KR100973218B1 - 기판에 균일한 워터폴을 제공할 수 있는 액체 블레이드 - Google Patents
기판에 균일한 워터폴을 제공할 수 있는 액체 블레이드 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100973218B1 KR100973218B1 KR1020080082083A KR20080082083A KR100973218B1 KR 100973218 B1 KR100973218 B1 KR 100973218B1 KR 1020080082083 A KR1020080082083 A KR 1020080082083A KR 20080082083 A KR20080082083 A KR 20080082083A KR 100973218 B1 KR100973218 B1 KR 100973218B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- fluid
- fluid control
- flow channel
- control partition
- partition
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
Description
Claims (18)
- 제1 유동 채널(flow channel), 제2 유동 채널 및 상기 제1 유동 채널과 상기 제2 유동 채널 사이에 형성되어 상기 제1 유동 채널로부터 상기 제2 유동 채널로 흐르는 유체를 일시적으로 저장하는 버퍼 공간을 포함하고, 상기 제1 유동 채널은 상기 제2 유동 채널과 평행하고 이어져 있으며, 상기 제1 유동 채널은 상기 유체를 주입하기 위한 유체 주입구를 포함하고, 상기 제2 유동 채널은 상기 유체를 배출하기 위한 유체 배출구를 포함하는 유체 안내(fluid-guiding) 장치;상기 제1 유동 채널로 흐르는 상기 유체를 조절하는 제1 유체 조절 장치; 및상기 제2 유동 채널로 흐르는 상기 유체를 조절하는 제2 유체 조절 장치를 포함하는 액체 블레이드(liquid blade) 장치.
- 제1항에 있어서,상기 제2 유동 채널의 측벽에 연결되어, 워터폴(waterfall)를 생성하도록 상기 유체 배출구로부터 넘쳐 흐르는 상기 유체의 유동 방향을 변경하는 스포일러(spoiler)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액체 블레이드 장치.
- 제1항에 있어서,상기 제1 유체 조절 장치는 제1 유체 조절 파티션(partition)을 포함하고, 상기 제1 유체 조절 파티션 상에 복수의 유체 조절구들(fluid-regulating holes)이 형성되는 것을 특징으로 하는 액체 블레이드 장치.
- 제3항에 있어서,상기 제1 유체 조절 장치는:상기 제1 유체 조절 파티션에 겹치도록 상기 제1 유체 조절 파티션에 대해 이동 가능한 방식으로 상기 제1 유체 조절 파티션에 설치되는 보조 유체 조절 파티션, 및상기 복수의 유체 조절구들에 대응되는 위치에서 상기 보조 유체 조절 파티션 상에 형성되는 복수의 보조 유체 조절구들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액체 블레이드 장치.
- 제3항에 있어서,상기 제1 유체 조절 장치는:상기 제1 유체 조절 파티션에 겹치도록 상기 제1 유체 조절 파티션에 대해 이동 가능한 방식으로 상기 제1 유체 조절 파티션에 설치되는 보조 유체 조절 파티션, 및상기 복수의 유체 조절구들에 대응되는 위치에서 상기 보조 유체 조절 파티션 상에 형성되는 복수의 평행 컬럼들(columns)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액체 블레이드 장치.
- 제1항에 있어서,상기 제1 유체 조절 장치는 상기 제1 유동 채널에 교대로 배열된 복수의 유체 안내 배플들(baffles)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액체 블레이드 장치.
- 제6항에 있어서,상기 복수의 유체 안내 배플들은 상기 제1 유동 채널 내에서 아래쪽으로 기울어진 것을 특징으로 하는 액체 블레이드 장치.
- 제1항에 있어서,상기 제2 유체 조절 장치는 제2 유체 조절 파티션을 포함하고, 상기 유체 배출구를 통하여 상기 제2 유동 채널에서 상기 유체가 균일하게 넘쳐 흐르도록 복수의 유체 조절구들이 상기 제2 유체 조절 파티션 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 액체 블레이드 장치.
- 제8항에 있어서,상기 제2 유체 조절 장치는:상기 제2 유체 조절 파티션에 겹치도록 상기 제2 유체 조절 파티션에 대해 이동 가능한 방식으로 상기 제2 유체 조절 파티션에 설치된 보조 유체 조절 파티션, 및상기 복수의 유체 조절구들에 대응되는 위치에서 상기 보조 유체 조절 파티 션 상에 형성되는 복수의 보조 유체 조절구들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액체 블레이드 장치.
- 제8항에 있어서,상기 제2 유체 조절 장치는:상기 제2 유체 조절 파티션에 겹치도록 상기 제2 유체 조절 파티션에 대해 이동 가능한 방식으로 상기 제2 유체 조절 파티션에 설치되는 보조 유체 조절 파티션, 및상기 복수의 유체 조절 구들에 대응되는 위치에서 상기 보조 유체 조절 파티션 상에 형성되는 복수의 평행 컬럼들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액체 블레이드 장치.
- 제1항에 있어서,상기 제2 유체 조절 장치는 상기 제2 유동 채널에 교대로 배열된 복수의 유체 안내 배플들을 포함하는 것을 특징으로 하는 액체 블레이드 장치.
- 제11항에 있어서,상기 복수의 유체 안내 배플들은 상기 제2 유동 채널 내에서 아래쪽으로 기울어진 것을 특징으로 하는 액체 블레이드 장치.
