KR100941957B1 - 기판 세정용 공기분사장치 - Google Patents

기판 세정용 공기분사장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100941957B1
KR100941957B1 KR1020080029103A KR20080029103A KR100941957B1 KR 100941957 B1 KR100941957 B1 KR 100941957B1 KR 1020080029103 A KR1020080029103 A KR 1020080029103A KR 20080029103 A KR20080029103 A KR 20080029103A KR 100941957 B1 KR100941957 B1 KR 100941957B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
nozzle
cleaning
air
lower nozzle
Prior art date
Application number
KR1020080029103A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20090103470A (ko
Inventor
임종현
정영철
김광선
Original Assignee
엠파워(주)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엠파워(주) filed Critical 엠파워(주)
Priority to KR1020080029103A priority Critical patent/KR100941957B1/ko
Publication of KR20090103470A publication Critical patent/KR20090103470A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100941957B1 publication Critical patent/KR100941957B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1316Methods for cleaning the liquid crystal cells, or components thereof, during manufacture: Materials therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)

Abstract

본 발명은 기판 세정용 공기분사장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 단축세정에 적용이 유리한 기판 세정용 공기분사장치에 관한 것이다.
본 발명에 의한 기판 세정용 공기분사장치는 기판의 상부표면에 공기를 분사하는 상부노즐; 및 상기 기판의 하부표면에 공기를 분사하는 하부노즐;을 포함하며 이루어지며, 상기 상부노즐과 하부노즐은 상기 기판의 이송방향과 직교인 가상선과의 사잇각이 10~20°의 범위로 경사지도록 설치된다.
기판 세정. 공기분사. 인디게이터.

