CN101992154A - 流体喷射装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种流体喷射装置，其用于处理适用平面显示器的基板表面或者干燥清洗后的基板，并且减少依据自身重量产生的下垂现象，以保证喷射到基板上的流体均匀性，从而可以稳定地进行基板干燥工艺，且可以容易进行设置。本发明的流体喷射装置包括：主体，具有流体流入的空间；流体吐出部件，以所述主体的中心线为基准倾斜预定角度地结合于主体上，并具有用于喷射所述流体的狭缝；以及多个第一连接部件，用于连接主体和流体吐出部件。

Description

流体喷射装置
技术领域
本发明涉及一种流体喷射装置，特别涉及一种用于处理适用平面显示器的基板表面或者干燥清洗后的基板，并且减少依据自身重量产生的下垂现象，以保证喷射到基板上的流体均匀性，从而可以稳定地进行基板干燥工艺，且容易进行设置的流体喷射装置。
背景技术
通常，清洗装置以预定压力喷射气体、液体或者它们的混合流体，以此来去除基板表面上附着的异物。然后，利用干燥装置干燥通过该清洗装置清洗过的基板。
如图5所示，作为常规基板的干燥装置来使用的流体喷射装置101具有用于喷射流体的长形狭缝，并在浴槽B内部设置成其长度方向垂直于基板G的移动方向(图5中用箭头来表示)。
即，浴槽B的内部设置有可以输送基板的基板输送装置103。并且，基板输送装置103可以朝箭头方向(图5的右侧方向)移动基板G。流体喷射装置101与基板G的移动方向相垂直地横穿设置，并对基板G的表面喷射压缩空气等流体，从而可以干燥基板G。
此时，为了使流体喷射装置101的干燥效率达到最大化，将流体喷射装置101设置成相对于基板G的表面倾斜预定角度a。如上所述，相对于基板G平面倾斜预定角度的流体喷射装置101使通过狭缝喷出的流体相对于基板G倾斜预定角度，从而可以使基板G的干燥效率达到最大化。
然而，如图6所示，可以处理大型基板的流体喷射装置101越是其长度L增加，下垂(或弯曲)程度d就越大，从而喷射到基板上的流体(例如，干燥用气体)均匀性就下降。
只有在基板干燥用流体均匀地喷射到基板G的所有领域的情况下，才可以达到均匀干燥的效果，但由于下垂导致喷射气体的均匀性下降，因而会出现干燥不良现象。
并且，现有流体喷射装置101只有设置成相对于基板G倾斜预定角度，才会使基板G的干燥效果达到最大化，但当长度增加时，由于出现下垂现象，所以很难在倾斜状态下进行精细设置。
发明内容
因此，为了解决上述问题，本发明提供一种为处理大型基板，即使长度增加也可以减少下垂程度，以保持所喷射的流体均匀性，从而在进行大型基板处理时，可以防止出现干燥不良现象的流体喷射装置。
并且，本发明还提供一种对大型基板进行清洗之后，使干燥效率达到最大化的同时，可以容易进行设置的流体喷射装置。
为实现上述目的，本发明的流体喷射装置包括：主体，具有供流体流入的空间；流体吐出部件，以所述主体的中心线为基准倾斜预定角度地结合于主体上，并具有用于喷射所述流体的狭缝；以及多个第一连接部件，用于连接所述主体和流体吐出部件。
优选地，所述流体吐出部件具有相互对向布置的第一部件和第二部件，所述第一部件和第二部件之间形成有供所述流体吐出的狭缝。
优选地，在所述第一部件和第二部件相互面对的部分形成有相隔预定距离的障壁，并且所述障壁之间布置有多个流道。
优选地，所述第一部件和所述第二部件相互面对的部分形成有与所述多个流道连接的缓冲腔室。
优选地，所述第一部件和所述第二部件通过多个第二连接部件相互面对地结合在一起。
优选地，所述主体和所述吐出部件的两侧面形成有通过多个第三连接部件结合在所述主体上的侧面固定部件。
优选地，所述主体相对于所述基板以铅垂方向设置。
优选地，所述主体上形成有做成曲面的曲面单元，从而防止下垂。
优选地，所述主体上结合有所述流体吐出部件的一面为倾斜面。
如上所述，在本发明中，主体沿垂直方向设置，与主体相连接而形成一狭缝的流体吐出部件以对主体中心线倾斜的方向结合在所述主体上，从而即使长度增加也可以使下垂程度达到最少化，因而可以将流体均匀地喷射到基板上，以达到防止干燥不良的效果。
而且，本发明将主体的上部和下部制作成相对基板形成曲面，所述曲面相当于下垂量大小，在如此制作的主体上固定流体吐出部件，以使依据自身重量的下垂程度达到最小化，从而将流体均匀地喷射到基板上，达到防止干燥不良的效果。
