KR100930790B1 - 수소산소 발생용 전극판 및 그를 제조하기 위한 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 수소산소 발생용 전극판 및 그를 제조하기 위한 제조방법에 관한 것이다. 이중 수소산소 발생용 전극판은, 물을 전기분해하여 수소 및 산소를 발생하기 위한 수소산소 발생용 전극판에 있어서, 이산화티타늄, 코발트산화물과, 크롬산화물과, 니켈산화물과, 세라믹촉매를 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한 수소산소 발생용 전극판 제조방법은, 물을 전기분해하여 수소 및 산소를 발생하기 위한 수소산소 발생용 전극판의 제조방법에 있어서, 분말형태의 이산화티타늄, 코발트산화물과, 크롬산화물과, 니켈산화물과, 세라믹촉매를 고르게 믹싱하여 고분산도의 믹싱혼합물을 형성하는 단계(S1); 상기 믹싱혼합물을 금형에 투입한 후 가압하여 프레싱성형물을 형성하는 단계(S2); 및 상기 프레싱성형물을 진공소성로에서 소성하는 단계(S3);를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

수소산소 발생용 전극판 및 그를 제조하기 위한 제조방법{a hydrogen-oxygen generating electrode plate and method for manufacturing the same}
본 발명은 물로부터 수소산소를 효과적으로 발생시킬 수 있는 수소산소 발생용 전극판 및 그를 제조하기 위한 제조방법에 관한 것이다.
수소산소 발생장치는 물이 전기분해되어 얻어지는 생성물인 수소 및 산소를 생산하기 위한 장치로서, 그 내부에는 물을 전기분해하여 무공해 에너지원인 수소산소 혼합가스를 발생하는 전극판이 설치된다. 이때 전극판에 의하여 발생되는 수소와 산소는 2 : 1의 몰비로 발생되며, - 전극판 표면에 수소가 기포 형태로 생성되고, + 전극판 표면에 산소가 기포 형태로 생성된다. 이때, 물을 전기분해하는 전극판은 스테인레스강이나, 스테인레스강의 표면에 백금이 코팅된 구조를 가진다.
이러한 전극판에 의하여 전기분해되어 발생된 수소와 산소는 혼합되어 혼합가스 형태가 되며 연소가 가능하며, 연소시 오염물질의 생성하지 않아 친환경적인 에너지원으로서 새롭게 부각되고 있다.
그런데, 상기와 같이 스테인레스 또는 백금이 코팅된 스테인레스로 이루어진 전극판의 경우, 인가되는 전기에너지에 비하여 생성되는 수소산소의 양이 적고, 이 에 따라 발생되는 수소산소에 프로판가스와 같은 보조연료를 혼합하여 연소시켜야 하였다. 따라서 경제성이 낮을 수 밖에 없었다.
또한 전기분해가 진행되는 동안에 전극판의 표면이 서서히 분해되어 녹기 때문에, 수백시간이 경과하면 전극판을 교체하여야 하는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 투입되는 전기에너지에 비하여 발생되는 수소산소의 양을 늘림으로써 경제성을 확보할 수 있는 수소산소 발생용 전극판 및 그를 제조하기 위한 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 다른 목적은, 다양한 형태로 구현할 수 있어 다양한 규격의 수소산소 발생장치에 적용할 수 있는 수소산소 발생용 전극판 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 오랜시간동안 전기분해가 진행되더라도 분해되지 않도록 함으로써 교체할 필요성을 배재할 수 있는 수소산소 발생용 전극판 및 그를 제조하기 위한 제조방법을 제공하는 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 수소산소 발생용 전극판은, 물을 전기분해하여 수소 및 산소를 발생하기 위한 수소산소 발생용 전극판에 있어서, 이산화티타늄(TiO2)과, 코발트산화물(Co2O3)과, 크롬산화물(Cr2O3)과, 니켈산화물(NiO)과, 탄소나노튜브와, 니켈(Ni) 또는 크롬(Cr), 세라믹촉매를 포함하고; 상기 이산화티타늄(TiO2), 코발트산화물(Co2O3), 크롬산화물(Cr2O3), 니켈산화물(NiO), 탄소나노튜브, 니켈(Ni) 또는 크롬(Cr), 및 세라믹촉매는 분말형태로 되어 프레싱되어 고체형태로 된후 및 진공소성로에서 소성되어 구현된 것;을 특징으로 한다.
