KR100973619B1 - 술팜산 할로겐화물의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 i) 1급 또는 2급 아민 A1을 각각의 경우에 아민 A1에 대해 등몰량 이상의 3급 아민 A2의 존재하에서 등몰량 이상의 SO3 또는 SO3 공급원과 반응시키는 단계, 및 ii) 단계 i)에서 수득한 반응 혼합물을 화학량론에 따른 필요량 이상의 할로겐화인과 반응시키는 단계를 포함하는, 1급 또는 2급 아민의 술팜산 할로겐화물의 제조 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 상기 단계 i) 및 ii)를 수행한 후, 이어서 이와 같이 수득한 술팜산 할로겐화물을 암모니아와 반응시킴으로써 술팜산 할로겐화물을 제조하는 것을 포함하는, 술팜산 디아미드의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 추가로 술포디아미드 구조를 갖는 제초제 활성 성분의 제조에 있어 상기 방법의 사용에 관한 것이다. 본 발명은 또한 신규한 술팜산 클로라이드에 관한 것이다.
술파모일 할라이드, 할로겐화인, 술팜산 클로라이드, 1급 아민, 2급 아민, 3급 아민, 황산 디아미드
Description
본 발명은 술파모일 할라이드, 특히, 1급 또는 특히 2급 아미드의 술파모일 클로라이드의 제조 방법에 관한 것이다.
1급 또는 2급 아민의 술파모일 할라이드는 술폰아미드 또는 황산 디아미드 구조 단위를 갖는 활성 성분의 제조에 있어 흥미로운 중간체이다. 알킬술파모일 클로라이드의 개관, 그의 제조 방법 및 그의 용도는 문헌 [G. Hamprecht et al. Angew. Chem. 93, (1981), p. 151-163]에서 볼 수 있다.
원칙적으로, 술파모일 클로라이드는 모노알킬암모늄 클로라이드를 술포닐 클로라이드 (또한, 이후부터는 술푸릴 클로라이드로도 칭함)와 반응시킴으로써 제조할 수 있다 (Acta Chem. Scand. 19, (1963), p. 2141 및 또한 DE-A 1242627). 상기 방법의 단점은 긴 반응 시간이다. 또한, 술포닐 클로라이드의 사용은 다수의 부수적인 반응을 초래한다. 장쇄 아민의 경우, 예를 들어, 술포닐 클로라이드의 염소화 반응을 우세하게 하여 상기 경로에 의해 상기 아민의 술파모일 클로라이드를 수득할 수 없다.
또한, 상기 방법은 N-메톡시에틸-N-메틸술파모일 클로라이드, N-시아노에틸-N-메틸술파모일 클로라이드, N-알릴-N-메틸술파모일 클로라이드 및 비스-N-알릴술 파모일 클로라이드를 제조하기 위해서 WO 98/28280, WO 00/18770, WO 01/64808 및 문헌 [ull. S ℃. Chim. Belg. 93, 1984, p. 920]에서 이용되고 있다. 측정된 수율은 일반적으로 낮다.
DE-A 2164176 및 EP-A 11794에는, 화학식 R-NH-SO3H (여기서, R은 지방족 또는 시클로지방족 라디칼임)를 인의 산 할라이드와 반응시킴으로써 화학식 R-NH-SO2X (여기서, R은 상기에서 정의한 바와 같고, X는 할로겐 원자임)의 술파모일 할라이드를 제조하는 방법이 개시되어 있다. 출발 물질로 사용되는 술팜산은 이소시아네이트 R-N=C=O를 황산과 반응시키거나, 또는 이치환된 우레아를 발연 황산과 반응시킴으로써 제조된다. 이들 방법의 한 가지 단점은 이들이 제조 비용이 많이 들고 제조하기가 불편하며, 비교적 고가의 출발 생성물로부터 개시된다는 것이다. 또한, 술팜산 (황산 또는 발연 황산)의 제조시 필수적인 반응 조건의 결과로서, 상기 방법은 질소에 대해 비교적 불활성인 수소 라디칼을 갖는 술파모일 할라이드의 제조 방법에만 적합하다. 상기 방법은 반응기, 예를 들어 올레핀계 이중 결합 또는 삼중 결합, 시아노알킬기, 알콕시알킬기 또는 알데히드계 카르보닐기를 갖는 술파모일 할라이드의 제조에는 부적합하다.
문헌 [R. Wegler et al., J. Liebigs Ann. Chem. (1959), 624, p. 25-29]에는 먼저 2급 아민 또는 그의 염산염을 염소 처리하여 N-클로로아민으로 전환하고, 이어서 이를 염소의 존재하에서 이산화황과 반응시켜 술파모일 클로라이드로 전환하여 N,N-디알킬술파모일 클로라이드를 제조하는 방법이 개시되어 있다. 별법으로 는, 디알킬아민을 사염화탄소 중의 이산화황과 반응시킨 다음, 생성된 티오아미드산을 염소와 반응시켜 술파모일 클로라이드를 수득하는 방법이 개시되어 있다. 두 방법의 단점은 염소 원소의 사용으로, 이는 상기 방법을 염소에 대한 반응기를 전혀 갖지 않는 아민으로 제한한다. 또한, 제1 변법에서 생성된 중간체는 그의 취급상 매우 문제가 있는 불안정한 N-클로로아민이다.
독일 특허 제946710호에는 카르바모일 클로라이드를 삼산화황과 반응시킴으로써 술파모일 클로라이드를 제조하는 방법이 개시되어 있다.
문헌 [R.E. Olson et al., J. Med. Chem. (1999), 42, p. 1189]에는 먼저 이소부틸아민을 클로로술폰산과 반응시키고, 생성된 이소부틸술팜산의 이소부틸암모늄 염을 오염화인과 반응시킴으로써 이소부틸아민으로부터 이소부틸술파모일 클로라이드를 제조하는 방법이 개시되어 있다. 그러나, 수득되는 수율은 만족할 만하지는 않다.
술파모일 클로라이드의 제조 방법의 다양성이 선행 기술로부터 공지되어 있지만, 상기한 반응기 중 어떠한 것도 갖지 않는 불활성 아민의 술파모일 클로라이드의 제조 방법에 제한적이지 않으며, 상기 아민을 출발 물질로서 직접 사용할 수 있게 하는, 술파모일 클로라이드의 능률적인 제조 방법이 아직까지는 제공되어 있지 않다.
본 발명의 목적은 이러한 능률적인 방법을 제공하는 것이다.
본 발명에 이르러, 본 발명자들은 놀랍게도 1급 또는 2급 아민을 먼저 등몰량 이상의 3급 아민 A2의 존재하에서 등몰량 이상의 삼산화황 또는 삼산화황 공급 원과 반응시키고, 생성된 술팜산암모늄을 화학량론에 따라 필요량 이상의 할로겐화인과 반응시키는 방법에 의해 상기 목적이 달성되는 것을 밝혀냈다.
따라서, 본 발명은
i) 1급 또는 2급 아민 A1을 각각의 경우에 아민 A1을 기준으로 하여 등몰량 이상의 3급 아민 A2의 존재하에서 각각 등몰량 이상의 SO3 또는 SO3 공급원과 반응시키는 단계, 및
ii) 단계 i)에서 수득한 반응 혼합물을 화학량론에 따른 필요량 이상의 할로겐화인과 반응시키는 단계
를 포함하는, 1급 또는 2급 아민의 술파모일 할라이드의 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 방법은 반응식 1에 나타난 반응식에 의해 잘 설명된다.
반응식 1에서, R1R2-NH는 1급 또는 2급 아민인 A1을 나타내고, A2는 3급 아민을 나타내고, Hal은 할로겐화인으로부터 전달되는 할로겐 원자를 나타낸다.
적합한 1급 또는 2급 아민의 예는 화학식 IA 및 IB의 것이다.
식 중에서,
R1 및 R2는 각각 독립적으로 C1-C20-알킬, C2-C
20-알케닐 또는 C2-C20-알키닐 {여기서, 이들 각각은 비치환되거나 CN, NO2, C1-C4-알콕시, C1-C
4-알킬티오, 포르밀, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시카르보닐, C1-C
4-알킬아미노카르보닐, C1-C4-디알킬아미노카르보닐, C1-C4-알킬술피닐, C1-C4-알킬술포닐, C3
-C10-시클로알킬, 페닐 (여기서, 페닐은 그 자체가 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-플루오로알킬, C1-C4-알킬옥시카르보닐, 트리플루오로메틸술포닐, 포르밀, 니트로 또는 시아노로부터 선택된 1개, 2개, 3개 또는 4개의 치환체를 가질 수 있음)로 치환될 수 있음}, C1-C20-할로알킬, C2-C20-할로알케닐, C2-C20-할로알키닐, C3-C10-시클로알킬, C5-C10-시클로알케닐, O, S 및 N으로부터 선택된 1개 내지 3개의 헤테로원자를 갖는 헤테로시클릴, 페닐 또는 나프틸 (여기서, 헤테로시클릴, 페닐 또는 나프틸은 그 자체가 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-플루오로알킬, C1-C4-알킬옥시카르보닐, 트리 플루오로메틸술포닐, 포르밀, 니트로 또는 시아노로부터 선택된 1개, 2개, 3개 또는 4개의 치환체를 가질 수 있음)이거나,
R1 및 R2는 함께 포화되거나 부분적으로 불포화된 5- 내지 8-원의 질소 헤테로시클 (여기서, 헤테로시클은 그 자체가 C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시 및(또는) C1-C4-할로알킬로 치환될 수 있고, 고리의 일원으로서 1개 또는 2개의 카르보닐기 또는 티오카르보닐기 및(또는) O, S 및 N으로부터 선택된 1개 또는 2개의 추가 헤테로원자를 가질 수 있음)을 형성할 수 있다.