Description

기판 세정용 공기분사장치{ Air Spray Apparatus Fof Cleaning Substrate}
본 발명은 기판 세정용 공기분사장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 단축세정에 적용이 유리한 기판 세정용 공기분사장치에 관한 것이다.
반도체 및 FPD제조공정에서 신뢰성에 큰 영향을 주는 요인 중 하나가 기판표면의 금속 오염과 유기물을 포함한 파티클이다.
특히 파티클의 부착은 디바이스의 수율에 미치는 영향이 크다. 파티클은 프로세스 중의 생성반응, 작업자, 제조 장치로부터 발생하여 기판 표면에 부착된다. 이런 파티클은 패널 표면이 불균일한 상태가 되는 원인이 될 수 있으며, 균일하지 않은  표면 상태는, 생산 공정과 제품이 불안정해지며, 또 다른 문제의 발생 원인이 될 수 있다.
따라서 공정 전,후 신뢰성 확보 및 수율 향상을 위해 파티클을 제거해 주어야 하는데, 이것이 세정 공정이며, 기술이 진보함에 따라서 패널의 대형화 및 패턴의 미세화가 이루어지면서 세정 공정 또한 기술적 발전을 요하고 있다.
도 1을 참조하여, 종래의 일반적인 세정장치(100) 및 공정을 살펴본다. 도시된 바와 같이, 기판을 이송하는 컨베이어와, 유기물을 제거하는 엑시머 자외선 (EUV : Excimer Ultraviolet rays)조사수단(110)과, 파티클을 제거하는 롤브러쉬(120)와, 상기 기판에 물을 분사하는 린싱부(130)와, 상기 기판에 공기를 분사하는 공기분사장치(140)와, 기판에 남아 있는 정전기를 제거하는 이오나이저(150)과, 기판을 히팅하는 히팅수단(160)을 포함하여 구성된다. 또한 진동에 의해 파티클을 제거하는 초음파 세정수단(미도시)이 구비되기도 한다.
도 2를 참조하면, 상기 공기분사장치(140)는 기판(S)의 이송방향과 직교인 가상선과의 사잇각(θ)이 45°가 되도록 경사지게 설치되었다.
한편, 근래에는 세정 공정의 택타임을 줄이기 위하여 세정장치의 설비 길이가 작은 단축세정장치를 요구하고 있다.
그러나 도 2와 같이 공기분사장치(140)가 경사지게 설치됨으로 인해, 설비 길이가 길어져서 단축 세정장치를 구성함에 많은 어려움이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 단축세정에 적용이 유리한 기판 세정용 공기분사장치를 제공함에 있다.
위와 같은 기술적 과제를 해결하기 위하여 본 발명에 의한 기판 세정용 공기분사장치는 기판의 상부표면에 공기를 분사하는 상부노즐; 및 상기 기판의 하부표면에 공기를 분사하는 하부노즐;을 포함하며 이루어지며, 상기 상부노즐과 하부노즐은 상기 기판의 이송방향과 직교인 가상선과의 사잇각이 10~20°의 범위로 경사지도록 설치된다.
또한 상기 상부노즐 또는 하부노즐과, 상기 기판과의 갭을 표시하는 인디게이터가 더 구비되는 것이 바람직하다.
상기 인디게이터는, 상기 상부노즐 또는 하부노즐의 일측에 연결되는 브라켓; 상기 브라켓을 관통하는 나사부; 및 상기 상부노즐 또는 하부노즐과 상기 기판 사이의 갭을 숫자로 표시하는 표시부;를 포함한다.
또한 상기 인디게이터는 상기 상부노즐 및 하부노즐의 각각 좌측 및 우측에 설치되는 것이 바람직하다.
또한 상기 기판은 수평면으로부터 경사지게 이송되며, 상기 상부노즐 및 하부노즐도 상기 기판과 동일각도로 경사지게 설치되는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면, 설비길이를 작게할 수 있는 효과가 있어 단축세정장비에 유리하다.
또한 노즐과 기판 사이의 갭을 표시할 수 있어 작업자가 육안으로 확인하기가 용이하다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 실시예의 구성 및 작용을 구체적으로 설명한다.
도 3을 참조하면, 본 발명에 의한 실시예(40)는 기판의 상부 및 하부에 근접하게 설치되는 상부 노즐(41)과, 하부 노즐(42)로 구성된다.
또한 상기 상부 노즐(41)과 기판, 하부 노즐(42)와 기판 사이의 갭을 표시하는 인디게이터(43)가 구비된다. 상기 인디게이터(43)는 상기 상부 및 하부 노즐의 좌측 및 우측 단부에 각각 구비된다. 따라서 본 실시예는 상부노즐(41)의 좌우측, 하부노즐(42)의 좌우측 각각과 기판 사이의 갭을 숫자로 표시하는 것이다.
도 3을 참조하면, 상기 인디게이터(43)는 상기 노즐(41,42)의 일측에 연결되는 브라켓(43a)을 관통하는 나사부(43b)로 연결되며, 상기 기판과 노즐 사이의 갭을 숫자로 표시하는 표시부(43c)가 구비된다. 따라서 상기 노즐(41,42)을 기판과 소정의 갭을 유지한 채 설치하게 되면, 상기 표시부(43c)에 특정 숫자가 표시될 것이고, 만약, 노즐(41,42)가 유동하여 기판과의 갭이 변경되는 경우에는 상기 표시부(43c)에 다른 숫자가 표시되는 것이다. 따라서 작업자는 최초 표시 숫자와 다른 숫자가 표시된 것을 확인함으로써, 노즐(41,42)과 기판 사이의 갭이 변경된 것을 알 수 있는 것이다.
도 5를 참조하면, 상기 공기분사장치(40)는 상기 기판(S)의 이송방향(화살표 참조)과 직교인 가상선과의 사잇각(α)이 10~20°의 범위로 경사지도록 설치된다. 이와 같이 설치함으로써, 도 2에 도시된 종래의 장치와 비교하였을 때, 설비 길이가 단축되는 것을 알 수 있다(V2 > V1). 따라서 세정장치의 전체 길이를 단축시킬 수 있어 단축세정장치를 구성하는 것이 용이하다. 즉, 기판 건조 및 세정효과의 극대화와, 설비길이의 최소화를 적절히 절충할 수 있는 것이다.
한편, 도 6을 참조하면, 본 실시예는 기판(S)이 수평면으로부터 소정각도 기울어진 상태로 이송된다. 이를 위해 상부노즐 및 하부노즐도 소정각도(β) 경사지게 설치된다.
도 1은 종래 기판 세정장치를 나타낸 것이다.
도 2는 종래 공기분사장치의 설치상태를 나타낸 것이다.
도 3은 본 발명에 의한 공기분사장치를 도시한 것이다.
도 4는 도 3의 부분확대도이다.
도 5 및 도 6은 도 3에 도시된 공기분사장치의 설치상태를 나타낸 것이다.
**도면의 주요부분에 대한 부호의 설명**
40: 공기분사장치 41: 상부노즐
42: 하부노즐 43: 인디게이터
43a: 브라켓 43b: 나사부
43c: 표시부

Claims (5)

