KR101063914B1 - 탄화규소에 내열금속카바이드를 오믹 접촉 형성시키는 방법및 이를 이용한 전력용 반도체 소자 - Google Patents

Abstract

본 발명은 탄화규소에 내열금속카바이드를 용이하게 오믹 접촉 형성시키는 방법 및 이를 이용한 전력용 반도체 소자에 관한 것으로, 탄화규소 기판 상에 탄화층을 형성하는 제1단계와; 상기 탄화층 상부에 오믹 접촉 형성이 필요한 부분에 대해 선택적으로 내열금속막을 형성하는 제2단계와; 상기 내열금속막과 탄화층의 탄소를 반응시켜 내열금속카바이드층을 형성하는 제3단계와; 상기 내열금속카바이드층을 형성하고 남아있는 탄화층을 제거하는 제4단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 탄화규소에 내열금속카바이드를 오믹 접촉 형성시키는 방법 및 이를 이용한 전력용 반도체 소자를 기술적 요지로 한다. 이에 따라 금속실리사이드의 형성이 억제되어 균일한 특성의 접촉 형성이 용이하며, 또한 내열금속카바이드를 직접 증착하지 않고 저온에서 내열금속막을 탄화층에 증착한 후 열처리함으로써 내열금속카바이드를 용이하게 형성시킬 수 있으며, 이에 의해 형성된 내열금속카바이드는 탄화규소와 고온에서도 안정적인 오믹 특성을 유지하여 고온용 탄화규소 전력용 반도체 소자의 신뢰성을 놓여주는 이점이 있다.

탄화규소 내열금속 카바이드 실리사이드 오믹 접촉 탄화 고온 반도체 소자

Description

탄화규소에 내열금속카바이드를 오믹 접촉 형성시키는 방법 및 이를 이용한 전력용 반도체 소자{method of forming refractory metal carbide ohmic contact layer on SiC using carbonization process and the device thereof}

본 발명은 탄화규소에 내열금속카바이드를 용이하게 오믹 접촉 형성시키는 방법 및 이를 이용한 전력용 반도체 소자에 관한 것으로, 탄화규소 기판 상부에 탄화층과 내열금속막을 반응시킴으로써 용이하게 탄화규소와 내열금속카바이드를 오믹 접촉 형성시켜, 고온에서도 그 특성이 안정한 탄화규소에 내열금속카바이드를 오믹 접촉 형성시키는 방법 및 이를 이용한 전력용 반도체 소자에 관한 것이다.

일반적으로, 탄화규소에의 금속막의 증착후 열처리를 통해 금속 합금을 형성시키는 경우 탄화규소 내의 탄소와 규소가 분리되어 각각 금속과 반응해야 하므로 일반적으로 1000℃이상의 고온에서 급속가열 열처리를 해주어야 한다.

이러한 금속실리사이드(silicide), 금속카바이드(carbide) 소자를 제조하기 위해서는 내열금속카바이드(refractory metal carbide) 형태의 오믹성 접촉이 가장 안정한 것으로 알려져 있으나, 그 자체의 융점이 높아 다양한 내열금속카바이드의 증착이 용이하지 않았다.

또한 1000℃이상의 고온에서 열처리공정을 거치는 과정에서, 금속실리사이드(silicide), 금속카바이드(carbide) 등의 여러 합금들이 공존하여 특성의 제어가 용이하지 않다. 즉, 실리사이드(silicide) 및 카바이드(carbide)의 동시형성을 제어할 수 없으며, 따라서 접합의 특성을 제어할 수 없었다.

특히 내열금속을 이용한 접합의 경우 카바이드(carbide)가 형성되는 것이 일반적으로 접촉 저항을 낮출 수 있는 방법이나 카바이드(carbide)의 형성과 동시에 필연적으로 접촉저항이 다소 높은 실리사이드(silicide)가 형성되어 전체적인 접합의 접촉저항은 높게 나타나는 문제점이 있다.

