KR101048635B1 - 플라즈마 프로세서 - Google Patents
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Abstract
Description
매칭 네트워크(30)는 적어도 조절되는 한 쌍의 가변 리액턴스를 포함하며, 따라서, 가변 전력 RF 증폭기(26)의 출력 임피던스와 판(12)에 의해 형성된 부하 및 판에 의해 여기된 플라즈마의 임피던스 사이에 임피던스 매칭이 존재한다. 매칭 네트워크(30)의 가변 리액턴스들은, 내부의 컨덕터와 케이블(28)의 접지 사이의 전압 및 케이블안으로 흐르는 전류에 응답되도록 전기적으로 그리고 자기적으로 커플링되는 전압-전류 프로브(36)의 출력 신호들의 작용에 응답하여 DC 모터들(33, 35)에 의해 조절된다. 프로브들(20, 32)과 같이, 프로브(36)는 프로브가 검출하는 RF 전압 및 전류의 레플리카인 출력 신호들을 유도한다.
Claims (29)
- 챔버의 가스와 전기적 커플링을 위한 리액티브 임피던스 요소를 포함하는, 가공물의 처리를 위한 진공 플라즈마 챔버; 및상기 챔버의 가스를 상기 리액티브 임피던스 요소와 연결되는 플라즈마로 여기시킬 수 있는 전력을 갖는 AC 전원을 포함하고,상기 챔버는 AC 또는 DC 전원이 전극과 DC 커플링되지 않도록 AC 접지로의 연결을 갖는 상기 전극을 포함하고, 상기 전극의 AC 접지로의 연결은 한정된 논-제로 AC 전압이 상기 전극과 AC 접지 사이에서 나타나도록 되어 있고, 상기 전극의 AC 접지로의 연결은 상기 전극과 AC 접지 사이에 유지되는 실질적으로 일정한 한정된 논-제로 AC 전압이 존재하도록 배치된 AC 임피던스를 포함하는, 플라즈마 프로세서.
- 제 1 항에 있어서,상기 전극과 AC 접지 사이의 연결에서 하나 이상의 AC 파라미터를 검출하기 위한 검출기 설비, 및 상기 실질적으로 일정한 한정된 논-제로 AC 전압을 제공하는 AC 임피던스를 제어하기 위해 상기 검출기 설비에 응답하도록 연결된 컨트롤러를 더 포함하는, 플라즈마 프로세서.
- 제 2 항에 있어서,상기 AC 임피던스는 가변 리액턴스를 포함하고, 상기 컨트롤러는 상기 가변 리액턴스의 값을 제어하기 위해 상기 검출기 설비에 응답하도록 배치된, 플라즈마 프로세서.
- 제 3 항에 있어서,상기 가변 리액턴스는 가변 인덕터를 포함하는, 플라즈마 프로세서.
- 제 3 항에 있어서,상기 가변 리액턴스는 가변 캐패시터를 포함하는, 플라즈마 프로세서.
- 제 3 항에 있어서,상기 가변 리액턴스는 가변 인덕턴스 및 가변 캐패시터를 포함하고, 상기 컨트롤러는 상기 전극의 AC 접지로의 연결에서 상기 가변 인덕턴스 및 상기 가변 캐패시터 중 하나 이상을 선택적으로 연결하기 위해 상기 검출기 설비에 응답하도록 배치된, 플라즈마 프로세서.
- 제 2 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 검출기 설비는 상기 전극의 AC 접지로의 연결과 커플링된 전압-전류 프로브를 포함하는, 플라즈마 프로세서.
- 제 2 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 검출기 설비는 상기 챔버 상에 설치되는, 플라즈마 프로세서.
- 제 2 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 AC 임피던스는 가변 저항을 포함하고, 상기 컨트롤러는 상기 전극의 AC 접지로의 연결에서 상기 가변 저항을 선택적으로 연결하기 위하여, 그리고 상기 가변 저항의 값을 제어하기 위하여, 상기 검출기 설비에 응답하도록 배치되는, 플라즈마 프로세서.
