KR100756522B1 - 기판 건조용 에어나이프 장치 - Google Patents

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KR100756522B1
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신계철
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주식회사 인아텍
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Abstract

본 발명은 기판 건조용 에어나이프 장치에 관한 것이다. 본 발명에 의한 기판 건조용 에어나이프 장치는, LCD 패널과 같은 기판의 상측에, 그 기판에 수직인 축을 기준으로 경사지게 배치되는 제1블럭과, 상기 제1블럭과 함께 공기유동통로를 형성하도록 그 제1블럭에 결합되고, 상기 기판에 수직인 축을 기준으로 경사지게 배치되는 제2블럭을 구비하여서, 상기 공기유동통로로 유입된 공기를 상기 기판에 분사시켜 기판에 잔류된 세척물질을 제거하는 기판 건조용 에어나이프 장치에 있어서, 상기 제2블럭은, 상기 기판이 상기 제1블럭 측으로 이송되어 올 때 상기 제1블럭보다 상기 기판으로부터 멀리 배치되어 있으며, 상기 제1블럭의 하단부보다 상기 기판 방향으로 연장되는 연장부를 구비하여서, 상기 공기유동통로를 통해 외부로 배출되는 공기가 상기 연장부를 타고 상기 기판에 분사되도록 구성된 것을 특징으로 한다.
제1블럭, 제2블럭, 연장부, 가이드채널, 가이드리브

Description

기판 건조용 에어나이프 장치{Air-knife apparatus to dry glass}
도 1은 종래기술에 의한 기판 건조용 에어나이프 장치의 단면도.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 에어나이프 장치의 부분단면 사시도.
도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ 단면도.
도 4는 도 2의 Ⅳ-Ⅳ 단면도.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*
1:제1블럭 11:제1가이드리브
13:라운드부 2:제2블럭
20:연장부 21:제2가이드리브
23:라운드부 3:공기유동통로
31:제1유동공간 32:제2유동공간
33:가이드채널 33a,33b,33c:소채널
4:공기유입관 41:공기유입공
C:수직축 G:기판
본 발명은 기판 건조용 에어나이프 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 LCD 패널과 같은 기판에 공기의 터블런스를 제거하고 분사방향을 유도하여, 작은 압력 및 유량으로 상기 기판에 잔류된 세척물질의 제거효율을 높일 수 있도록 구조가 개선된 기판 건조용 에어나이프 장치에 관한 것이다.
일반적으로, LCD 패널과 같은 기판은 그 기판을 세척하는 세척공정을 거쳐 표면에 잔류하는 이물질이 제거된다. 이러한 세척공정이 수행된 후에 상기 기판의 표면에는 세척시에 사용되는 물 또는 세척액과 같은 세척물질이 잔류하게 된다.
이러한 세척물질을 제거 또는 건조시키기 위한 종래의 기판 건조용 에어나이프 장치가 도 1에 도시되어 있다. 이 도면에 도시된 바와 같이, 종래의 기판 건조용 에어나이프 장치는 제1블럭(100)과 그 제1블럭(100)에 결합되는 제2블럭(200)을 구비한다.
상기 제1블럭(100)과 제2블럭(200)은, 각각 상기 기판(G)의 상측에, 그 기판(G)에 수직인 수직축(C)을 기준으로 경사지게 배치된다. 상기 제1블럭(100)과 제2블럭(200)은 그 결합에 의해 공기가 유동할 수 있는 공기유동통로를 형성한다. 여기서, 상기 공기는 에어 컴프레서(미도시)에 의해 압축된 상태의 압축공기를 말하며, 상기 압축공기는 상기 제1,2블럭(100,200)에 형성된 공기유입공(110,210)을 통해 상기 공기유동통로로 유입된다.