본 발명에 있어서, 탄소(C)와, 산화몰리브덴(MoO3)과, 탄탈산나트륨복합체(NaTaO3-La)와, 규소(Si)와, 망간(Mn)과, 산화알루미늄(Al2O3)으로 구성된 군들중에서 선택된 어느 하나 이상을 더 포함한다.
본 발명에 있어서, 상기 세라믹촉매는, 토르마린 또는 뵘석이다.
본 발명에 있어서, 상기 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 할 때, 상기 코발트산화물는 10~400 중량부이고, 상기 크롬산화물은 10~400 중량부이며, 상기 니켈산화물은 10~400 중량부이고, 상기 탄소나노튜브는 2~40 중량부이며, 상기 탄소는 0.5~40 중량부이고, 상기 산화몰리브덴은 10~100 중량부이며, 상기 니켈은 10~100 중량부이고, 상기 탄탈산나트륨복합체는 10~100 중량부이며, 상기 규소는 2~40 중량부이고, 상기 망간은 5~50 중량부이며, 상기 산화알루미늄은 2.5~60 중량부이고, 상기 크롬은 5~50 중량부이고, 상기 세라믹촉매은 2~100 중량부인 것이 바람직하다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 수소산소 발생용 전극판 제조방법은, 물을 전기분해하여 수소 및 산소를 발생하기 위한 수소산소 발생용 전극판의 제조방법에 있어서, 분말형태의 이산화티타늄과, 코발트산화물과, 크롬산화물과, 니켈산화물과, 탄소나노튜브와, 니켈(Ni) 또는 크롬(Cr), 세라믹촉매를 고르게 믹싱하여 고분산도의 믹싱혼합물을 형성하는 단계(S1)와; 상기 믹싱혼합물을 금형에 투입한 후 가압하여 고체형태의 프레싱성형물을 형성하는 단계(S2)와; 상기 프레싱성형물을 진공소성로에서 소성하는 단계(S3);를 포함하고; 상기 단계(S2)는, 상기 믹싱혼합물을 500~1500ton/㎠ 의 압력으로 프레싱하여 상기 프레싱성형물을 구현하는 단계이고; 상기 단계(S3)는, 상기 프레싱성형물을 500~2000 ℃에서 20~400 분 범위에서 소성하되, 상기 소성은 산소의 유입이 차단된 진공소성로에서 진행되는 단계인 것;을 특징으로 한다.
본 발명에 있어서, 상기 단계(S1)에서, 탄소(C)와, 산화몰리브덴(MoO3)과, 탄탈산나트륨복합체(NaTaO3-La)와, 규소(Si)와, 망간(Mn)과, 산화알루미늄(Al2O3)으로 구성된 군들중에서 선택된 어느 하나 이상을 더 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서, 상기 세라믹촉매는, 토르마린 또는 뵘석을 입경 10~60 마이크로 사이즈로 분쇄하여 1000~2000℃ 의 온도에서 1시간 이상 가열하여 소성하고, 소성된 소성물을 다시 분쇄하여 입경이 10~60 나노미터 사이즈의 분말이 되도록 함으로써 제조된다.
본 발명에 있어서, 상기 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 할 때, 상기 코발트산화물는 10~400 중량부이고, 상기 크롬산화물은 10~400 중량부이며, 상기 니켈산화물은 10~400 중량부이고, 상기 탄소나노튜브는 2~40 중량부이며, 상기 탄소는 0.5~40 중량부이고, 상기 산화몰리브덴은 10~100 중량부이며, 상기 니켈은 10~100 중량부이고, 상기 탄탈산나트륨복합체는 10~100 중량부이며, 상기 규소는 2~40 중량부이고, 상기 망간은 5~50 중량부이며, 상기 산화알루미늄은 2.5~60 중량부이고, 상기 크롬은 5~50 중량부이며, 상기 세라믹촉매은 2~100 중량부인 것이 바람직하다.