치환체, 또는 페닐 및 헤테로시클릭 라디칼로서 여기 및 이후에 명시된 유기 분자 잔기는 개별적인 기 일원의 개별 나열에 대한 집합적인 용어를 의미하며, 표현 Cn-Cm은 분자 잔기에서 가능한 탄소 원자수를 명시한다. 모든 탄화수소 쇄, 즉 모든 알킬, 알케닐 및 알키닐 잔기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있다. 달리 기술되지 않는다면, 할로겐화 치환체는 바람직하게는 1개 내지 6개의 동일하거나 상이한 할로겐 원자를 갖는다. 각각의 경우에 할로겐의 정의는 불소, 염소, 브롬 또는 요오드이다.
특정한 정의의 예는 하기를 포함한다:
- C1-C4-알킬: 예를 들어, 메틸, 에틸, 프로필, 1-메틸에틸, 부틸, 1-메틸프로필, 2-메틸프로필 또는 1,1-디메틸에틸;
- C1-C20-알킬: 탄소 원자수 1 내지 20, 특히 탄소 원자수 1 내지 10의 포화 지방족 탄화수소 라디칼 (C1-C10-알킬), 예를 들어, 상기한 바와 같은 C1-C
4-알킬, 및 또한, 예를 들어, n-펜틸, 1-메틸부틸, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, 2,2-디메틸프로필, 1-에틸프로필, 헥실, 1,1-디메틸프로필, 1,2-디메틸프로필, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 3-메틸펜틸, 4-메틸펜틸, 1,1-디메틸부틸, 1,2-디메틸부틸, 1,3-디메틸부틸, 2,2-디메틸부틸, 2,3-디메틸부틸, 3,3-디메틸부틸, 1-에틸부틸, 2-에틸부틸, 1,1,2-트리메틸프로필, 1-에틸-1-메틸프로필, 1-에틸-1-메틸프로필, 1-에틸-3-메틸프로필, n-헵틸, n-노닐, n-데실, 1-메틸헥실, 1-에틸헥실, 1-메틸헵틸, 1-메틸옥틸, 1-메틸노닐, n-운데실, 1-에틸노닐, 2-에틸노닐, 1,2-디메틸노닐, n-도데실, 1-메틸운데실, 1-에틸데실, n-트리데실, 1-메틸도데실, 1-에틸운데실, n-테트라데실, 1-메틸트리데실, 1-에틸도데실, n-펜타데실, 1-메틸테트라데실, 1-에틸트리데실, n-헥사데실, 1-메틸펜타데실, 1-에틸테트라데실, n-헵타데실, 1-메틸헥사데실, 1-에틸펜타데실, n-옥타데실, 1-메틸헵타데실, 1-에틸헥사데실, n-노나데실, 1-메틸옥타데실, n-에이코실, 1-메틸노나데실;
- C2-C20-알케닐: 탄소 원자수 2 내지 20, 바람직하게는 탄소 원자수 2 내지 10 및 특히, 탄소 원자수 3 내지 6의 모노불포화 올레핀 탄화수소 라디칼 (C2-C10-알케닐 및 C3-C6-알케닐), 예를 들어 에테닐, 프로프-2-엔-1-일 (= 알릴), 프로프-1-엔-1-일, 부트-1-엔-4-일, 부트-2-엔-1-일, 부트-3-엔-1-일, 1-메틸프로프-2-엔-1-일, 2-메틸프로프-2-엔-1-일, 1-펜텐-3-일, 1-펜텐-4-일, 2-펜텐-4-일, 1-메틸부트-2-엔-1-일, 2-메틸부트-2-엔-1-일, 3-메틸부트-2-엔-1-일, 1-메틸부트-3-엔-1- 일, 2-메틸부트-3-엔-1-일, 3-메틸부트-3-엔-1-일, 1,1-디메틸프로프-2-엔-1-일, 1,2-디메틸프로프-2-엔-1-일, 1-에틸프로프-2-엔-1-일, 1-에틸프로프-1-엔-2-일, n-헥스-1-엔-1-일, n-헥스-2-엔-1-일, 헥스-3-엔-1-일, 헥스-4-엔-1-일, 헥스-5-엔-1-일, 1-메틸펜트-1-엔-1-일, 2-메틸펜트-1-엔-1-일, 3-메틸펜트-1-엔-1-일, 4-메틸펜트-1-엔-1-일, 1-메틸펜트-2-엔-1-일, 2-메틸펜트-2-엔-1-일, 3-메틸펜트-2-엔-1-일, 4-메틸펜트-2-엔-1-일, 1-메틸펜트-3-엔-1-일, 2-메틸펜트-3-엔-1-일, 3-메틸펜트-3-엔-1-일, 4-메틸펜트-3-엔-1-일, 1-메틸펜트-4-엔-1-일, 2-메틸펜트-4-엔-1-일, 3-메틸펜트-4-엔-1-일, 4-메틸펜트-4-엔-1-일, 1,1-디메틸부트-2-엔-1-일, 1,1-디메틸부트-3-엔-1-일, 1,2-디메틸부트-2-엔-1-일, 1,2-디메틸부트-3-엔-1-일, 1,3-디메틸부트-2-엔-1-일, 1,3-디메틸부트-3-엔-1-일, 2,2-디메틸부트-3-엔-1-일, 2,3-디메틸부트-2-엔-1-일, 2,3-디메틸부트-3-엔-1-일, 3,3-디메틸부트-2-엔-1-일, 1-에틸부트-2-엔-1-일, 1-에틸부트-3-엔-1-일, 2-에틸부트-2-엔-1-일, 2-에틸부트-3-엔-1-일, 1,1,2-트리메틸프로프-2-엔-1-일, 1-에틸-1-메틸프로프-2-엔-1-일, 1-에틸-2-메틸프로프-2-엔-1-일, 헵트-2-엔-1-일, 옥트-2-엔-1-일, 논-2-엔-1-일, 덱-2-엔-1-일, 운덱-2-엔-1-일, 도덱-2-엔-1-일, 트리덱-2-엔-1-일, 테트라덱-2-엔-1-일, 펜타덱-2-엔-1-일, 헥사덱-2-엔-1-일, 헵타덱-2-엔-1-일, 옥타덱-2-엔-1-일, 노나덱-2-엔-1-일, 에이코사-2-엔-1-일;
- C2-C20-알키닐: 탄소 원자수 2 내지 20, 바람직하게는 탄소 원자수 2 내지 10 및 특히, 탄소 원자수 3 내지 6의 삼중 결합을 갖는 탄화수소 라티칼 (C2-C10- 알키닐 및 C3-C6-알키닐), 예를 들어 에티닐, 프로프-2-인-1-일 (= 프로파르길), 프로프-1-인-1-일, 부트-1-인-1-일, 부트-1-인-3-일, 부트-1-인-4-일, 부트-2-인-1-일, 펜트-1-인-1-일, 펜트-1-인-3-일, 펜트-1-인-4-일, 펜트-1-인-5-일, 펜트-2-인-1-일, 펜트-2-인-4-일, 펜트-2-인-5-일, 3-메틸부트-1-인-3-일, 3-메틸부트-1-인-4-일, 헥스-1-인-3-일, 헥스-1-인-4-일, 헥스-1-인-5-일, 헥스-1-인-6-일, 헥스-2-인-1-일, 헥스-2-인-4-일, 헥스-2-인-5-일, 헥스-2-인-6-일, 헥스-3-인-1-일, 헥스-3-인-2-일, 3-메틸펜트-1-인-3-일, 3-메틸펜트-1-인-4-일, 3-메틸펜트-1-인-5-일, 4-메틸펜트-2-인-4-일, 4-메틸펜트-2-인-5-일, 헵트-2-인-1-일, 옥트-2-인-1-일, 논-2-인-1-일, 덱-2-인-1-일, 운덱-2-인-1-일, 도덱-2-인-1-일, 트리덱-2-인-1-일, 테트라덱-2-인-1-일, 펜타덱-2-인-1-일, 헥사덱-2-인-1-일, 헵타덱-2-인-1-일, 옥타덱-2-인-1-일, 노나덱-2-인-1-일, 에이코사-2-인-1-일;
- C1-C4-할로알킬: 불소, 염소, 브롬 및(또는) 요오드에 의해 부분 또는 전부 치환된, 상기한 바와 같은 C1-C4-알킬 라디칼, 즉, 예를 들어, 클로로메틸, 디클로로메틸, 트리클로로메틸, 플루오로메틸, 디플루오로메틸, 트리플루오로메틸, 클로로플루오로메틸, 디클로로플루오로메틸, 클로로디플루오로메틸, 2-플루오로에틸, 2-클로로에틸, 2-브로모에틸, 2-요오도에틸, 2,2-디플루오로에틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2-클로로-2-플루오로에틸, 2-클로로-2,2-디플루오로에틸, 2,2-디클로로-2-플루오로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸, 펜타플루오로에틸, 2-플루오로프로필, 3-플루오로프로필, 2,2-디플루오로프로필, 2,3-디플루오로프로필, 2-클로로프로필, 3-클로로프로필, 2,3-디클로로프로필, 2-브로모프로필, 3-브로모프로필, 3,3,3-트리플루오로프로필, 3,3,3-트리클로로프로필, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필, 헵타플루오로프로필, 1-(플루오로메틸)-2-플루오로에틸, 1-(클로로메틸)-2-클로로에틸, 1-(브로모메틸)-2-브로모에틸, 4-플루오로부틸, 4-클로로부틸, 4-브로모부틸 또는 노나플루오로부틸;