상기 공기유동통로는 사각통형의 제1유동공간(300), 그 제1유동공간(300)으로부터 이격되어 상기 기판(G) 측에 가깝게 배치되는 제2유동공간(310), 상기 제1유동공간(300)과 제2유동공간(310) 사이에 마련되는 제1가이드채널(320) 및 상기 제2유동공간(310)과 상기 제1,2블럭(100,200)들의 하단부 사이에 마련되는 제2가이드채널(330)로 이루어진다.
이러한 구조를 가지는 종래의 기판 건조용 에어나이프 장치는, 상기 제1유동공간(300)에 유입된 공기가 상기 제1가이드채널(320), 제2유동공간(310) 및 제2가이드채널(330)을 경유하여 상기 기판(G)에 분사됨으로써 그 기판(G)에 잔류된 세척물질을 제거하게 된다.
그러나, 이러한 종래기술에서는 상기 제2가이드채널(330)을 통과한 공기 중의 일부가 상기 기판(G)의 이송방향과 같은 방향으로 유동됨으로써, 상기 기판(G)에 잔류된 세척물질의 세척효율을 떨어뜨리는 문제점이 있다.
또한, 상기 사각통형으로 이루어지는 제1,2유동공간(300,310)에 많은 양의 공기가 한꺼번에 유입됨으로써, 상기 제1,2유동공간(300,310)에 터블런스를 형성하게 된다. 따라서, 상기 기판(G)에 잔류된 세척물질의 제거효율을 떨어뜨리는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 작은 압력 및 유량의 공기를 사용하여 상기 기판에 잔류된 세척물질의 제거효율을 높일 수 있는 기판 건조용 에어나이프 장치에 관한 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 LCD 패널과 같은 기판의 상측에, 그 기판에 수직인 축을 기준으로 경사지게 배치되는 제1블럭과, 상기 제1블럭 과 함께 공기유동통로를 형성하도록 그 제1블럭에 결합되고, 상기 기판에 수직인 축을 기준으로 경사지게 배치되는 제2블럭을 구비하여서, 상기 공기유동통로로 유입된 공기를 상기 기판에 분사시켜 기판에 잔류된 세척물질을 제거하는 기판 건조용 에어나이프 장치에 있어서, 상기 제2블럭은, 상기 기판이 상기 제1블럭 측으로 이송되어 올 때 상기 제1블럭보다 상기 기판으로부터 멀리 배치되어 있으며, 상기 제2블럭은, 상기 제1블럭의 하단부보다 상기 기판 방향으로 연장되는 연장부를 구비하여서, 상기 공기유동통로를 통해 외부로 배출되는 공기가 상기 연장부를 타고 상기 기판에 분사되도록 구성된 것을 특징으로 한다.
상기 공기유동통로는, 원통형의 제1유동공간과; 상기 제1유동공간보다 상기 기판에 가까운 위치에 형성되어 있는 원통형의 제2유동공간과; 상기 제1유동공간에 유입된 공기가 상기 제2유동공간으로 안내되도록, 상기 제1유동공간과 제2유동공간 사이에 마련되는 가이드채널;을 포함하여 이루어지는 것이 바람직하다.
상기 제1유동공간에 동축적으로 삽입되고, 내부로 유입된 공기가 상기 제1유동공간으로 유입될 수 있도록 다수의 공기유입공을 가지는 공기유입관을 더 구비하는 것이 바람직하다.
상기 제2유동공간은 상기 제1유동공간의 내경보다 작은 내경을 가지며, 상기 가이드채널의 내경은, 상기 제1유동공간 측에서 상기 제2유동공간 측으로 갈수록 점점 작아지도록 구성되는 것이 바람직하다.
상기 제1블럭에는, 상기 가이드채널의 일측벽으로부터 그 가이드채널의 중심방향으로 연장되는 다수의 제1가이드리브들이 마련되고, 상기 제2블럭에는, 상기 가이드채널의 타측벽으로부터 그 가이드채널의 중심방향으로 연장되고, 상기 제1가이드리브들과 함께 상기 가이드채널을 작은 공간을 가지는 다수의 소채널로 구획하도록, 상기 제1가이드리브들에 각각 결합되는 다수의 제2가이드리브들이 마련되어 있는 것이 바람직하다.
