KR100827930B1 - 분말 처리장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 분말 처리장치에 관한 것으로, 원료가 투입되는 투입구와, 조립화(造粒化)된 물질이 배출되는 배출구가 형성된 하우징과; 상기 하우징 내부에 구비되어 베이스플레이트와, 상기 베이스플레이트의 상부에 돌출된 블레이드로 이루어져 원료를 조립화(造粒化)하는 로터;와 상기 로터에 회전력을 전달하는 동력전달수단; 및 상기 배출구를 통해 배출된 조립화(造粒化) 물질이 상기 투입구로 재투입되도록 하는 순환 파이프;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

분말, 분체, 흑연, 바인더, 로터

Description

분말 처리장치{Apparatus for Treating Powder}

본 발명은 분말 처리장치에 관한 것으로, 리튬 이차전지용 음극활물질의 원료로 탄소 및 비탄소재료 또는 비정질 탄소전구체등의 분말 처리는 물론 혼합, 조립(造粒), 코팅처리하는 분말 처리장치에 관한 것이다.

최근, 전자기기기의 소형화, 박형화 및 경량화가 급속도로 이루어지고 있으며, 특히 사무자동화 분야에 있어서는 데스크탑형 컴퓨터에서 랩탑형, 노트북형 컴퓨터로 소형 경량화되고 있다. 또한, 휴대용 전자수첩, 휴대용 전자스틸카메라, 휴대폰 등이 출현하면서, 이들 전자기기의 휴대 용이성을 위해 경박단소화 경향이 급속화되고 있으며, 이러한 경향에 맞추어 이들 전자기기에 전력을 공급하는 이차 전지에 대해서도 고성능화가 요구되고 있다. 즉 고성능 이차 전지는 종래의 납 전지나 니켈-카드뮴 전지를 대신할 고에너지 밀도 전지로서 리튬이차전지가 사용되고 있으며 급속한 성능개선이 진행되고 있다.

상기 리튬 이차전지는 다른 전지들에 비하여 무게가 가볍고 에너지 밀도와 작동전압이 높으며, 가공하기 쉽고, 전지제조가 용이하여 전자제품 또는 전자기기에 대한 응용이 쉽다는 장점 등으로 인하여 차세대 전지로서 각광받고 있다.

이에 따라 최근 개발된 리튬 이차전지는 탄소층 사이로 리튬 이온이 전기화학적으로 인터칼레이션(intercalation)/디인터칼레이션(deintercalation)되는 반응에 의해 충전/방전이 이루어지도록 하는 형태로서, 음극 활물질로서 탄소 재료를 사용 하는 것을 특징으로 하고 있다.

상기 음극 활물질로 이용되는 탄소 재료는 크게 결정질계 흑연과 비정질계 탄소 원료로 분류되며, 결정질계 흑연 재료로는 통상 인조 흑연과 천연 흑연, 그리고 키쉬(kish) 흑연 등을 사용하고 있다. 또한 비정질계 탄소 원료로는 석탄계 핏치 또는 석유계 핏치를 고온에서 소성하여 얻은 소프트 카본(soft carbon), 페놀 수지 등의 고분자 수지를 소성하여 얻은하드 카본(hard carbon) 등이 있다.

일반적으로 결정질계 흑연 재료와 비정질계 탄소 원료는 전압 평탄성과 충방전 효율 및 전해액과의 반응성면에서 각기 장단점을 가지고 있기 때문에, 고성능의 전지 제조를 위해 흑연재료 위에 비정질계탄소 등을 혼합하여 피복하는 등의 방법으로 초기효율 및 사이클 특성을 향상시키는 방향과 탄소재료로 구성된 음극활물질에 실리콘 및 실리콘화합물, 주석 및 주석화합물 등을 첨가하여 고용량화 하여 전지의 용량을 향상시키는 방향과, 경제적 측면에서는 전지의 제조 원가를 절감하는 방향으로 기술 개발이 주로 이루어지고 있다.

상기 리튬 이차전지의 전기화학적 특성은 또한 음극 활물질의 성질, 특히 탄소 재료의 미세 구조, 미세 구조의 배향 및 형상에 의해서도 많은 영향을 받는 것 으로 알려져 있다.