- C1-C20-할로알킬: 일부 또는 전부, 및 특히 1 내지 6개의 수소 원자가 할로겐 원자, 바람직하게는 불소 및(또는) 염소에 의해 치환된, 상기한 바와 같은 C1-C20-알킬, 특히 C1-C10-알킬, 예를 들어 상기한 바와 같은 C1-C
4-할로알킬, 및 또한 5-플루오로펜틸, 5-클로로펜틸, 5-브로모펜틸, 5-요오도펜틸, 운데카플루오로펜틸, 6-플루오로헥실, 6-클로로헥실, 6-브로모헥실, 6-요오도헥실 또는 도데카플루오로헥실;
- C2-C20-할로알케닐: 일부 또는 전부, 및 특히 1 내지 6개의 수소 원자가 할로겐 원자, 바람직하게는 불소 및(또는) 염소로 치환된, 상기한 바와 같은 C2-C20-알케닐, 특히 C2-C10-알케닐;
- C2-C20-할로알키닐: 일부 또는 전부, 및 특히 1 내지 6개의 수소 원자가 할로겐 원자, 바람직하게는 불소 및(또는) 염소로 치환된, 상기한 바와 같은 C2-C20-알키닐, 특히 C2-C10-알키닐;
- C3-C10-시클로알킬: 탄소 원자수 3 내지 10의 시클로지방족 라디칼, 예를 들어 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸, 시클로노닐 또는 시클로데실;
- C5-C10-시클로알케닐: 탄소 원자수 5 내지 10, 바람직하게는 탄소 원자수 5 내지 8의 이중 결합을 갖는 시클로지방족 라디칼, 예를 들어 시클로펜텐-1-일, 시클로헥센-1-일, 시클로헵텐-1-일, 시클로옥텐-1-일, 시클로노넨-1-일, 시클로덱엔-1-일, 시클로펜트-2-엔-1-일, 시클로헥스-2-엔-1-일, 시클로헵트-2-엔-1-일, 시클로옥트-2-엔-1-일, 시클로논-2-엔-1-일, 시클로덱-2-엔-1-일, 시클로헥스-3-엔-1-일, 시클로헵트-3-엔-1-일, 시클로옥트-3-엔-1-일, 시클로옥트-4-엔-1-일, 시클로논-3-엔-1-일, 시클로논-4-엔-1-일, 시클로덱-4-엔-1-일 또는 시클로덱-3-엔-1-일;
- C1-C10-시아노알킬: CN기에 의해 치환된 C1-C10-알킬, 예를 들어 시아노메틸, 1-시아노에틸, 2-시아노에틸, 1-시아노프로필, 2-시아노프로필, 3-시아노프로필, 1-시아노프로프-2-일, 2-시아노프로프-2-일, 1-시아노부틸, 2-시아노부틸, 3-시아노부틸, 4-시아노부틸, 1-시아노부트-2-일, 2-시아노부트-2-일, 1-시아노부트-3-일, 2-시아노부트-3-일, 1-시아노-2-메틸프로프-3-일, 2-시아노-2-메틸프로프-3-일, 3-시아노-2-메틸프로프-3-일, 3-시아노-2,2-디메틸프로필, 6-시아노헥스-1-일, 7-시아노헵트-1-일, 8-시아노옥트-1-일, 9-시아노논-1-일, 10-시아노덱-1-일;
- C1-C4-알킬카르보닐: 탄소 원자 1개 내지 4개를 가지며 카르보닐기를 통해 결합된 알킬 라디칼, 예를 들어 아세틸, 프로피오닐, 부티릴 또는 이소부티릴;
- (C1-C4-알킬아미노)카르보닐: 예를 들어, 메틸아미노카르보닐, 에틸아미노카르보닐, 프로필아미노카르보닐, 1-메틸에틸아미노카르보닐, 부틸아미노카르보닐, 1-메틸프로필아미노카르보닐, 2-메틸프로필아미노카르보닐 또는 1,1-디메틸에틸아미노카르보닐;
- 디(C1-C4-알킬)아미노카르보닐: 예를 들어, N,N-디메틸아미노카르보닐, N,N-디에틸아미노카르보닐, N,N-디(1-메틸에틸)아미노카르보닐, N,N-디프로필아미노카르보닐, N,N-디부틸아미노카르보닐, N,N-디(1-메틸프로필)아미노카르보닐, N,N-디(2-메틸프로필)아미노카르보닐, N,N-디(1,1-디메틸에틸)아미노카르보닐, N-에틸-N-메틸아미노카르보닐, N-메틸-N-프로필아미노카르보닐, N-메틸-N-(1-메틸에틸)-아미노카르보닐, N-부틸-N-메틸아미노카르보닐, N-메틸-N-(1-메틸프로필)아미노카르보닐, N-메틸-N-(2-메틸프로필)아미노카르보닐, N-(1,1-디메틸에틸)-N-메틸아미노카르보닐, N-에틸-N-프로필아미노카르보닐, N-에틸-N-(1-메틸에틸)아미노카르보닐, N-부틸-N-에틸아미노카르보닐, N-에틸-N-(1-메틸프로필)아미노카르보닐, N-에틸-N-(2-메틸프로필)아미노카르보닐, N-에틸-N-(1,1-디메틸에틸)아미노카르보닐, N-(1-메틸에틸)-N-프로필아미노카르보닐, N-부틸-N-프로필아미노카르보닐, N-(1-메틸프로필)-N-프로필아미노카르보닐, N-(2-메틸프로필)-N-프로필아미노카르보닐, N-(1,1-디메틸에틸)-N-프로필아미노카르보닐, N-부틸-N-(1-메틸에틸)아미노카르보닐, N-(1-메틸에틸)-N-(1-메틸프로필)아미노카르보닐, N-(1-메틸에틸)-N-(2-메 틸프로필)아미노카르보닐, N-(1,1-디메틸에틸)-N-(1-메틸에틸)아미노카르보닐, N-부틸-N-(1-메틸프로필)아미노카르보닐, N-부틸-N-(2-메틸프로필)아미노카르보닐, N-부틸-N-(1,1-디메틸에틸)아미노카르보닐, N-(1-메틸프로필)-N-(2-메틸프로필)아미노카르보닐, N-(1,1-디메틸에틸)-N-(1-메틸프로필)아미노카르보닐 또는 N-(1,1-디메틸에틸)-N-(2-메틸프로필)아미노카르보닐;
- C1-C4-알콕시: 탄소 원자 1개 내지 4개를 가지며 산소 원자를 통해 결합된 알킬 라디칼, 예를 들어 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 1-메틸에톡시, 부톡시, 1-메틸프로폭시, 2-메틸프로폭시 또는 1,1-디메틸에톡시;
- C1-C4-알킬티오 (C1-C4-알킬술파닐: C1-C4
-알킬-S-): 탄소 원자 1개 내지 4개를 가지며 황 원자를 통해 결합된 알킬 라티칼, 예를 들어 메틸티오, 에틸티오, 프로필티오, 1-메틸에틸티오, 부틸티오, 1-메틸프로필티오, 2-메틸프로필티오 또는 1,1-디메틸에틸티오;
- C1-C4-알킬술피닐 (C1-C4-알킬-S(=O)-): 예를 들어, 메틸술피닐, 에틸술피닐, 프로필술피닐, 1-메틸에틸술피닐, 부틸술피닐, 1-메틸프로필술피닐, 2-메틸프로필술피닐 또는 1,1-디메틸에틸술피닐;
- C1-C4-알킬술포닐 (C1-C4-알킬-S(=O)2-): 예를 들어, 메틸술포닐, 에틸술포닐, 프로필술포닐, 1-메틸에틸술포닐, 부틸술포닐, 1-메틸프로필술포닐, 2-메틸프로필술포닐 또는 1,1-디메틸에틸술포닐.
용어 헤테로시클릴은 포화, 부분 불포화 및 또한 방향족 헤테로시클릭 라티 칼을 포함한다.
방향족 헤테로시클릴의 예는 2- 및 3-티에닐, 2- 및 3-푸릴, 2- 및 3-피롤릴, 1-, 3- 또는 4-피라졸릴, 2-, 3- 또는 4-피리디닐, 2- 또는 4-옥사졸릴 등을 포함한다.
고리의 일원으로서 1개 또는 2개의 카르보닐기, 티오카르보닐기 및(또는) O, S 및 N으로부터 선택된 1 또는 2개의 추가 헤테로원자를 가질 수 있는 포화 및 부분 불포화된 5- 내지 8-원의 헤테로시클릭 질소 라디칼의 예는 피롤리딘-1-일, 1,3-옥사졸리딘-3-일, 1,2-옥사졸리딘-2-일, 4,5-디히드로피라졸-1-일, 테트라히드로피라졸-1-일, 피페리딘-1-일, 모르폴린-4-일, 2-메틸모르폴린-4-일, 3-메틸모르폴린-4-일, 2,6-디메틸모르폴린-4-일, 헥사히드로피리다진-1-일, 헥사히드로피리미딘-1-일, 헥사히드로피페라진-1-일, 헥사히드로-1,3,5-트리아진-1-일, 헥사히드로아제핀-1-일, 헥사히드로-1,3-디아제핀-1-일, 헥사히드로-1,4-디아제핀-1-일을 포함한다.
바람직한 아민은 2급 아민이며, 즉 R1 및 R2 각각은 수소에 대해 상이하다. 아민 A1은 바람직하게는 단지 1개의 1급 또는 1개의 2급 아미노기를 갖는다. 아민 A1은 바람직하게는 알콜성 히드록시기를 갖지 않는다.