상기 제1블럭과 제2블럭의 외면은 각각, 면과 면 사이에 마련되고 곡면 형상을 가지는 라운드부를 구비하는 것이 바람직하다.
이하에서는 본 발명의 일실시예에 따른 기판 건조용 에어나이프 장치를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 에어나이프 장치의 부분단면 사시도이며, 도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ 단면도이며, 도 4는 도 2의 Ⅳ-Ⅳ 단면도이다.
이들 도면에 도시된 바에 따르면, 본 발명에 의한 에어나이프 장치는 LCD패널과 같은 기판(G)에 잔류된 물기 등의 세척물질을 제거하기 위한 것으로, 상기 기판(G)의 상측에 배치되는 제1블럭(1)과, 상기 제1블럭(1)에 결합되어 공기유동통로(3)를 형성하며, 연장부(20)를 구비하는 제2블럭(2)을 포함하여 이루어진다.
상기 제1,2블럭(1,2)은 상기 기판(G)에 수직인 수직축(C)을 기준으로 경사지게 배치되어서, 일방향으로 이송되어 온 기판(G)을 원활하게 건조시킬 수 있게 된다. 상기 제2블럭(2)은 상기 기판(G)이 상기 제1블럭(1) 측으로 이송되어 올 때 상기 제1블럭(1)보다 상기 기판(G)로부터 멀리 배치되어 있다.
상기 연장부(20)는, 상기 제1블럭(1)의 하단부보다 상기 기판(G) 방향으로 연장되어 있다. 상기 공기유동통로(3)를 통해 외부로 배출되는 공기는 상기 연장 부(20)를 타고 상기 기판(G)에 분사된다. 이와 같이, 상기 연장부(20)는, 상기 기판(G)의 이송방향과 동일한 방향으로 유동될 수 있는 일부공기를, 상기 기판(G)의 이송방향과 반대방향으로 유동되도록 안내함으로써, 그 기판(G)에 잔류된 세척물질의 제거효율을 높이는 역할을 한다.
본 실시예에서, 상기 공기유동통로(3)는 원통형의 제1,2유동공간(31,32) 및 상기 제1,2유동공간(31,32) 사이에 마련되는 가이드채널(33)을 포함하여 이루어진다. 이와 같이, 상기 제1,2유동공간(31,32)이 원통형으로 형성됨으로써, 상기 제1,2유동공간(31,32)에 유입된 공기의 터블런스 현상이 현저히 제거된다.
상기 제2유동공간(32)은 상기 제1유동공간(31)보다 상기 기판(G)에 가까운 위치에 형성되어 있으며, 상기 제1유동공간(31)의 내경보다 작은 내경을 가진다. 이와 같이, 상기 제2유동공간(32)의 내경이 상기 제1유동공간(31)의 내경보다 작음으로써, 상기 제2유동공간(32)에 유입된 공기가 상기 제1유동공간(31) 측으로 역류하는 것을 방지할 수 있게 된다.
상기 가이드채널(33)의 내경은, 상기 제1유동공간(31) 측에서 상기 제2유동공간(32) 측으로 갈수록 점점 작아지게 형성되는 것이 바람직하다. 이러한 구조에 의해, 상기 가이드채널(33)의 공기배출구 측의 유속이 공기유입구 측의 유속보다 빨라져, 공기의 배출이 원활하게 이루어지게 된다.
