KR100981162B1

KR100981162B1 - 처리 가스 공급 시스템 및 처리 가스 공급 방법

Info

Publication number: KR100981162B1
Application number: KR1020087010775A
Authority: KR
Inventors: 키요시 코미야마; 아키토시 츠지; 타쿠야 후지와라
Original assignee: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Priority date: 2006-09-15
Filing date: 2007-08-10
Publication date: 2010-09-10
Also published as: WO2008032516A1; US8261762B2; JP2008069918A; US20090170332A1; TW200902901A; TWI341372B; KR20080056758A; JP4606396B2

Abstract

가스 봄베(210)로부터의 처리 가스를 처리 장치로 공급하는 처리 가스 공급 배관(220)과, 가스 공급 배관으로 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급원(230)을 구비하고, 시스템 가동 중에는 가스 공급 배관 내에 불활성 가스를 충전하고 대기하여 처리 장치로부터 처리 가스 사용 개시 신호(S)를 수신하면, 가스 공급 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기하여 처리 가스를 충전하며, 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스 공급을 개시하고 처리 장치로부터 처리 가스 사용 종료 신호(F)를 수신하면, 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스 공급을 정지하고 가스 공급 배관 내의 처리 가스를 진공 배기하여 불활성 가스를 충전한다. 이로 인해, 처리 장치에서 처리 가스를 사용하지 않는 경우에는, 처리 가스 공급원으로부터 처리 장치까지의 배관 내를 불활성 가스가 충전된 상태로 하여, 그 동안에 배관 내에 퇴적물이 발생되는 것을 방지할 수 있다.

Description

처리 가스 공급 시스템 및 처리 가스 공급 방법 {PROCESSING GAS SUPPLYING SYSTEM AND PROCESSING GAS SUPPLYING METHOD}

본 발명은, 처리 장치로 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급 시스템 및 처리 가스 공급 방법에 관한 것이다.

반도체 제조 공장 내에는 열 처리 장치, 성막 처리 장치, 에칭 처리 장치 등의 각종 처리 장치가 배치된다. 이러한 처리 장치에서는 각종 처리 가스가 이용되므로, 반도체 제조 공장 내에는 처리 가스 공급원으로서, 예를 들면 가스 봄베(실린더)에 충전되어 있는 처리 가스를 배관을 거쳐 처리 장치까지 공급하는 가스 공급 장치가 설치되어 있다. 또한, 처리 가스 공급원으로서는, 가스 봄베 대신에 전해조를 구비하는 가스 발생 장치를 이용하는 경우도 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조).

가스 공급 장치의 배관은 각 처리 장치에 설치된 가스 박스에 접속되어 있다. 가스 박스는 필요에 따라 가스 도입 밸브를 열어 가스 공급 장치의 배관으로부터의 처리 가스를 도입하고, 매스 플로우 콘트롤러(MFC) 등의 유량 조정기에 의해 유량을 조정하여 처리실(챔버)로 공급하도록 되어 있다.

종래에는, 가스 공급 장치의 가동 중에는, 예를 들면 가스 봄베의 교환 시 (예를 들면, 특허 문헌 2 참조) 또는 가스 누설 발생 시 등의 예외의 경우를 제외하고, 항상 가스 공급 장치의 배관 내에 처리 가스를 충전하여, 처리 가스를 사용할 수 있는 상태로 하고 있었다. 이로 인해, 처리 장치 측에서 처리 가스를 사용하는 경우에는, 가스 박스의 가스 도입 밸브를 열어 즉시 처리 가스를 처리실 내로 도입하여, 예를 들면 웨이퍼에 대한 처리를 실행할 수 있다.

또한, 처리 장치 측에서의 웨이퍼의 처리가 종료되면, 가스 박스의 가스 도입 밸브를 닫아 처리 가스의 공급을 정지하고, 그 후에는 웨이퍼의 반출입 또는 처리실 내의 컨디션 조정 등을 행한 다음, 다시 가스 박스의 가스 도입 밸브를 열어 처리 가스를 처리실 내로 도입한다.

[특허 문헌 1] 특개 2004－169123호 공보

[특허 문헌 2] 특개 2003－14193호 공보

그러나, 종래에는 상술한 바와 같이, 가스 공급 장치의 가동 중에는 항상 배관 내에 처리 가스가 충전되어 있어서, 가스 공급 장치의 배관을 구성하는 금속과 처리 가스가 접촉하는 시간이 매우 길었다. 이 때문에, 처리 가스의 종류(예를 들면, HF 가스 등의 반응성 가스)에 따라서는, 배관을 구성하는 금속과 반응하여 그 배관의 내벽에 원하지 않는 퇴적물(예를 들면, 금속 불화물)이 부착될 우려가 있다.

이러한 배관 내에서의 퇴적물의 발생 상황은, 처리 장치 측에서의 처리 가스 사용 여부에 따라 다른 경향이 있다. 예를 들면, 처리실 내에서 웨이퍼 처리를 실행하고 있는 동안 등과 같이 처리 장치 측에서 처리 가스를 사용하고 있을 때에는, 가스 공급 장치의 배관 내에는 항상 처리 가스가 흐르고 있으므로 퇴적물이 발생되기 어렵다. 이와 반대로, 처리실 내에서의 웨이퍼 처리가 종료된 다음, 다음의 웨이퍼 처리를 개시할 때까지 등과 같이 처리 장치 측에서 처리 가스를 사용하고 있지 않을 때에는, 가스 공급 장치의 배관 내에는 처리 가스가 체류하므로, 그 동안에 배관의 내벽에 퇴적물이 발생하기 쉽다.

그런데, 종래에는 처리 장치 측에서 처리 가스를 사용하고 있지 않을 때에도 가스 공급 장치의 배관 내에는 처리 가스가 충전된 상태가 되어서, 그 동안에 배관 내벽에 퇴적물이 부착되기 쉬웠다. 이 때문에, 예를 들면 처리 장치 측에서 가스 도입 밸브를 열었을 때, 그 퇴적물이 배관 내벽으로부터 벗겨져서 처리 가스와 함께 처리실 내로 들어가 파티클 발생의 원인이 되는 등, 오염 문제 또는 밸브 등의 내부 누설 문제가 발생되었다.

또한, 상기 특허 문헌 1, 2에는 가스 봄베의 교환 또는 전해욕(電解浴)의 역류 방지를 위하여, 일부 배관 내의 HF 가스를 배기하여 불활성 가스를 도입하는 점에 대하여 기재되어 있다. 그런데, 그 밖의 배관 내에는 항상 처리 가스가 충전되어 있는 점에서, 상술한 종래의 경우와 마찬가지로 그 배관 내에 처리 가스가 체류하므로 배관 내벽에 퇴적물이 부착되기 쉽다.

예를 들면, 상기 특허 문헌 1에는, 불소 가스를 처리 가스로 하는 경우의 처리 가스 공급원으로서, HF 가스를 가스 도입 밸브(제 1 자동 밸브)에 의하여 전해조로 도입함으로써 불소를 발생시키는 불소 가스 발생 장치가 기재되어 있다. 이 불소 가스 발생 장치는, HF 가스의 공급 정지 시에 전해조로부터 전해욕이 역류되는 것을 방지하기 위하여, 전해조 측의 일부 배관(가스 도입 밸브의 하류측 배관) 내에서만의 잔류 가스를 불활성 가스로 치환하도록 되어 있다. 그런데, 이 불소 가스 발생 장치에서는, 가스 도입 밸브의 개폐로 언제든지 전해조로 HF 가스를 도입할 수 있도록, 가스 도입 밸브까지의 상류측 배관에는 항상 HF가 충전되어 있다. 이 때문에, 종래의 경우와 마찬가지로 그 배관 내에 처리 가스가 체류하므로, 배관 내벽에 퇴적물이 부착되기 쉽다.

또한, 상기 특허 문헌 2에는, 가스 봄베(실린더)의 교환을 위하여 가스 봄베를 배관으로부터 떼어낼 필요가 있으므로, 그 가스 봄베 측에 접속되는 배관(1차측 배관) 내만을 배기하여 불활성 가스를 도입하는 것이 기재되어 있다. 그런데, 1차측 배관에만 불활성 가스를 도입해도, 2차측 배관을 포함하는 하류측의 배관에는 항상 처리 가스가 충전되어 있다. 이 때문에, 종래의 경우와 마찬가지로 그 배관 내에 처리 가스가 체류하므로, 배관 내벽에 퇴적물이 부착되기 쉽다.

여기서 본 발명은 이러한 문제를 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은, 처리 장치에서 처리 가스를 사용하지 않는 경우에는, 처리 가스 공급원으로부터 처리 장치까지의 배관 내를 불활성 가스 충전 상태로 하여, 그 동안에 배관 내에 퇴적물이 발생되는 것을 방지함으로써, 처리 장치로 퇴적물이 들어가는 것을 방지할 수 있는 가스 공급 시스템 및 가스 공급 방법을 제공하는 것에 있다.

상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 어느 한 관점에 의하면, 처리 가스(예를 들면, HF 가스 등의 배관을 구성하는 금속과의 반응성이 높은 가스)를 처리 장치까지 공급하는 가스 공급 시스템에 있어서, 상기 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급원과, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스를 상기 처리 장치로 공급하는 가스 공급 배관과, 상기 가스 공급 배관에 불활성 가스(예를 들면, N₂ 가스 등의 배관을 구성하는 금속과 반응하지 않는 가스)를 공급하는 불활성 가스 공급원과, 상기 가스 공급 배관 내를 진공 배기하는 진공 배기 수단과, 상기 처리 장치로부터의 신호를 수신하고, 수신한 신호에 응답하여 상기 가스 공급 배관 내의 상태를 제어하는 제어 장치를 구비하고, 상기 제어 장치는, 시스템 가동 중에는 상기 가스 공급 배관 내에 불활성 가스를 충전하여 대기하고, 상기 처리 장치로부터 처리 가스 사용 개시 신호를 수신하면, 상기 가스 공급 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기하여 처리 가스를 충전하고, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스 공급을 개시하며, 상기 처리 장치로부터 처리 가스 사용 종료 신호를 수신하면, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스 공급을 정지하고, 상기 가스 공급 배관 내의 처리 가스를 진공 배기하여 불활성 가스를 충전하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템이 제공된다.

상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 다른 관점에 의하면, 처리 가스(예를 들면, HF 가스)를 처리 장치까지 공급하는 가스 공급 시스템의 가스 공급 방법에 있어서, 상기 가스 공급 시스템은, 상기 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급원과, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스를 상기 처리 장치로 공급하는 가스 공급 배관과, 상기 가스 공급 배관에 불활성 가스(예를 들면, N₂ 가스)를 공급하는 불활성 가스 공급원과, 상기 가스 공급 배관 내를 진공 배기하는 진공 배기 수단과, 상기 처리 장치로부터의 신호를 수신하고, 수신한 신호에 응답하여 상기 가스 공급 배관 내의 상태를 제어하는 제어 장치를 구비하고, 시스템 가동 중에는 상기 가스 공급 배관 내에 불활성 가스를 충전하여 대기하는 공정과, 상기 제어 장치가 상기 처리 장치로부터 처리 가스 사용 개시 신호를 수신하면, 상기 진공 배기 수단에 의하여 상기 가스 공급 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기하여, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스를 상기 가스 공급 배관 내에 충전한 후, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스 공급을 개시하는 공정과, 상기 제어 장치가 상기 처리 장치로부터 처리 가스 사용 종료 신호를 수신하면, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스 공급을 정지하고, 상기 진공 배기 수단에 의하여 상기 가스 공급 배관 내의 처리 가스를 진공 배기한 후, 상기 불활성 가스 공급원으로부터의 불활성 가스를 상기 가스 공급 배관 내에 충전하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템의 가스 공급 방법이 제공된다.

이러한 본 발명에 의하면, 처리 장치에서 처리 가스를 사용하는 경우에만 가스 공급 배관 내에 처리 가스를 충전하고, 처리 장치에서 처리 가스를 사용하지 않는 경우에는 항상 가스 공급 배관 내를 불활성 가스가 충전된 상태로 할 수 있다. 이로 인해, 처리 장치에서 처리 가스를 사용하지 않는 경우에는 처리 가스와 배관 내의 금속이 접촉하지 않으므로, 그 동안에 배관 내에 퇴적물이 부착되는 것을 방지할 수 있다. 이 때문에, 그 후 다시 처리 장치 측에서 처리 가스를 사용할 때에 처리 장치로 퇴적물이 들어가는 것을 방지할 수 있다.

또한, 상기 장치 또는 방법에 있어서, 상기 가스 공급 배관은, 상기 처리 가스 공급원 측의 1차 배관과, 상기 처리 장치 측의 2차 배관으로 나뉘어지며, 상기 가스 공급 배관 내에 처리 가스를 충전할 때에는, 먼저 상기 1차 배관을 진공 배기하여 불활성 가스를 배기한 다음, 상기 2차 배관을 진공 배기하여 불활성 가스를 배기한 후, 상기 1차 배관 및 상기 2차 배관에 처리 가스를 충전하며, 상기 가스 공급 배관 내에 불활성 가스를 충전할 때에는, 먼저 상기 2차 배관을 진공 배기하여 처리 가스를 배기한 다음, 상기 제 1차 배관을 진공 배기하여 처리 가스를 배기한 후, 상기 1차 배관 및 상기 2차 배관에 불활성 가스를 충전하는 것이 바람직하다.