바람직한 치환기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 C1-C10-알킬, C3-C10-알케닐 및 C3-C10-알키닐로부터 선택되며, 여기서 이중 결합 또는 삼중 결합은 질소 원자가 결 합된 탄소 원자에 직접 부착되지는 않는다. 추가로, 상기한 바와 같은 방식으로, 특히 할로겐 또는 C1-C4-알콕시에 의해 치환될 수 있는 C1-C4-알콕시알킬, C1-C4-알킬티오-C1-C4-알킬, 시아노-C1-C4-알킬, C5-C8
-시클로알킬, C5-C8-시클로알키닐 및 페닐이 바람직하다. 바람직하게는, 라디칼 R1 및 R2 둘 다가 임의로 치환된 페닐, 나프틸 또는 헤테로시클릴은 아니다.
바람직한 실시양태에서, R1 및 R2는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 포화되거나 부분적으로 불포화된 5- 또는 6-원의 상기한 방식으로 치환될 수 있는 질소 헤테로시클, 특히 2,5-디히드로피롤-1-일, 2,3-디히드로피롤-1-일, 1-피롤리디닐, 1-피페리디닐, 4-모르폴리닐, 2-메틸모르폴린-4-일, 2,6-디메틸모르폴린-4-일, 1-메틸피페라진-4-일이다.
적합한 아민 A1의 예는 하기 표에 명시한 화학식 NR1R2의 아민이며, 여기서 라디칼 R1 및 R2는 각각 표 1의 일렬에 정의한 바와 같다.
3급 아민 A2와 관련하여, 원칙적으로는 어떠한 제한도 없다. 적합한 아민 A2는 트리알킬아민, 바람직하게는 C1-C4-알킬기를 갖는 트리알킬아민, 예를 들어 트리메틸아민, 트리에틸아민, 디메틸에틸아민, 디메틸-n-프로필아민, 트리-n-프로필아민, 트리이소프로필아민, 트리-n-부틸아민, 디메틸-n-부틸아민, 바람직하게는 C1-C4-알킬기 및 C6-C8-시클로알킬기를 갖는 N,N-디알킬-N-시클로알킬아민, 예를 들어 N,N-디메틸-N-시클로헥실아민, 및 또한 바람직하게는 C1-C4-알킬기를 갖는 N,N-디알킬아닐린, 특히 N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, N-메틸-N-에틸아닐린, 헤테로시클릭 3급 아민, 예를 들어 N-알킬모르폴린, N-알킬이미다졸 및 N-알킬피페리딘, 예를 들어 N-메틸모르폴린, N-에틸모르폴린, N-메틸피페리딘, N-에틸피페리딘, N-에틸이미다졸 및 N-메틸이미다졸, 및 또한 sp2 질소 원자를 갖는 3급 아민 (이후로는 피리딘형의 3급 아민으로 칭함)을 포함한다. 피리딘 그 자체에 더하여, 이들은 또한 α-, β- 및 γ-피콜린, 피리미딘, 피리다진, 2,4-루티딘, 2,6-루티딘, 퀴놀린, 퀴날딘, 및 또한 N-알킬이미다졸, 예를 들어 N-메틸이미다졸 및 N-에틸이미다졸을 포함한다. 바람직한 3급 아민은 피리딘형의 것, 특히 피리딘 및 α-, β- 및 γ-피콜린, 보다 바람직하게는 α-피콜린이다.
삼산화황 그 자체와는 별도로, 유용한 삼산화항 공급원은 또한 클로로술폰산 및 상기한 3급 아민을 갖는 삼산화황의 부가물을 포함한다. 삼산화황과 3급 아민과의 부가물 중에서, 피콜린, 피리딘, 트리에틸아민 및 N,N-디메틸-N-시클로헥실아민과의 부가물이 바람직하다. 이들 부가물은 삼산화황 또는 클로로술폰산을 적합한 용매, 바람직하게는 반응 용매 중의 3급 아민 용액에 첨가함으로써 제조할 수 있다. 상기 첨가는 바람직하게는 -20 내지 +50 ℃의 범위, 특히 -10 내지 +30 ℃의 범위에서 수행한다.
추가의 유용한 삼산화항 공급원은 삼산화황과 2급 아민과의 부가물, 예를 들어 디메틸포름아미드, 디에틸포름아미드, 디-n-프로필포름아미드, 디메틸아세트아미드, 디에틸아세트아미드, N-메틸아세트아닐리드, N-메틸피롤리돈 및 N-에틸피롤리돈, 테트라알킬우레아 화합물과의 부가물, 예를 들어 테트라메틸우레아, 테트라에틸우레아, 테트라부틸우레아 및 디메틸프로필렌우레아, 및 또한 전자가 풍부한 에테르와의 부가물, 예를 들어 테트라히드로푸란 또는 피란, 또는 니트릴과의 부가물, 예를 들어 아세토니트릴 또는 프로피오니트릴을 포함한다. 이들 부가물은 삼산화황과 3급 아민과의 부가물과 유사한 방식으로 제조한다. 단계 i)에서, 삼산화황 또는 피리딘형의 아민과의 삼산화황 부가물, 보다 바람직하게는 α-피콜린과의 삼산화황 부가물이 바람직하다.
본 발명에 따라, 단계 i) 중 1급 또는 2급 아민 A1의 반응에서, 아민 A1 1몰 당 등몰량 이상, 바람직하게는 1.1몰 이상, 및 특히, 1.2몰 이상의 SO3 또는 SO3 부가물 (SO3로서 계산)을 사용한다. 유리하게는, 아민 A1 1몰당 2.5몰 이하 및 특히, 2몰 이하의 삼산화황 또는 삼산화황 부가물을 사용할 것이다.
단계 i)에서 사용되는 3급 아민 A2의 양은 바람직하게는 아민 A1 1몰당 2몰 이상, 및 특히 2.5몰 이상이다. 유리하게는, 3급 아민 A2의 양은 아민 A1 1몰당 6몰 이하 및 특히, 5몰 이하이다. 사용된 SO3 공급원이 SO3와 3급 아민과의 부가물인 경우, 상기 방법에서 첨가하는 3급 아민 A2의 양은 또한 상기한 몰비를 고려하며, 즉 상기한 몰농도 데이타는 각각의 경우 단계 i)에서의 3급 아민의 총량과 관련된다.
통상적으로, 단계 i)에서의 반응은 -20 ℃ 내지 +100 ℃의 범위 및 바람직하게는 -10 내지 +60 ℃의 범위내 온도에서 수행한다. 상기 절차는 일반적으로 삼산화황 또는 삼산화황 공급원을 먼저 적합한 용매 또는 희석제 중에 충전시키고, 이어서 3급 아민 A2를 첨가하는 것이다. 상기 첨가는 일반적으로 -20 내지 +100 ℃의 범위, 바람직하게는 -10 내지 +50 ℃의 범위, 및 특히 -10 내지 +20 ℃의 범위내에서 수행한다. 상기 반응은 빈번하게 발열성이고, 일반적으로 내부 및(또는) 외부 냉각의 적합한 수단에 의해 목적하는 온도 범위 이내로 유지한다. 사용된 SO3 공급원이 SO3와 3급 아민과의 부가물인 경우, 아민의 SO3에의 첨가는 일반적으로 보다 덜 발열성이다. 이어서, 아민 A1을 생성된 용액 또는 현탁액에 첨가한다. 아민 A1을 희석하지 않거나, 이에 대해 적합한 용매 또는 희석제 중에 용해시키거나 현탁시킨 형태로 첨가할 수 있다. 이는 반응식 1에 나타난 술팜산암모늄의 형성을 야기시킨다. 아민 A1은 바람직하게는 -10 내지 +60 ℃의 범위의 온도에서 첨가한다. 수득한 반응 혼합물을 첨가 후 +10 내지 +80 ℃의 범위 및 특히 +20 내지 +60 ℃의 범위에서 소정의 시간 동안 계속 반응시킨다.
본 발명의 또 다른 실시양태에서, 단계 i)은 1급 또는 2급 아민 A1 및 3급 아민 A2를 먼저 적합한 용매 또는 희석제 중에 충전시키고, SO3 또는 SO3 공급원을 이에 첨가하는 방식으로 수행한다. SO3 또는 SO3 공급원을 또한 적합한 용매 또는 희석제 중에 첨가한다. 반응 온도에 대해, 상기한 바와 동일하게 적용한다. -20 내지 +80 ℃의 범위 및 특히 -10 내지 +60 ℃의 범위의 온도에서 첨가하는 것이 바람직하다. 첨가 후에, 반응 혼합물을 소정의 시간 동안 계속 반응시킨다. 상기 시간 동안, 반응 온도는 일반적으로 +10 내지 +80 ℃ 및 바람직하게는 +20 내지 +60 ℃이다.
단계 i)에서 반응에 필요한 시간은 일반적으로 15분 이상이고, 바람직하게는 10시간 및 특히 5시간을 초과하지 않을 것이다.
제1 실시양태에서 3급 아민을 SO3 또는 SO3 공급원에 첨가하는 비율은 반응 결과에 있어 그리 중요하지는 않으며, 첨가는 일반적으로 냉각에 의해 온도를 조절하는 방식으로 수행한다. 배치의 사이즈에 따라, 아민 A2의 첨가 기간은 수분 내지 1시간 범위내이다. 아민 A1을 상기 방식으로 수득한 반응 혼합물에 첨가하는 비율은 마찬가지로 그리 중요하지 않으며, 빈번하게 수분 내지 1시간 범위내이다. 반응을 완료하기 위해, 반응은 일반적으로 수분 내지 수시간, 예를 들어 5분 내지 3시간 동안 지속시킨다. 그러나, 1시간 이상의 반응 시간은 종종 불필요하다. 원칙적으로, 단계 i)에서 수득한 술팜산암모늄을 단리하고, 이어서 단계 ii)에서 이를 화학량론에 따른 필요량 이상의 수득한 할로겐화인과 반응시키는 것은 가능하다. 그러나, 단계 i)에서 수득한 반응 혼합물로부터 술팜산암모늄을 미리 단리하지 않고 단계 ii)에서 반응을 수행하는 것이 바람직하며, 즉 할로겐화인을 단계 i)에서 수득한 반응 혼합물에 직접 첨가한다.