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본 발명에 따른 수소산소 발생용 전극판 및 그를 제조하기 위한 제조방법에 따르면, 투입되는 전기에너지에 비하여 발생되는 수소산소의 양이 많아지도록 함으로써 프로판가스와 같은 보조연료를 혼합하지 않고도 연소시킬 수 있어 경제성을 확보할 수 있다.
더 나아가, 프레싱 및 소성 과정을 통하여 형태가 규정될 수 있으므로, 사용하고자 하는 용도 및 용량에 따라 다양한 형태로 구현할 수 있다라는 작용, 효과가 있다.
또한, 본 발명에 의하여 제조되는 전극판은, 전기분해가 진행되는 동안에 전극판의 표면이 분해되지 않음으로써 기존의 전극판에 비하여 수천시간이 지나더라도 교체하지 않아도 된다.
이하, 본 발명에 따른 수소산소 발생용 전극판 및 그를 제조하기 위한 제조방법을 상세히 설명한다.
본 발명에 따른 수소산소 발생용 전극판은 물을 전기분해하여 수소 및 산소를 발생하며, 이때 투입되는 전기량에 비하여 발생되는 수소와 산소의 발생량을 늘 리기 위하여 다음과 같은 조성비를 가진다.
즉, 수소산소 발생용 전극판은, 이산화티타늄(TiO2), 코발트산화물(Co2O3)과, 크롬산화물(Cr2O3)과, 니켈산화물(NiO)과, 세라믹촉매를 포함한다. 이때, 본 발명의 전극판은, 탄소나노튜브(CNT)와, 탄소(C)와, 산화몰리브덴(MoO3)과, 니켈(Ni)과, 탄탈산나트륨복합체(NaTaO3-La), 규소(Si)와, 망간(Mn)과, 산화알루미늄(Al2O3), 크롬(Cr)으로 구성된 군들중에서 선택된 어느 하나 이상을 더 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 세라믹촉매는, 토르마린 또는 뵘석으로 구현된다.
본원의 수소산소 발생용 전극판은, 분말형태의 상기한 조성물들은 500~1500ton/㎠ 의 압력으로 프레싱하고 500~2000 ℃ 의 온도에서 소성함으로써 구현된다.
상기한 조성물의 조성비를 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 하여 설명하면 다음과 같다. 이때, 이산화티타늄의 입경은 0.1~100 마이크로미터(㎛) 범위이다.
코발트산화물의 조성비는, 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 할 때, 10~400 중량부, 바람직하게는 20~30 중량부이다. 이때, 코발트산화물의 입경은 0.1~100 마이크로미터 범위이다.
크롬산화물의 조성비는, 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 할 때, 10~400 중량부이고, 바람직하게는 20~30 중량부이다. 이때, 크롬산화물의 입경은 0.1~100 마이크로미터 범위이다.
니켈산화물의 조성비는, 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 할 때, 10~400 중량부이고, 바람직하게는 20~30 중량부이다. 이때, 크롬산화물의 입경은 0.1~100 마이크로미터 범위이다.
상기한 이산화티타늄, 코발트산화물, 크롬산화물, 니켈산화물의 총 조성비는 본원의 전극판을 100 중량부로 하였을 때 60~80 중량부인 것이 바람직하다.
탄소나노튜브의 조성비는, 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 할 때, 2~40 중량부이고, 바람직하게는 5~20 중량부이다. 이때, 탄소나노튜브의 입경은 1~60 나노미터 범위이다. 만약, 탄소나노튜브의 조성비가 2 중량부 이하일 경우 전도성이 상대적으로 낮은 탄소에 의하여 제조되는 전극판 표면의 전도도가 감소되고, 40 중량부 이상일 경우 자체적으로 혼합성이 떨어지는 탄소나노튜브의 분산효과를 기대할 수 없으며, 제조되는 전극판의 밀도 및 강도가 약해진다.