한편, 상기 제1블럭(1)에는 다수의 제1가이드리브(11)들이 마련되고, 상기 제2블럭(2)에는 다수의 제2가이드리브(21)들이 마련되어 있다. 상기 제1가이드리브(11)들은 상기 가이드채널(33)의 일측벽으로부터 그 가이드채널(33)의 중심방향 으로 연장되어 있으며, 상기 제1유동공간(31)의 축방향을 따라 배열되어 있다. 그리고, 상기 제2가이드리브(21)들은 상기 가이드채널(33)의 타측벽으로부터 그 가이드채널(33)의 중심방향으로 연장되어 있으며, 상기 제1유동공간(31)의 축방향을 따라 배열되어 있다.
이러한 제1가이드리브(11)들과 제2가이드리브(21)들은 서로 마주하는 부분이 결합되어서, 상기 가이드채널(33)을 작은 공간을 가지는 다수의 소채널(33a,33b,33c)로 구획한다. 상기 소채널(33a,33b,33c)들이 형성됨으로써, 상기 가이드채널(33)에 유입된 많은 양의 공기가 한꺼번에 상기 제1유동공간(31)의 축방향을 따라 분산되어 유동되는 것을 방지할 수 있게 된다. 즉, 상기 소채널(33a,33b,33c)로 공기를 분산하여 유동시킴으로써, 많은 양의 공기가 상하방향으로 원활하게 유동될 수 있게 된다.
그리고, 본 실시예에서는 상기 제1유동공간(31)에 동축적으로 삽입되는 공기유입관(4)이 더 구비된다. 상기 공기유입관(4)은 그 내부로 유입된 공기가 상기 제1유동공간(31)으로 유입될 수 있도록 다수의 공기유입공(41)을 가진다. 이러한 공기유입관(4)은, 상기 공기유입관(4)의 내부로 유입된 공기를 상기 제1유동공간(31)에 골고루 분산하여 유입될 수 있게 한다.
또한, 상기 제1블럭(1)과 제2블럭(2)의 외면은, 면과 면 사이에 마련되고 곡면 형상을 가지는 라운드부(13,23)를 가진다. 상기 라운드부(13,23)는, 그 라운드부(13,23)의 공기 압력강하로 인한 결로형성을 억제시키는 역할을 한다. 여기서, 상기 공기 압력강하는 상기 제1,2블럭(1,2)의 외부로 배출되는 공기의 빠른 유속 때문에 발생하는 것이다.
즉, 상기 면과 면 사이의 절곡된 부분이 종래기술(도1참조)과 같이 뾰족한 모서리 형성을 가진다면, 상기 절곡된 부분에는 터블런스로 인해 공기의 압력이 더 큰 폭으로 강하된다. 따라서, 이러한 종래기술에 의하면, 더 많은 양의 결로가 기판(G)에 떨어짐으로써, 기판(G)에 잔류된 세척물질의 건조효율을 떨어뜨리게 된다. 그러나, 본 실시예에서는 상기 라운드부(13,23)가 마련됨으로써, 종래기술과 같은 문제점을 극복할 수 있게 된다.
이하에서는 본 발명의 일실시예에 따른 기판 건조용 에어나이프 장치의 작용을 상세하게 설명하기로 한다.
공기유입관(4)의 내부로 유입된 공기는, 상기 공기유입관(4)들을 통해 상기 제1유동공간(31)에 골고루 분산되어 유입된다. 상기 제1유동공간(31)에 유입된 공기는 제1,2가이드리브(11,21)들에 의해 구획됨으로써 형성된 다수의 소채널(33a,33b,33c)들에 유입된다. 이와 같이, 공기가 상기 소채널(33a,33b,33c)들에 분산하여 유입됨으로써, 공기유량의 손실을 줄일 수 있게 된다.
상기 소채널(33a,33b,33c)들로 이루어지는 가이드채널(33)은, 그 공기배출구 측으로 갈수록 내경이 점점 작아짐으로써, 상기 가이드채널(33)의 공기배출구 측의 유속이 상기 가이드채널(33)의 공기유입구 측의 유속보다 빨라지게 된다. 따라서, 공기의 배출효율이 높아지게 된다.