적합한 할로겐화인은 통상적으로 시판되고 있는 할로겐화인, 특히 염화인 및 브롬화인, 및 보다 바람직하게는 염화인이다. 적합한 할로겐화인의 예는 삼염화인, 오염화인, 옥시염화인, 삼브롬화인 및 오브롬화인을 포함한다. 삼염화인, 오염화인 및 특히, 옥시염화인 (= 포스포릴 클로라이드)이 바람직하다.
할로겐화인은 희석하지 않거나, 불활성 용매 또는 희석제 중에 첨가할 수 있다. 액체 할로겐화인, 예를 들어 포스포릴 클로라이드의 경우, 일반적으로 이를 용해시키거나 희석시키는 것은 불필요하다.
필요한 할로겐화인의 최소량은 그 자체로 공지된 방식에서 반응의 화학량론에 따르며, 오염화인의 경우, 아민 A1 1몰당 0.5몰 이상, 삼염화인, 삼브롬화인 및 옥시염화인의 경우, 아민 A1 1몰당 1몰 이상이다. 유리하게는, 할로겐화인의 양은 아민 A1 1몰당 3몰, 바람직하게는 아민 A1 1몰당 2.2몰을 초과하지 않을 것이다. 삼염화인, 삼브롬화인 또는 옥시염화인을 사용하는 경우, 할로겐화인의 양은 아민 A1 1몰당 바람직하게는 1 내지 3몰 및 특히 1.1 내지 2.2몰이다. 오염화인 또는 오브롬화인을 사용하는 경우, 양은 바람직하게는 아민 A1 1몰당 0.5 내지 1몰, 특히 0.6 내지 0.9몰이다.
단계 ii)에서 필요한 반응 시간은 일반적으로 0.5 내지 8시간 범위내이다.
단계 ii)에서 필요한 반응 온도는 일반적으로 0 내지 100 ℃의 범위, 바람직하게는 10 내지 80 ℃의 범위 및 특히 20 내지 80 ℃ 범위내이다.
단계 i) 및 ii)에 적합한 용매 또는 희석제는 반응 조건하에서, 즉 SO3 및 할로겐화인에 대하여 불활성인 것들이다. 상기 용매는 당업자에게 공지되어 있으며, 극성 비양자성 및 비극성 비양성자성 화합물, 예를 들어 시클릭 또는 개방쇄 에테르, 할로탄화수소, 니트로탄화수소, 방향족, 지방족 및 시클로지방족 탄화수소, 테트라알킬우레아, N-알킬락탐, N,N-디알킬아미드 및 그들의 혼합물을 포함한다. 에테르의 예는 디에틸 에테르, 디-n-프로필 에테르, 메틸 tert-부틸 에테르 및 에틸렌 글리콜 디메틸 에테르를 포함한다. 니트로메탄에 더하여, 니트로탄화수소의 예는 니트로벤젠, o-, m- 또는 p-클로로니트로벤젠, 및 o-, p-니트로톨루엔을 포함한다. 탄화수소의 예는 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 헥산, 헵탄, 옥탄 및 시클로헥산을 포함한다. 테트라알킬우레아의 예는 테트라메틸우레아이다. N,N-디알킬아미 드의 예는 디메틸포름아미드 및 디메틸아세트아미드이다. N-알킬락탐의 예는 N-메틸피롤리돈이다. 할로탄화수소의 예는 지방족 할로탄화수소, 예를 들어 메틸렌 클로라이드, 1,1- 및 1,2-디클로로에탄, cis-1,2-디클로로에텐, 1,1-, 1,2- 및 1,3-디클로로프로판, 1,4-디클로로부탄, 테트라클로로에탄, 1,1,1- 및 1,1,2-트리클로로에탄, 트리클로로에틸렌, 펜타클로로에탄, 트리클로로플루오로메탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 클로로톨루엔, 디클로로톨루엔, 트리클로로벤젠 및 그들의 혼합물을 포함한다. 바람직한 용매는 할로탄화수소, 특히 디클로로에탄, 디클로로메탄 및 클로로벤젠, 및 또한 그들의 혼합물을 포함한다. 또한, 유용한 희석제는 원칙적으로 상기한 3급 아민이다.
희석제의 양은 일반적으로 반응 혼합물이 반응하는 동안 유동가능한 상태를 유지하는 방식으로 선택되며, 상기 목적에 충분한 양은 일반적으로 아민 A1 1몰당 용매500 ml 이상 , 바람직하게는 1 ℓ 이상이다. 이들 데이타는 반응 단계 i) 및 ii)에서의 용매의 총량에 관련된다. 비용때문에, 최소량의 용매를 사용할 것으로 인식될 것이다. 일반적으로, 용매의 양은 그런 까닭에 아민 A1 1몰당 5 ℓ이하일 것이다.
공정 단계 i) 및 ii)는 배치 방식으로 또는 연속적으로, 이에 적합한 반응 용기에서 수행될 것이다. 배치 방식에서는, 교반 탱크 및 교반 반응기가 통상적으로 사용될 것이다. 이들은 일반적으로 반응열을 제거하기에 적합한 열 교환기 또는 냉각 재킷이 장착되어 있다. 반응 단계 i) 및 ii)의 연속 수행은 마찬가지로 이에 대해 통상적인 반응기, 예를 들어 교반 탱크, 교반 탱크 배터리 및 관형 반응 기에서 수행되지만, 하부 역혼합하는 반응기가 바람직하다.
단계 ii)에서 수득한 반응 혼합물은 그 자체로 공지된 방식으로 후처리한다. 빈번하게, 과량의 할로겐화인을 분해하기 위해서는, 단계 ii)에서 수득한 반응 혼합물을 물 중으로 부음으로써 가수분해시키고, 희석 산, 특히 희석 무기산을 첨가한 후, 난수용성 유기 용매로 과량의 아민 A1 또는 A2를 추출하여 제거할 것이다. 과량의 할로겐화인 및 용매 및 또한 임의의 과량의 3급 아민 A2를 증류하고, 이어서 잔사를 분별 증류하는 것도 또한 가능하다. 휘발성 성분의 증류 제거 후, 수득한 잔사를 3급 아민 염이 제한적으로 용해되는 유기성, 중간 극성 또는 비극성 용매와 혼합하는 것 또한 가능하다. 적합한 용매는 개방쇄 에테르, 특히 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르 및 메틸 tert-부틸 에테르이다. 상기 방식으로, 술파모일 할라이드 용액은 수득된다.
용매를 증발시킨 후, 술파모일 할라이드는 일반적으로 추가 정제 단계 필요없이 농작물 보호제의 제조에 바로 사용하기에 충분한 순도로 수득된다. 증류없이 달성된 순도는 빈번하게 약 90% 및 특히 약 95% 이상이다. 이러한 이유로, 본 발명에 따른 방법은 유리하게는 증류없이 수행된다. 그러나, 증류는 원칙적으로 가능한 것으로 인식될 것이다.
본 발명에 따른 방법은 아민 A1을 기준으로 하여 일반적으로 80% 이상 및 빈번하게 90% 이상의 매우 우수한 수율로 술파모일 할라이드를 생성시킨다.
또한, 본 발명에 따른 방법은 카르밤산 또는 이소시아네이트를 통한 우회를 수반하지 않고, 또한 염소의 문제성 있는 사용 및 클로로아민의 제조를 우회한다.
본 발명에 따른 방법은 1급 또는 2급 아민으로부터 유도된 임의의 목적하는 술파모일 할라이드의 제조를 원칙적으로 가능하게 한다. 또한, 상대적으로 반응성인 관능기들, 특히 C=C 이중 결합, C≡C 삼중 결합, 알데히드 또는 케토 카르보닐기, 에테르기, 에스테르기, 아미드기 등을 갖는 아민을 사용하는 것 또한 가능하다. 상기 술파모일 할라이드는 신규하며, 또한 본 발명의 주제의 일부를 형성한다. 특히, 본 발명은 R1' 및 R2' 각각이 알릴인 화학식 II의 화합물은 제외한, 화학식 II의 술파모일 할라이드에 관한 것이다.