입자 형상면에서 탄소 재료를 살펴 보면, 구형 흑연의 경우는 재료의 이방도가 낮아 전압 및 전류 분포의 균일성 유지에 유리한 반면, 인편상의 흑연을 리튬 이차전지용 음극 재료로 사용하는 경우에 있어서는 재료 자체의 비등방성으로 인해, 용매나 바인더와 혼합 및 슬러리화하는 과정에서 유동성 저하로 공정성이 나빠지고, 소정 두께의 도포층 형성이 어려워 박리 현상 등의 문제점이 발생하며, 입형의 단점으로 인한 저 밀도 및 비표면적 증가로 전지 내부의 전압 및 전류 분포가 편재화될 우려가 있으며, 전해액 함침이 어려운 단점이 있으므로 전지에 적용되는 흑연은 주로 구형흑연을 선호하고 있는 상황이다.

흑연계 탄소 재료중에서 광산으로부터 직접 채굴된 천연 흑연이나, 제철소 제강 공정중에 발생하는 폐기물로부터 가공제조된 키쉬 흑연은 핏치, 코크스 등을 2,000℃ 이상의 고온에서 소성하여 얻어지는 인조 흑연에 비해 값이 저렴하여 경제적인 면에서 유리한 점이 있으나, 도 1에 참조되는 판상천연흑연과 같이 대부분의 입형이 인편상의 형태를 가지고 있고, 특성상 이방성이 강하여 조립화(造粒化)를 위해 분쇄하는 과정에서 도 2a와 2b에 참조되는 바와 같이 다시 인편상으로 파쇄되기 쉽기 때문에 별도의 특별한 가공 과정없이는 사용에 어려운 점이있다.

따라서, 인편상의 천연 흑연 또는 키쉬 흑연을 이차 전지의 음극 활물질 재료로 사용하기 위해 볼밀이나 제트밀을 사용하여 분쇄하거나, 유동성 개선을 위해 각종 계면활성제를 첨가하는 방법에 의해 입형으로 인한 단점을 개선하고자 지속적으로 연구해 왔으나, 천연 흑연을 미세하게 분쇄하는 방법은 흑연 자체가 미끄러지 기 쉽기 때문에 입경을 5㎛ 이하로 하는 것이 실제로는 용이하지 않고, 특히 마찰 방식에 의한 볼 밀링 방법은 장시간 처리시 흑연의 표면이 비정질화되는 단점이 있으며, 충격 방식에 의한 제트 밀링 또한 단시간에 입도 조절이 가능하여 분쇄 효과가 개선되기는 하나, 충진 밀도를 향상시키기 어려워 전지의 방전 용량과 초기 충방전효율이 크게 증가되지 않는 단점을 가지고 있으며 계면활성제를 첨가하는 방법 또한 유동성 개선에는 다소 효과를 얻을 수 있으나, 계면활성제의 선정과 적정 혼합량의 결정이 어렵다는 문제점이 있다.

따라서, 리튬 이차전지용 음극 활물질을 제조함에 있어, 통상적인 분쇄 기술에 의한 인편상 흑연의 종래 가공 방법은 음극 활물질 분말의 입도 제어에는 어느 정도 효과를 얻을 수 있으나, 높은 충진 밀도를 갖는 구형의 입형을 가진 흑연 재료에 비하여 만족할만한 결과를 얻을 수 없었다.

본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 인편상 흑연의 구형화 뿐만 아니라 미분쇄되어 표면에너지 상태가 높은 어떠한 입자도 구형화가 가능하며, 구형 조립화(造粒化)후 비정질탄소전구체를 혼합하여 처리함으로서 코팅처리도 가능하며, 처음부터 인편상 흑연과 비정질 탄소전구체를 혼합하여 함께 처리함으로써 바인딩에 의한 조립화(造粒化) 및 코팅처리가 동시에 일어나는 분말 처리장치를 제공하는 것이다.

상기의 목적을 달성하기 위해 본 발명의 분말 처리장치는 원료가 투입되는 투입구와, 조립화(造粒化)된 물질이 배출되는 배출구가 형성된 하우징과; 상기 하우징 내부에 구비되어 베이스플레이트와, 상기 베이스플레이트의 상부에 돌출된 블레이드로 이루어져 원료를 조립화(造粒化)하는 로터;와 상기 로터에 회전력을 전달하는 동력전달수단; 및 상기 배출구를 통해 배출된 조립화(造粒化) 물질이 상기 투입구로 재투입되도록 하는 순환 파이프;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

여기서, 상기 블레이드는 상기 베이스플레이트의 원주를 따라 방사상으로 다수개가 형성된 것을 특징으로 한다.

