낸 단면도이다.

도 7 및 도 8에 도시한 바와 같이, 포토레지스트 코팅장치로서, 기판에 포토 레지스트를 코팅하는 노즐(100)과, 상기 노즐(100)의 선단에 일체로 형성되며 상기 노즐(100)의 선단 토출부(100b) 선단에 이물질 방지턱(100a) 및 상기 이물질 방지턱(100a)의 하부로부터 경사지게 기판(10)의 상단을 향해 빛을 조사하는 발광부(1100)가 배치된다.

상기 발광부(1100)에서 조사되어 기판(10)의 상부에 반사된 빛을 수광하는 수광부(1200)가 노즐(100)의 선상의 위치에 배치된다.

상기 수광부(1200)에서 감지된 빛의 강도를 판독하여, 이물질(80)의 유무를 판정하는 판독부(600)가 구비된다.

또한, 상기 판독부(600)가 판독한 자료를 바탕으로 제어부(500)가 포토레지스트를 공급하는 포토레지스트 공급부(300)와 노즐(100)을 움직이는 이송 구동부(400)를 제어한다.

이때 상기 노즐(100)은 기판(10) 상에, 상기 기판(10)을 가로지르도록 나란히 배열되는 형태인 것을 특징으로 한다.

상기 노즐(100)은 각각 상기 기판의 일 모서리의 길이와 같거나 큰 것을 특징으로 한다. 또한 상기 노즐(100)은 상기 기판 일방향으로부터 타방향으로 스캔하며 상기 포토레지스트 공급부(300)로 부터 공급받은 포토레지스트를 토출한다.

이때 기판(10)은 본 발명에 따른 포토레지스트 코팅장치의 처리대상물인 액정표시장치용 기판으로서, 일반적인 경우와 마찬가지로 유리등의 투명 절연기판이 될 수 있다.

상기 이물질 방지턱(100a)의 하부에 위치한 노즐(100)의 선상에 위치한 수광 부(1200)는 상기 노즐(100)의 선단 토출부(100b)에 앞서있다.

이들 발광부(1100)와 수광부(1200)를 포함하는 노즐(100)은 기판(10) 상부에 위치하여 상기 기판(10)을 가로지르도록 위치되고, 상기 기판(10) 의 일 모서리의 길이와 실질적으로 동일하거나 큰 것이 바람직하다.

또한 노즐(100)은 기판(10) 일방향으로부터 타방향으로 스캔 운동할 수 있는데, 특히 발광부(1100)와 수광부(1200)는 상기 노즐(100)의 운동 방향 전방에 위치하여 함께 이동되는 것을 특징으로 한다.

따라서 상기 이물질 방지턱(100a)의 하부에 위치한 발광부(1100)로부터 경사지게 기판(10)의 상단을 향해 빛을 조사한 빛이 상기 노즐(100)의 선상에 위치한 수광부(1200)에 수광된다.

여기서, 상기 발광부(1100)와 수광부(1200)는 일반적으로 사용되는 광 송수신 모듈을 사용할 수 있을 것이다.

한 예로, 발광부(1100)는 전기적 신호에 따라 구동되어 빛을 발광하는 발광 소자를 갖는다. 수광부(1200)는 발광 소자로부터 발광된 빛을 수광하는 수광 소자를 갖는다. 또한, 상기 발광부(40)는 레이저를 이용하는 것이 바람직하다.

우선, 이물질(80)이 없는 포토레지스트의 경우에는, 발광부(1100)에서 조사된 빛은 그대로 반사되어 수광부(1200)에 수광되고, 이 수광된 빛의 강도가 판독부(600)에 의해 기준치로 설정된다.

하지만, 이물질(80)이 존재할 시에는 이물질(80)의 존재로 인하여, 수광부(1200)에 수광되는 빛의 강도가 상기의 설정치와 달라지게 된다. 이러한 빛 의 강도 차이를 판독부(600)가 감지하여, 제어부(500)에 전달하게 된다.

따라서 수광부(1200)에 수집된 빛을 판독부(600)에서 판단하여, 이물질(80)의 유무를 확인하면, 제어부(500)는 판독부(600)로부터의 이물질(80) 검출 신호에 의해 포토레지스트 공급부(300) 및 이송 구동부(400)를 제어하게 된다.

다시 말하면, 판독부(600)로부터 이물질 신호가 발생되면 제어부(500)는 포토레지스트 공급부(300)를 제어하여 노즐(100)에 포토레지스트 물질의 공급을 중단시키게 된다.

또한, 이송 구동부(400)에 상기 이물질(80) 신호를 전달하여 노즐(100)의 이동을 중지시키게 된다.