상기 문제점을 해결하기 위해 본 발명은 탄화규소 기판 상부에 탄화층을 미리 형성시키고 내열금속막과 열처리를 통해 탄화규소 내 실리콘과 금속간의 반응을 최소한으로 억제하여 실리사이드의 형성을 억제하고 카바이드의 형성을 용이하게 하여 탄화규소에의 오믹 접촉을 형성하는 내열금속카바이드 화합물을 용이하게 제작하여, 고온에서도 그 특성이 안정한 내열금속카바이드가 오믹 접촉 형성된 탄화규소 기판의 제공을 그 해결하고자 하는 과제로 한다.

상기 과제를 해결하기 위해 본 발명은, 탄화규소 기판 상에 탄화층을 형성하는 제1단계와; 상기 탄화층 상부에 오믹 접촉 형성이 필요한 부분에 대해 선택적으로 내열금속막을 형성하는 제2단계와; 상기 내열금속막과 탄화층의 탄소를 반응시켜 내열금속카바이드층을 형성하는 제3단계와; 상기 내열금속카바이드층을 형성하고 남아있는 탄화층을 제거하는 제4단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 탄화규소에 내열금속카바이드를 오믹 접촉 형성시키는 방법 및 이를 이용한 전력용 반도체 소자를 기술적 요지로 한다.

또한, 상기 제1단계는, 포토레지스터를 상기 탄화규소 기판 상층에 도포하고 열처리하여 탄화층을 형성시키되, 열처리는 900℃ 이상에서 산소가 없는 분위기에서 10분~30분 동안 수행하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 제1단계는, 탄소를 직접 탄화규소 기판 상에 증착하여 탄화층을 형성시키는 것이 바람직하다.

본 특허를 이용한 내열금속카바이드와 탄화규소의 오믹성 접촉의 경우, 금속실리사이드의 형성이 억제되어 균일한 특성의 접촉 형성이 용이하며, 또한 내열금속카바이드를 직접 증착하지 않고 저온에서 내열금속막을 탄화층에 증착한 후 열처리함으로써 내열금속카바이드를 용이하게 형성시킬 수 있으며, 이에 의해 형성된 내열금속카바이드는 탄화규소와 고온에서도 안정적인 오믹성 특성을 유지하여 고온용 탄화규소 전력용 반도체 소자의 신뢰성을 향상시키는 효과가 있다.

도 1a 내지 도 1f는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 탄화규소에 내열금속카바이드를 오믹 접촉 형성시키는 방법에 대한 개략적인 단면도이다.

먼저, 본 발명의 제1단계로, 준비된 탄화규소(SiC) 기판 상에 탄화층(111)을 형성시키는 것이다. 상기 탄화층(111)은 포토레지스터(110)를 상기 탄화규소 기판(100) 상층에 도포하고 열처리하여 형성시키거나, 탄소를 직접 탄화규소 기판(100) 상에 증착하여 형성시킬 수 있다. 도면은 포토레지스터(110)를 이용하여 탄화층(111)을 형성시킨 경우이다.

포토레지스터(110)를 이용한 방법은 적정 량의 포토레지스터(110)를 스핀코팅(spin coating) 방법으로 상기 탄화규소 기판(100) 상층에 형성시킨 후, 이를 900℃ 이상에서 10분 이상 바람직하게는 10분 내지 30분 동안 산소가 없는 분위기에서 열처리함으로써 포토레지스터(110)를 치밀한 구조를 갖는 탄화층(111)으로 변 환 형성시키게 된다.

그리고, 탄소를 직접 탄화규소 기판(100) 상에 증착하는 방법은 탄소타겟을 이용한 펄스레이저증착법이나 플라즈마 증착법, 이온빔 증착법 등의 물리적 박막 증착법에 의해 탄화층(111)을 형성시킬 수 있다.