한편, 상기 소채널(33a,33b,33c)들을 통과한 공기는 제2유동공간(32)에 일시적으로 수용된다. 상기 제2유동공간(32)에 유입된 공기는 제1블럭(1)과 제2블럭(2) 사이의 좁은 틈새를 통해 외부로 배출된다. 따라서, 상기 좁은 틈새를 통과한 공기의 유속은 상기 가이드채널(33)의 공기배출구 측의 유속보다 더 빨라지게 된다. 이와 같이 됨으로써, 공기의 배출효율을 더욱 높일 수 있게 된다.
상기 제1블럭(1)과 제2블럭(2) 사이의 틈새를 통과한 공기는, 상기 제2블럭(2)의 연장부(20)에 의해 안내되어 상기 기판(G)에 분사됨으로써, 상기 기판(G)의 이송방향과 동일한 방향으로 유동되는 것이 억제된다. 따라서, 상기 기판(G)에 잔류된 세척물질의 세척효율을 높일 수 있게 된다.
그리고, 상기 제1블럭(1)과 제2블럭(2)의 외면에 마련된 라운드부(13,23)는, 결로의 형성을 억제시킨다. 따라서, 상기 결로로 인해 상기 기판(G)에 잔류된 세척물질의 건조효율이 떨어지는 것을 억제할 수 있게 된다.
이상, 본 발명에 대한 바람직한 실시예를 설명하였으나, 본 발명은 위에서 설명된 실시예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며 본 발명이 속하는 기술분야에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있음은 자명하다.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 기판 건조용 에어나이프 장치에는 다음과 같은 효과가 기대된다.
즉, 본 발명에서는 제1블럭의 하단부보다 연장된 연장부가 제2블럭에 마련됨으로써, 제1,2블럭 사이를 통해 외부로 배출되는 공기가 기판의 이송방향과 동일한 방향으로 유동되는 것을 억제할 수 있게 된다. 따라서, 기판에 잔류된 세척물질의 건조효율을 높일 수 있는 효과가 있다.
그리고, 본 발명에서는 원통형의 제1유동공간과 제2유동공간이 마련됨으로써, 제1,2유동공간에 유입된 공기의 터블런스가 현저히 제거된다. 따라서, 공기의 압력 및 유량의 손실이 줄어들어, 공기의 사용효율을 높일 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명에서는 상기 제1유동공간과 제2유동공간 사이에 마련되는 가이드채널이 공기배출구 측으로 갈수록 내경이 작아된다. 따라서, 공기의 흐름이 원활하게 이루어지는 효과도 있다.
한편, 본 발명에서는 가이드채널을 작은 공간의 소채널로 구획하는 제1,2가이드리브들이 마련됨으로써, 많은 양의 공기를 효율적으로 유동시킬 수 있는 장점이 있다.