이와 같이, 가스 공급 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기할 때에는, 처리 장치 측의 2차 배관에 불활성 가스를 충전한 채, 먼저 처리 가스 공급원 측의 1차 배관을 진공 배기하므로, 처리 장치 내의 배관에 영향을 주지 않고 확실하게 배관 내를 진공 배기할 수 있다. 또한, 가스 공급 배관 내의 처리 가스를 진공 배기할 때에는, 처리 장치 측의 2차 배관을 먼저 진공 배기함으로써, 처리 장치 측에 가까운 배관의 처리 가스를 보다 일찍 배기할 수 있다.

또한 상기 장치 또는 방법에 있어서, 상기 가스 공급 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기한 후에는, 처리 가스를 충전하기 전에 상기 가스 공급 배관 내의 불활성 가스 도입과 진공 배기를 상기 순서로 복수 회 반복하는 퍼지(purge)를 실행하며, 상기 가스 공급 배관 내의 처리 가스를 진공 배기한 후에는, 불활성 가스를 충전하기 전에 상기 가스 공급 배관 내의 진공 배기와 불활성 가스 도입을 상기 순서로 복수 회 반복하는 퍼지를 실행하는 것이 바람직하다. 이로 인해, 가스 공급 배관 내의 잔류 가스 또는 불순물 등을 확실하게 제거할 수 있다.

상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 다른 관점에 의하면, 처리 가스(예를 들면, HF 가스)를 복수의 처리 장치까지 각각 공급하는 가스 공급 시스템에 있어서, 상기 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급원과, 상기 처리 가스 공급원에 접속된 가스 공급 배관과, 상기 가스 공급 배관으로부터의 처리 가스를 분기(分岐)하여 상기 복수의 처리 장치로 각각 공급하는 복수의 분기 배관과, 상기 가스 공급 배관 및 상기 복수의 분기 배관으로 불활성 가스(예를 들면, N₂ 가스)를 공급하는 불활성 가스 공급원과, 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 복수의 분기 배관을 진공 배기하는 진공 배기 수단과, 상기 처리 장치로부터의 신호를 수신하고, 수신한 신호에 응답하여 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 복수의 분기 배관 내의 상태를 제어하는 제어 장치를 구비하고, 상기 제어 장치는, 시스템 가동 중에는 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 복수의 분기 배관 내에 불활성 가스를 충전하여 대기하고, 상기 처리 장치로부터의 처리 가스 사용 개시 신호를 수신하면, 상기 가스 공급 배관 및 상기 복수의 분기 배관 중, 사용하는 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기하여 처리 가스를 충전하고 처리 가스 공급을 개시하며, 상기 처리 장치로부터의 처리 가스 사용 종료 신호를 수신하면, 처리 가스 공급을 정지하고, 상기 가스 공급 배관 및 상기 복수의 분기 배관 중, 사용하지 않게 되는 배관 내의 처리 가스를 진공 배기하여 불활성 가스를 충전하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템이 제공된다.

상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 다른 관점에 의하면, 처리 가스(예를 들면, HF 가스)를 복수의 처리 장치까지 각각 공급하는 가스 공급 시스템의 가스 공급 방법에 있어서, 상기 가스 공급 시스템은, 상기 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급원과, 상기 처리 가스 공급원에 접속된 가스 공급 배관과, 상기 가스 공급 배관으로부터의 처리 가스를 분기하여 상기 복수의 처리 장치로 각각 공급하는 복수의 분기 배관과, 상기 가스 공급 배관 및 상기 복수의 분기 배관으로 불활성 가스(예를 들면, N₂ 가스)를 공급하는 불활성 가스 공급원과, 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 복수의 분기 배관을 진공 배기하는 진공 배기 수단과, 상기 처리 장치로부터의 신호를 수신하고, 수신한 신호에 응답하여 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 복수의 분기 배관 내의 상태를 제어하는 제어 장치를 구비하고, 시스템 가동 중에는 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 복수의 분기 배관 내에 불활성 가스를 충전하여 대기하는 공정과, 상기 제어 장치가 상기 처리 장치로부터의 처리 가스 사용 개시 신호를 수신하면, 상기 가스 공급 배관 및 상기 복수의 분기 배관 중, 사용하는 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기한 후, 처리 가스를 충전하여 처리 가스 공급을 개시 하는 공정과, 상기 처리 장치로부터의 처리 가스 사용 종료 신호를 수신하면, 처리 가스 공급을 정지하고, 상기 가스 공급 배관 및 상기 복수의 분기 배관 중, 사용하지 않게 되는 배관 내의 처리 가스를 진공 배기한 후, 불활성 가스를 충전하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템의 가스 공급 방법이 제공된다.

이러한 본 발명에 의하면, 처리 장치에서 처리 가스를 사용하는 경우에만 가스 공급 배관 내 및 각 분기 배관 중, 처리 가스 공급에 사용하는 배관 내에만 처리 가스를 충전하며, 처리 장치에서 처리 가스를 사용하지 않는 경우에는 가스 공급 배관 내 및 각 분기 배관의 사용하지 않는 배관 내를 불활성 가스가 충전된 상태로 할 수 있다. 이로 인해, 처리 장치에서 처리 가스를 사용하지 않는 경우에는 상기 배관 내의 금속과 처리 가스가 접촉하지 않으므로, 그 동안에 상기 배관 내에 퇴적물이 부착되는 것을 방지할 수 있다. 이 때문에, 그 후 다시 처리 장치 측에서 처리 가스를 사용할 때에 처리 장치로 퇴적물이 들어가는 것을 방지할 수 있다.

또한, 상기 장치 또는 방법에 있어서, 상기 제어 장치는, 상기 처리 장치로부터 처리 가스 사용 개시 신호를 수신하면, 그 신호 발신원의 처리 장치 이외의 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중인지의 여부를 판단하고, 상기 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중이라고 판단한 경우에는, 신호 발신원의 처리 장치에 접속된 분기 배관 내에서만의 불활성 가스를 진공 배기하여 처리 가스를 충전하고, 상기 가스 공급 배관으로부터의 처리 가스 공급을 개시하며, 상기 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중이 아니라고 판단한 경우에는, 상기 가스 공급 배관 내 및 신호 발신원의 처리 장치에 접속된 분기 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기하여 처리 가스를 충전하고, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스 공급을 개시하는 것이 바람직하다. 이로 인해, 처리 가스 사용 개시 신호를 수신했을 때에는, 처리 가스 공급에 사용하는 배관만을 진공 배기하여 처리 가스를 충전할 수 있다.

또한, 상기 장치 또는 방법에 있어서, 상기 제어 장치는, 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 분기 배관 내 양방에 처리 가스를 충전할 때에는, 먼저 상기 가스 공급 배관 내를 진공 배기한 다음, 상기 분기 배관을 진공 배기한 후, 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 분기 배관 내 양방에 처리 가스를 충전하는 것이 바람직하다. 이와 같이, 가스 공급 배관 내 및 분기 배관 내 양방의 불활성 가스를 진공 배기할 때에는, 처리 장치 측의 분기 배관에 불활성 가스를 충전한 채, 먼저 처리 가스 공급원 측의 가스 공급 배관을 진공 배기하므로, 처리 장치 측의 배관에 영향을 주지 않고 확실하게 배관 내를 진공 배기할 수 있다.

또한, 상기 장치 또는 방법에 있어서, 상기 제어 장치는, 상기 처리 장치로부터 처리 가스 사용 종료 신호를 수신하면, 그 신호 발신원의 처리 장치 이외의 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중인지의 여부를 판단하고, 상기 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중이라고 판단한 경우에는, 상기 가스 공급 배관으로부터의 처리 가스 공급을 정지하고, 상기 신호 발신원의 처리 장치에 접속된 분기 배관 내에서만의 처리 가스를 진공 배기하여 불활성 가스를 충전하고, 상기 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중이 아니라고 판단한 경우에는, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스 공급을 정지하고, 상기 가스 공급 배관 내 및 신호 발신원의 처리 장치에 접속된 분기 배관 내의 처리 가스를 진공 배기하여 불활성 가스를 충전하는 것이 바람직하다. 이로 인해, 처리 가스 사용 종료 신호를 수신했을 때에는, 처리 가스 공급에서 사용하지 않게 되는 배관만을 진공 배기하여 불활성 가스를 충전할 수 있다.

또한, 상기 장치 또는 방법에 있어서, 상기 제어 장치는, 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 분기 배관 내 양방에 불활성 가스를 충전할 때에는, 먼저 상기 분기 배관 내를 진공 배기한 다음, 상기 가스 공급 배관 내를 진공 배기한 후, 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 분기 배관 내 양방에 불활성 가스를 충전하는 것이 바람직하다. 이와 같이, 가스 공급 배관 내 및 상기 분기 배관 내 양방의 처리 가스를 진공 배기할 때에는, 처리 가스 공급원 측의 분기 배관을 먼저 진공 배기함으로써, 처리 장치 측에 가까운 배관의 처리 가스를 보다 일찍 배기할 수 있다.

또한, 상기 장치 또는 방법에 있어서, 상기 제어 장치는, 상기 사용하는 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기한 후에는, 처리 가스를 충전하기 전에 상기 배관 내의 불활성 가스 도입과 진공 배기를 상기 순서로 복수 회 반복하는 퍼지를 실행하며, 상기 사용하지 않게 되는 배관 내의 처리 가스를 진공 배기한 후에는, 불활성 가스를 충전하기 전에 상기 배관 내의 진공 배기와 불활성 가스 도입을 상기 순서로 복수 회 반복하는 퍼지를 실행하는 것이 바람직하다. 이로 인해, 가스 공급 배관 내의 잔류 가스 또는 불순물 등을 확실하게 제거할 수 있다.

본 발명에 의하면, 처리 장치에서 처리 가스의 사용 여부에 따라 처리 가스 공급원으로부터 처리 장치까지의 배관 내의 상태를 제어함으로써, 처리 장치에서 처리 가스를 사용하지 않는 경우에는 상기 배관 내를 불활성 가스 충전 상태로 할 수 있으므로, 그 동안에 배관 내에 퇴적물이 발생되는 것을 방지할 수 있다. 이로 인해, 그 후에 처리 장치 측에서 다시 처리 가스를 사용할 때에 처리 장치로 퇴적물이 들어가는 것을 방지할 수 있다.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 가스 공급 시스템의 개략적인 구성을 도시한 블록도이다.

도 2는 도 1에 도시한 가스 공급 시스템의 배관 구성예를 도시한 도면이다.

도 3은 동일한 실시예에 따른 가스 공급 처리의 구체적인 예를 도시한 흐름도이다.

도 4는 도 3에 도시한 처리 가스 공급 개시 처리의 구체적인 예를 도시한 흐름도이다.

도 5는 도 3에 도시한 처리 가스 공급 종료 처리의 구체적인 예를 도시한 흐름도이다.

도 6은 동일한 실시예에서의 각 배관 내의 상태를 설명하는 도면이다.

도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 가스 공급 시스템의 개략적인 구성을 도시한 블록도이다.

도 8은 도 7에 도시한 가스 공급 시스템의 배관 구성예를 도시한 도면이다.

도 9는 동일한 실시예에 따른 가스 공급 처리의 구체적인 예를 도시한 흐름도이다.

도 10은 도 9에 도시한 처리 가스 공급 개시 처리의 구체적인 예를 도시한 흐름도이다.

도 11은 도 10에 도시한 처리 가스 공급 개시 처리에 있어서, 그 밖의 처리 장치(M/C)에서 처리 가스를 사용하고 있지 않은 경우의 처리의 구체적인 예를 도시한 흐름도이다.

도 12는 도 9에 도시한 처리 가스 공급 종료 처리의 구체적인 예를 도시한 흐름도이다.

도 13은 도 12에 도시한 처리 가스 공급 종료 처리에 있어서, 그 밖의 처리 장치(M/C)에서 처리 가스를 사용하고 있지 않은 경우의 처리의 구체적인 예를 도시한 흐름도이다.

도 14는 동일한 실시예에서의 각 배관 내의 상태를 설명하는 도면이다.

* 부호의 설명 *

100 처리 장치(M/C)

100A ~ 100D 처리 장치(M/C)

110 처리실

120 가스 박스

122 가스 도입 배관

200 실린더 캐비닛(C/C)

210 가스 봄베

220 가스 공급 배관

220 처리 가스 공급 배관

230 불활성 가스 공급원

232 불활성 가스 공급 배관

240 진공 발생기

246 배기관

247 배관

250 진공 펌프

300 가스 공급 장치

310 제어 장치

400 분기 박스(B/B)

410A ~ 410D 분기 배관

420 불활성 가스 공급 배관

440 진공 배기용 배관

S(S_A, S_B, S_C, S_D) 처리 가스 공급 개시 신호

F(F_A, F_B, F_C, F_D) 처리 가스 사용 종료 신호

이하에 첨부된 도면을 참조하면서, 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 본 명세서 및 도면에 있어서, 실질적으로 동일한 기능 구성을 갖는 구성 요소에 대해서는 동일한 부호를 붙여 중복 설명을 생략한다.

(제 1 실시예에 따른 가스 공급 시스템)

우선, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 가스 공급 시스템에 대하여 설명한다. 도 1은 제 1 실시예에 따른 가스 공급 시스템의 개략적인 구성을 도시한 블록도이며, 도 2는 도 1에 도시한 가스 공급 시스템의 배관 구성예를 도시한 도면이다. 제 1 실시예에 따른 가스 공급 시스템은, 도 1에 도시한 바와 같이 처리 장치(100)로 처리 가스를 공급하는 가스 공급 장치(300)를 구비한다.