상기 탄화층(111)을 미리 탄화규소 기판(100)에 형성시킴으로써, 후술할 내열금속막(120)과의 열처리시 탄화규소 내 실리콘(Si)과 금속 간의 반응을 최소한으로 억제하여 결과적으로 실리사이드(silicide)의 형성을 억제하고, 카바이드(carbide)의 형성을 용이하게 한다.

그 다음, 상기 탄화층(111) 상부에 오믹 접촉 형성이 필요한 부분에 대해 선택적으로 내열금속막(120)을 형성시키는 것이다. 상기 내열금속막(120)으로는 Ta, W, Mo, Nb, Re 등의 금속을 사용하며, 탄화규소와의 오믹 접촉특성을 이용하기에는 Mo와 W 금속의 카바이드를 형성시키는 것이 좋다. 이들 금속은 주로 스퍼터(Sputtering) 또는 전자빔 증착(Electron beam evaporation)법을 이용하여 증착되나, 특별하게는 유기화합물 화학기상증착법(MOCVD)법을 이용할 수도 있다.

상기 탄화층(111) 상부에 내열금속막(120)을 형성시킨 후 내열금속카바이드와 탄화규소 간 오믹 접촉 형성에 적합한 온도에서 어닐링하면 증착된 내열금속막(120) 아래부분의 탄화층(111)과 내열금속막(120)이 우선 반응하여 내열금속카바이드층(121)을 형성하고, 탄화규소와의 계면부분에서는 일부가 반응하여 오믹성 접촉을 형성하게 된다.

이때 탄화규소와 내열금속간에는 직접적으로 반응이 일어나지 않고 내열금속 카바이드와 반응이 일어나게 되므로 내열금속실리사이드의 형성은 최소한으로 억제되어 거의 발생하지 않는다.

그 다음, 상기 내열금속카바이드층(121)의 형성 및 탄화규소와의 오믹성 접촉형성이 완료되면 RIE(Reactive-ion etching) 등을 통해 내열금속카바이드층(121)을 형성하고 남아있는 탄화층(111)을 제거한다. 상기 탄화층(111)의 제거는 도 1e에 도시된 바와 같이, 일반적으로 알려진 포토레지스터(110)의 제거(ashing)공정인 이온 충격법(ion bombardment)을 이용하는 것이 바람직하다.

이에 의해 최종적으로 탄화규소 기판(100) 상에 내열금속카바이드층(121)이 오믹성 접촉으로 형성되게 된다. 이와 같이 내열금속카바이드가 탄화규소에 오믹성 접촉 형성되며, 고온에서도 그 특성이 안정하여 탄화규소 전력용 반도체 소자 특히, 내열성이 요구되는 다이오드 소자에 활용할 수 있게 된다.

도 1a ~ 도 1f - 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 탄화규소에의 오믹 접촉 형성 공정에 대한 개략적인 단면도.

<도면에 사용된 주요 부호에 대한 설명>

100 : 탄화규소 기판 110 : 포토레지스터

111 : 탄화층 120 : 내열금속막

121 : 내열금속카바이드층

Claims (5)

1. 포토레지스터(110)를 탄화규소 기판(100) 상층에 도포하고 열처리하여 탄화층(111)을 형성시키는 제1단계와;

   상기 탄화층(111) 상부에 오믹 접촉 형성이 필요한 부분에 대해 선택적으로 내열금속막(120)을 형성하는 제2단계와;

   상기 내열금속막(120)과 탄화층(111)의 탄소를 반응시켜 내열금속카바이드층(121)을 형성하는 제3단계와;

   상기 내열금속카바이드층(121)을 형성하고 남아있는 탄화층(111)을 제거하는 제4단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 탄화규소에 내열금속카바이드를 오믹 접촉 형성시키는 방법.
2. 삭제
3. 제 1항에 있어서, 상기 열처리는 900℃ 이상에서 10분~30분 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 탄화규소에 내열금속카바이드를 오믹 접촉 형성시키는 방법.
4. 삭제
5. 삭제

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