식 중에서,
R1'은 CN, C1-C4-알콕시, C2-C20-할로알케닐, C
2-C20-할로알키닐, C5-C10-시클로알케닐, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시카르보닐, C1
-C4-알킬아미노카르보닐, C1-C4-디알킬아미노카르보닐 또는 포르밀에 의해 치환된 C2-C20-알케닐, C
2-C20-알키닐, C2-C20-할로알케닐, C2-C20-할로알키닐, C2-C20
-알킬이거나, 또는 C5-C10-시클로알케닐이고,
R2'은 C2-C20-알킬, C2-C20-알케닐 또는 C2
-C20-알키닐 {여기서, 이들 각각은 비치환되거나 CN, NO2, C1-C4-알콕시, C1-C4-알킬티오, 포르밀, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시카르보닐, C1-C4-알킬아미노카르보닐, C1
-C4-디알킬아미노카르보닐, C1-C4-알킬술피닐, C1-C4-알킬술포닐, C3-C10-시클로알킬, 페닐 (여기서, 페닐은 그 자체가 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4
-플루오로알킬, C1-C4-알킬옥시카르보닐, 트리플루오로메틸술포닐, 포르밀, 니트로 또는 시아노로부터 선택된 1개, 2개, 3개 또는 4개의 치환체를 가질 수 있음)에 의해 치환될 수 있음}이거나,
C1-C20-할로알킬, C2-C20-할로알케닐, C2-C20
-할로알키닐, C3-C10-시클로알킬, C5-C10-시클로알케닐, O, S 및 N, 페닐 또는 나프틸로부터 선택된 1 내지 3개의 헤테로원자를 갖는 헤테로시클릴, 페닐 또는 나프틸 (여기서, 헤테로시클릴, 페닐 또는 나프틸은 그 자체가 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-플루오로알킬, C1-C4-알킬옥시카르보닐, 트리플루오로메틸술포닐, 포르밀, 니트로 또는 시아노로부터 선택된 1개, 2개, 3개 또는 4개의 치환체를 가질 수 있음)이고, 특히 비치환되거나 할로겐, 메톡시 또는 메틸에 의해 치환된 C1-C4-알킬, 알릴, 프로파르길 또는 페닐이거나; 또는
R1' 및 R2'은 함께 부분적으로 불포화된 5- 내지 8-원의 질소 헤테로시클 (여기서, 헤테로시클은 그 자체가 C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시 및(또는) C1-C4-할로알킬로 치환될 수 있고, 고리의 일원으로서 1개 또는 2개의 카르보닐기 또는 티오카르보닐기 및(또는) O, S 및 N으로부터 선택된 1개 또는 2개의 추가 헤테로원자를 가질 수 있음)을 또한 형성할 수 있으며,
여기서, R1'이 C2-C20-할로알케닐, C2-C20-할로알키닐, C5-C10-시클로알케닐 또는 포르밀에 의해 치환된 C2-C20-알키닐, C2-C20-할로알케닐, C2-C20-알킬이거나, 또는 C5-C10-시클로알케닐인 경우, R2'는 또한 메틸일 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시양태는 화학식 II의 술파모일 클로라이드에 관한 것이며, 여기서 R1' 및 R2'는 서로 독립적이며, 바람직하게는 하기와 같이 정의된 것의 조합물이다:
R1'은 특히 C1-C4-알콕시-C2-C4-알킬, 시아노-C
2-C4-알킬, C3-C10-알케닐, C3-C10-알키닐 또는 C3-C10-할로알케닐, 및 특히 2-메톡시에틸, 2-시아노에틸, 알릴, 프로파르길 또는 2-클로로알릴이고;
R2'은 비치환되거나 할로겐, 메톡시 또는 메틸에 의해 치환된 C2-C4-알킬, 알릴, 프로파르길 또는 페닐이거나, 또는
R1' 및 R2'은 이들이 결합된 질소 원자와 함께 2,5-디히드로피롤-1-일, 2,3-디히드로피롤-1-일 또는 1,2,3,4- 또는 1,2,3,6-테트라히드로피리딘-1-일이며, 여기서 헤테로시클은 1개, 2개 또는 3개의 메틸기를 가질 수 있다.
본 발명의 추가 실시 양태는
R1'이 페닐 또는 나프틸이며, 이들 각각은 할로겐, C1-C4-알킬, C1
-C4-알콕시, C1-C4-플루오로알킬, C1-C4-알킬옥시카르보닐, 트리플루오로메틸술포닐, 포르밀, 니트로 또는 시아노로부터 선택된 1개, 2개, 3개 또는 4개의 치환체를 가질 수 있고,
R2'이 C1-C10-알킬 또는 C3-C10-시클로알킬인 화학식 II의 술파모일 클로라이드에 관한 것이다.
암모니아와의 반응에 의한 현행 방법과 유사하게, 본 발명에 따른 방법에 의해 수득한 술파모일 할라이드를 상응하는 술파모일 아미드 (= 황산 디아미드)로 전환할 수 있다. 반응은 높은 수율로 화합물을 제공한다. 상기 술파모일 아미드는 지금까지는 클로로술포닐 이소시아네이트를 클로로술폰아미드 Cl-SO2-NH2로 부분적으로 가수분해한 다음, 클로로술폰아미드를 1급 또는 2급 아민과 반응시키는 반응에 의해 제조하여 왔다 (예를 들어, WO 00/83459 참조). 그러나, 술파모일 아미드는 상기 경로에 의해 일반적으로 단지 50% 미만의 중간 정도의 수율로 수득할 수 있다. 또한, 상기 방법은 높은 반응성, 고도의 수분-민감성 및 고가의 클로로술포닐 이소시아네이트의 사용을 수반한다.
본 발명에 따라, 황산 디아미드는 하기 단계에 의해 제조한다:
i) 1급 또는 2급 아민 A1을 각각의 경우에 아민 A1을 기준으로 하여 등몰량 이상의 3급 아민 A2의 존재하에서 등몰량 이상의 SO3 또는 SO3 공급원과 반응시키는 단계,
ii) 단계 i)에서 수득한 반응 혼합물을 화학량론에 따른 필요량 이상의 할로겐화인과 반응시키는 단계, 및
iii) 단계 ii)에서 수득한 술파모일 할라이드를 암모니아와 반응시키는 단계.
황산 디아미드를 제조하기 위한 본 발명에 따른 방법은 적합한 황산 디아미드를 매우 높은 수율로 제공하며, 따라서 본 발명의 주제의 일부를 또한 형성한다. 상기 방법에서 클로로술포닐 이소시아네이트의 사용은 불필요하다.
WO 01/83459에 개시된 바와 같이, 상기 경로에 따라 수득가능한 황산 디아미드, 특히 화학식 III의 것이 하기 화학식 IV의 화합물을 제조하는데 적합하다.
화학식 IV에서, n은 0 또는 1이고, Het은 임의로 치환된 5- 또는 6-원의 헤테로시클이며, 이는 고리 일원으로서의 1개, 2개 또는 3개의 질소 원자, 산소 및 황으로부터 선택된 임의의 1개의 추가 헤테로원자, 및 임의의 1개 또는 2개의 카르보닐 또는 티오카르보닐기를 가질 수 있다. Ra는 수소, 불소 또는 염소이고, Rb는 염소 또는 시아노이고, A는 1급 또는 2급 아민 A1으로부터 유도된 라디칼이며, 특 히 NHR3 또는 NR1R2이며, 여기서 R1 및 R2 각각은 상기 정의한 바와 같고, R3는 R1과 동일한 정의를 갖는다.
따라서, 본 발명은 또한 화학식 II의 화합물의 제조 방법에 관한 것이다. 이 방법은 하기 단계를 포함한다:
i) 1급 또는 2급 아민 A1을 각각의 경우에 아민 A1을 기준으로 하여 등몰량 이상의 3급 아민 A2의 존재하에서 등몰량 이상의 SO3 또는 SO3 공급원과 반응시켜 술팜산암모늄을 수득하는 단계,
ii) 술팜산암모늄을 화학량론에 따른 필요량 이상의 할로겐화인과 반응시켜 아민 A1의 술파모일 할라이드를 수득하는 단계,
iii) 단계 ii)에서 수득한 술파모일 할라이드를 암모니아와 반응시켜 술파모일 아미드를 수득하는 단계;
iv) 단계 iii)으로부터의 반응 생성물을 화학식 V의 화합물과 반응시키는 단계.
식 중에서, Het, n, Ra 및 Rb 각각은 화학식 IV에 대해 정의한 바와 같고, Y는 OH, 알콕시 또는 할로겐 원자이다.
적합한 헤테로시클의 예는 본원에서 참조로 인용되어 있는 WO 01/83459에 개 시된 화학식 Q1 내지 Q40의 라디칼이다. Het(=N)n-은 바람직하게는 WO 01/83459에 개시되어 있는 화학식 Q5, Q7, Q12, Q13, Q21, Q22, Q27, Q32, Q36, Q38, Q39, 및 Q40의 라디칼, 예를 들어 임의로 치환된 피리미딘-2,6-디온-1-일, 예를 들어 4-트리플루오로메틸피리미딘-2,6-디온-1-일, 3-메틸-4-트리플루오로메틸피리미딘-2,6-디온-1-일 또는 3-아미노-4-트리플루오로메틸피리미딘-2,6-디온-1-일, 임의로 치환된 1,2,4-트리아졸-5-온-1-일, 예를 들어 3-메틸-4-디플루오로메틸-1,2,4-트리아졸-5-온-1-일, 임의로 치환된 1,3,5-트리아진-4,6-디온-5-일, 예를 들어 1,3-디메틸-2-티오-1,3,5-트리아진-4,6-디온-5-일 또는 3,5-디메틸-1,3,5-트리아진-2,4,6-트리온-1-일, 임의로 치환된 1,2,4-트리아진-6-일, 예를 들어 2,4-디메틸-3-티오-1,2,4-트리아진-5-온-6-일, 임의로 치환된 피라진-3-온-2-일, 예를 들어 5-트리플루오로메틸피라진-3-온-2-일, 4-메틸-5-트리플루오로메틸피라진-3-온-2-일 또는 4-아미노-5-메틸술포닐피라진-3-온-2-일, 임의로 치환된 피라졸, 예를 들어 4-클로로-1-메틸-5-디플루오로메톡시피라졸-3-일, 4-브로모-1-메틸-5-디플루오로메톡시피라졸-3-일, 4-클로로-1-메틸-5-트리플루오로메틸피라졸-3-일 또는 4-브로모-1-메틸-5-트리플루오로메틸피라졸-3-일, 임의로 치환된 피리디닐, 예를 들어 3-클로로-5-트리플루오로메틸피리딘-2-일, 3,4,5,6-테트라히드로프탈리미딜, 하기 화학식의 라디칼을 나타낸다.
식 중에서, X1, X2 및 Z는 서로 독립적으로 산소 또는 황, 특히 n이 0인 경우에 하기 화학식의 라디칼이다.