즉, 포토레지스트 공급부(300)는 제어부(500)로부터 최초 기판(10)상에 이물질이 존재하지 않는 상태의 설정치 신호가 전달되면 노즐(100)에 포토레지스트 물질을 공급하고, 역으로 상기 최초 설정치 신호가 아닌 신호가 전달되면 노즐(100)에 포토레지스트 물질의 공급을 중단하게 된다.

이로 인해, 노즐(100)이 진행하는 동안에는 기판(10) 상에 포토레지스트(70)가 형성되고, 상기 노즐(100)이 정지하게 되면 상기 기판(10) 상에 포토레지스트(70)가 형성되지 않는다.

또한, 이송 구동부(400)는 제어부(500)로부터 처음 설정치 신호(이물질이 없을 경우의 신호)가 전달되면 노즐(100)을 이동시키고, 역으로 처음 설정치 신호가 아닌 신호가 전달되면 노즐(100)의 이동을 중지시키게 된다.

보다 자세히 설명하면, 스테이지(1)에 올려진 기판(10) 상에 포토레지스트 물질을 코팅하기 위해 노즐(100)이 이동하면, 상기 노즐(100)의 이물질 방지턱(100a)의 하부에 위치한 발광부(1100)로부터 경사지게 기판(10)의 상단을 향해 빛을 조사한 빛이 상기 노즐(100)의 선상에 위치한 수광부(1200)에 수광하는 방식으로 상기 기판(10)의 표면을 전체적으로 스캔하여 기판(10)의 이물질(80) 유무를 검출하게 된다.

따라서 수광부(1200)의 빛을 판독부(600)에서 이물질의 유무를 확인하면, 제어부(500)는 판독부(600)로부터의 이물질 검출 신호에 의해 포토레지스트 공급부(300) 및 이송 구동부(400)를 제어하게 된다.

다시 말하면, 판독부로부터 이물질 신호가 발생되면 제어부(500)는 포토레지스트 공급부(300)를 제어하여 노즐(100)에 포토레지스트 물질의 공급을 중단시키게 된다.

또한, 이송 구동부(400)에 상기 이물질 신호를 전달하여 노즐(100)의 이동을 중지시키게 된다.

이로 인해, 노즐(100)의 선단 토출부(100b)와 기판(10)의 접촉이 방지되어 상기 노즐(100)의 선단 토출부(100b)와 기판(10)의 파손을 방지 할 수 있다.

이상에서 자세히 설명된 바와 같이, 기판에 포토레지스트를 코팅하는 노즐과, 상기 노즐의 하단에 일체로 형성되며 포토레지스트를 배출하는 선단 토출부와, 상기 선단 토출부와 같은 높이로 노즐의 선단에 위치한 이물질 방지턱을 포함하는 것을 특징으로 하는 제 1 및 2 실시예의 포토레지스트 코팅장치는 다음과 같은 효 과가 있다.

첫째, 상기 이물질 방지턱이 우선적으로 노즐을 보호함으로써, 노즐의 파손시 발생하는 노즐의 교체 비용과 시간을 감소시켜준다.

둘째, 상기 이물질 방지턱이 기판 위의 이물질을 제거함으로서 생산성 상승 효과를 갖는다.

셋째, 상기 노즐과 상기 이물질 방지턱이 일체로 형성됨으로 인하여 노즐 및 이물질 방지턱 제조 공정이 단순해지는 효과를 갖는다.

또한, 기판에 포토레지스트를 코팅하는 노즐과, 상기 노즐의 하단에 일체로 형성되며 포토레지스트를 배출하는 선단 토출부와, 상기 선단 토출부와 같은 높이로 노즐의 선단에 위치한 이물질 방지턱과, 상기 이물질 방지턱의 하부로부터 경사지게 기판의 상단을 향해 빛을 조사하는 발광부와, 상기 노즐의 선상의 위치하고 상기 발광부에서 조사되어 기판의 상부에 반사된 빛을 수광하는 수광부를 포함하는 것을 특징으로 하는 제 3 실시예의 포토레지스트 코팅장치는 다음과 같은 효과가 있다.

상기 발광부와 수광부가 기판의 전면을 스캔하여 이물질을 감지하고, 이물질이 감지되면 노즐의 동작을 일시 정지시켜 상기 노즐과 기판의 접촉을 방지하여 노즐과 기판의 파손을 방지 할 수 있다.

또한 본 발명은 실시예에 한정되지 않고, 이하 청구 범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능할 것이다.