本发明可以在垂直设置主体的状态下进行设置，从而可以简单地进行精细设置，并具有安装性能优秀的效果。
附图说明
图1是用于说明本发明实施例的外观图。
图2是图1中主要部分的分解立体图。
图3是图1中Ⅲ-Ⅲ面图。
图4是本发明的实施例中经过加工的主体形状图。
图5是现有流体喷射装置的示意图。
图6是现有流体喷射装置的示意图。
具体实施方式
以下将参照附图详细说明本发明的优选实施例。
图1是用于说明本发明实施例的立体图，图2是图1的分解立体图，图3是图1所示流体喷射装置的Ⅲ-Ⅲ面图。本发明实施例涉及的流体喷射装置包括：主体1，具有内部空间；流体吐出部件5，以倾斜状态结合于主体1上并具有狭缝3；以及多个第一连接部件7，用于连接主体1和流体吐出部件5。
如图2及图3所示，主体1的内部形成有用于容纳流体的空间1a，并且主体1的底面为倾斜面1b。主体1为具有预定长度的长条(bar)形状。主体1两侧的高度H1、H2最好是不等。即，由于主体1的底面为倾斜面1b，所以两侧的高度H1、H2分别不同。优选地，基板G移动方向侧的高度H1比其反方向侧的高度H2更大。
优选地，主体1的倾斜面1b形成为以基板G的移动方向为基准倾斜预定角度。
流体吐出部件5上形成有与主体1的空间1a连通的狭缝3。所述流体吐出部件5可以包含第一部件13和第二部件15。即，第一部件13和第二部件15相互对向布置，并且它们之间形成有可以供流体吐出的长形狭缝3。所述狭缝3与所述主体1的空间1a连通，从而可以将流体吐出到外部。
另外，在本发明的实施例中，流体吐出部件5通过螺栓等多个第一连接部件7与主体5相结合。
构成流体吐出部件5的第一部件13和第二部件15通过多个第二连接部件17结合在一起。并且，在第一部件13和第二部件15相结合的状态下，所述第一部件13和第二部件15通过第一连接部件7与主体1的倾斜面1b相结合。
另外，如图2所示，第一部件13和第二部件15相面对的侧面形成有相隔预定距离的障壁13a、15a。而且，这些障壁13a、15a之间形成有多个流道13b、15b。
并且，如图3所示，所述第一部件13和第二部件15相面对的部分形成有与这些流道13b、15b连接的缓冲腔室18。所述缓冲腔室18与流道13b、15b的下端连接，具有临时存储流体的作用，从而可以使通过流道13b、15b喷射的流体均匀地吐出。
此时，流体吐出部件5以倾斜状态结合在主体1的倾斜面1b上，从而狭缝3对基板G也以倾斜状态设置。即，如图3所示，以主体1的中心线0-0’为基准，流体吐出部件5设置成倾斜预定角度A。
如上所述，本发明实施例将高度H1设置成比主体1顶面1e的宽度W更大，从而可以使自身重量引起的下垂达到最少化。
尤其是，在本发明的实施例中，无需倾斜主体1，而将两侧面1c、1d相对于基板G成垂直方向(铅垂方向)设置，因此与通过倾斜主体1来进行固定的方式相比较，本发明的方式可以进一步减少根据自身重量的下垂。
另外，所述主体1上形成的空间1a和流体吐出部件5为朝两侧开放的结构时，额外的侧面固定部件9、11可通过螺栓等多个第三连接部件10、12结合在主体1的两侧上。即，多个侧面固定部件9、11结合在主体1和流体吐出部件5的两侧，具有封闭侧面上暴露的空间。
并且，在此情况下，多个侧面固定部件9、11上最好形成有使流体流入到空间1a内的通道。
另外，图4是用于说明本发明另一实施例的主体1的示意图。在本发明的另一实施例中，可以将主体1顶面1e的中央部分制作成比侧面更向上突出的弧形后，结合所述流体吐出部件5。而且，作为主体1底面的倾斜面1b可制作成其中央部分向上弯曲的弧形后，结合所述流体吐出部件5(以图4为基准说明)。当然，本发明实施例的上述两个方式也可以同时实施。
即，在本发明的另一实施例中，为使主体1顶面1e的中央部分向上突出或者使作为底面的倾斜面1b成为弧形，将主体1制作成突出预定距离D的结构，从而即使产生因自身重量的下垂现象，下垂量会被距离D抵消，因而可以使主体1保持水平状态。
因此，在本发明的实施例中，为了干燥大型基板，即使流体喷射装置的长度增加，也可以根据自身重量有效防止下垂现象，从而可以使流体均匀地喷射到基板上，以防止基板干燥不良的现象，因而可以提高干燥效率。
并且，在本发明的实施例中，为了针对基板G形成预定喷射角度，而无需倾斜主体1，只要通过垂直固定主体1的操作，就可以使狭缝3的角度针对基板G形成一倾斜角度，从而可以实现精细设置，并且容易进行设置，具有提高安装性能的效果。