또한 탄소나노튜브는 다른 조성물 분말과의 분산력 향상을 위해 1~60 나노미터 크기의 입도를 가지는 것이 적절하며, 바람직하게는 20~30 나노미터의 크기가 적절하다. 이와 같이, 본 발명에서 사용되는 탄소나노튜브로는, 단일벽, 다중벽, 탄소나노섬유 중 적어도 하나를 포함하여 선택된다.
탄소나노튜브는, 하나의 탄소가 다른 탄소원자와 육각형 벌집무늬로 결합되어 튜브형태를 이루고 있는 물질로서 이방성이 매우 크고, 단일벽, 다중벽, 다발 등의 다양한 구조를 가지며, 튜브의 직경이 나노미터 수준으로 극히 작은 영역의 물질이다. 탄소나노튜브는 활성탄소나 흑연, 다이아몬드와 같은 다른 탄소계 물질 과는 달리 전기전도성이 매우 우수하고 전계방출 특성이 양호한 특징을 지니고 있다. 이러한 특징은 구조에 따라 탄소의 전자구조가 다르기 때문인데, 즉 전기전도성이 우수한 흑연 속의 탄소는 sp2 결합구조를 지니고 있고, 절연체인 다이아몬드는 sp3 결합구조를 지니고 있기 때문이다. 탄소나노튜브는 벌크에 비해 1000배 이상의 높은 표면적을 가지는 다공질 상태를 이루므로, 전기화학적 장치에 적용함에 있어서 산화환원 반응을 위한 표면적이 극대화되어 총 반응량을 크게 상승시킨다.
탄소의 조성비는, 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 할 때, 0.5~40 중량부이고, 바람직하게는 5~20 중량부이다. 이때, 탄소의 입경은 0.1~100 마이크로미터 범위이다.
탄소의 조성비는, 탄소나노튜브를 다른 조성물과 결합시키기 위한 결합체로 사용된다. 즉, 탄소는, 그 자체로 결합성이 매우 작은 탄소나노튜브를 다른 조성물 분말과 결합시키기 위한 목적으로 사용되는 것이다.
산화몰리브덴의 조성비는, 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 할 때, 10~100 중량부이고, 바람직하게는 30~50 중량부이다. 이때, 산화몰리브덴의 입경은 0.1~100 마이크로미터 범위이다.
니켈의 조성비는, 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 할 때, 10~100 중량부이고, 바람직하게는 15~30 중량부이다. 이때, 니켈의 입경은 0.1~100 마이크로미터 범위이다.
탄탈산나트륨복합체의 조성비는, 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 할 때, 10~100 중량부이고, 바람직하게는 30~50 중량부이다. 이때, 탄탈산나트륨복합 체의 입경은 10~60 나노미터 범위이다. 이러한 탄탈산나트륨복합체는, 제조되는 전극판에서 수소의 발생량을 크게 하기 위한 것이다
규소의 조성비는, 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 할 때, 2~40 중량부이고, 바람직하게는 5~20 중량부이다. 이때, 규소의 입경은 0.1~100 마이크로미터 범위이다.
망간의 조성비는, 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 할 때, 5~50 중량부이고, 바람직하게는 10~20 중량부이다. 이때, 망간의 입경은 0.1~100 마이크로미터 범위이다.
산화알루미늄의 조성비는, 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 할 때, 2.5~60 중량부이고, 바람직하게는 15~40 중량부이다. 이때, 산화알루미늄의 입경은 0.1~100 마이크로미터 범위이다.
크롬의 조성비는, 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 할 때, 5~50 중량부이고, 바람직하게는 10~20 중량부이다. 이때 크롬의 입경은 0.1~100 마이크로미터 범위이다.
세라믹촉매의 조성비는, 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 할 때, 2~100 중량부이고, 바람직하게는 5~30 중량부이다. 이때, 세라믹촉매의 입경은 10~60 나노미터(㎚) 범위이다.