Claims (18)

1. 기판에 포토레지스트를 코팅하는 노즐과,

   상기 노즐의 하단에 일체로 형성되며 포토레지스트를 배출하는 선단 토출부와,

   상기 선단 토출부의 선단에 위치하여 상기 기판의 이물질로 부터 상기 노즐의 선단 토출부를 보호하는 이물질 방지턱을 포함하며,

   상기 선단 토출부와 상기 이물질 방지턱은 일체로 형성되며, 상기 이물질 방지턱은 상기 기판에 대해서 일정한 각도로 기울어진 경사면을 갖는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 노즐은 상기 기판을 가로지르도록 나란히 배열되는 슬릿 형태인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.
3. 제 1 항 또는 제 2 항 있어서,

   상기 노즐은 상기 기판의 일 모서리의 길이와 같거나 큰 것을 특징으로 하는 포토레시스트 코팅장치.
4. 제 1 항에 있어서,

   상기 노즐의 선단 토출부와 상기 기판 사이 간격 d가 10 내지 300㎛로 유지되는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.
5. 제 1 항에 있어서,

   상기 노즐 또는 상기 기판 중 어느 하나가 고정되고, 나머지 하나가 슬라이딩되는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.
6. 제 1 항에 있어서,

   상기 포토레지스트를 저장하고 상기 노즐로 공급하는 포토레지스트 공급부 및 상기 노즐을 이동시키기 위한 이송 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.
7. 제 1 항에 있어서,

   상기 이물질 방지턱은 기판 상단으로부터 1° 내지 85°각을 이루도록 기울어진 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.
8. 제 1 항에 있어서,

   상기 이물질 방지턱이 기판 상에 이물질을 제거할 수 있는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.
9. 노즐 및 상기 노즐의 선단 토출부와 일체로 형성된 이물질 방지턱이 기판의 일면에서 타면으로 함께 이동하는 단계와,

   상기 노즐의 선단에 위치한 이물질 방지턱이 상기 기판의 이물질을 제거하는 단계와,

   상기 노즐의 선단 토출부가 기판에 포토레지스트를 코팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅 방법.
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11. 기판에 포토레지스트를 코팅하는 노즐과,

    상기 노즐의 하단에 일체로 형성되며 포토레지스트를 배출하는 선단 토출부와,

    상기 선단 토출부 선단에 위치하며, 상기 선단 토출부와 일체로 형성된 이물질 방지턱과,

    상기 이물질 방지턱의 하부로부터 경사지게 기판의 상단을 향해 빛을 조사하는 발광부와,

    상기 노즐의 선상에 위치하고 상기 발광부에서 조사되어 기판의 상부에 반사된 빛을 수광하는 수광부를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.
12. 제 11 항에 있어서,

    상기 노즐은 기판 상에, 상기 기판을 가로지르도록 나란히 배열되는 형태인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.
13. 제 11 항 또는 12항에 있어서,

    상기 노즐은 상기 기판의 일 모서리의 길이와 같거나 큰 것을 특징으로 하는 포토레시스트 코팅장치.
14. 제 11 항에 있어서,

    상기 노즐의 선단 토출부와 상기 기판 사이 간격 d가 10 내지 300㎛로 유지되는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.
15. 제 11 항에 있어서,

    상기 노즐 또는 상기 기판 중 어느 하나가 고정되고, 나머지 하나가 슬라이딩되는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.
16. 제 11 항에 있어서,

    상기 포토레지스트를 저장하고 상기 노즐로 공급하는 포토레지스트 공급부와,

    상기 노즐을 이동시키기 위한 이송 구동부와,

    상기 수광부의 신호를 판독하는 판독부와,

    상기 판독부의 데이터를 받아 상기 포토레지스트 공급부와 상기 이송 구동부를 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.
17. 제 11 항에 있어서,

    상기 발광부를 포함하는 이물질 방지턱은 기판 상단으로부터 1° 내지 85°각을 이루도록 기울어진 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.
18. 노즐 및 발광부가 기판의 일면에서 타면으로 함께 이동하는 단계와,

    상기 노즐이 이동하는 동안 기판의 이물질의 유무를 확인하는 단계와,

    상기 이물질의 유무에 따라 노즐의 이동과 기판에 포토레지스트의 공급을 제어하는 단계를 포함하며,

    상기 기판의 이물질의 유무를 확인하는 단계는,

    상기 발광부가 상기 기판의 상단을 향해 광을 조사하는 단계와,

    상기 기판으로 입사된 광이 상기 기판에 의해 반사되어 수광부에 수광되는 단계와,

    상기 수광된 광의 강도를 판독하는 단계를 포함하는 포토레지스트 코팅 방법.

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