가스 공급 장치(300)는, 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스를 처리 가스 공급 배관(가스 공급 배관)(220)을 거쳐 처리 장치(100)로 공급하는 실린더 캐비닛(C/C)(200)과, 실린더 캐비닛(C/C)(200) 내의 각부(예를 들면, 밸브 등)의 제어를 행하는 제어 장치(310)를 구비한다. 한편, 처리 장치(M/C)(100)는, 예를 들면 반도체 웨이퍼 또는 FPD(Flat Panel Display)용 기판 등의 피처리 기판에, 처리 가스를 이용하여 에칭 처리, 성막 처리 등을 실시하는 처리실(챔버)(110)과, 처리 가스 공급 배관(220)으로부터의 처리 가스를 가스 도입 밸브를 열어 도입하고, 그 유량을 조정하여 처리실(110)로 공급하는 가스 박스(120)와, 처리 장치(100)의 각부(가스 박스(120)의 밸브 등 또는 처리실(110)로의 고주파 전력 공급 등)를 제어하는 M/C 제어부(130)를 구비한다.

이러한 실린더 캐비닛(C/C)(200) 및 처리 장치(100)의 배관 구성예에 대하여 도 2를 참조하면서 설명한다. 실린더 캐비닛(C/C)(200)은, 도 2에 도시한 바와 같이 처리 가스(예를 들면, HF 가스)를 충전한 처리 가스 공급원으로서의 가스 봄베(210)를 구비한다. 가스 봄베(210)에는 처리 가스 공급 배관(220)이 접속되어 있다.

처리 가스 공급 배관(220)에는, 가스 봄베(210) 측으로부터 순서대로 에어 밸브(AVl, AV2)가 설치되어 있다. 이들 에어 밸브(AVl, AV2)에 의하여, 처리 가스 공급 배관(220)은 가스 봄베(210) 측으로부터 순서대로 제 1 배관(222), 제 2 배관(224), 제 3 배관(226)으로 나뉜다. 또한, 제 1 실시예에서의 제 1, 제 2 배관(222, 224)은 가스 봄베(210) 측의 1차 배관을 구성하고, 제 3 배관(226)은 처리 장치(100) 측의 2차 배관을 구성한다.

처리 가스 공급 배관(220)에는, 그 배관 내로 불활성 가스(예를 들면, N₂ 가스)를 소정의 압력으로 공급하기 위한 불활성 가스 공급원(230)이 불활성 가스 공급 배관(232)을 거쳐 접속되어 있다. 구체적으로는 도 2에 도시한 바와 같이, 불활성 가스 공급 배관(232)은 예를 들면 제 1 배관(222)에 에어 밸브(AV3)를 거쳐 접속되어 있다. 또한, 불활성 가스 공급 배관(232)에는, 이 불활성 가스 공급 배관(232)을 개폐하는 원(元) 밸브로서의 에어 밸브(AV－N)가 설치되어 있다. 따라서, 이들 에어 밸브(AV－N, AV3)를 제어함으로써, 제 1 배관(222)으로부터 처리 가스 공급 배관(220)으로 불활성 가스를 공급할 수 있다.

또한, 처리 가스 공급 배관(220)에는, 그 배관 내의 진공 배기를 행하기 위한 진공 발생기(240)가 배기관(246)을 거쳐 접속되어 있다. 구체적으로는 도 2에 도시한 바와 같이, 배기관(246)은 분기하여 제 2 배관(224)에 에어 밸브(AV5, AV4)를 거쳐 접속되며, 또한 제 3 배관(226)에 에어 밸브(AV7, AV6)를 거쳐 접속되어 있다. 또한, 진공 발생기(240)는, 예를 들면 이 가스 공급 시스템이 설치된 공장 내의 배기 설비 등에 접속되어 있고, 배기관(246)으로부터의 배기는 진공 발생기(240)를 거쳐 상기 배기 설비 등으로 배출된다.

진공 발생기(240)는, 상기 불활성 가스 공급원(230)에 배관(247)을 거쳐 접속되어 있다. 또한, 배관(247)에는 에어 밸브(AV－VG)가 설치되어 있다. 이 에어 밸브(AV－VG)를 열면, 불활성 가스 공급원(230)으로부터의 불활성 가스는 배관(247)을 통하여 진공 발생기(240)로 흘러 배기된다. 이와 같이, 불활성 가스가 배관(247)을 거쳐 진공 발생기(240)로 흐름으로써, 배기관(246)을 거쳐 제 2 배관(224), 제 3 배관(226)을 진공 배기할 수 있다.

또한, 각 에어 밸브(AVl ~ AV7, AV－N, AV－VG) 및 가스 봄베(210)의 밸브(CV)는 각각, 도 1에 도시한 제어 장치(310)에 의하여 제어되도록 되어 있다. 제어 장치(310)는, 예를 들면 CPU(Central Processing Unit), CPU가 처리를 실행하기 위해 사용하는 ROM(Read Only Memory), RAM(Random Access Memory), CPU가 실행하는 각종 프로그램을 기억하기 위한 하드 디스크 또는 메모리 등의 기억 수단을 구비한다.

처리 장치(M/C)(100)의 가스 박스(120)는, 실린더 캐비닛(C/C)(200)으로부터의 처리 가스를 도입하여 처리실(110)로 공급하는 가스 도입 배관(122)을 구비한다. 가스 도입 배관(122)에는 가스 도입 밸브로서의 에어 밸브(AV1S, AV2S)가 설치되어 있고, 이들 에어 밸브(AV1S, AV2S)의 사이에는, 가스 도입 배관(122)을 흐르는 처리 가스의 유량을 조정하는 유량 조정기로서, 예를 들면 매스 플로우 콘트롤러(MFC)(124)가 설치되어 있다.

또한, 각 에어 밸브(AV1S, AV2S), MFC(124)는 각각 도 1에 도시한 M/C 제어 부(130)에 의하여 제어되도록 되어 있다. M/C 제어부(130)는, 예를 들면 CPU(Central Processing Unit), CPU가 처리를 실행하기 위해 사용하는 ROM(Read Only Memory), RAM(Random Access Memory), CPU가 실행하는 각종 프로그램을 기억하기 위한 하드 디스크 또는 메모리 등의 기억 수단을 구비한다.

본 실시예에서의 M/C 제어부(130)에서는, 처리실(110) 내에서 처리 가스를 이용한 처리를 행할 때에 처리 가스 사용 개시 신호(S)를 제어 장치(310)로 송신하고, 처리실(110) 내에서 처리 가스를 이용한 처리가 종료되면, 처리 가스 사용 종료 신호(F)를 제어 장치(310)로 송신하도록 되어 있다. 제어 장치(310)는 이들 M/C 제어부(130)로부터의 신호에 기초하여 각 배관 내를 배기하여, 처리 가스 또는 불활성 가스를 도입하는 가스 공급 처리를 행한다.

(제 1 실시예에서의 가스 공급 처리의 구체적인 예)

다음으로, 제 1 실시예에 따른 처리 가스 공급 시스템에 의하여 행해지는 가스 공급 처리의 구체적인 예를 도면을 참조하면서 설명한다. 도 3은 제 1 실시예에 따른 가스 공급 처리의 구체적인 예를 도시한 흐름도이다. 이 가스 공급 처리는, 처리 가스 공급 시스템을 가동하면, 예를 들면 기억 수단에 기억된 소정의 프로그램에 기초하여 제어 장치(310)가 실린더 캐비닛(200)의 각부를 제어함으로써 실행된다.

단계 Sl12에서 처리 가스 공급 배관(220) 내를 진공 발생기(240)에 의하여 진공 배기하고, 단계 Sl14에서 처리 가스 공급 배관(220) 내를 불활성 가스 공급 원(230)으로부터의 불활성 가스(예를 들면, N₂ 가스)에 의하여 퍼지한다. 여기에서는, 예를 들면 진공 발생기(240)에 의한 진공 배기와 불활성 가스의 공급을 복수 회 반복함으로써 처리 가스 공급 배관(220) 내를 퍼지한다. 처리 가스 공급 배관(220) 내의 퍼지가 종료되면, 단계 Sl16에서 처리 가스 공급 배관(220) 내에 불활성 가스를 소정의 압력으로 충전한다.

이 상태에서, 단계 Sl18에서 처리 가스 사용 개시 신호(S)를 수신 대기하는 상태가 된다. 이 때, 처리 장치(100)에서 처리 가스의 사용을 개시할 때, M/C 제어부(130)로부터 제어 장치(310)로 처리 가스 사용 개시 신호(S)를 송신한다. 예를 들면, 처리실(110)의 컨디션이 조정되어 처리실(110) 내로 반도체 웨이퍼가 반입되는 타이밍에서 처리 가스 사용 개시 신호(S)를 송신하도록 해도 좋다.

그리고, 단계 Sl18에서 제어 장치(310)가 M/C 제어부(130)로부터 처리 가스 사용 개시 신호(S)를 수신하면, 단계 S200에서 처리 가스 공급 개시 처리를 행하도록 되어 있다. 처리 가스 공급 개시 처리에서는, 예를 들면 처리 가스 공급 배관(220) 내를 진공 배기하여, 가스 봄베(210)의 밸브(CV) 등 필요한 밸브를 개방 상태로 하여 처리 가스 공급 배관(220) 내에 처리 가스를 소정의 압력으로 충전한다. 이렇게 하여, 처리 장치(100) 측에서 처리 가스를 사용 가능한 상태로 한다.

이로 인해 처리 장치(100)에서는, M/C 제어부(130)의 제어에 의하여 가스 박스(120)의 에어 밸브(AV1S, AV2S)를 여는 것에 의해 처리실(110) 내로 처리 가스를 도입할 수 있다. 이렇게 하여, 처리 장치(100)는 처리 가스에 의한 처리(예를 들 면, 반도체 웨이퍼의 에칭 처리)를 실행한다. 또한, 상기 처리 가스 공급 개시 처리에 의한 구체적인 배관 내 상태의 제어에 대한 상세한 설명은 후술한다.

그 후, 단계 S120에서 처리 가스 사용 종료 신호를 수신 대기하는 상태가 된다. 이 때, 처리 장치(100)에서 처리 가스의 사용을 종료할 때, M/C 제어부(130)로부터 제어 장치(310)로 처리 가스 사용 종료 신호를 송신한다. 예를 들면, 처리 장치(100)에서 처리실(110) 내에서의 처리 가스에 의한 처리가 종료되면, 가스 박스(120)의 에어 밸브(AV1S, AV2S)를 닫아 처리실(110) 내로의 처리 가스의 도입을 정지하므로, 이 타이밍에서 처리 가스 사용 종료 신호를 송신하도록 해도 좋다.

그리고, 단계 S120에서 제어 장치(310)가 M/C 제어부(130)로부터 처리 가스 사용 종료 신호(F)를 수신하면, 단계 S300에서 처리 가스 공급 종료 처리를 행하도록 되어 있다. 이 처리 가스 공급 종료 처리에서는, 예를 들면, 가스 봄베의 밸브(CV) 등 필요한 밸브를 닫아 처리 가스의 공급을 정지하고, 처리 가스 공급 배관(220) 내를 진공 배기하여 불활성 가스를 충전한다.

이로 인해, 처리 장치(100)에서 처리 가스를 사용하지 않을 때에는, 처리 가스 공급 배관(220) 내(즉, 가스 봄베(210)로부터 처리 장치(100)까지의 모든 배관 내)에 불활성 가스가 봉입된 상태가 되므로, 그 동안에 처리 가스 공급 배관(220) 내에 퇴적물이 발생되는 일은 없다. 이로 인해, 그 후 다시 처리 가스를 사용할 때에 처리실(110) 내로 퇴적물이 들어가는 것을 방지할 수 있다. 또한, 처리 가스 공급 종료 처리에 의한 배관 내 상태의 제어에 대한 상세한 설명은 후술한다.

이어서, 단계 S122에서 처리 가스 공급 시스템의 가동을 정지할지의 여부를 판단한다. 단계 S122에서 가동을 정지하지 않는다고 판단한 경우에는 단계 Sl18의 처리로 되돌아가고, 가동을 정지한다고 판단한 경우에는 그대로 종료한다. 이와 같이 본 실시예에서는, 처리 가스 공급 종료 처리에 있어서, 이미 처리 가스 공급 배관(220) 내에는 이미 불활성 가스로 봉입되어 있으므로, 그대로 종료해도 지장이 없다. 또한, 이 경우에 처리 가스 공급 배관(220) 내를 진공 배기하여 불활성 가스로 퍼지한 후, 불활성 가스로 다시 충전하도록 해도 좋다.

(처리 가스 공급 개시 처리의 구체적인 예)

여기서, 제 1 실시예에 따른 처리 가스 공급 개시 처리(단계 S200)의 구체적인 예를 도면을 참조하면서 설명한다. 도 4는 제 1 실시예에 따른 처리 가스 공급 개시 처리의 구체적인 예를 도시한 흐름도이다. 우선, 단계 S212 ~ 단계 S214에서 처리 가스 공급 배관(220) 내의 진공 배기를 행한다. 즉, 먼저 단계 S212에서 처리 가스 공급 배관(220)의 1차 배관, 즉, 제 1, 제 2 배관(222, 224)을 진공 배기한다. 구체적으로는, 도 2에 도시한 에어 밸브(AV－VG)를 열고 에어 밸브(AV5, AV4, AV1)를 순차적으로 여는 것에 의해 제 1 배관(222), 제 2 배관(224)이 배기관(246)과 연통되고, 진공 발생기(240)에 의하여 제 1, 제 2 배관(222, 224)이 진공 배기된다. 이 상태에서 일정 시간이 경과한 후에, 에어 밸브(AV－VG)를 연 채로 에어 밸브(AVl, AV4, AV5)를 닫는다. 이렇게 하여, 제 1, 제 2 배관(222, 224) 내의 진공 배기가 완료되어 불활성 가스가 배기된다.