상기한 이산화티타늄, 코발트산화물, 크롬산화물, 니켈산화물, 세라믹촉매, 탄소나노튜브와, 탄소, 산화몰리브덴, 니켈, 탄탈산나트륨복합체, 규소, 망간, 산화알루미늄은 분말형태로 이루어지며, 이들 조성물들의 분말들을 프레싱 및 진공소성로에서 소성하여 본원의 수소산소 발생용 전극판이 제조되는 것이다.
다음, 본 발명의 수소산소 발생용 전극판 제조방법을 설명한다.
수소산소 발생용 전극판을 제조하기 위하여, 먼저 분말형태의 이산화티타늄, 코발트산화물과, 크롬산화물과, 니켈산화물과, 세라믹촉매를 고르게 고분산도로 믹싱하여 믹싱혼합물을 형성하는 단계(S1)를 수행한다. 이때 단계(S1)에서 믹싱되는 세라믹촉매는, 토르마린 또는 뵘석으로 이루어진 군중에서 선택된 어느 하나 이상을 입경 60~100 마이크로미터 사이즈로 분쇄하여, 1000~2000℃ 의 온도에서 1시간 이상, 바람직하게는 1700℃ 의 고온에서 24시간동안 가열하여 소성한 후, 이렇게 소성된 성물을 다시 분쇄하여 입경이 10~60 나노미터 사이즈의 분말이 되도록 함으로써 제조되는 것이다.
또한, 믹싱혼합물을 형성하는 단계(S1)에서, 분말형태의 탄소나노튜브와, 탄소와, 산화몰리브덴과, 니켈과, 탄탈산나트륨복합체와, 규소와, 망간과, 산화알루미늄, 크롬으로 구성된 군들 중에서 선택된 어느 하나 이상을 더 포함할 수 있다.
상기한 조성물들은 고르게 고분산도로 분산되어야 하며, 이를 위하여 공지의 초임계유체방법이나 역마이셀 방법을 이용한다.
다음, 믹싱혼물을 금형에 투입한 후 500~1500ton/㎠ 의 압력으로 프레싱하여 프레싱성형물을 형성하는 단계(S2)를 수행한다. 프레싱 단계를 통하여, 분말 형태의 상기한 프레싱성형물은 단단한 고체 형태로 구현된다.
이때 금형에는 특정 형태의 성형홈을 적용함으로써, 다양한 형태의 전극판을 구현할 수 있다. 예를 들면, 복잡한 기하학적 형태, 예를 들면 가장자리에서 돌출 되거나 몰입되는 다수개의 홈이 형성된 형태 등을 구현할 수 있는 것이다.
다음, 프레싱성형물을 진공소성로에서 500~2000 ℃에서 20~400 분 범위에서 소성하는 단계(S3)를 수행한다. 이때 프레싱성형물을 성형하는데 있어, 산소의 유입을 철저히 차단하기 위하여 소성로는 반드시 진공소성로를 사용하여야 한다. 만약 산소가 유입되면, 소성과정에서 산화가 일어나서 제조되는 전극판의 수소 및 산소 생성 효율을 떨어뜨린다.
여기서, 니켈이나 크롬과 같은 금속은, 소성시에 전극판을 이루는 금속산화물, 비금속 및 탄소계 조성물을 단단하게 잡아주는 역할을 한다. 따라서 소성 온도는 니켈이나 크롬의 융점에서 진행되어야 한다.
이와 같은 소성 단계를 통하여, 상기한 조성물들은 단단한 구성체로 결합시킨다.
여기서, 상기한 세라믹촉매는, 물의 전기분해를 촉진함과 동시에, 상기한 조성물들중 금속물질이 벌크 형태로 되지 않도록 한다. 즉, 고온에서 소성하는 과정에서도 금속물질들은 세라믹촉매들에 의하여 상호 엉키지 않게 되고 이에 따라 벌크 형태가 되지 않는 것이다. 또한 세라믹촉매는, 제작되는 전극판에 물을 전기분해하기 위한 수많은 전해공간을 형성함으로써, 많은 양의 수소가스와 산소가스가 발생된다. 그리고, 세라믹촉매는 물의 전기분해가 진행되는 동안에도 소모되지 않으므로, 결과적으로 본 발명의 전극판의 형태를 유지하게 할 수 있고 이에 따라 전극판의 수명을 늘릴 수 있는 것이다. 더 나아가, 세라믹촉매에 의하여 전해공간이 커지므로 촉매작용의 활성도 증가, 높은 화학적 안정성 등이 있는 것이다.