아울러, 상기 블레이드는 동심원의 원주를 따라 다수개가 형성된 것을 특징 으로 한다.

또한, 상기 블레이드는 원기둥 또는 다각기둥 형상으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 블레이드의 표면에는 엠보스(emboss)가 형성된 것을 특징으로 한다.

이에 덧붙여, 상기 순환 파이프에는 조립화(造粒化)된 물질이 상기 투입구로 재투입되도록 하는 송풍기가 더 구비되는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 배출구의 일측에는 조립화(造粒化)된 물질이 상기 투입구로 재투입되도록 하는 송풍기가 더 구비되는 것을 특징으로 한다.

아울러, 상기 하우징에는 내부로 액체 질소를 분사하는 분사노즐이 더 구비되는 것을 특징으로 한다.

이때, 상기 분사노즐은 다수개가 구비되는 것을 특징으로 한다.

한편, 상기 하우징에는 냉각수단이 더 구비되는 것을 특징으로 한다.

여기서, 상기 냉각수단은 요철구조물로 이루어져 상기 하우징의 외부에 부착되는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 냉각수단은 내부에 냉각수가 유통되는 냉각파이프로 이루어져 상기 하우징의 외부에 형성되는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 분말 처리장치를 이용한 분말 처리방법은 블레이드가 구비되어 회전하는 로터가 내장된 하우징에 일종 또는 이종 이상의 물질이 혼합된 원료를 투입 하는 원료 투입단계(S1); 상기 로터를 회전시켜 투입된 원료를 조립화(造粒化)하는 조립화단계(S2); 조립환된 물질을 상기 하우징에 재투입하는 재투입단계(S3); 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

여기서, 상기 조립화단계(S2)에는 하우징(10) 내부에 액체질소를 분사하는 액체 질소 분사단계(S4)가 더 포함되는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 분말 처리장치를 이용한 분말 처리방법은 블레이드가 구비되어 회전하는 로터가 내장된 하우징에 일종 또는 이종 이상의 물질이 혼합된 원료를 투입하는 원료 투입단계(S1); 상기 로터를 회전시켜 투입된 원료를 조립화(造粒化)하는 조립화단계(S2); 조립환된 물질을 상기 하우징에 재투입하는 재투입단계(S3); 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

이에 덧붙여, 상기 조립화단계(S2)에는 하우징 내부에 액체질소를 분사하는 액체 질소 분사단계(S4)가 더 포함되는 것을 특징으로 한다.

상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 인편상 흑연의 구형화 뿐만 아니라 미분쇄되어 표면에너지가 높은 어떠한 입자도 바인더와 함께 처리하여 구형화가 가능하며, 구형 조립화(造粒化)후 비정질탄소전구체를 혼합하여 처리함으로서 코팅처리도 가능하다는 특유의 작용효과가 있다.

상기 본 발명의 목적과 기술적 구성을 비롯한 그에 따른 작용 효과에 관한 자세한 사항은 본 발명의 바람직한 실시예를 도시하고 있는 첨부 도면을 참조하여 아래의 설명에 의해 명확하게 이해될 것이다.

이하, 상기한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명의 분말 처리장치에 대해서 첨부된 도면을 참고하여 상세하게 설명한다.

도 3은 본 발명의 분말 처리장치를 나타낸 구성도이고, 도 4는 본 발명에 따른 로터를 나타낸 사시도이며, 도 5는 본 발명에 따른 로터의 다른 형태를 나타낸 사시도이고, 도 6은 본 발명의 분말 처리장치의 다른 실시예를 나타낸 구성도이며, 도 7은 본 발명의 분말 처리방법을 나타낸 순서도이다.

도 3은 본 발명의 분말 처리장치를 나타낸 도면으로서, 도면에 참조되는 바와 같이 본 발명의 분말 처리장치는 크게 일종 또는 이종 이상의 물질이 혼합된 원료가 투입되는 투입구(11) 및 조립화(造粒化) 물질이 배출되는 배출구(12)가 각각 형성된 하우징(10)과, 상기 하우징(10) 내부에 액체 질소를 분사하는 분사노즐(60)과, 상기 하우징(10)의 내부에 회전가능하게 구비되는 로터(20), 및 상기 배출구(12)로부터 배출된 조립화 물질이 상기 투입구(11)로 재투입되어 조립화(造粒化) 물질이 순환되도록 하는 순환 파이프(40)와 송풍기(50)로 이루어진다.