다음으로, 단계 S214에서 처리 가스 공급 배관(220)의 2차 배관, 즉, 제 3 배관(226)을 진공 배기한다. 구체적으로는, 도 2에 도시한 에어 밸브(AV7, AV6)를 열어 제 3 배관(226), 배기관(246)을 연통한다. 이 때, 에어 밸브(AV－VG)를 열어둔 상태이므로, 진공 발생기(240)에 의하여 제 3 배관(226)이 진공 배기된다. 이 상태에서 일정 시간이 경과한 후에 에어 밸브(AV6, AV7)를 닫고, 또한 에어 밸브(AV－VG)를 닫는다. 이렇게 하여, 제 3 배관(226)의 진공 배기가 완료되어 제 3 배관(226) 내의 불활성 가스는 배기된다.

이어서, 단계 S216 ~ 단계 S222에서 처리 가스 공급 배관(220) 내의 퍼지를 실행한다. 즉, 우선 단계 S216에서 처리 가스 공급 배관(220)의 1차 배관 및 2차 배관의 각 배관, 즉, 제 1 ~ 제 3 배관(222, 224, 226)에 불활성 가스(예를 들면, N₂ 가스)를 도입한다. 구체적으로는, 도 2에 도시한 에어 밸브(AV－N)를 열고, 에어 밸브(AV3, AVl, AV2)를 순차적으로 여는 것에 의해, 제1 ~ 제 3 배관(222, 224, 226)이 불활성 가스 공급 배관(232)과 연통되고, 불활성 가스 공급원(230)으로부터의 불활성 가스가 불활성 가스 공급 배관(232)을 거쳐 각 제 1 ~ 제 3 배관(222, 224, 226)으로 도입된다. 이 상태에서 일정 시간이 경과한 후에 에어 밸브(AVl, AV2, AV3)를 닫고, 또한 에어 밸브(AV－N)를 닫는다. 이로 인해 처리 가스 공급 배관(220) 내로 불활성 가스가 도입된다.

이어서, 단계 S218에서 1차 배관(제 1, 제 2 배관(222, 224))을 진공 배기한 다음, 단계 S220에서 2차 배관(제 3 배관(226))을 진공 배기한다. 이들 단계 S218, 단계 S220의 구체적인 처리는 각각 상기 단계 S212, 단계 S214의 처리와 같다.

그리고, 단계 S222에서 소정의 설정 회수만큼 반복했는지의 여부를 판단한 다. 소정의 설정 회수만큼 반복하지 않았다고 판단한 경우에는, 단계 S216 ~ 단계 S220에 의하여 퍼지를 반복한다. 또한, 소정의 설정 회수만큼 반복했다고 판단한 경우에는, 단계 S224에서 처리 가스 공급을 개시한다. 즉, C/C 공급계 밸브(가스 봄베(210)의 밸브(CV), 에어 밸브(AVl, AV2))를 열어 가스 봄베(210)로부터의 처리 가스를 처리 가스 공급 배관(220)에 충전하여 처리 가스를 사용 가능한 상태로 한다. 이렇게 하여 일련의 처리 가스 공급 개시 처리를 종료한다.

이와 같이, 처리 장치(100) 측으로부터의 처리 가스 사용 개시 신호(S)에 기초하여 실행되는 처리 가스 공급 개시 처리에 의하여, 처리 가스 공급 배관(220) 내는 처리 가스로 치환된다. 이로 인해, 처리 장치(100)는 가스 박스(120)의 가스 도입 밸브(AV1S, AV2S)를 여는 것에 의해 처리실(110) 내로 처리 가스를 도입할 수 있다.

또한, 처리 가스 공급 배관(220) 내의 불활성 가스를 진공 배기할 때에는, 처리 장치(100) 측의 2차 배관에 불활성 가스를 충전한 채로, 먼저 처리 가스 공급원 측의 1차 배관을 진공 배기하므로, 처리 장치(100) 내의 배관에 영향을 주지 않고 확실하게 가스 공급 배관 내를 진공 배기할 수 있다. 또한, 처리 가스 공급 배관(220) 내에 처리 가스를 충전하기 전에, 불활성 가스 도입과 진공 배기를 상기 순서로 복수 회 반복하는 퍼지를 실행함으로써, 처리 가스 공급 배관(220) 내의 잔류 가스 또는 불순물 등을 확실하게 제거할 수 있다.

(처리 가스 공급 종료 처리의 구체적인 예)

다음으로, 제 1 실시예에 따른 처리 가스 공급 종료 처리(단계 S300)의 구체 적인 예를 도면을 참조하면서 설명한다. 도 5는, 제 1 실시예에 따른 처리 가스 공급 종료 처리의 구체적인 예를 도시한 흐름도이다. 우선, 단계 S312에서 C/C 공급계 밸브(가스 봄베(210)의 밸브(CV), 에어 밸브(AVl, AV2))를 닫아 가스 봄베(210)로부터의 처리 가스의 공급을 정지한다.

이어서, 단계 S314 ~ 단계 S320에서 처리 가스 공급 배관(220) 내의 퍼지를 실행한다. 즉, 먼저 단계 S314에서 실린더 캐비닛(C/C)(200)과 처리 장치(100)와의 사이의 배관(제 3 배관(226))을 진공 배기한다. 구체적으로는, 도 2에 도시한 에어 밸브(AV－VG)를 열고 에어 밸브(AV7, AV6)를 순차적으로 여는 것에 의해 제 3 배관(226)이 배기관(246)과 연통되고, 진공 발생기(240)에 의하여 제 3 배관(226)이 진공 배기된다. 이 상태에서 일정 시간이 경과한 후에, 에어 밸브(AV－VG)를 열어둔 채로 에어 밸브(AV6, AV7)를 닫는다. 이렇게 하여, 제 3 배관(226)의 진공 배기가 완료되어 제 3 배관(226) 내의 처리 가스는 배기된다.

다음으로, 단계 S316에서 실린더 캐비닛(C/C)(200)의 배관(제 1, 제 2 배관(222, 224))을 진공 배기한다. 구체적으로는, 도 2에 도시한 에어 밸브(AV5, AV4, AVl)를 열어 제 1 배관(222), 제 2 배관(224), 배기관(246)을 연통한다. 이 때, 에어 밸브(AV－VG)를 열어둔 상태이므로, 진공 발생기(240)에 의하여 제 1, 제 2 배관(222, 224)이 진공 배기된다. 이 상태에서 일정 시간이 경과한 후에 에어 밸브(AVl, AV4, AV5)를 닫고, 또한 에어 밸브(AV－VG)를 닫는다. 이렇게 하여, 제 1, 제 2 배관(222, 224)의 진공 배기가 완료되어 제 1, 제 2 배관(222, 224) 내의 처리 가스는 배기된다.

이어서, 단계 S318에서 각 제 1 ~ 제 3 배관(222, 224, 226), 즉, 처리 가스 공급 배관(220)의 전체로 불활성 가스(예를 들면, N₂ 가스)를 도입한다. 단계 S318의 구체적인 처리는 도 4에 도시한 단계 S216의 처리와 같다.

그리고, 단계 S320에서 소정의 설정 회수만큼 반복했는지의 여부를 판단한다. 소정의 설정 회수만큼 반복하지 않았다고 판단한 경우에는 단계 S314 ~ 단계 S318에 의하여 퍼지를 한번 더 반복한다. 또한, 소정의 설정 회수만큼 반복했다고 판단한 경우에는 일련의 처리 가스 공급 종료 처리를 종료한다.

이와 같이, 처리 장치(100) 측으로부터의 처리 가스 사용 종료 신호(F)에 기초하여 실행되는 처리 가스 공급 종료 처리에 의하여, 처리 가스 공급 배관(220) 내는 불활성 가스로 치환된다. 이로 인해, 다음으로 처리 가스 사용 개시 신호(S)를 수신할 때까지는 처리 가스 공급 배관(220) 내에는 불활성 가스가 충전되므로, 그 동안에 처리 가스 공급 배관(220) 내에 처리 가스와 배관을 구성하는 금속과의 반응에 의한 퇴적물이 발생되는 일은 없다.

또한, 처리 가스 공급 배관(220) 내의 처리 가스를 진공 배기할 때에는, 처리 장치 측의 2차 배관을 먼저 진공 배기함으로써, 처리 장치 측에 가까운 배관의 처리 가스를 보다 일찍 배기할 수 있다. 또한, 처리 가스 공급 배관(220) 내에 불활성 가스를 충전하기 전에, 진공 배기와 불활성 가스 도입을 상기 순서로 복수 회 반복하는 퍼지를 실행함으로써, 처리 가스 공급 배관(220) 내의 잔류 가스 또는 불순물 등을 확실하게 제거할 수 있다.

이상 설명한 바와 같은 제 1 실시예에 따른 가스 공급 방법에 의하면, 배관 내의 상태는 예를 들면 도 6에 도시한 바와 같이 된다. 즉, 통상적으로는 처리 가스 공급 배관(220) 내에 불활성 가스(예를 들면, N₂ 가스)가 충전된 상태에서 대기하고 있다. 그리고, 처리 장치(100)로부터의 처리 가스 사용 개시 신호(S)를 수신하면, 처리 가스 공급 배관(220)의 1차 배관(제 1 및 제 2 배관(222, 224)) 내의 진공 배기 및 퍼지(P)를 행한 다음, 2차 배관(제 3 배관(226)) 내의 진공 배기 및 퍼지(P)를 행하고, 가스 봄베(210)의 밸브(CV)를 개방 상태로 하여, 처리 가스 공급 배관(220)의 1차 배관 및 2차 배관에 소정의 압력으로 처리 가스(예를 들면, HF 가스)를 충전하여 처리 가스를 사용 가능한 상태로 한다.

그 후, 처리 장치(100)로부터의 처리 가스 사용 종료 신호(F)를 수신하면, 가스 봄베(210)의 밸브(CV)를 닫아 처리 가스 공급 배관(220)의 2차 배관 내의 진공 배기 및 퍼지(P)를 행한 다음, 1차 배관 내의 진공 배기 및 퍼지(P)를 행하고, 처리 가스 공급 배관(220)의 1차 배관 및 2차 배관에 다시 소정의 압력으로 불활성 가스를 충전한다.

이것에 의하면, 처리 장치(100)에서 처리 가스를 사용할 때에만 처리 가스 공급 배관(220) 내에 처리 가스를 충전시킬 수 있다. 이 때문에, 처리 장치(100)에서 처리 가스를 사용하지 않을 때에는, 처리 가스 공급 배관(220) 내에 불활성 가스가 충전되어 있는 상태로 할 수 있으므로, 그 동안에 처리 가스 공급 배관(220) 내에 퇴적물이 발생되는 일은 없다. 따라서, 그 후에 다시 처리 가스를 사용할 때 에 처리실(110) 내로 퇴적물이 들어가는 것을 방지할 수 있다.

또한, 항상 처리 가스 공급 배관(220)의 전체에 처리 가스를 충전시키는 경우에 비하여, 배관 내의 금속과 처리 가스와의 접촉 시간을 대폭 단축할 수 있으므로, 배관 내의 금속과 처리 가스와의 반응을 종래에 비해 대폭 억제할 수 있다.

(제 2 실시예에 따른 가스 공급 시스템)

이어서, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 가스 공급 시스템에 대하여 설명한다. 도 7은 제 2 실시예에 따른 가스 공급 시스템의 개략적인 구성을 도시한 블록도이며, 도 8은 도 7에 도시한 가스 공급 시스템의 배관 구성예를 도시한 도면이다. 상기 제 1 실시예에서는 한 개의 처리 장치로 처리 가스를 공급하는 가스 공급 시스템에 대하여 설명하였으나, 제 2 실시예에서는 복수(예를 들면, 4 개)의 처리 장치로 처리 가스를 공급하는 가스 공급 시스템에 대하여 설명한다. 또한, 각 처리 장치(제 1 ~ 제 4 처리 장치)(100A ~ 100D)의 배관 구성예는 각각 도 2에 도시한 처리 장치(100)와 같으므로 그에 대한 상세한 설명은 생략한다.

제 2 실시예에 따른 가스 공급 시스템에서는, 도 7에 도시한 바와 같이 실린더 캐비닛(C/C)(200)으로부터의 처리 가스를 분기 박스(B/B)(400)에서 분기하여 각 처리 장치(100A ~ 100D)로 공급하도록 되어 있다. 예를 들면, 도 8에 도시한 바와 같이 실린더 캐비닛(C/C)(200)으로부터의 처리 가스 공급 배관(220)은, 분기 박스(B/B)(400) 내에서 4 개의 분기 배관(제 1 ~ 제 4 분기 배관)(410A ~ 410D)으로 분기된다. 각 분기 배관(410A ~ 410D)은 각각 각 처리 장치(100A ~ 100D)의 도시하지 않은 가스 박스에 접속되어 있다.

각 분기 배관(410A ~ 410D)에는 각각 가스 도입 밸브를 구성하는 에어 밸브(AV1A ~ AV1D)가 설치되어 있다. 이들 에어 밸브(AV1A ~ AV1D)를 선택적으로 개폐 제어함으로써, 원하는 분기 배관으로 처리 가스 공급 배관(220)으로부터의 처리 가스를 공급하거나, 또는 처리 가스의 공급을 정지할 수 있다.