이하, 본 발명을 실시예를 통하여 보다 구체적으로 설명한다. 이들 실시예는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것으로서, 본 발명의 보호범위가 이들 실시예에 의하여 제한되는 것은 아니다.
<실시예>
먼저, 분말형태의 이산화티타늄, 코발트산화물, 크롬산화물, 니켈산화물, 세라믹촉매, 탄소나노튜브와, 탄소, 산화몰리브덴, 니켈, 탄탈산나트륨복합체, 규소, 망간, 산화알루미늄을 믹서를 이용하여 믹싱함으로써 믹싱혼합물을 형성한다. 이때, 상기한 믹싱혼합물을 형성하기 위하여, 이산화티타늄 100g, 코발트산화물 25g, 크롬산화물 25g, 니켈산화물 25g, 세라믹촉매 20g, 탄소나노튜브 15g, 탄소 15g, 산화몰리브덴 40g, 니켈 25g, 탄탈산나트륨복합체 40g, 규소 20g, 망간 15g, 산화알루미늄 30g, 크롬 15g 을 혼합한 후 고분산도로 믹싱하여 믹싱혼합물을 만든다. 이후, 믹싱혼합물을 판재 형태의 홈이 형성된 금형에 투입한 후, 2000 ton/㎠ 의 압력으로 프레싱하여 프레싱성형물을 형성한다. 그리고, 프레싱성형물을 진공소성로에서 890 ℃에서 400 분동안 소성함으로써, 전극판을 완성하였다.
상기한 실시예에 의하여 제조된 전극판의 표면에는 nm 단위의 다공이 형성되어 있고, 또한 미세한 산과 골이 형성된 구조로 되어있다. 즉, 전극판에는 nm 단위의 산과 골이 고밀도로 형성되어 있어 물과의 접촉 표면적이 커진다. 예를 들면, 물이 골 부분에서 산화되어 산소를 만들때 동시에 수소이온이 생기며, 수소이온은 산의 정상부분에 모여진 후 촉매가 수소이온을 환원하는 반응을 촉진하여 대량의 수소산소 혼합가스를 만들게 된다.
<비교예>
통상적으로 물을 전기분해하는 전극판으로서 스테인레스강으로 이루어진 전극판을 준비하여, 상호 비교한 데이터를 기재하였다.
항목 실시예 비교예(스테인레스강)
전극판(길이×폭×두께) 15cm×15cm×1cm 15cm×15cm×1cm
소모전력(W) 300W 23,000W
단위시간당 수소와 산소의 총발생량(L) 62,000L/Hour 6000L/Hour
상기한 표에서 비교된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 의하여 제조된 전극판은 비교예에서 사용된 전극판에 비하여 많은 투입 에너지에 비하여 월등히 많은 수소 및 산소를 발생하는 것을 알 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다.

Claims (11)

  1. 물을 전기분해하여 수소 및 산소를 발생하기 위한 수소산소 발생용 전극판에 있어서,
    이산화티타늄(TiO2)과, 코발트산화물(Co2O3)과, 크롬산화물(Cr2O3)과, 니켈산화물(NiO)과, 탄소나노튜브와, 니켈(Ni) 또는 크롬(Cr), 세라믹촉매를 포함하고;
    상기 이산화티타늄(TiO2), 코발트산화물(Co2O3), 크롬산화물(Cr2O3), 니켈산화물(NiO), 탄소나노튜브, 니켈(Ni) 또는 크롬(Cr), 및 세라믹촉매는 분말형태로 되어 프레싱되어 고체형태로 된후 및 진공소성로에서 소성되어 구현된 것;을 특징으로 하는 수소산소 발생용 전극판.