Claims (6)

  1. LCD 패널과 같은 기판의 상측에, 그 기판에 수직인 축을 기준으로 경사지게 배치되는 제1블럭과, 상기 제1블럭과 함께 공기유동통로를 형성하도록 그 제1블럭에 결합되고, 상기 기판에 수직인 축을 기준으로 경사지게 배치되는 제2블럭을 구비하여서, 상기 공기유동통로로 유입된 공기를 상기 기판에 분사시켜 기판에 잔류된 세척물질을 제거하는 기판 건조용 에어나이프 장치에 있어서,
    상기 제2블럭은, 상기 기판이 상기 제1블럭 측으로 이송되어 올 때 상기 제1블럭보다 상기 기판으로부터 멀리 배치되어 있으며,
    상기 제2블럭은, 상기 제1블럭의 하단부보다 상기 기판 방향으로 연장되는 연장부를 구비하여서, 상기 공기유동통로를 통해 외부로 배출되는 공기가 상기 연장부를 타고 상기 기판에 분사되도록 구성되며,
    상기 공기유동통로는, 원통형의 제1유동공간과; 상기 제1유동공간보다 상기 기판에 가까운 위치에 형성되어 있는 원통형의 제2유동공간과; 상기 제1유동공간에 유입된 공기가 상기 제2유동공간으로 안내되도록, 상기 제1유동공간과 제2유동공간 사이에 마련되는 가이드채널;을 포함하여 이루어지며,
    상기 제1블럭에는, 상기 가이드채널의 일측벽으로부터 그 가이드채널의 중심방향으로 연장되는 다수의 제1가이드리브들이 마련되고,
    상기 제2블럭에는, 상기 가이드채널의 타측벽으로부터 그 가이드채널의 중심방향으로 연장되고, 상기 제1가이드리브들과 함께 상기 가이드채널을 작은 공간을 가지는 다수의 소채널로 구획하도록, 상기 제1가이드리브들에 각각 결합되는 다수의 제2가이드리브들이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 건조용 에어나이프 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1유동공간에 동축적으로 삽입되고, 내부로 유입된 공기가 상기 제1유동공간으로 유입될 수 있도록 다수의 공기유입공을 가지는 공기유입관을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 건조용 에어나이프 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제2유동공간은 상기 제1유동공간의 내경보다 작은 내경을 가지며,
    상기 가이드채널의 내경은, 상기 제1유동공간 측에서 상기 제2유동공간 측으로 갈수록 점점 작아지도록 구성된 것을 특징으로 하는 기판 건조용 에어나이프 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제1블럭과 제2블럭의 외면은 각각, 면과 면 사이에 마련되고 곡면 형상을 가지는 라운드부를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 건조용 에어나이프 장치.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100939445B1 (ko) * 2009-04-01 2010-01-29 이재성 비접촉식 유체 제거장치
KR101021227B1 (ko) * 2008-12-19 2011-03-11 에프엔에스테크 주식회사 에어 나이프
CN101992154A (zh) * 2009-08-24 2011-03-30 显示器生产服务株式会社 流体喷射装置
KR101099589B1 (ko) * 2009-12-01 2011-12-28 세메스 주식회사 기판 상으로 처리액을 공급하기 위한 액절 나이프
KR101728896B1 (ko) * 2016-02-25 2017-04-20 주식회사 한빛테크놀로지 에어나이프
CN113443840A (zh) * 2021-06-30 2021-09-28 黄乃凡 一种玻璃生产制造用风刀

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001099569A (ja) * 1999-09-29 2001-04-13 Shibaura Mechatronics Corp 基板の乾燥処理装置
JP2005013988A (ja) * 2003-06-27 2005-01-20 Dms:Kk 平板ディスプレイ表面処理用流体噴射装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001099569A (ja) * 1999-09-29 2001-04-13 Shibaura Mechatronics Corp 基板の乾燥処理装置
JP2005013988A (ja) * 2003-06-27 2005-01-20 Dms:Kk 平板ディスプレイ表面処理用流体噴射装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101021227B1 (ko) * 2008-12-19 2011-03-11 에프엔에스테크 주식회사 에어 나이프
KR100939445B1 (ko) * 2009-04-01 2010-01-29 이재성 비접촉식 유체 제거장치
CN101992154A (zh) * 2009-08-24 2011-03-30 显示器生产服务株式会社 流体喷射装置
KR101099589B1 (ko) * 2009-12-01 2011-12-28 세메스 주식회사 기판 상으로 처리액을 공급하기 위한 액절 나이프
KR101728896B1 (ko) * 2016-02-25 2017-04-20 주식회사 한빛테크놀로지 에어나이프
CN113443840A (zh) * 2021-06-30 2021-09-28 黄乃凡 一种玻璃生产制造用风刀
CN113443840B (zh) * 2021-06-30 2022-07-29 福莱特玻璃集团股份有限公司 一种玻璃生产制造用风刀

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