또한, 각 분기 배관(410A ~ 410D)에는 각각 상기 에어 밸브(AV1A ~ AV1D)보다 하류 측에 각각 에어 밸브(AV2A ~ AV2D)가 설치되어 있다. 각 에어 밸브(AV2A ~ AV2D)에는 불활성 가스 공급 배관(420)이 접속되어 있고, 불활성 가스 공급 배관(420)은 불활성 가스 공급원(230)에 접속되어 있다. 이들 에어 밸브(AV2A ~ AV2D)를 선택적으로 개폐 제어함으로써, 원하는 분기 배관으로 불활성 가스 공급원(230)으로부터의 불활성 가스(예를 들면, N₂ 가스)를 공급하거나, 또는 불활성 가스의 공급을 정지할 수 있다.

또한, 각 분기 배관(410A ~ 410D)에는 각각 각 배관 내의 진공 배기 또는 퍼지를 실행하기 위한 진공 펌프(250)가 진공 배기용 배관(440)을 거쳐 접속되어 있다. 진공 배기용 배관(440)은 각 분기 배관(410A ~ 410D)에 에어 밸브(AV3A ~ AV3D)를 거쳐 접속된다. 또한, 진공 배기용 배관(440)에는 이 진공 배기용 배관(440)을 개폐하는 원 밸브로서의 에어 밸브(AV－V)가 설치되어 있다. 에어 밸브(AV－V)를 개폐 제어하고, 또한 에어 밸브(AV3A ~ AV3D)를 선택적으로 개폐 제어함으로써, 원하는 분기 배관으로의 진공 배기를 행할 수 있다.

또한, 분기 박스(B/B)(400) 내에는, 처리 가스 공급 배관(220)의 제 3 배 관(226)에 설치된 에어 밸브(AV－P)를 구비한다. 이 에어 밸브(AV－P)는 통상적으로는 개방되어 있고, 예를 들면 메인터넌스 등을 위한 분기 박스(B/B)(400)를 실린더 캐비닛(C/C)(200)으로부터 분리할 때에 닫힌다.

이어서, 제 2 실시예에 따른 실린더 캐비닛(C/C)(200)의 구성예에 대하여 도 8을 참조하면서 설명한다. 제 1실시예에서는 예를 들면 도 2에 도시한 진공 발생기(240)에 의하여 배관 내의 진공 배기를 하는 경우에 대하여 설명하였으나, 제 2 실시예에서는 진공 발생기(240) 대신에 진공 펌프(250)에 의하여 배관 내의 진공 배기를 하는 경우에 대하여 설명한다.

예를 들면 도 8에 도시한 바와 같이, 진공 펌프(250)는 처리 가스 공급 배관(제 1 ~ 제 3 배관)(220)에 배기관(246)을 거쳐 접속되어 있다. 여기에서의 배기관(246)은 분기하여 제 1 배관(222)에 에어 밸브(AV5, AV4)를 거쳐 접속되고, 제 2 배관(224)에 에어 밸브(AV7, AV6)를 거쳐 접속되며, 제 3 배관(226)에 에어 밸브(AV9, AV8)를 거쳐 접속되어 있다. 이들 에어 밸브(AV5, AV4), 에어 밸브(AV7, AV6), 에어 밸브(AV9, AV8)를 선택적으로 개폐 제어함으로써, 제 1 ~ 제 3 배관(222, 224, 226)을 선택적으로 진공 배기할 수 있다.

처리 가스 공급관(220)에는, 그 배관 내에 불활성 가스(예를 들면, N₂ 가스)를 공급하기 위한 불활성 가스 공급원(230)이 불활성 가스 공급 배관(232)을 거쳐 접속되어 있다. 구체적으로는, 도 8에 도시한 바와 같이 불활성 가스 공급 배관(232)은 도중에 분기하여 제 1 배관(222), 제 2 배관(224)에 각각 에어 밸 브(AV3, AVlO)를 거쳐 접속되어 있다. 또한, 불활성 가스 공급 배관(232)에는, 이 불활성 가스 공급 배관(232)을 개폐하는 원 밸브로서의 에어 밸브(AV－N)가 설치되어 있다. 이 에어 밸브(AV－N)를 개폐 제어하고, 또한 에어 밸브(AV3, AVlO)를 선택적으로 개폐 제어함으로써, 제 1, 제 2 배관(222, 224)의 어느 하나로부터 처리 가스 공급관(220)으로 선택적으로 불활성 가스를 공급할 수 있다.

또한 본 실시예에서의 제어 장치(310)는, 도 7에 도시한 바와 같이 실린더 캐비닛(C/C)(200), 분기 박스(B/B)(400)의 각부를 제어하도록 되어 있다. 예를 들면, 실린더 캐비닛(C/C)(200)의 각 에어 밸브(AVl ~ AVlO, AV－N) 및 가스 봄베(210)의 밸브(CV) 외에, 분기 박스(B/B)(400)의 각 에어 밸브(AV1A ~ AV3A, AV1B ~ AV3B, AV1C ~ AV3C, AV1D ~ AV3D, AV－P, AV－V)에 대해서는 각각 제어 장치(310)에 의하여 제어된다.

또한 각 처리 장치(M/C)(100A ~ 100D)는, 각각 도 7에 도시한 바와 같이 M/C 제어부(130A ~ 130D)를 구비한다. 이들 각 M/C 제어부 (130A ~ 130D)는 각각 처리 가스를 사용할 때에 처리 가스 공급 개시 신호(S)를 제어 장치(310)로 송신하고, 처리 가스에 의한 처리가 종료되면 처리 가스 공급 종료 신호(F)를 제어 장치(310)로 송신하도록 되어 있다. 제어 장치(310)는 이들 M/C 제어부(130A ~ 130D)로부터의 신호에 기초하여, 각 배관 내를 진공 배기하여 처리 가스 또는 불활성 가스를 도입하는 가스 공급 처리를 행한다.

또한 제 2 실시예에서는, 각 M/C 제어부(130A ~ 130D)로부터 각각 처리 가스 공급 개시 신호(S), 처리 가스 공급 종료 신호(F)가 송신되므로, 이들을 구별하기 위하여 상기 S, F에 각각 A ~ D의 첨자를 붙인다. 따라서, S_A, S_B, S_C, S_D는 각각 M/C 제어부(130A, 130B, 130C, 130D)로부터 송신되는 처리 가스 공급 개시 신호를 나타내며, F_A, F_B, F_C, F_D는 각각 M/C 제어부(130A, 130B, 130C, 130D)로부터 송신되는 처리 가스 공급 종료 신호를 나타낸다. 또한 제 2 실시예에서, 단순히「S」라고 하는 경우에는, 처리 가스 공급 개시 신호(S_A ~ S_D) 중 어느 하나를 나타내고 있는 것으로 한다. 또한, 단순히「F」라고 하는 경우에는, 처리 가스 공급 종료신호(F_A ~ F_D)의 어느 하나를 나타내고 있는 것으로 한다.

(제 2 실시예에서의 가스 공급 처리의 구체적인 예)

이어서, 제 2 실시예에 따른 처리 가스 공급 시스템에 의하여 행해지는 가스 공급 처리의 구체적인 예를 도면을 참조하면서 설명한다. 도 9는 제 2 실시예에 따른 가스 공급 처리의 구체적인 예를 도시한 흐름도이다. 이 가스 공급 처리는, 처리 가스 공급 시스템을 가동하면, 예를 들면 기억 수단에 기억된 소정의 프로그램에 기초하여 제어 장치(310)가 실린더 캐비닛(C/C)(200), 분기 박스(B/B)(400)의 각부를 제어함으로써 실행된다.

단계 S412에서 처리 가스 공급 배관(220) 내 및 각 분기 배관(410A ~ 410D) 내를 진공 펌프(250)에 의하여 진공 배기하고, 단계 S414에서 처리 가스 공급 배관(220) 내 및 각 분기 배관(410A ~ 410D) 내를 불활성 가스 공급원(230)으로부터의 불활성 가스(예를 들면, N₂ 가스)에 의하여 퍼지한다. 여기에서는, 예를 들면 진 공 펌프(250)에 의한 진공 배기와 불활성 가스의 공급을 복수 회 반복함으로써, 처리 가스 공급 배관(220) 내를 퍼지한다. 처리 가스 공급 배관(220) 내 및 각 분기 배관(410A ~ 410D) 내의 퍼지가 종료되면, 단계 S416에서 처리 가스 공급 배관(220) 내 및 각 분기 배관(410A ~ 410D) 내에 불활성 가스를 소정의 압력으로 충전한다.

이 상태에서, 단계 S418에서 처리 장치(100)로부터의 신호(처리 가스 사용 개시 신호(S) 또는 처리 가스 사용 종료 신호(F))를 수신 대기하는 상태가 된다. 이 때, 어느 하나의 처리 장치(100)에서 처리 가스의 사용을 개시할 때, 그 M/C 제어부(130)로부터 제어 장치(310)로 처리 가스 사용 개시 신호(S)를 송신한다. 예를 들면, 어느 처리실(110)의 컨디션이 조정되어, 그 처리실(110) 내로 반도체 웨이퍼가 반입되는 타이밍에서 처리 가스 사용 개시 신호(S)를 송신하도록 해도 좋다.

또한, 어느 하나의 처리 장치(100)에서 처리 가스의 사용을 종료할 때, 그 M/C 제어부(130)로부터 제어 장치(310)로 처리 가스 사용 종료 신호(F)를 송신한다. 예를 들면, 어느 처리 장치(100)에서 처리실(110) 내에서의 처리 가스에 의한 처리가 종료되면, 가스 박스(120)의 가스 도입 밸브(AV1S, AV2S)를 닫아 처리실(110) 내로의 처리 가스의 도입을 정지하므로, 이 타이밍에서 처리 가스 사용 종료 신호(F)를 송신하도록 해도 좋다.

그리고, 단계 S418에서 제어 장치(310)가 어느 하나의 M/C 제어부(130)로부터 신호를 수신하면, 단계 S420에서 그 신호가 처리 가스 사용 개시 신호(S)인지, 또는 처리 가스 사용 종료 신호(F)인지를 판단한다.

단계 S420에서 어느 하나의 M/C 제어부(130)로부터 수신한 신호가 처리 가스 사용 개시 신호(S)라고 판단한 경우에는, 단계 S500에서 처리 가스 공급 개시 처리를 행하도록 되어 있다. 제 2 실시예에 따른 처리 가스 공급 개시 처리에서는, 처리 가스 공급 배관(220) 및 각 분기 배관(410A ~ 410D) 중, 금회의 처리 가스 공급에 사용되는 배관 내를 진공 배기하고, 상기 배관 내에 처리 가스를 소정의 압력으로 충전하여, 처리 가스 사용 개시 신호(S)의 발신원의 처리 장치(100) 측에서 처리 가스를 사용 가능한 상태로 한다.

이로 인해, 신호 발신원의 처리 장치(100)에서는, 그 M/C 제어부(130)의 제어에 의하여 가스 박스(120)의 가스 도입 밸브(AV1S, AV2S)를 여는 것에 의해 처리실(110) 내로 처리 가스를 도입할 수 있다. 그리고, 신호 발신원의 처리 장치(100)는 소정 시간만큼 처리 가스에 의한 처리(예를 들면, 반도체 웨이퍼의 에칭 처리)를 실행한다. 또한, 상기 처리 가스 공급 개시 처리에 있어서의 구체적인 배관 내 상태의 제어에 대한 상세한 설명은 후술한다.

그리고, 처리 가스 공급 개시 처리(단계 S500)가 종료되면 단계 S418의 처리로 되돌아가서, 어느 하나의 처리 장치(100A ~ 100D)로부터의 신호의 대기 상태가 된다. 이것은 본 실시예와 같이, 복수의 처리 장치(100A ~ 100D)에서 개별적으로 처리를 행하는 경우에는, 각 처리장치(100)에서의 처리 상황에 따라 각각의 M/C 제어부(130A ~ 130D)가 각각의 타이밍에서 처리 가스 사용 개시 신호(S)와 처리 가스 사용 종료 신호(F)를 제어 장치(310)로 송신하게 되기 때문이다.

이 때문에, 예를 들면 처리 장치(100A)로부터 처리 가스 사용 개시 신호(S_A)를 수신하여 처리 가스를 공급하고 있는 동안에, 다른 처리 장치(100B)로부터 처리 가스 사용 개시 신호(S_B)를 수신하는 경우도 생각할 수 있다. 이 경우에는 처리 가스 공급 개시 처리(단계 S500)를 계속 실행한다.

또한, 본 실시예에 따른 처리 가스 공급 개시 처리를 행하는 경우에는, 그 밖의 처리 장치의 처리 가스 사용 상황에 따라, 각 배관 내의 상태(처리 가스 충전 상태인지, 또는 불활성 가스 충전 상태인지)가 다르므로, 처리 장치(100A ~ 100D)로부터 처리 가스 사용 개시 신호(S)를 수신했을 때에는, 그 때의 그 밖의 처리 장치의 처리 가스 사용 상황에 따라, 처리 가스 공급에 사용되는 배관에만 처리 가스를 충전하는 것이 바람직하다.

예를 들면, 어느 처리 장치로부터 처리 가스 사용 개시 신호(S)를 수신했을 때, 그 밖의 처리 장치에서 처리 가스를 사용하고 있지 않은 경우에는, 처리 가스 공급 배관(220)에는 처리 가스는 아직 충전되어 있지 않고, 불활성 가스가 충전되어 있다. 따라서, 이 경우에는 신호 발신원의 처리 장치에 접속되는 분기 배관 및 처리 가스 공급 배관(220)의 불활성 가스를 배기하여 처리 가스를 충전할 필요가 있다.