단계 i) 및 ii)과 관련하여, 상기한 바를 적용한다. 단계 iii)는 일반적으로 술파모일 할라이드, 바람직하게는 술파모일 클로라이드를 NH3 또는 적합한 용매 또는 희석제 중의 암모니아 수용액과 반응시킴으로써 수행한다. 상기한 용매 이외에, 적합한 용매 또는 희석제는 특히 물 및 수혼화성 용매 및 희석제이다. 반응을 수성 암모니아, 특히 5 내지 35 중량% 수성 암모니아 중에서 수행하는 것이 바람직하다.
바람직하게는, 절차는 불활성 용매 중에 임의로 희석시킨 술파모일 할라이드를 용매 중의 NH3 용액, 바람직하게는 암모니아 수용액에 첨가하는 것이다. 술파모일 할라이드는 또한 먼저 바람직하게는 용매 또는 희석제 중에 충전할 수 있고, 기체 NH3 또는 용매 중의 NH3 용액, 특히 수성 암모니아를 이에 첨가할 수 있다. 반응의 화학량론을 기준으로 하여 과량의 NH3를 사용하는 것이 바람직하다. 특히, 술파모일 할라이드 1몰당 NH3 2.5몰 이상, 예를 들어 NH3 2.5 내지 50몰, 특히 NH3
3 내지 20몰을 사용할 것이다.
반응에 필요한 온도는 일반적으로 -20 내지 100 ℃의 범위 및 바람직하게는 -10 내지 30 ℃의 범위내이다. 반응 시간은 일반적으로 10분 내지 5시간 및 바람직하게는 0.5시간 내지 3시간의 범위내이다. 반응에서 수득한 술파모일 아미드는 그 자체로 공지된 방식으로, 예를 들어 용매를 제거하고, 반응 중에 형성된 염으로부터 분리함으로써 후처리한다.
이후에, 단계 iv)를 그 자체로 공지된 방식으로, 예를 들어 문헌 [WO 01/83459, pp. 31-35]에 개시된 바와 같이, 화학식 V의 화합물을 상응하는 술파모일 클로라이드로부터 단계 iii)에서 수득한 술파모일 아미드의 화학량론에 따른 필요량과 반응시킴으로써 수행한다.
Y가 OH인 경우, 예를 들어, 불활성 유기 용매 중의 N,N'-카르보닐디이미다졸 또는 디시클로헥실카르보디이미드와 같은 탈수화제의 존재하에서 반응을 수행하고, 반응을 촉진시키는 3급 아민 또는 아미딘 염기, 예를 들어 DBU (1,8-디아자비시클로[5.4.0]운덱-7-엔 또는 DBN (1,5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔)의 존재하에서 반응을 임의로 수행한다. 별도로, Y = OH인 화학식 V의 화합물은 또한 먼저 그의 산 할라이드로 전환시키고, 이어서 술파모일 아미드와 반응시킨다. 상기 반응은 예를 들어, 문헌 [Houben Weyl, Methoden der Organischen Chemie, Vol. E5 (1985), section I, p. 587 ff. 및 Vol. E5 (1985), section II, p. 934 ff]으로부터 당업자에게 공지되어 있다. 보다 상세한 설명을 위해서는, 이 점에 대해 WO 01/83459을 또한 참조한다.
하기 실시예는 본 발명을 제한하지 않으면서 이를 예시하려는 의도이다.
I. 술파모일 할라이드의 제조법
실시예 1
N-(2-클로로-2-프로펜-1-일)-N-(n-프로필)술파모일 클로라이드
1,2-디클로로에탄 중의 57.4% 용액으로서 삼산화황 35.7 g (0.256 mol)을 0 내지 5 ℃에서 15분 이내로 교반하면서 1,2-디클로로에탄 200 ml 중의 α-피콜린 43.7 g (0.469 mol)의 용액에 첨가한 다음, 1,2-디클로로에탄 40 ml로 세척하고, 온도가 20 ℃로 상승할 때까지 15분 동안 교반하였다. 이어서, 90% 순도의 N-(2-클로로-2-프로펜-1-일)-N-프로필아민 28.5 g (0.192 mol)을 교반하며 외부 냉각시키면서 20 내지 30 ℃에서 15분 이내에 첨가한 다음, 1,2-디클로로에탄 40 ml로 세척하고, 50 ℃에서 15분 동안 교반하였다. 23 ℃로 냉각시킨 후, 옥시염화인 39.3 g (0.256 mol)을 15분 이내로 교반하면서 첨가한 다음, 1,2-디클로로에탄 120 ml로 세척하고, 70 ℃로 가열하였다. 1시간 동안 교반한 후, 반응 혼합물을 냉각시키고, 감압하에서 농축하고, 수득한 잔사를 매회 메틸 tert-부틸 에테르 100 ml와 함께 교반하였다. 메틸 tert-부틸 에테르 상을 경사분리하고 농축하였다. 잔사를 증류하였다. 비점이 67 내지 71 ℃/0.4 mbar인 표제 화합물 42.5 g (이론치의 90.5%)을 수득하였다.
실시예 2
N-메틸-N-[1-메틸에틸]술파모일 클로라이드
1,2-디클로로에탄 중의 52% 용액으로서 삼산화황 63.2 g (0.41 mol)을 0 내지 5 ℃에서 15분 이내로 교반하면서 1,2-디클로로에탄 250 ml 중의 α-피콜린 70.0 g (0.752 mol)의 용액에 첨가한 다음, 1,2-디클로로에탄 50 ml로 세척하고, 온도가 25 ℃로 상승할 때까지 15분 동안 교반하였다. 이어서, 95% 순도의 N-메틸-N-[1-메틸에틸]아민 26.3 g (0.342 mol)을 교반하면서 20 내지 35 ℃에서 15분 이내에 첨가한 다음, 1,2-디클로로에탄 50 ml로 세척하고, 55 ℃에서 15분 동안 교반하였다. 20 ℃로 냉각시킨 후, 오염화인 42.7 g (0.205 mol)을 15분 이내로 교반하며 외부 냉각시키면서 첨가한 다음, 1,2-디클로로에탄 150 ml로 세척하였다. 70 ℃에서 2시간 동안 교반한 후, 반응 혼합물을 감압하에서 농축하고, 10 cm 컬럼을 갖는 노르막 (Normag) 컬럼 헤드를 통해 증류하였다. 비점이 110 내지 115 ℃/30 mbar인 표제 화합물 35 g (이론치의 59.6%)을 수득하였다. 굴절률 nD
23=1.4620.
실시예 3
N-이소프로필-N-(n-프로필)술파모일 클로라이드
1,2-디클로로에탄 중의 60% 용액으로서 삼산화황 52.6 g (0.356 mol)을 0 내지 5 ℃에서 25분 이내로 교반하면서 1,2-디클로로에탄 400 ml 중의 α-피콜린 60.75 g (0.652 mol)의 용액에 첨가한 다음, 1,2-디클로로에탄 80 ml로 세척하고, 온도가 22 ℃로 상승할 때까지 15분 동안 교반하였다. 이어서, N-이소프로필-N-(n-프로필)아민 30 g (0.296 mol)을 교반하며 외부 냉각시키면서 20 내지 30 ℃에서 20분 이내에 첨가한 다음, 1,2-디클로로에탄 80 ml로 세척하고, 50 ℃에서 15분 동안 교반하였다. 25 ℃로 냉각시킨 후, 옥시염화인 54.6 g (0.356 mol)을 15분 이내로 교반하며 25 내지 30 ℃로 냉각시키면서 첨가한 다음, 1,2-디클로로에탄 200 ml로 세척하고, 75 ℃로 가열하였다. 상기 온도에서 1시간 동안 교반한 후, 반응 혼합물을 냉각시키고, 감압하에서 농축하고, 수득한 잔사를 매회 메틸 tert-부틸 에테르 200 ml와 함께 3회 교반하였다. 메틸 tert-부틸 에테르 상을 경사분리하고, 희석된 염산으로 2회 추출하였다. 유기 상을 황산마그네슘으로 건조시키고, 건조제를 여과하고, 유기 상을 농축하였다. 굴절률이 nD
23 = 1.4605인 표제 화합물 55.1 g (이론치의 91.3%)을 수득하였다. 기체 크로마토그래피 분석 (컬럼: 매케레이 (Macherey) 및 나겔 (Nagel) 25 m 옵티마 (Optima) 17 GC 9; 압력 14.5 psi; 헬륨; 컬럼 유속 0.6 ml/분; 스플리트, 30 ml/분; 주입기 280 ℃, 검출기 320 ℃)은 순도 96%를 나타내었다 (RT = 11.87분).
실시예 13
N-알릴-N-(2-시아노에틸)술파모일 클로라이드
삼산화황 64.8 g (0.641 mol)을 1,2-디클로로에탄 중에 57% 용액으로서 0 내 지 5 ℃에서 15분 이내로 교반하면서 1,2-디클로로에탄 200 ml 중의 2,6-루티딘 90.6 g (0.846 mol) 용액에 첨가한 다음, 1,2-디클로로에탄 40 ml로 세척하고, 온도가 22 ℃로 상승할 때까지 15분 동안 교반하였다. 이후에, N-알릴-N-(2-시아노에틸)아민 42.4 g (0.385 mol)을 교반하면서 20 내지 30 ℃에서 15분 이내에 첨가한 다음, 1,2-디클로로에탄 40 ml로 세척하고, 50 ℃에서 15분 동안 교반하였다. 22 ℃로 냉각시킨 후, 옥시염화인 70.8 g (0.61 mol)을 20 내지 30 ℃에서 15분 이내로 교반하면서 첨가한 다음, 1,2-디클로로에탄 120 ml으로 세척하고, 70 ℃로 가열하였다. 상기 온도에서 1시간 동안 교반한 후, 반응 혼합물을 25 ℃로 냉각시키고, 감압하에서 농축하고, 10 cm 컬럼을 갖는 노르막 컬럼 헤드를 통해 증류하였다. 비점이 110 내지 116 ℃/0.4 mbar인 표제 화합물 32.3 g (이론치의 40%)을 수득하였다. 굴절률 nD
23=1.4948.