- 제1항에 있어서,상기 제2 유체 조절 장치는 상기 제2 유동 채널의 측벽 상에 확장된 배플이고, 상기 배플의 길이와 상기 측벽의 길이의 합은 상기 제1 유동 채널의 길이에 대해 특정 비율을 가지는 것을 특징으로 하는 액체 블레이드 장치.
- 제13항에 있어서,상기 배플의 길이와 상기 측벽의 길이의 합과 상기 제1 유동 채널의 길이의 비율은 7: 10인 것을 특징으로 하는 액체 블레이드 장치.
- 제2항에 있어서,상기 스포일러와 상기 제2 유동 채널의 상기 측벽 사이에 끼인각이 형성되는 것을 특징으로 하는 액체 블레이드 장치.
- 제15항에 있어서,상기 끼인각은 145 도 내지 165 도 사이인 것을 특징으로 하는 액체 블레이드 장치.
- 제16항에 있어서,상기 끼인각은 157.5 도인 것을 특징으로 하는 액체 블레이드 장치.
- 제2항에 있어서,상기 스포일러는 스윙 가능한(swingable) 방식으로 상기 제2 유동 채널의 상기 측벽에 연결되는 것을 특징으로 하는 액체 블레이드 장치.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW097124514 | 2008-06-30 | ||
TW097124514A TWI348395B (en) | 2008-06-30 | 2008-06-30 | Liquid blade capable of providing a substrate with a uniform waterfall |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20100003151A KR20100003151A (ko) | 2010-01-07 |
KR100973218B1 true KR100973218B1 (ko) | 2010-07-30 |
Family
ID=41813094
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080082083A KR100973218B1 (ko) | 2008-06-30 | 2008-08-21 | 기판에 균일한 워터폴을 제공할 수 있는 액체 블레이드 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100973218B1 (ko) |
TW (1) | TWI348395B (ko) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101267464B1 (ko) * | 2011-10-13 | 2013-05-31 | 세메스 주식회사 | 유체 분사 장치 |
CN111482328A (zh) * | 2020-04-13 | 2020-08-04 | Tcl华星光电技术有限公司 | 一种涂布装置及其涂布方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000000506A (ja) | 1998-03-18 | 2000-01-07 | Eastman Kodak Co | カ―テン塗装装置とその方法 |
JP2002210401A (ja) | 2001-01-16 | 2002-07-30 | Sekisui House Ltd | フローコーター |
JP2005034800A (ja) | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Mecha Enji:Kk | 液状コーティング材のカーテンフローコータ |
-
2008
- 2008-06-30 TW TW097124514A patent/TWI348395B/zh active
- 2008-08-21 KR KR1020080082083A patent/KR100973218B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000000506A (ja) | 1998-03-18 | 2000-01-07 | Eastman Kodak Co | カ―テン塗装装置とその方法 |
JP2002210401A (ja) | 2001-01-16 | 2002-07-30 | Sekisui House Ltd | フローコーター |
JP2005034800A (ja) | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Mecha Enji:Kk | 液状コーティング材のカーテンフローコータ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI348395B (en) | 2011-09-11 |
KR20100003151A (ko) | 2010-01-07 |
TW201000216A (en) | 2010-01-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
USRE36585E (en) | Process for cooling and calibrating elongated objects made of plastic together with cooling and calibrating device | |
US20150090340A1 (en) | Processing-liquid supply apparatus and processing-liquid supply method | |
KR101987590B1 (ko) | 탈산소 장치 및 기판 처리 장치 | |
KR100973218B1 (ko) | 기판에 균일한 워터폴을 제공할 수 있는 액체 블레이드 | |
CN101311834B (zh) | 可提供均匀流体水幕至基板的液刀设备 | |
JP2017047413A (ja) | インクジェット装置とインクジェット方法 | |
US20230045666A1 (en) | Display panel manufacturing device and cleaning method | |
JP2015531165A (ja) | フレキシブル基板処理装置 | |
KR100756522B1 (ko) | 기판 건조용 에어나이프 장치 | |
KR20200134210A (ko) | 도포기, 및 도포기의 에어 배출 방법 | |
CN105487353A (zh) | 一种液体涂布装置 | |
TWI571321B (zh) | 用來清洗一平板構件之自動化系統 | |
KR102292660B1 (ko) | 세정 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치 | |
KR101267464B1 (ko) | 유체 분사 장치 | |
JPS5941426A (ja) | 鋼板冷却装置 | |
US10981803B2 (en) | Regulating tank of wastewater treatment system | |
CN102658711B (zh) | 一种喷淋装置 | |
KR101099589B1 (ko) | 기판 상으로 처리액을 공급하기 위한 액절 나이프 | |
KR102178643B1 (ko) | 슬릿 노즐 및 이를 포함하는 현상 장치 | |
CN202528546U (zh) | 一种喷淋装置 | |
CN109659261A (zh) | 基板蚀刻设备及其处理系统 | |
KR102098312B1 (ko) | 배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치 | |
KR102045828B1 (ko) | 기판 처리장치 | |
KR20030078435A (ko) | 2유체 혼합물에 의한 기판 세정용 노즐 | |
KR20120029493A (ko) | 기판 처리 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130701 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140707 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150626 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160630 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170704 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180717 Year of fee payment: 9 |