이에 대하여, 어느 처리 장치로부터 처리 가스 사용 개시 신호(S)를 수신했을 때, 그 밖의 처리 장치에서 처리 가스를 사용하고 있는 경우에는, 처리 가스 공급 배관(220)에는 이미 처리 가스가 충전되어 있다. 따라서, 이 경우에는 신호 발신원의 처리 장치에 접속되는 분기 배관만을 배기하여 처리 가스를 충전하면 충분하다. 이와 같이 함으로써, 처리 가스 공급에 사용되는 배관에만 처리 가스를 충전할 수 있으므로 처리 가스를 절약할 수 있고, 또한, 그 밖의 배관에 대해서는 그대로 불활성 가스가 충전된 상태로 할 수 있으므로, 처리 가스와 배관을 구성하는 금속과의 접촉을 막을 수 있어 부착물의 발생을 방지할 수 있다.

그리고, 단계 S420에서 어느 하나의 M/C 제어부(130)로부터 수신한 신호가 처리 가스 사용 종료 신호(F)라고 판단한 경우에는, 단계 S600에서 처리 가스 공급 종료 처리를 행하도록 되어 있다. 제 2 실시예에 따른 처리 가스 공급 종료 처리에서는, 처리 가스의 공급을 정지하고 처리 가스 공급 배관(220) 및 각 분기 배관(410A ~ 410D) 중, 처리 가스 공급에서 사용하지 않게 되는 배관 내를 진공 배기하여, 상기 배관 내에 불활성 가스를 소정의 압력으로 충전한다.

본 실시예에 따른 처리 가스 공급 종료 처리를 행하는 경우에는, 그 밖의 처리 장치의 처리 가스 사용 상황에 따라 각 배관 내의 상태(처리 가스 충전 상태인지, 또는 불활성 가스 충전 상태인지)가 다르므로, 처리 장치(100A ~ 100D)로부터 처리 가스 사용 종료 신호(F)를 수신했을 때에는, 그 때의 다른 처리 장치의 처리 가스 사용 상황에 따라 처리 가스 공급에서 사용하지 않게 되는 배관에만 불활성 가스의 충전을 행하는 것이 바람직하다.

예를 들면, 어느 처리 장치로부터 처리 가스 사용 종료 신호(F)를 수신했을 때, 다른 처리 장치에서 처리 가스를 사용하고 있는 경우에는, 처리 가스 공급 배관(220)에는 이미 처리 가스가 충전된 상태에서 처리 가스가 사용되고 있으므로, 처리 가스 공급 배관(220)의 처리 가스를 배기할 수 없다. 따라서 이 경우에는, 신호 발신원의 처리 장치에 접속되는 분기 배관만을 배기하여 불활성 가스를 충전한다. 이와 같이 함으로써, 처리 가스 공급에서 사용하지 않게 되는 배관에만 불활성 가스를 충전할 수 있으므로 불활성 가스를 절약할 수 있고, 또한 그 배관에 대해서는 불활성 가스가 충전된 상태로 할 수 있으므로, 처리 가스와 배관을 구성하는 금속과의 접촉을 막을 수 있어 퇴적물의 발생을 방지할 수 있다.

이에 대하여, 어느 처리 장치로부터 처리 가스 사용 종료 신호(F)를 수신했을 때, 그 밖의 처리 장치에서 처리 가스를 사용하고 있지 않은 경우에는, 처리 가스 공급 배관(220)의 처리 가스를 배기하여 불활성 가스를 충전해도 지장이 없다. 따라서, 이 경우에는 신호 발신원의 처리 장치에 접속되는 분기 배관 및 처리 가스 공급 배관(220)에도 불활성 가스를 공급할 수 있다.

이와 같은 처리 가스 사용 종료 처리(단계 S600)에 의하여 처리 장치(100)에서 처리 가스를 사용하지 않을 때에는, 처리 가스 공급 배관(220) 내 및 각 분기 배관(410A ~ 410D) 중, 사용하고 있지 않은 배관 내에는 항상 불활성 가스가 봉입된 상태가 되므로, 그 동안에 이들 배관 내에 퇴적물이 발생되는 일은 없다. 이로 인해, 그 후 다시 처리 가스를 사용할 때에 처리실(110) 내로 퇴적물이 들어가는 것을 방지할 수 있다. 또한, 처리 가스 공급 종료 처리에 의한 배관 내 상태의 제어에 대한 상세한 설명은 후술한다.

이어서, 단계 S422에서 처리 가스 공급 시스템의 가동을 정지할지의 여부를 판단한다. 단계 S422에서 가동을 정지하지 않는다고 판단한 경우에는 단계 S418의 처리로 되돌아가고, 가동을 정지한다고 판단한 경우에는 그대로 종료한다. 이와 같이 본 실시예에서의 처리 가스 공급 종료 처리에 있어서, 모든 처리 장치(100A ~ 100D)의 처리가 종료되고, 처리 가스 공급 배관(220) 내에 불활성 가스가 충전되어 있는 경우에는 그대로 종료해도 지장이 없다. 또한 이 경우, 처리 가스 공급 배관(220) 내를 진공 배기하여 불활성 가스로 퍼지한 후, 불활성 가스로 다시 충전하도록 해도 좋다.

(처리 가스 공급 개시 처리의 구체적인 예)

여기서, 제 2 실시예에 따른 처리 가스 공급 개시 처리(단계 S500)의 구체적인 예를 도면을 참조하면서 설명한다. 도 10은, 제 2 실시예에 따른 처리 가스 공급 개시 처리의 구체적인 예를 도시한 흐름도이다. 우선, 단계 S542에서 처리 가스 공급 개시 신호의 발신원의 처리 장치(M/C) 이외의 그 밖의 처리 장치(M/C)에서 처리 가스를 사용하고 있는지의 여부를 판단한다.

단계 S542에서 그 밖의 처리 장치(M/C)에서 처리 가스를 사용하고 있다고 판단한 경우에는, 이미 처리 가스 공급 배관(220)에 처리 가스가 충전되어 있으므로, 단계 S544에서 처리 가스 공급 개시 신호(S)의 발신원의 처리 장치(M/C)에 접속되는 분기 배관만을 진공 배기한다. 예를 들면, 분기 배관(410A)만을 진공 배기하는 경우에는, 도 8에 도시한 에어 밸브(AV－V, AV3A)만을 열고, 일정 시간이 경과한 후에 에어 밸브(AV－V, AV3A)를 닫는다. 이렇게 하여 분기 배관(410A) 내의 진공 펌프(250)에 의한 진공 배기가 완료되어 분기 배관(410A) 내의 불활성 가스가 배기된다.

이어서, 단계 S546 ~ 단계 S550에서 진공 배기를 행한 상기 분기 배관 내에만 퍼지를 실행한다. 즉, 우선 단계 S546에서 상기 분기 배관 내에만 불활성 가스(예를 들면, N₂ 가스)를 도입한다. 예를 들면, 분기 배관(410A)에만 불활성 가스를 도입하는 경우에는, 도 8에 도시한 에어 밸브(AV2A)만 열고, 일정시간이 경과한 후에 에어 밸브(AV2A)를 닫는다. 이로 인해 분기 배관(410A) 내로 불활성 가스가 도입된다.

이어서, 단계 S548에서 상기 분기 배관 내만을 진공 배기한다. 이 단계 S548의 구체적인 처리는 상기 단계 S544의 처리와 같다. 그리고, 단계 S550에서 소정의 설정 회수만큼 반복했는지의 여부를 판단한다. 소정의 설정 회수만큼 반복하지 않았다고 판단한 경우에는, 단계 S546 ~ 단계 S548에 의하여 퍼지를 반복한다. 또한, 단계 S550에서 소정의 설정 회수만큼 반복했다고 판단한 경우에는, 단계 S552에서 상기 분기 배관으로 처리 가스 공급을 개시하여, 일련의 처리 가스 공급 개시 처리를 종료한다. 이 경우에는, 이미 가스 봄베(210)의 밸브(CV)가 열려있고 처리 가스 공급 배관(220)에도 처리 가스가 충전되어 있으므로, 상기 분기 배관의 에어 밸브만을 여는 것에 의해 상기 처리 장치로의 처리 가스 공급을 개시할 수 있다. 예를 들면, 분기 배관(410A)으로만 처리 가스 공급을 개시하는 경우에는 에어 밸브(AV1A)를 열기만 해도 좋다. 이로 인해, 처리 장치(100A)는 가스 박스(120)의 가스 도입 밸브(AV1S, AV2S)를 여는 것에 의해 처리실(110) 내로 처리 가스를 도입할 수 있다.

단계 S542에서 그 밖의 처리 장치(M/C)에서 처리 가스를 사용하고 있지 않다고 판단한 경우에는, 도 11에 도시한 흐름도에 의한 처리를 실행한다. 이 경우에는 처리 가스 공급 배관(220)에 불활성 가스가 충전되어 있는 상태이므로, 분기 배관뿐만 아니라 처리 가스 공급 배관(220)도 배기하여 처리 가스를 다시 충전할 필요가 있다.

여기에서는, 도 11에 도시한 바와 같이, 먼저 단계 S562에서 처리 가스 공급 배관(220), 즉 제 1 ~ 제 3 배관(222, 224, 226) 내를 진공 배기한다. 구체적으로는, 도 8에 도시한 에어 밸브(AV5, AV4), 에어 밸브(AV7, AV6), 에어 밸브(AV9, AV8)를 열어, 제 1 배관(222), 제 2 배관(224), 제 3 배관(226)을 각각 진공 펌프(250)에 의하여 진공 배기한다. 이 상태에서 일정 시간이 경과한 후에, 에어 밸브(AV5, AV4), 에어 밸브(AV7, AV6), 에어 밸브(AV9, AV8)를 닫는다. 이렇게 하여, 제 1 ~ 제 3 배관(222, 224, 226) 내의 진공 배기가 완료되어 불활성 가스가 배기된다.

이어서, 단계 S564 ~ 단계 S568에서 처리 가스 공급 배관(220) 내의 퍼지를 실행한다. 즉, 우선 단계 S564에서 처리 가스 공급 배관(220)의 각 배관, 즉, 제 1 ~ 제 3 배관(222, 224, 226)으로 불활성 가스(예를 들면, N₂ 가스)를 도입한다. 구체적으로 도 8에 도시한 에어 밸브(AV－N)를 열고, 에어 밸브(AV3, AVlO, AV2)를 순차적으로 여는 것에 의해, 제 1 ~ 제 3 배관(222, 224, 226)이 불활성 가스 공급 배관(232)과 연통되어 불활성 가스 공급원(230)으로부터의 불활성 가스가 불활성 가스 공급 배관(232)을 거쳐 각 제 1 ~ 제 3 배관(222, 224, 226)으로 도입된다. 이 상태에서 일정 시간이 경과한 후에 에어 밸브(AV2, AV3, AVlO)를 닫고, 또한 에어 밸브(AV－N)를 닫는다. 이로 인해, 처리 가스 공급 배관(220) 내로 불활성 가스가 도입된다.

이어서, 단계 S566에서 처리 가스 공급 배관(220), 즉, 제 1 ~ 제 3 배관(222, 224, 226) 내를 진공 배기한다. 또한, 단계 S566의 구체적인 처리는 단계 S562의 처리와 같다. 그리고, 단계 S568에서 소정의 설정 회수만큼 반복했는지의 여부를 판단한다. 소정의 설정 회수만큼 반복하지 않았다고 판단한 경우에는, 단계 S564 ~ 단계 S566에 의하여 퍼지를 반복한다. 또한, 소정의 설정 회수만큼 반복했다고 판단한 경우에는, 단계 S570에서 처리 가스 공급 개시 신호(S)의 발신원의 처리 장치(M/C)에 접속되는 분기 배관만을 진공 배기하고, 단계 S572 ~ 단계 S576에서 상기 분기 배관만을 퍼지한다. 또한, 단계 S570 ~ 단계 S576의 처리는 각각 도 10에 도시된 단계 S544 ~ 단계 S550의 처리와 같다.

그리고, 단계 S576에서 소정의 설정 회수만큼 반복했다고 판단한 경우에는, 단계 S578에서 처리 가스 공급 배관(220) 내 및 상기 분기 배관 내로만 처리 가스 공급을 개시하고, 일련의 처리 가스 공급 개시 처리를 종료한다. 즉, C/C 공급계 밸브(가스 봄베(210)의 밸브(CV), 에어 밸브(AVl, AV2))를 열고, 또한 B/B 공급계 밸브(에어 밸브(AV1A ~ AV1D) 중, 상기 분기 배관의 것)를 열어, 가스 봄베(210)로부터의 처리 가스를 처리 가스 공급 배관(220) 내 및 상기 분기 배관 내로만 처리 가스를 충전하여, 처리 가스 공급 개시 신호(S)의 발신원의 처리 장치(M/C)에서 처 리 가스를 사용 가능한 상태로 한다. 이렇게 하여 일련의 처리 가스 공급 개시 처리를 종료한다.

이로 인해, 상기 신호 발신원의 처리 장치(M/C)는 가스 박스(120)의 가스 도입 밸브(AV1S, AV2S)를 여는 것에 의해 처리실(110) 내로 처리 가스를 도입할 수 있다. 또한, 도 11에 도시한 바와 같은 처리에 의하면, 가스 공급 배관 내 및 분기 배관 내 양방의 불활성 가스를 진공 배기할 때, 처리 장치 측의 분기 배관에 불활성 가스를 충전한 채로, 먼저 처리 가스 공급원 측의 가스 공급 배관을 진공 배기하므로, 처리 장치 측의 배관에 영향을 주지 않고 확실하게 배관 내를 진공 배기할 수 있다. 또한, 배관 내에 처리 가스를 충전하기 전에 상기 배관 내의 불활성 가스 도입과 진공 배기를 상기 순서로 복수 회 반복하는 퍼지를 실행함으로써, 배관 내의 잔류 가스 또는 불순물 등을 확실하게 제거할 수 있다.