Claims (9)

1.一种流体喷射装置，其特征在于，包括：
主体，具有流体流入的空间；
流体吐出部件，以所述主体的中心线为基准倾斜预定角度地结合于主体上，并具有用于喷射所述流体的狭缝；以及
多个第一连接部件，用于连接所述主体和流体吐出部件。
2.根据权利要求1所述的流体喷射装置，其特征在于：
所述流体吐出部件具有相互对向布置的第一部件和第二部件，所述第一部件和所述第二部件之间形成有供所述流体吐出的狭缝。
3.根据权利要求2所述的流体喷射装置，其特征在于：
在所述第一部件和所述第二部件相互面对的部分形成有相隔预定距离的多个障壁，并且所述多个障壁之间布置有多个流道。
4.根据权利要求3所述的流体喷射装置，其特征在于：
所述第一部件和所述第二部件相互面对的部分形成有与所述多个流道连接的缓冲腔室。
5.根据权利要求2所述的流体喷射装置，其特征在于：
所述第一部件和所述第二部件通过多个第二连接部件相互面对地结合在一起。
6.根据权利要求1所述的流体喷射装置，其特征在于：
所述主体和所述吐出部件的两侧面形成有通过多个第三连接部件结合在所述主体上的侧面固定部件。
7.根据权利要求1所述的流体喷射装置，其特征在于：
所述主体相对于所述基板以铅垂方向布置。
8.根据权利要求1所述的流体喷射装置，其特征在于：
所述主体上形成有做成曲面的曲面单元，从而防止下垂。
9.根据权利要求1所述的流体喷射装置，其特征在于：
所述主体上结合有所述流体吐出部件的一面为倾斜面。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103405876A (zh) * 2013-08-23 2013-11-27 中国科学技术大学 一种含有组合条状喷嘴的消防水幕喷头
CN104043548A (zh) * 2014-06-06 2014-09-17 王会才 用于除尘与去水的喷气清洁装置

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101595887B1 (ko) * 2014-03-14 2016-02-19 한화테크윈 주식회사 에어건 용 노즐 및 이를 포함하는 에어건 장치
KR102630779B1 (ko) 2022-09-13 2024-01-29 (주)대주기계 에어 나이프

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100756522B1 (ko) * 2007-02-05 2007-09-10 주식회사 인아텍 기판 건조용 에어나이프 장치
CN101185920A (zh) * 2006-11-24 2008-05-28 显示器生产服务株式会社 流体喷射装置
CN101209437A (zh) * 2006-12-28 2008-07-02 显示器生产服务株式会社 流体喷嘴
KR200443051Y1 (ko) * 2007-07-27 2009-01-07 주식회사 케이씨텍 기판 건조용 에어 나이프

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101185920A (zh) * 2006-11-24 2008-05-28 显示器生产服务株式会社 流体喷射装置
CN101209437A (zh) * 2006-12-28 2008-07-02 显示器生产服务株式会社 流体喷嘴
KR100756522B1 (ko) * 2007-02-05 2007-09-10 주식회사 인아텍 기판 건조용 에어나이프 장치
KR200443051Y1 (ko) * 2007-07-27 2009-01-07 주식회사 케이씨텍 기판 건조용 에어 나이프

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103405876A (zh) * 2013-08-23 2013-11-27 中国科学技术大学 一种含有组合条状喷嘴的消防水幕喷头
CN103405876B (zh) * 2013-08-23 2016-07-06 中国科学技术大学 一种含有组合条状喷嘴的消防水幕喷头
CN104043548A (zh) * 2014-06-06 2014-09-17 王会才 用于除尘与去水的喷气清洁装置

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