표 2에 기재된 실시예 4 내지 24의 술파모일 클로라이드 R1R2N-SO2-Cl을 실시예 1과 유사한 방식으로 제조하였다. 표 2에, 비점 [b.p. ℃로], 굴절률 [nD
23 또는 nD
25], GC 분석의 경우에 있어 GC 보유 시간 RT (분으로) (하기 참조) 및 순도, 및 또한 수율을 기록하였다.
1) (컬럼: 매케레이 및 나겔 25 m 옵티마 17 GC 9; 압력 14.5 psi; 헬륨; 컬럼 유속 0.6 ml/분; 분할 30 ml/분; 주입기 280 ℃, 검출기 320 ℃)
2) 고손실 증류
II. 술파모일 아미드의 제조법
실시예 49: N-메틸-N-이소프로필술파모일 아미드
실시예 2로부터의 N-메틸-N-이소프로필술파모일 클로라이드 15 g (0.083 mol)을 0 내지 5 ℃에서 5분 이내로 교반하면서 25% 수성 암모니아 49 ml (0.654 mol)에 첨가하고, 5 내지 10 ℃에서 추가 45분 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 감압하에서 농축한 후, 잔사를 메틸렌 클로라이드 중에 교반하고, 불용성 침강물로부터 제거하고, 세척하고, 다시 감압하에서 농축하였다. 융점이 51 내지 53 ℃인 표제 화합물 11.3 g을 수득하였다. NMR 스펙트럼으로 측정한 95%의 순도를 기준으로 하여, 수율은 이론치의 84.9%이었다.
유사한 방식으로, 화학식 III의 표 3에 명시된 술파모일 아미드를 제조하였다 (실시예 50 내지 63).
[화학식 III]
실시예 64
3-(5-(N-메틸-N-페닐)술파모일카르복스아미드-4-클로로-2-플루오로페닐)-1,2,3,4-테트라히드로-1-메틸-6-트리플루오로메틸피리미딘-2,4-디온
2-클로로-4-플루오로-5-(3-메틸-2,6-디옥소-4-트리플루오로메틸-3,6-디히드로-2H-피리미딘-1-일)벤조일 클로라이드 1.2 g (3.116 mmol)을 0 ℃에서 메틸렌 클로라이드 40 ml 중의 N-메틸-N-페닐황산 디아미드 0.64 g (3.428 mmol), 트리에틸 아민 0.69 g (6.885 mmol), 촉매로서 스패툴라-팁량의 p-디메틸아미노피리딘의 혼합물에 첨가하였다. 상기 혼합물을 22 ℃에서 1시간 동안 교반하고, 이어서 반응 용액을 1N 염산으로 추출하였다. 유기 상을 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 유기 상을 감압하에서 농축하였다. 생성된 잔사를 에테르와 함께 교반하여 융점이 188 내지 192 ℃인 표제 화합물 1.3 g (이론치의 78%)을 수득하였다.
WO 01/83459의 31쪽에 명시한 방법 A와 유사하게 제조법을 수행하였다.
실시예 64와 유사하게, 표 4에 명시한 하기 화학식의 화합물을 제조하였다 (실시예 65 내지 71).
Claims (17)
- i) 1급 또는 2급 아민 A1을, 아민 A1을 기준으로 하여 등몰량 이상의 3급 아민 A2의 존재하에서, 아민 A1을 기준으로 하여 등몰량 이상의 SO3 또는 SO3 공급원과 반응시키는 단계, 및ii) 단계 i)에서 수득한 반응 혼합물을, 아민 A1을 기준으로 하여 화학량론에 따른 필요량 이상의 할로겐화인과 반응시키는 단계를 포함하는, 1급 또는 2급 아민의 술파모일 할라이드의 제조 방법.
- 제1항에 있어서, 아민 A1 1몰당 3급 아민 A2 2몰 이상을 사용하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 아민 A1 1몰당 SO3 또는 SO3 공급원 1.1몰을 사용하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 단계 i)에서 사용된 SO3 공급원이 SO3 또는 3급 아민 A2와 SO3와의 부가물인 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 3급 아민이 피리딘 화합물인 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 할로겐화인이 삼염화인 및 옥시염화인으로부터 선택된 것인 방법.
- 제6항에 있어서, 할로겐화인의 양이 아민 A1 1몰당 1 내지 3몰인 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 할로겐화인이 오염화인으로부터 선택된 것인 방법.
- 제8항에 있어서, 할로겐화인의 양이 아민 A2 1몰당 0.5 내지 1몰인 방법
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 단계 i)에서 수득한 술팜산암모늄을 단리하지 않으면서 할로겐화인을 단계 i)에서 수득한 반응 혼합물에 첨가함으로써 단계 ii)를 수행하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 2급 아민이 화학식 IB를 갖는 것인 방법.[화학식 IB]
식 중에서,R1 및 R2는 각각 독립적으로 C1-C20-알킬, C2-C20-알케닐 또는 C2-C20-알키닐 {여기서, 이들 각각은 비치환되거나 C1-C4-알콕시, C1-C4-알킬티오, CN, NO2, 포르밀, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시카르보닐, C1-C4-알킬아미노카르보닐, C1-C4-디알킬아미노카르보닐, C1-C4-알킬술피닐, C1-C4-알킬술포닐, C3-C10-시클로알킬, 페닐 (여기서, 페닐은 그 자체가 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-플루오로알킬, C1-C4-알킬옥시카르보닐, 트리플루오로메틸술포닐, 포르밀, 니트로 또는 시아노로부터 선택된 1개, 2개, 3개 또는 4개의 치환체를 가질 수 있음)로 치환될 수 있음}, C1-C20-할로알킬, C2-C20-할로알케닐, C2-C20-할로알키닐, C3-C10-시클로알킬, C5-C10-시클로알케닐, O, S 및 N으로부터 선택된 1개 내지 3개의 헤테로원자를 갖는 헤테로시클릴, 페닐 또는 나프틸 (여기서, 헤테로시클릴, 페닐 또는 나프틸은 그 자체가 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-플루오로알킬, C1-C4-알킬옥시카르보닐, 트리플루오로메틸술포닐, 포르밀, 니트로 또는 시아노로부터 선택된 1개, 2개, 3개 또는 4개의 치환체를 가질 수 있음)이거나,R1 및 R2는 함께 포화되거나 부분적으로 불포화된 5- 내지 8-원의 질소 헤테로시클 (여기서, 헤테로시클은 그 자체가 C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시 및 C1-C4-할로알킬 중 하나 이상으로 치환될 수 있고, 고리의 일원으로서 1개 또는 2개의 카르보닐기 또는 티오카르보닐기를 갖거나 O, S 및 N으로부터 선택된 1개 또는 2개의 추가 헤테로원자를 갖거나, 또는 1개 또는 2개의 카르보닐기 또는 티오카르보닐기와 함께 O, S 및 N으로부터 선택된 1개 또는 2개의 추가 헤테로원자를 가질 수 있음)을 형성할 수 있다. - i) 1급 또는 2급 아민 A1을, 아민 A1을 기준으로 하여 등몰량 이상의 3급 아민 A2의 존재하에서, 아민 A1을 기준으로 하여 등몰량 이상의 SO3 또는 SO3 공급원과 반응시키는 단계,ii) 단계 i)에서 수득한 반응 혼합물을, 아민 A1을 기준으로 하여 화학량론에 따른 필요량 이상의 할로겐화인과 반응시키는 단계, 및iii) 단계 ii)에서 수득한 술파모일 할라이드를 암모니아와 반응시키는 단계를 포함하는, 1급 또는 2급 아민을 암모니아와 반응시킴으로써 황산 디아미드를 제조하는 방법.
- i) 1급 또는 2급 아민 A1을, 아민 A1을 기준으로 하여 등몰량 이상의 3급 아민 A2의 존재하에서, 아민 A1을 기준으로 하여 등몰량 이상의 SO3 또는 SO3 공급원과 반응시켜 술팜산암모늄을 수득하는 단계,ii) 술팜산암모늄을, 아민 A1을 기준으로 하여 화학량론에 따른 필요량 이상의 할로겐화인과 반응시켜 아민 A1의 술파모일 할라이드를 수득하는 단계,iii) 단계 ii)에서 수득한 술파모일 할라이드를 암모니아와 반응시켜 술파모일 아미드를 수득하는 단계; 및iv) 단계 iii)으로부터의 반응 생성물을 화학식 V의 화합물과 반응시키는 단계를 포함하는, 화학식 IV의 화합물의 제조 방법.[화학식 IV]
[화학식 V]
식 중에서,n은 0 또는 1이고,Het은 임의로 치환된 5- 또는 6-원의 헤테로시클이며, 이는 고리 일원으로서의 1개, 2개 또는 3개의 질소 원자, 산소 및 황으로부터 선택된 임의의 1개의 추가 헤테로원자, 및 임의의 1개 또는 2개의 카르보닐 또는 티오카르보닐기를 가질 수 있고,Ra는 수소, 불소 또는 염소이고,Rb는 염소 또는 시아노이고,A는 1급 또는 2급 아민 A1로부터 유도된 라디칼이고,Y는 OH, 알콕시 또는 할로겐 원자이다. - 제13항에 있어서, n이 0이고 Het이 화학식의 라디칼인 방법.
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