(처리 가스 공급 종료 처리의 구체적인 예)

이어서, 제 2 실시예에 따른 처리 가스 공급 종료 처리(단계 S600)의 구체적인 예를 도면을 참조하면서 설명한다. 도 12는, 제 2 실시예에 따른 처리 가스 공급 종료 처리의 구체적인 예를 도시한 흐름도이다. 우선, 단계 S642에서 처리 가스 공급 종료 신호(F)의 발신원의 처리 장치(M/C) 이외의 그 밖의 처리 장치(M/C)에서 처리 가스를 사용하고 있는지의 여부를 판단한다.

단계 S642에서 그 밖의 처리 장치(M/C)에서 처리 가스를 사용하고 있다고 판단한 경우에는, 이미 처리 가스 공급 배관(220)에 처리 가스가 충전되고, 그 밖의 처리 장치에서 사용하고 있으므로, 단계 S644에서 처리 가스 공급 종료 신호(F)의 발신원의 처리 장치(M/C)에 접속되는 분기 배관의 처리 가스 공급만을 정지한다. 구체적으로는, 에어 밸브(AV1A~AV1D) 중, 발신원의 처리 장치(M/C)에 접속되는 분기 배관의 것을 닫는다. 이로 인해, 처리 가스 공급 배관(220)으로부터의 처리 가스의 공급을 정지할 수 있다.

이어서, 단계 S646 ~ 단계 S648에서 상기 분기 배관 내의 퍼지를 실행하여 불활성 가스(예를 들면, N₂ 가스)를 충전한다. 즉, 우선 단계 S646에서 상기 분기 배관 내만을 진공 배기하고, 단계 S648에서 상기 분기 배관 내에만 불활성 가스를 도입한다. 이들 단계 S646, 단계 S648는 각각 도 10에 도시한 단계 S548, 단계 S546의 처리와 같다.

그리고, 단계 S650에서 소정의 설정 회수만큼 반복했는지의 여부를 판단한다. 소정의 설정 회수만큼 반복하지 않았다고 판단한 경우에는, 단계 S646 ~ 단계 S648에 의하여 퍼지를 반복한다. 또한, 단계 S650에서 소정의 설정 회수만큼 반복했다고 판단한 경우에는, 그대로 일련의 처리 가스 공급 종료 처리를 종료한다. 이로 인해, 상기 분기 배관 내만의 처리 가스가 배기되고, 그 대신에 불활성 가스가 충전된다.

단계 S642에서 그 밖의 처리 장치(M/C)에서 처리 가스를 사용하고 있지 않다고 판단한 경우에는, 도 13에 도시한 흐름도에 의한 처리를 실행한다. 이 경우에는, 처리 가스를 사용하고 있는 것은 처리 가스 공급 종료 신호(F)의 발신원의 처리 장치뿐이므로, 그 처리 장치의 분기 배관 뿐만 아니라 처리 가스 공급 배 관(220)으로의 처리 가스의 공급을 정지할 수 있다.

여기에서는, 도 13에 도시한 바와 같이, 우선 단계 S662에서 B/B 공급계 밸브(에어 밸브(AV1A ~ AV1D) 중, 상기 분기 배관의 것)를 닫고, 또한 C/C 공급 계 밸브(가스 봄베(210)의 밸브(CV), 에어 밸브(AVl, AV2))를 닫아 가스 봄베(210)로부터의 처리 가스의 공급을 정지한다.

이어서, 단계 S664 ~ 단계 S666에서 상기 분기 배관 내의 퍼지를 실행하여 불활성 가스(예를 들면, N₂ 가스)를 충전한다. 즉, 우선 단계 S664에서 상기 분기 배관 내만을 진공 배기하고, 단계 S666에서 상기 분기 배관 내에만 불활성 가스를 도입한다. 이들 단계 S664, 단계 S666는 각각 도 12에 도시한 단계 S646, 단계 S648의 처리와 같다.

그리고, 단계 S668에서 소정의 설정 회수만큼 반복했는지의 여부를 판단한다. 소정의 설정 회수만큼 반복하지 않았다고 판단한 경우에는, 단계 S664 ~ 단계 S666에 의하여 퍼지를 반복한다. 이로 인해, 상기 분기 배관 내만의 처리 가스가 배기되고, 그 대신에 불활성 가스가 충전된다.

또한, 단계 S668에서 소정의 설정 회수만큼 반복했다고 판단한 경우에는, 단계 S670 ~ 단계 S672에서 처리 가스 공급 배관(220), 즉, 제 1 배관 ~ 제 3 배관(222, 224, 226)을 퍼지하여 불활성 가스를 도입한다. 또한, 단계 S670, 단계 S672의 처리는 각각 도 11의 단계 S566, 단계 S564와 같다.

그리고, 단계 S674에서 소정의 설정 회수만큼 반복했는지의 여부를 판단한 다. 소정의 설정 회수만큼 반복하지 않았다고 판단한 경우에는, 단계 S670 ~ 단계 S672에 의하여 퍼지를 반복하고, 그대로 일련의 처리 가스 공급 종료 처리를 종료한다.

이로 인해, 처리 가스 공급 배관(220) 내에서도 처리 가스가 배기되고, 그 대신에 불활성 가스가 충전된다. 이로 인해, 다음으로 처리 가스 사용 개시 신호(S)를 수신할 때까지는 처리 가스 공급 배관(220) 내에는 불활성 가스가 충전되므로, 그 동안에 처리 가스 공급 배관(220) 내에 처리 가스와 배관을 구성하는 금속과의 반응에 의한 퇴적물이 발생되는 일은 없다.

또한, 가스 공급 배관 내 및 분기 배관 내 양방의 처리 가스를 진공 배기할 때에는, 처리 장치 측의 분기 배관을 먼저 진공 배기함으로써, 처리 장치 측에 가까운 배관의 처리 가스를 보다 일찍 배기할 수 있다. 또한, 배관 내에 불활성 가스를 충전하기 전에 상기 배관 내의 진공 배기와 불활성 가스 도입을 상기 순서로 복수 회 반복하는 퍼지를 실행함으로써, 상기 배관 내의 잔류 가스 또는 불순물 등을 확실하게 제거할 수 있다.

이상 설명한 바와 같은 제 2 실시예에 따른 가스 공급 방법에 의하면, 배관 내의 상태는 예를 들면 도 14에 도시한 바와 같이 된다. 즉, 통상적으로는 처리 가스 공급 배관(220) 및 제 1 ~ 제 4 분기 배관(410A ~ 410D) 내로 불활성 가스(예를 들면, N₂ 가스)가 충전된 상태에서 대기하고 있다. 그리고, 예를 들면 처리 장치(100A)로부터의 처리 가스 사용 개시 신호(S_A)를 수신하면, 도 11에 도시한 단계 S562 ~ 단계 S578의 처리를 실행한다. 즉, 처리 가스 공급 배관(220)(제 1 ~ 제 3 배관(222, 224, 226)) 내의 진공 배기 및 퍼지(P)를 행한 다음, 제 1 분기 배관(410A) 내의 진공 배기 및 퍼지(P)를 행하고, 가스 봄베(210)의 밸브(CV)를 개방 상태로 하여, 처리 가스 공급 배관(220) 및 제 1 분기 배관(410A) 내로 소정의 압력으로 처리 가스(예를 들면, HF 가스)를 충전하여 처리 가스를 사용 가능한 상태로 한다.

이 상태에서, 처리 장치(100B)로부터의 처리 가스 사용 개시 신호(S_B)를 수신하면, 도 10에 도시한 단계 S544 ~ 단계 S552의 처리를 실행한다. 즉, 제 2분기 배관(410B) 내의 진공 배기 및 퍼지(P)를 행하고, 제 2 분기 배관(410B)의 에어 밸브(AV1B)를 열어 처리 가스 공급 배관(220)에 연통시킴으로써, 제 2 분기 배관(410B) 내에 소정의 압력으로 처리 가스(예를 들면, HF 가스)를 충전하여 처리 가스를 사용 가능한 상태로 한다.

이어서, 처리 장치(100A)로부터의 처리 가스 사용 종료 신호(F_A)를 수신하면, 도 12에 도시한 단계 S644 ~ 단계 S650의 처리를 행한다. 즉, 제 1 분기 배관(410A)의 에어 밸브(AV1A)를 닫아 처리 가스 공급 배관(220)으로부터의 처리 가스 공급을 정지하고, 제 1분기 배관(410A) 내의 진공 배기 및 퍼지(P)를 행하여 제 1 분기 배관(410A) 내에 소정의 압력으로 불활성 가스를 충전한다.

그 후, 처리 가스 사용 개시 신호(S)를 수신할 때 마다 도 10에 도시된 단계 S544 ~ 단계 S552의 처리를 실행하고, 처리 가스 사용 종료 신호(F)를 수신할 때 마다 도 12에 도시한 단계 S644 ~ 단계 S650의 처리를 실행한다. 이렇게 하여, 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하고 있는 동안에는 신호 발신원의 처리 장치의 분기 배관에만 처리 가스 또는 불활성 가스를 충전한다.

그리고, 그 밖의 처리 장치(100A ~ 100C)가 처리 가스를 사용하고 있지 않고, 처리 장치(100D)만이 처리 가스를 사용하고 있는 상태에서, 그 처리 장치(100D)로부터 처리 가스 사용 종료 신호(F_D)를 수신하면, 도 13에 도시한 단계 S662 ~ 단계 S672의 처리를 실행한다. 즉, 가스 봄베(210)의 밸브(CV)를 닫아 처리 가스의 공급을 정지하고, 제 4 분기 배관(410D) 내의 진공 배기 및 퍼지(P)를 행한 다음,처리 가스 공급 배관(220)(제 1 ~ 제 3 배관(222, 224, 226)) 내의 진공 배기 및 퍼지(P)를 행하여, 처리 가스 공급 배관(220) 및 제 4 분기 배관(410D) 내에 소정의 압력으로 불활성 가스를 충전한다.

이에 의하면, 처리 장치(100)에서 처리 가스를 사용할 때에만 처리 가스 공급 배관(220) 및 제 1 ~ 제 4 분기 배관(410A ~ 410D) 중, 처리 가스 공급에 사용되는 배관 내에 처리 가스를 충전시킬 수 있다. 이 때문에, 처리 장치(100)에서 처리 가스를 사용하고 있지 않을 때에는 처리 가스 공급 배관(220) 내 및 사용하고 있지 않은 분기 배관 내에 불활성 가스가 충전되어 있는 상태로 할 수 있으므로, 그 동안에 처리 가스 공급 배관(220) 내에 퇴적물이 발생되는 일은 없다. 따라서, 그 후에 다시 처리 가스를 사용할 때, 각 처리 장치(100A ~ 100D)의 처리실(110) 내로 퇴적물이 들어가는 것을 방지할 수 있다.

또한, 항상 처리 가스 공급 배관(220) 및 제 1 ~ 제 4 분기 배관(410A ~ 410D)의 전체에 처리 가스를 충전시키는 경우에 비하여, 배관 내의 금속과 처리 가스와의 접촉 시간을 대폭 단축할 수 있으므로, 배관 내의 금속과 처리 가스와의 반응을 종래에 비해 대폭 억제할 수 있다.

또한, 처리 가스로서는, 배관 내를 구성하는 금속과의 반응성이 높은 처리 가스(반응성 가스)가 사용되는 경우에 본 발명을 적용하는 효과가 크다. 이 점에서 상기 제 1 및 제 2 실시예에서는, 처리 가스로서, 예를 들면 특히 배관을 구성 하는 금속과 반응성이 높은 HF 가스를 예로 들어 설명하였으나, 반드시 이에 한정되지는 않는다. 또한, 불활성 가스에 대해서는 N₂ 가스를 예로 들어 설명하였으나, 반드시 이에 한정되지 않고, 예를 들면 Ar 가스 등을 사용해도 좋다.

이상, 첨부 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였으나, 당연히 본 발명은 이러한 예에 한정되지 않는다. 당업자라면 특허 청구의 범위에 기재된 범위 내에서 각종 변경예 또는 수정예를 용이하게 도출해낼 수 있다는 것은 자명하며, 이들에 대해서도 당연히 본 발명의 기술적 범위에 속하는 것으로 이해된다.

본 발명은, 처리 가스 공급 시스템 및 처리 가스 공급 방법에 적용할 수 있다.

Claims

처리 가스를 처리 장치까지 공급하는 가스 공급 시스템에 있어서,

상기 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급원과,

상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스를 상기 처리 장치로 공급하는 가스 공급 배관과,

상기 가스 공급 배관에 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급원과,

상기 가스 공급 배관 내를 진공 배기하는 진공 배기 수단과,

상기 처리 장치로부터의 신호를 수신하고, 수신한 신호에 응답하여 상기 가스 공급 배관 내의 상태를 제어하는 제어 장치를 구비하고,

상기 제어 장치는, 시스템 가동 중에는 상기 가스 공급 배관 내에 불활성 가스를 충전하여 대기하고,

상기 처리 장치로부터 처리 가스 사용 개시 신호를 수신하면, 상기 가스 공급 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기하여 처리 가스를 충전하고, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스 공급을 개시하며,

상기 처리 장치로부터 처리 가스 사용 종료 신호를 수신하면, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스 공급을 정지하고, 상기 가스 공급 배관 내의 처리 가스를 진공 배기하여 불활성 가스를 충전하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템.
제 1 항에 있어서,

상기 가스 공급 배관은, 상기 처리 가스 공급원 측의 1차 배관과, 상기 처리 장치 측의 2차 배관으로 나뉘어지며,

상기 제어 장치는, 상기 가스 공급 배관 내에 처리 가스를 충전할 때에는, 먼저 상기 1차 배관을 진공 배기하여 불활성 가스를 배기한 다음, 상기 제 2차 배관을 진공 배기하여 불활성 가스를 배기한 후, 상기 1차 배관 및 상기 2차 배관에 처리 가스를 충전하며,

상기 가스 공급 배관 내에 불활성 가스를 충전할 때에는, 먼저 상기 2차 배관을 진공 배기하여 처리 가스를 배기한 다음, 상기 제 1차 배관을 진공 배기하여 처리 가스를 배기한 후, 상기 1차 배관 및 상기 2차 배관에 불활성 가스를 충전하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템.
제 1 항에 있어서,

상기 제어 장치는, 상기 가스 공급 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기한 후에는, 처리 가스를 충전하기 전에, 상기 가스 공급 배관 내에 불활성 가스를 도입하고 상기 가스 공급 배관 내의 불활성 가스를 배기하는 공정을 복수 회 반복하는 퍼지(purge)를 실행하며,

상기 가스 공급 배관 내의 처리 가스를 진공 배기한 후에는, 불활성 가스를 충전하기 전에, 상기 가스 공급 배관 내에 불활성 가스를 도입하고 상기 가스 공급 배관 내의 불활성 가스를 배기하는 공정을 복수 회 반복하는 퍼지를 실행하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템.
제 1 항에 있어서,

상기 처리 가스는 HF 가스인 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템.
처리 가스를 처리 장치까지 공급하는 가스 공급 시스템의 가스 공급 방법에 있어서,

상기 가스 공급 시스템은, 상기 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급원과, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스를 상기 처리 장치로 공급하는 가스 공급 배관과, 상기 가스 공급 배관에 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급원과, 상기 가스 공급 배관 내를 진공 배기하는 진공 배기 수단과, 상기 처리 장치로부터의 신호를 수신하고, 수신한 신호에 응답하여 상기 가스 공급 배관 내의 상태를 제어하는 제어 장치를 구비하고,

시스템 가동 중에는 상기 가스 공급 배관 내에 불활성 가스를 충전하여 대기하는 공정과,

상기 제어 장치가 상기 처리 장치로부터 처리 가스 사용 개시 신호를 수신하면, 상기 진공 배기 수단에 의하여 상기 가스 공급 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기하여, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스를 상기 가스 공급 배관 내 에 충전한 후, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스 공급을 개시하는 공정과,

상기 제어 장치가 상기 처리 장치로부터 처리 가스 사용 종료 신호를 수신하면, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스 공급을 정지하고, 상기 진공 배기 수단에 의하여 상기 가스 공급 배관 내의 처리 가스를 진공 배기한 후, 상기 불활성 가스 공급원으로부터의 불활성 가스를 상기 가스 공급 배관 내에 충전하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템의 가스 공급 방법.
제 5 항에 있어서,

상기 가스 공급 배관은, 상기 처리 가스 공급원 측의 1차 배관과, 상기 처리 장치 측의 2차 배관으로 나뉘어지며,

상기 가스 공급 배관 내에 처리 가스를 충전할 때에는, 먼저 상기 1차 배관을 진공 배기한 다음, 상기 2차 배관을 진공 배기한 후, 상기 1차 배관 및 상기 2차 배관에 처리 가스를 충전하며,

상기 가스 공급 배관 내에 불활성 가스를 충전할 때에는, 먼저 상기 2차 배관을 진공 배기한 다음, 상기 1차 배관을 진공 배기한 후, 상기 1차 배관 및 상기 2차 배관에 불활성 가스를 충전하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템의 가스 공급 방법.
제 5 항에 있어서,

상기 가스 공급 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기한 후에는, 처리 가스를 충전하기 전에, 상기 가스 공급 배관 내에 불활성 가스를 도입하고 상기 가스 공급 배관 내의 불활성 가스를 배기하는 공정을 복수 회 반복하는 퍼지를 실행하며,

상기 가스 공급 배관 내의 처리 가스를 진공 배기한 후에는, 불활성 가스를 충전하기 전에, 상기 가스 공급 배관 내에 불활성 가스를 도입하고 상기 가스 공급 배관 내의 불활성 가스를 배기하는 공정을 복수 회 반복하는 퍼지를 실행하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템의 가스 공급 방법.
제 5 항에 있어서,

상기 처리 가스는 HF 가스이며, 상기 불활성 가스는 N₂ 가스인 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템의 가스 공급 방법.
처리 가스를 복수의 처리 장치까지 각각 공급하는 가스 공급 시스템에 있어서,

상기 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급원과,

상기 처리 가스 공급원에 접속된 가스 공급 배관과,

상기 가스 공급 배관으로부터의 처리 가스를 분기(分岐)하여 상기 복수의 처리 장치로 각각 공급하는 복수의 분기 배관과,

상기 가스 공급 배관 및 상기 복수의 분기 배관으로 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급원과,

상기 가스 공급 배관 내 및 상기 복수의 분기 배관을 진공 배기하는 진공 배기 수단과,

상기 처리 장치로부터의 신호를 수신하고, 수신한 신호에 응답하여 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 복수의 분기 배관 내의 상태를 제어하는 제어 장치를 구비하고,

상기 제어 장치는, 시스템 가동 중에는 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 복수의 분기 배관 내에 불활성 가스를 충전하여 대기하고,

상기 처리 장치로부터의 처리 가스 사용 개시 신호를 수신하면, 상기 가스 공급 배관 및 상기 복수의 분기 배관 중 사용하는 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기하여, 처리 가스를 충전하고 처리 가스 공급을 개시하며,

상기 처리 장치로부터의 처리 가스 사용 종료 신호를 수신하면, 처리 가스 공급을 정지하고, 상기 가스 공급 배관 및 상기 복수의 분기 배관 중 사용하지 않게 되는 배관 내의 처리 가스를 진공 배기하여, 불활성 가스를 충전하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템.
제 9 항에 있어서,

상기 제어 장치는, 상기 처리 장치로부터 처리 가스 사용 개시 신호를 수신하면, 그 신호 발신원의 처리 장치 이외의 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중인지의 여부를 판단하고,

상기 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중이라고 판단한 경우에는, 신호 발신원의 처리 장치에 접속된 분기 배관 내에서만의 불활성 가스를 진공 배기하여 처리 가스를 충전하고, 상기 가스 공급 배관으로부터의 처리 가스 공급을 개시하며,

상기 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중이 아니라고 판단한 경우에는, 상기 가스 공급 배관 내 및 신호 발신원의 처리 장치에 접속된 분기 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기하여 처리 가스를 충전하고, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스 공급을 개시하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템.
제 10 항에 있어서,

상기 제어 장치는, 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 분기 배관 내의 양방에 처리 가스를 충전할 때에는, 먼저 상기 가스 공급 배관 내를 진공 배기한 다음, 상기 분기 배관을 진공 배기한 후, 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 분기 배관 내의 양방에 처리 가스를 충전하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템.
제 9 항에 있어서,

상기 제어 장치는, 상기 처리 장치로부터 처리 가스 사용 종료 신호를 수신하면, 그 신호 발신원의 처리 장치 이외의 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중인지의 여부를 판단하고,

상기 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중이라고 판단한 경우에는, 상기 가스 공급 배관으로부터의 처리 가스 공급을 정지하고, 상기 신호 발신원의 처리 장치에 접속된 분기 배관 내에서만의 처리 가스를 진공 배기하여 불활성 가스를 충전하고,

상기 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중이 아니라고 판단한 경우에는, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스 공급을 정지하고, 상기 가스 공급 배관 내 및 신호 발신원의 처리 장치에 접속된 분기 배관 내의 처리 가스를 진공 배기하여 불활성 가스를 충전하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템.
제 12 항에 있어서,

상기 제어 장치는, 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 분기 배관 내의 양방에 불활성 가스를 충전할 때에는, 먼저 상기 분기 배관 내를 진공 배기한 다음, 상기 가스 공급 배관 내를 진공 배기한 후, 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 분기 배관 내의 양방에 불활성 가스를 충전하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템.
제 9 항에 있어서,

상기 제어 장치는, 상기 사용하는 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기한 후에는, 처리 가스를 충전하기 전에, 상기 사용하는 배관 내에 불활성 가스를 도입하고 상기 사용하는 배관 내의 불활성 가스를 배기하는 공정을 복수 회 반복하는 퍼지를 실행하며,

상기 사용하지 않게 되는 배관 내의 처리 가스를 진공 배기한 후에는, 불활성 가스를 충전하기 전에, 상기 사용하지 않게 되는 배관 내에 불활성 가스를 도입하고 상기 사용하지 않게 되는 배관 내의 불활성 가스를 배기하는 공정을 복수 회 반복하는 퍼지를 실행하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템.
제 9 항에 있어서,

상기 처리 가스는 HF 가스이며, 상기 불활성 가스는 N₂ 가스인 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템.
처리 가스를 복수의 처리 장치까지 각각 공급하는 가스 공급 시스템의 가스 공급 방법에 있어서,

상기 가스 공급 시스템은, 상기 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급원과, 상기 처리 가스 공급원에 접속된 가스 공급 배관과, 상기 가스 공급 배관으로부터의 처리 가스를 분기하여 상기 복수의 처리 장치로 각각 공급하는 복수의 분기 배관과, 상기 가스 공급 배관 및 상기 복수의 분기 배관으로 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급원과, 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 복수의 분기 배관을 진공 배기하는 진공 배기 수단과, 상기 처리 장치로부터의 신호를 수신하고, 수신한 신호에 응답하여 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 복수의 분기 배관 내의 상태를 제어하는 제어 장치를 구비하고,

시스템 가동 중에는 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 복수의 분기 배관 내에 불활성 가스를 충전하여 대기하는 공정과,

상기 제어 장치가 상기 처리 장치로부터의 처리 가스 사용 개시 신호를 수신하면, 상기 가스 공급 배관 및 상기 복수의 분기 배관 중, 사용하는 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기한 후, 처리 가스를 충전하고 처리 가스 공급을 개시하는 공정과,

상기 처리 장치로부터의 처리 가스 사용 종료 신호를 수신하면, 처리 가스 공급을 정지하고, 상기 가스 공급 배관 및 상기 복수의 분기 배관 중, 사용하지 않게 되는 배관 내의 처리 가스를 진공 배기한 후, 불활성 가스를 충전하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템의 가스 공급 방법.
제 16 항에 있어서,

상기 제어 장치가 상기 처리 장치로부터 처리 가스 사용 개시 신호를 수신하면, 그 신호 발신원의 처리 장치 이외의 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중인지의 여부를 판단하는 공정과,

상기 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중이라고 판단한 경우에는, 신호 발신원의 처리 장치에 접속된 분기 배관 내에서만의 불활성 가스를 진공 배기하여 처리 가스를 충전하고, 상기 가스 공급 배관으로부터의 처리 가스 공급을 개시하는 공정과,

상기 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중이 아니라고 판단한 경우에는, 상기 가스 공급 배관 내 및 신호 발신원의 처리 장치에 접속된 분기 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기하여 처리 가스를 충전하고, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스 공급을 개시하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템의 가스 공급 방법.
제 17 항에 있어서,

상기 가스 공급 배관 내 및 상기 분기 배관 내의 양방에 처리 가스를 충전할 때에는, 먼저 상기 가스 공급 배관 내를 진공 배기한 다음, 상기 분기 배관을 진공 배기한 후, 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 분기 배관 내의 양방에 처리 가스를 충전하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템의 가스 공급 방법.
제 16 항에 있어서,

상기 처리 장치로부터 처리 가스 사용 종료 신호를 수신하면, 그 신호 발신원의 처리 장치 이외의 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중인지의 여부를 판단하는 공정과,

상기 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중이라고 판단한 경우에는, 상기 가스 공급 배관으로부터의 처리 가스 공급을 정지하고, 상기 신호 발신원의 처리 장치에 접속된 분기 배관 내에서만의 처리 가스를 진공 배기하여 불활성 가스를 충전하는 공정과,

상기 그 밖의 처리 장치가 처리 가스를 사용하는 중이 아니라고 판단한 경우에는, 상기 처리 가스 공급원으로부터의 처리 가스 공급을 정지하고, 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 신호 발신원의 처리 장치에 접속된 분기 배관 내의 처리 가스를 진공 배기하여 불활성 가스를 충전하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템의 가스 공급 방법.
제 19 항에 있어서,

상기 가스 공급 배관 내 및 상기 분기 배관 내의 양방에 불활성 가스를 충전할 때에는, 먼저 상기 분기 배관 내를 진공 배기한 다음, 상기 가스 공급 배관 내 를 진공 배기한 후, 상기 가스 공급 배관 내 및 상기 분기 배관 내의 양방에 불활성 가스를 충전하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템의 가스 공급 방법.
제 16 항에 있어서,

상기 사용하는 배관 내의 불활성 가스를 진공 배기한 후에는, 처리 가스를 충전하기 전에, 상기 사용하는 배관 내에 불활성 가스를 도입하고 상기 사용하는 배관 내의 불활성 가스를 배기하는 공정을 복수 회 반복하는 퍼지를 실행하며,

상기 사용하지 않게 되는 배관 내의 처리 가스를 진공 배기한 후에는, 불활성 가스를 충전하기 전에, 상기 사용하지 않게 되는 배관 내에 불활성 가스를 도입하고 상기 사용하지 않게 되는 배관 내의 불활성 가스를 배기하는 공정을 복수 회 반복하는 퍼지를 실행하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템의 가스 공급 방법.
제 16 항에 있어서,

상기 처리 가스는 HF 가스이며, 상기 불활성 가스는 N₂ 가스인 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템의 가스 공급 방법.