  2. 제1항에 있어서,
    탄소(C)와, 산화몰리브덴(MoO3)과, 탄탈산나트륨복합체(NaTaO3-La)와, 규소(Si)와, 망간(Mn)과, 산화알루미늄(Al2O3)으로 구성된 군들중에서 선택된 어느 하나 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수소산소 발생용 전극판.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 세라믹촉매는, 토르마린 또는 뵘석인 것을 특징으로 하는 수소산소 발생용 전극판.
  4. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 할 때,
    상기 코발트산화물는 10~400 중량부이고, 상기 크롬산화물은 10~400 중량부이며, 상기 니켈산화물은 10~400 중량부이고, 상기 탄소나노튜브는 2~40 중량부이며, 상기 탄소는 0.5~40 중량부이고, 상기 산화몰리브덴은 10~100 중량부이며, 상기 니켈은 10~100 중량부이고, 상기 탄탈산나트륨복합체는 10~100 중량부이며, 상기 규소는 2~40 중량부이고, 상기 망간은 5~50 중량부이며, 상기 산화알루미늄은 2.5~60 중량부이고, 상기 크롬은 5~50 중량부이고, 상기 세라믹촉매은 2~100 중량부인 것을 특징으로 하는 수소산소 발생용 전극판.
  5. 물을 전기분해하여 수소 및 산소를 발생하기 위한 수소산소 발생용 전극판의 제조방법에 있어서,
    분말형태의 이산화티타늄과, 코발트산화물과, 크롬산화물과, 니켈산화물과, 탄소나노튜브와, 니켈(Ni) 또는 크롬(Cr), 세라믹촉매를 고르게 믹싱하여 고분산도의 믹싱혼합물을 형성하는 단계(S1)와; 상기 믹싱혼합물을 금형에 투입한 후 가압하여 고체형태의 프레싱성형물을 형성하는 단계(S2)와; 상기 프레싱성형물을 진공소성로에서 소성하는 단계(S3);를 포함하고;
    상기 단계(S2)는, 상기 믹싱혼합물을 500~1500ton/㎠ 의 압력으로 프레싱하여 상기 프레싱성형물을 구현하는 단계이고;
    상기 단계(S3)는, 상기 프레싱성형물을 500~2000 ℃에서 20~400 분 범위에서 소성하되, 상기 소성은 산소의 유입이 차단된 진공소성로에서 진행되는 단계인 것;을 특징으로 하는 수소산소 발생용 전극판 제조방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 단계(S1)에서,
    탄소(C)와, 산화몰리브덴(MoO3)과, 탄탈산나트륨복합체(NaTaO3-La)와, 규소(Si)와, 망간(Mn)과, 산화알루미늄(Al2O3)으로 구성된 군들중에서 선택된 어느 하나 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수소산소 발생용 전극판 제조방법.
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 제5항에 있어서, 상기 세라믹촉매는,
    토르마린 또는 뵘석을 입경 10~60 마이크로 사이즈로 분쇄하여 1000~2000℃ 의 온도에서 1시간 이상 가열하여 소성하고, 소성된 소성물을 다시 분쇄하여 입경이 10~60 나노미터 사이즈의 분말이 되도록 함으로써 제조되는 것을 특징으로 하는 수소산소 발생용 전극판 제조방법.
  11. 제5항, 제6항 및 제10항중 어느 한 항에 있어서, 상기 이산화티타늄 100 중량부를 기준으로 할 때,
    상기 코발트산화물는 10~400 중량부이고, 상기 크롬산화물은 10~400 중량부이며, 상기 니켈산화물은 10~400 중량부이고, 상기 탄소나노튜브는 2~40 중량부이며, 상기 탄소는 0.5~40 중량부이고, 상기 산화몰리브덴은 10~100 중량부이며, 상기 니켈은 10~100 중량부이고, 상기 탄탈산나트륨복합체는 10~100 중량부이며, 상기 규소는 2~40 중량부이고, 상기 망간은 5~50 중량부이며, 상기 산화알루미늄은 2.5~60 중량부이고, 상기 크롬은 5~50 중량부이며, 상기 세라믹촉매은 2~100 중량부인 것을 특징으로 하는 수소산소 발생용 전극판 제조방법.
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