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- 진공 플라즈마 처리 챔버에서 플라즈마를 이용하여 가공물을 처리하는 방법으로서,상기 진공 플라즈마 처리 챔버는, 챔버의 가스와 전기적 커플링을 위한 리액티브 임피던스 요소와, AC 또는 DC 전원이 전극과 DC 커플링되지 않도록 AC 접지로의 연결을 갖는 상기 전극을 포함하고, 상기 전극의 AC 접지로의 연결은 한정된 논-제로 AC 전압이 상기 전극과 AC 접지 사이에서 나타나도록 되어 있고,상기 가공물 처리 방법은, 상기 전극과 AC 접지 사이에 일정하고 한정된 논-제로 AC 전압을 유지하면서, 상기 챔버 내의 가스를 플라즈마로 여기시키도록 전력을 상기 리액티브 임피던스 요소에 공급하는 단계를 포함하는, 가공물 처리 방법.
- 제 15 항에 있어서,상기 전극의 AC 접지로의 연결은 AC 임피던스를 포함하고, 상기 전극의 AC 접지로의 연결의 AC 임피던스에 걸쳐 일정한 AC 전압을 유지함으로써 상기 전극과 AC 접지 사이에 일정하고 한정된 논-제로 AC 전압이 제공되는, 가공물 처리 방법.
- 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,상기 가공물 처리 방법은, 복수의 가공물들과 관련하여 수행되고, 상기 복수의 가공물들이 상기 진공 플라즈마 챔버 내에서 처리되는 동안 상기 전극과 AC 접지 사이에 동일한 일정한 논-제로 AC 전압이 유지되는, 가공물 처리 방법.
- 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,상기 가공물 처리 방법은, 실질적으로 동일한 특성들을 갖는 복수의 진공 플라즈마 챔버들과 관련하여 수행되고, 상이한 상기 진공 플라즈마 챔버들의 특성들은 상기 상이한 챔버들의 전극과 AC 접지 사이의 연결에서 상이한 논-제로 AC 전압이 나타나는 것을 야기하도록 서로 상이하며, 명목상 동일한 프로세싱 조건들 하에서 작동하는 상기 복수의 진공 플라즈마 챔버들에서 상기 전극과 AC 접지 사이에 동일한 일정한 논-제로 AC 전압을 유지하는, 가공물 처리 방법.
- 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,상기 가공물 처리 방법은, 상기 전극과 AC 접지 사이의 상기 연결에서 AC 임피던스를 연결하고, 상기 AC 임피던스에 걸쳐 일정한 한정된 논-제로 AC 전압을 유지함으로써 수행되는, 가공물 처리 방법.
- 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,상기 전극과 AC 접지 사이의 상기 일정한 한정된 논-제로 AC 전압은, 상기 전극과 AC 접지 사이의 AC 전압 및 상기 전극과 AC 접지 사이를 흐르는 AC 전류를 나타내는 하나 이상의 파라미터를 검출하고, 상기 검출된 하나 이상의 파라미터에 응답하여 임피던스를 제어함으로써 유지되는, 가공물 처리 방법.
- 제 20 항에 있어서,상기 AC 임피던스에 걸친 상기 한정된 논-제로 AC 전압은 상기 검출된 하나 이상의 파라미터에 응답하여 상기 AC 임피던스의 값을 제어함으로써 일정하게 유지되는, 가공물 처리 방법.
- 제 20 항에 있어서,상기 AC 임피던스는 가변 캐패시터 및 가변 인덕터를 포함하고, 상기 제어 는 상기 전극과 AC 접지 사이의 연결에서 상기 가변 캐패시터 및 가변 인덕터 중 일방 또는 양자를 연결하는 단계를 포함하는, 가공물 처리 방법.
- 제 20 항에 있어서,상기 AC 임피던스는 가변 리액턴스 및 가변 저항을 포함하고, 상기 제어는 상기 전극과 AC 접지 사이의 연결에서 상기 가변 리액턴스 및 가변 저항 중 일방 또는 양자를 연결하는 단계, 및 상기 가변 리액턴스 또는 가변 저항의 값을 제어하는 단계를 포함하는, 가공물 처리 방법.
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