상기 하우징(10)은 상기 로터(20)가 내부에서 충분히 회전할 수 있도록 소정 의 형상으로 이루어져, 자중에 의해 원료가 상기 하우징(10) 내부로 자연스럽게 유입되도록 상부에 투입구(11)가 형성되고, 상기 로터(20)에 의해 분쇄, 혼합 또는 코팅과정을 거친 조립화(造粒化) 물질이 자중에 의해 자연스럽게 외부로 배출되도록 하부에 배출구(12)가 형성된다.

상기 배출구(12)에는 조립화 물질의 배출 및 순환량을 조절하도록 조절도어(13)가 더 형성됨이 바람직하다.

상기 순환 파이프(40)는 상기 배출구(12)를 통해 배출된 조립화 물질의 재처리 내지 또 다른 처리를 위해 상기 조립화 물질을 상기 하우징(10) 내부로 재 투입되도록 하는 것으로, 상기 배출구(12)와 투입구(11)가 서로 연결되도록 배치된다.

이때, 상기 순환 파이프(40)를 통해 이동되는 조립화 물질의 원활한 이동을 위해 상기 순환 파이프(40)에는 송풍기(50)가 더 구비됨이 바람직하다.

이에 덧붙여 상기 하우징(10)에는 내부의 온도조절을 위해 액체 질소를 분사하는 분사노즐(60)이 형성된다. 상기 분사노즐(60)은 하나만 형성될 수도 있으나, 하나 이상 다수개가 형성됨이 바람직하다.

한편, 상기 하우징(10)에는 내부의 온도가 과도하게 상승하는 것을 방지하도록 냉각수단(30)이 형성된다.

상기 냉각수단(30)은 알루미늄과 같이 열전도율이 높은 금속재질의 요철구조물로 이루어져 상기 하우징(10)의 외부에 부착된다. 상기 하우징(10)의 외부에 요철구조물의 냉각수단(30)이 부착됨에 따라 상기 하우징(30)의 외벽 표면적이 증가하여 방열성능이 향상됨으로써 상기 하우징(10) 내부가 과열되는 것이 방지된다.

상기 냉각수단(30)은 전술한 바와 같이 요철구조물 이외에 내부에 냉각수가 유통되는 냉각파이프로 이루어질 수도 있다. 이때 상기 냉각파이프는 상기 하우징(10)의 외부에 형성될 수도 있으며, 상기 하우징(10)의 벽면 내부에 형성될 수도 있다.

도 4에 참조되는 바와 같이 상기 로터(20)는 상기 하우징(10)의 내부에 회전 가능하게 구비되는 것으로, 원판형의 베이스플레이트(21)와 상기 베이스플레이트(21)의 원주를 따라 형성된 블레이드(25)로 이루어져, 상기 베이스플레이트(21)의 하부에 배치된 동력전달수단(70)에 의해 회전하게 된다.

이때 상기 블레이드(25)는 도면에 참조되는 바와 같이 다각기둥형상으로 이루어져 방사상으로 다수개가 배치됨이 바람직하다.

상기 블레이드(25)의 형상은 위의 예로써 한정치 아니하며 원료의 분쇄, 구형화, 조립화가 가능하도록 하는 어떠한 형상으로 이루어져도 무방하다.

상기 하우징(10)의 투입구(11)를 통해 로터(20) 내부로 유입된 원료는 회전하는 상기 로터(20)의 블레이드(25)에 의해 분쇄, 구형화, 조립화 및 코팅되어 상기 블레이드(25) 사이의 공간을 통해 상기 배출구(12)측으로 이동되어 배출된다.

이때 상기 로터(20)의 하부로부터 배출구(12)까지의 하우징(10) 하부는 조립화된 물질의 배출이 용이하도록 상기 배출구(12)를 향해 경사지게 형성됨이 바람직하다.

도 5는 다른 형태의 로터를 나타낸 도면으로서, 도면에서 보는 바와 같이 상기 블레이드(25)는 동심원의 원주를 따라 하나 이상 다수개가 형성되며, 상기 블레이드(25)의 표면에는 원료의 분쇄, 혼합, 조립화 및 코팅효율이 향상되도록 엠보스(emboss, 26)가 형성될 수 있다.

이때 상기 블레이드(25)는 서로 동일한 크기로 형성될 수 있음은 물론 서로 다른 크기를 갖도록 형성될 수 있다.

이하 상술한 분말 처리장치의 작동 및 분말 처리방법에 대해 상세히 서술한다.

도 7은 본 발명의 분말 처리방법의 순서도로써 도면에 참조되는 바와 같이, 분말 처리방법은 원료가 투입되는 원료 투입단계(S1), 원료가 조립화 되는 조립화단계(S2), 조립화된 물질이 투입구(11)로 재투입되는 재투입단계(S3), 및 하우징(10) 내부에 액체질소를 분사하는 액체질소 분사 단계(S4)를 포함하여 이루어진다.

상기 원료 투입단계(S1)는 하우징(10) 내부에 원료를 투입하는 단계로서, 이종 이상의 물질이 혼합된 원료는 상기 하우징(10)의 상부에 형성된 투입구(11)를 통해 하우징(10)의 내부에 투입된다.(S1)

상기 투입구(11)를 통해 상기 하우징(10) 내부에 유입된 원료는 블레이드(22)가 구비된 로터(20)의 회전에 의해 분쇄, 혼합, 조립화 되어 상기 하우 징(10)의 하부에 형성된 배출구(12)를 통해 외부로 배출된다(S2).

이때, 상기 배출구(12)를 통해 배출되는 원료는 상기 송풍기(50)의 흡입력에 의해 상기 순환 파이프(40)를 거쳐 상기 투입구(11)로 재투입된다.(S3)

이는 원료의 재처리 또는 비정질탄소전구체등을 첨가하여 코팅과 같은 또 다른 처리를 위한 것으로 필요에 따라 선택적으로 이루어진다.

상기 송풍기(50)는 도 3에 참조되는 바와 같이 순환 파이프(40)에 형성될 수도 있고, 도 6a에 참조되는 바와 같이 상기 배출구(12)의 일측에 형성될 수도 있으며, 도 6b에 참조되는 바와 같이 상기 순환 파이프(40)와 상기 배출구(12)의 일측에 각각 형성될 수도 있다.

상기 원료가 조립화되는 과정에서(S2), 상기 블레이드(22)와 원료와의 마찰에 의해 온도가 상승됨에 따라 상기 하우징(10)의 내부에는 저온의 액체질소가 분사되어 온도를 조절하게 된다.(S4).

<실시예>

전술한 구성으로 이루어진 본 발명의 분말 처리장치를 이용한 판상천연흑연및 천연인상흑연의 분쇄, 구형화 및, 조립화실험을 하였다.

[참고도 1]

[참고도 2]

참고도 1에 참조되는 바와 같이 입형이 인편상의 형태인 판상천연흑연을 본 발명의 분말처리 장치에 투입하여 상기 로터(20) 원주의 회전속도를 200km/h로 하여 5분간 처리한 결과 참고도 2와 같이 판상천연흑연의 입형이 구형으로 조립화되었다.

또, 본 발명의 분말 처리장치에 참고도 3과 같이 인편상의 입형을 갖는 천연인상흑연을 투입하여 상기 로터(20) 원주의 회전속도를 380km/h로 하여 5분간 2회 처리한 결과 참고도 4와 같이 입형이 구형으로 조립화된 2차원료가 생성되었으며, 상기 2차원료에 석유계피치를 15wt.% 첨가하여 로터(20) 원주의 회전속도를 300km/h하여 5분간 처리한 결과 참고도 5와 같이 구형으로 조립화된 2차원료의 표면에 흑연의 편이 보이지 않고 매끄럽게 피치로 코팅되었다.

[참고도 3]

[참고도 4]

[참고도 5]

이에 덧붙여, SFG6 인조 인상흑연과 ball mill로 분쇄 된 Si 파우더를 7:3(wt.%)으로 혼합하여 혼합체를 만들고, 상기 혼합체에 석유계피치 30wt.% 를 THF에 용해시켜 ball milling방법으로 균일하게 혼합 및 건조하여 참고도 6에 참조되는 바와 같은 입상을 갖는 최종 혼합체를 제조하였다.

상기 최종혼합체를 본 발명의 분말 처리장치에 투입하여 로터(20) 원주의 회전속도를 380km/h하여 5분간 2회 처리한 결과 참고도 7과 같이 피치가 코팅된 구형의 분말이 생산되었다.

[참고도 6]

[참고도 7]

본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 만족하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.

도 1은 판상천연흑연의 주사전자현미경 사진.

도 2는 종래의 제트밀 분쇄처리된 판상천연흑연의 주사전자현미경 사진.

도 3은 본 발명의 분말 처리장치를 나타낸 구성도.

도 4는 본 발명에 따른 로터를 나타낸 사시도.

도 5는 본 발명에 따른 로터의 다른 형태를 나타낸 사시도.

도 6은 본 발명의 분말 처리장치의 다른 실시예를 나타낸 구성도.

도 7은 본 발명의 분말 처리방법을 나타낸 순서도이다.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*

10: 하우징 11: 투입구

12: 배출구 13: 조절도어

20: 로터 21: 베이스플레이트

25: 블레이드 26: 엠보스

30: 냉각수단 40: 순환 파이프

50: 송풍기 60: 분사노즐

70: 동력전달수단

Claims (14)

1. 원료가 투입되는 투입구(11)와, 조립화(造粒化)된 물질이 배출되는 배출구(12)가 형성된 하우징(10)과;

   상기 하우징(10) 내부에 구비되어 베이스플레이트(21)와, 상기 베이스플레이트(21)의 상부에 돌출된 블레이드(25)로 이루어져 원료를 조립화(造粒化)하는 로터(20);와

   상기 로터(20)에 회전력을 전달하는 동력전달수단(70); 및

   상기 배출구(12)를 통해 배출된 조립화(造粒化) 물질이 상기 투입구(11)로 재투입되도록 하는 순환 파이프(40);를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 분말 처리장치.
2. 제 1항에 있어서,

   상기 블레이드(25)는 상기 베이스플레이트(21)의 원주를 따라 방사상으로 다수개가 형성된 것을 특징으로 하는 분말처리장치.
3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,

   상기 블레이드(25)는 동심원의 원주를 따라 다수개가 형성된 것을 특징으로 하는 분말처리장치.
4. 제 3항에 있어서,

   상기 블레이드(25)는 원기둥 또는 다각기둥 형상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 분말 처리장치.
5. 제 4항에 있어서,

   상기 블레이드(25)의 표면에는 엠보스(emboss, 26)가 형성된 것을 특징으로 하는 분말 처리장치.
6. 제 1항에 있어서,

   상기 순환 파이프(40)에는 조립화(造粒化)된 물질이 상기 투입구(11)로 재투입되도록 하는 송풍기(50)가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 분말 처리장치.
7. 제 1항에 있어서,

   상기 배출구(12)의 일측에는 조립화(造粒化)된 물질이 상기 투입구(11)로 재 투입되도록 하는 송풍기(50)가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 분말 처리장치.
8. 제 1항에 있어서,

   상기 하우징(10)에는 내부로 액체 질소를 분사하는 분사노즐(60)이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 분말 처리장치.
9. 제 8항에 있어서,

   상기 분사노즐(60)은 다수개가 구비되는 것을 특징으로 하는 분말 처리장치.
10. 제 1항에 있어서,

    하우징(10)에는 냉각수단(30)이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 분말 처리장치.
11. 제 10항에 있어서,

    상기 냉각수단(30)은 요철구조물로 이루어져 상기 하우징(10)의 외부에 부착되는 것을 특징으로 하는 분말 처리장치.
12. 제 10항에 있어서,

    상기 냉각수단(30)은 내부에 냉각수가 유통되는 냉각파이프로 이루어져 상기 하우징(10)의 외부에 형성되는 것을 특징으로 하는 분말 처리장치.
13. 블레이드(22)가 구비되어 회전하는 로터(20)가 내장된 하우징(10)에 일종 또는 이종 이상의 물질이 혼합된 원료를 투입하는 원료 투입단계(S1);

    상기 로터(20)를 회전시켜 투입된 원료를 조립화(造粒化)하는 조립화단계(S2);

    조립환된 물질을 상기 하우징(10)에 재투입하는 재투입단계(S3); 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 분말 처리방법.
14. 제 13항에 있어서,

    상기 조립화단계(S2)에는 하우징(10) 내부에 액체질소를 분사하는 액체 질소 분사단계(S4)가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 분말 처리방법.

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