  1. 기판의 상부표면에 공기를 분사하는 상부노즐; 및
    상기 기판의 하부표면에 공기를 분사하는 하부노즐;을 포함하며 이루어지며,
    상기 상부노즐과 하부노즐은 상기 기판의 이송방향과 직교인 가상선과의 사잇각이 10~20°의 범위로 경사지도록 설치되며,
    상기 기판은 수평면으로부터 경사지게 이송되고, 상기 상부노즐 및 하부노즐도 상기 기판과 동일각도로 경사지게 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 공기분사장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 상부노즐 또는 하부노즐과 상기 기판과의 갭을 표시하는 인디게이터가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 공기분사장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 인디게이터는,
    상기 상부노즐 또는 하부노즐의 일측에 연결되는 브라켓;
    상기 브라켓을 관통하는 나사부; 및
    상기 상부노즐 또는 하부노즐과 상기 기판 사이의 갭을 숫자로 표시하는 표시부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 공기분사장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 인디게이터는 상기 상부노즐 및 하부노즐의 각각 좌측 및 우측에 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 공기분사장치.
  5. 삭제
KR1020080029103A 2008-03-28 2008-03-28 기판 세정용 공기분사장치 KR100941957B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080029103A KR100941957B1 (ko) 2008-03-28 2008-03-28 기판 세정용 공기분사장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080029103A KR100941957B1 (ko) 2008-03-28 2008-03-28 기판 세정용 공기분사장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090103470A KR20090103470A (ko) 2009-10-01
KR100941957B1 true KR100941957B1 (ko) 2010-02-11

Family

ID=41533002

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080029103A KR100941957B1 (ko) 2008-03-28 2008-03-28 기판 세정용 공기분사장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100941957B1 (ko)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100432053B1 (ko) 2001-07-05 2004-05-17 (주)케이.씨.텍 건조장치
KR20040041408A (ko) * 2002-11-11 2004-05-17 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시패널의 디스펜서 및 이를 이용한 노즐과 기판의갭 제어방법
KR20050053506A (ko) * 2003-12-03 2005-06-08 동경 엘렉트론 주식회사 노즐 및 기판처리장치 및 기판처리방법
KR20080012718A (ko) * 2006-08-04 2008-02-12 세메스 주식회사 평판 패널의 세정 후 건조 장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100432053B1 (ko) 2001-07-05 2004-05-17 (주)케이.씨.텍 건조장치
KR20040041408A (ko) * 2002-11-11 2004-05-17 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시패널의 디스펜서 및 이를 이용한 노즐과 기판의갭 제어방법
KR20050053506A (ko) * 2003-12-03 2005-06-08 동경 엘렉트론 주식회사 노즐 및 기판처리장치 및 기판처리방법
KR20080012718A (ko) * 2006-08-04 2008-02-12 세메스 주식회사 평판 패널의 세정 후 건조 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR20090103470A (ko) 2009-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100809517B1 (ko) 포토레지스트 제거 처리 장치 및 방법
KR100982492B1 (ko) 기판 세정용 이류체 분사 노즐
KR20080011067A (ko) 기판의 처리 장치
KR100414540B1 (ko) 초음파처리장치 및 이를 사용한 전자부품의 제조방법
KR101244086B1 (ko) 기판 세정 장치 및 방법
JP2008311657A (ja) 基板エッチング装置及び基板の処理方法
KR100941957B1 (ko) 기판 세정용 공기분사장치
KR20070119398A (ko) 에어 나이프와 에어 나이프를 이용한 기판 건조 장치
JP2006026549A (ja) 洗浄方法及びそれを実施するための洗浄装置
KR20040110391A (ko) 기판 처리 장치
KR20090103419A (ko) 기판 세정장치 및 방법
KR101145851B1 (ko) 기판세정용 분사노즐
KR20100055812A (ko) 기판 처리 장치
JP4542448B2 (ja) レジスト剥離除去装置
KR101315256B1 (ko) 유리 기판 균일 건조용 에어나이프 분사장치
KR100809596B1 (ko) 기판 세정 장치
JP2017092124A (ja) エッチング装置
KR200295029Y1 (ko) 기판 세정 장치
KR100834194B1 (ko) 기판 공정용 렘젯 노즐 및 이를 장착한 기판 공정용 기기
KR101264795B1 (ko) 마스크 세정장치
KR100693761B1 (ko) 상압 플라즈마 발생기를 구비한 세정장치
JP2020013127A (ja) 液晶用基板の製造方法
KR20060134456A (ko) 기판 처리 장치
KR101872953B1 (ko) 분사 장치
KR101051095B1 (ko) 기판 식각장치 및 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee