KR100811669B1 - Ｘｙ 스테이지 - Google Patents

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KR100811669B1
KR100811669B1 KR1020070037498A KR20070037498A KR100811669B1 KR 100811669 B1 KR100811669 B1 KR 100811669B1 KR 1020070037498 A KR1020070037498 A KR 1020070037498A KR 20070037498 A KR20070037498 A KR 20070037498A KR 100811669 B1 KR100811669 B1 KR 100811669B1
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마사히로 오누마
유즈루 호시
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요코가와 덴키 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 저비용으로 기능을 추가하여, 하축 진직도(straightness)의 정밀도를 향상시킨 XY 스테이지를 실현하는 것을 과제로 한다.
상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 X축 방향 또는 Y축 방향으로 배치되고, 그 축 방향으로 위치 제어되는 하축 슬라이더를 구비하는 하축 모터와, 상기 하축 슬라이더 상에 Y축 방향 또는 X축 방향으로 장착되고, 그 축 방향으로 위치 제어되는 상축 슬라이더를 구비하는 상축 모터와, 상위 장치로부터의 명령에 기초하여, 상기 하축 슬라이더 및 상기 상축 슬라이더를 위치 제어하는 하축 드라이버 및 상축 드라이버로 이루어지는 XY 스테이지에 있어서,
상기 하축 슬라이더의 축 방향 위치에 대응하여, 축 방향 진직선으로부터의 직교 방향의 편차량을 사전에 측정하여 보존하는 상축 위치 보정 수단을 구비하고,
상기 상축 드라이버는, 상기 하축 드라이버로부터 취득하는 상기 하축 슬라이더의 위치 정보에 기초하여, 상기 상축 위치 보정 수단으로부터 상기 편차량을 읽어내어 상기 상축 슬라이더의 위치를 보정하는 것을 특징으로 한다.
편차량, 슬라이더, 모터, 위치 보정, XY 스테이지, 진직선

Description

ＸＹ 스테이지{XY STAGE}
도 1은 본 발명을 적용한 XY 스테이지의 일실시예를 나타낸 기능 블록도이다.
도 2는 하축 진직 측정 수단에 의해 측정된 데이터에 기초하여 작성된 상축 위치 보정 테이블이다.
도 3은 본 발명을 적용한 XY 스테이지의 다른 실시예를 나타낸 기능 블록도이다.
도 4는 본 발명을 적용한 XY 스테이지의 또 다른 실시예를 나타낸 기능 블록도이다.
도 5는 종래의 XY 스테이지의 구성예를 나타낸 기능 블록도이다.
[부호의 설명]
1: 액정 패널 10: 하축 리니어 모터
11: 하축 슬라이더 12: 하축스케일
13: 하축 위치 센서 20: 상축 리니어 모터
21, 22, 23: 상축 제1 슬라이더, 상축 제2 슬라이더, 상축 제3 슬라이더
24: 상축 스케일 30: 하축 드라이버
41, 42, 43: 상축 제1 드라이버, 상축 제2 드라이버, 상축 제3 드라이버
50: 상위 장치 101, 102, 103: 상축 위치 보정 수단
200: 하축 진치 측정 수단 W1, W2, W3: 공작물
N1, N2, N3: 노즐 L1, L2, L3: 실제 묘화선
[특허 문헌 1] 일본국 특개 2006-034078호 공보
본 발명은, 슬라이더를 X축 및 Y축 방향으로 위치 제어하는 XY 스테이지에 관한 것이다.
XY 스테이지는, X축 방향 또는 Y축 방향으로 배치되고, 그 축 방향으로 위치 제어되는 하축 슬라이더를 구비하는 하축 모터와, 하축 슬라이더 상에 Y축 방향 또는 X축 방향으로 장착되고, 그 축 방향으로 위치 제어되는 상축 슬라이더를 구비하는 상축 모터와, 상위 장치로부터의 명령에 기초하여 하축 슬라이더 및 상축 슬라이더를 위치 제어하는 하축 드라이버 및 상축 드라이버로 이루어진다.
평행하게 배치된 한 쌍의 리니어 모터에 의해 하축 리니어 모터가 형성되고, 이들 하축 리니어 모터의 각각의 축 방향으로 위치 제어되는 슬라이더 사이를 브리지 결합하여 상축 리니어 모터가 형성되는 브리지 형 XY 스테이지의 구성 및 슬라이더의 위치 제어에 관해서는, 특허 문헌 1에 개시되어 있다.
도 5는, 하축 리니어 모터 및 이것과 직교하는 상축 리니어 모터로 이루어지 는 종래의 XY 스테이지의 구성예를 나타낸 기능 블록도이며, 스테이지에 수평하게 설치된 액정 패널(1) 상에, X축 방향으로 직선을 묘화하는 실시예를 나타내고 있다.
액정 패널(1)의 한 변에 근접하여 X축 방향으로 하축 리니어 모터(10)가 배치되고, 그 축 방향으로 위치 제어되는 하축 슬라이더(11)가 탑재되어 있다. 또한, 그 축 방향으로 하축 스케일(12)을 구비하고 있다.
하축 슬라이더(11)에 결합되어 있는 하축 위치 센서(13)는, 하축 스케일(12)의 눈금을 읽어내고, 하축 슬라이더(11)의 이동 거리를 검출하여, 기준점으로부터의 이동 거리에 의해 하축 슬라이더(11)의 X 좌표 신호 Px를 출력한다.
하축 슬라이더(11) 상에는, 하축 리니어 모터(10)와 직교하는 Y축 방향으로 상축 리니어 모터(20)가 액정 패널(1)을 넘어서 고정되고, 그 축 방향으로 위치 제어되는 상축 제1 슬라이더(21), 상축 제2 슬라이더(22) 및 상축 제3 슬라이더(23)가 탑재되어 있다. 또한 그 축 방향으로 상축 스케일(24)을 구비하고 있다.
상축 제1 슬라이더(21), 상축 제2 슬라이더(22) 및 상축 제3 슬라이더(23)의 각각에 결합되어 있는 위치 센서(도시하지 않음)는, 상축 스케일(24)의 눈금을 읽어내고, 각 상축 슬라이더의 이동 거리를 검출하여, 기준점으로부터의 이동 거리에 의해 상축 제1 슬라이더(21), 상축 제2 슬라이더(22) 및 상축 제3 슬라이더(23)의 Y좌표 신호 Py1, Py2, Py3를 출력한다.
하축 드라이버(30)는, 상위 장치(50)로부터의 X축 좌표 명령 Sx 및 X 좌표 신호 Px를 입력하고, 이들의 편차를 제어 연산한 조작 전류 신호 Mx를 하축 슬라이 더(11)의 모터 코일에 공급하는 피드백 제어에 의해, 하축 슬라이더(11)를 X축 좌표 명령 Sx 위치로 이동하도록 제어한다.
상축 제1 드라이버(41)는, 상위 장치(50)로부터의 Y축 좌표 명령 Sy1 및 Y 좌표 신호 Py1을 입력하고, 이들의 편차를 제어 연산한 조작 전류 신호 My1을 상축 제1 슬라이더(21)의 모터 코일에 공급하는 피드백 제어에 의해, 상축 제1 슬라이더(21)를 Y축 좌표 명령 Sy1 위치로 이동하도록 제어한다.
마찬가지로, 상축 제2 드라이버(42)는, 상위 장치(50)로부터의 Y축 좌표 명령 Sy1 및 Y 좌표 신호 Py2를 입력하고, 이들의 편차를 제어 연산한 조작 전류 신호 My2를 상축 제2 슬라이더(22)의 모터 코일에 공급하는 피드백 제어에 의해, 상축 제2 슬라이더(22)를 Y축 좌표 명령 Sy2 위치로 이동하도록 제어한다.
마찬가지로, 상축 제3 드라이버(43)는, 상위 장치(50)로부터의 Y축 좌표 명령 Sy3 및 Y 좌표 신호 Py3를 입력하고, 이들의 편차를 제어 연산한 조작 전류 신호 My3를 상축 제3 슬라이더(23)의 모터 코일에 공급하는 피드백 제어에 의해, 상축 제3 슬라이더(23)를 Y축 좌표 명령 Sy3 위치로 이동하도록 제어한다.
상축 제1 슬라이더(21), 상축 제2 슬라이더(22) 및 상축 제3 슬라이더(23)에는, 공작물로서 잉크젯 장치 W1, W2, W3가 각각 탑재되고, 각 장치의 노즐 N1, N2 및 N3로부터의 잉크젯으로 액정 패널(1) 상에 묘화한다.
상축 제1 슬라이더(21), 상축 제2 슬라이더(22) 및 상축 제3 슬라이더(23)의 Y축 좌표가 도시한 위치로 고정되도록 제어한 상태에서, 하축 리니어 모터(10)에 의해 하축 슬라이더(11)를 X축 방향으로 이동하도록 제어하면, 노즐 N1, N2 및 N3 로부터의 잉크젯으로 액정 패널(1) 상에는, 직선 L1, L2, L3가 묘화된다.
묘화되는 직선의 진직 정밀도(실제 직선으로부터의 편차량), 또는 XY 좌표의 평면 정밀도가 ±1㎛ 이하의 극히 높은 정밀도가 요구되는 경우에는, 종래 구성의 XY 스테이지의 구성으로는, 다음의 이유에 의해 요구 정밀도를 만족시킬만큼 묘화하기 곤란하다.
(1) 하축 슬라이더(11)는, 하축 리니어 모터에 형성된 가이드에 의해 축 방향으로 슬라이드 가능하게 지지되어 있지만, 그 기계적 조립 정밀도에는 한계가 있다. 도 1의 (A)에 나타내는 하축의 X 방향 실측값 Px의 임의의 값 Pxi에 대해, 도 1의 (B)에 나타낸 상축 방향 진직 편차 ΔYi는, ±10㎛정도까지가 한계이다.
따라서, 하축 슬라이더(11)는, 진직선 L0를 이동하지 않고, 과장하여 나타낸 실제 곡선 L′를 따라서 Y축 방향으로 사행하면서 X축 방향으로 이동하도록 제어된다. 상기 사행은 하축 슬라이더(11)에 결합되어 있는 상축 리니어 모터(20)에 탑재된 슬라이더(21, 22, 23)에 Y축 방향의 좌표의 변동으로서 그대로 반영된다.
따라서, 묘화되는 직선은, 진직선 L0가 아니고, 사행된 ±10㎛정도의 편차를 포함한 실제 묘화선 L1, L2 및 L3가 되므로, 진직 정밀도가 ±1㎛ 이하의 극히 높은 정밀도의 직선을 묘화하기는 곤란하다.
상축 리니어 모터(20)와 탑재된 슬라이더(21, 22, 23) 사이에도 마찬가지의 축 방향 진직 편차가 생기며, 이것이 슬라이더(21, 22, 23)의 X 방향 좌표 오차가 되므로, 슬라이더(21, 22, 23)의 XY 좌표의 평면 정밀도도 ±10㎛정도가 한계이다.
(2) 이와 같은 기계적 조립에 기인하는 정밀도의 한계를, 온라인 위치 제어 상태에서 해결하기 위하여, 고가의 NC 컨트롤러를 하축 리니어 모터 및 상축 리니어 모터로 제어하여 진직선으로부터의 편차를 보정하는 방법을 고려할 수 있지만, 보정의 제어 주기가 빨라지도록 설정하기 곤란하여, 충분한 효과를 얻을 수 없다.
본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 이루어진 것이며, 저비용으로 기능을 추가하여, 하축 진직도의 정밀도를 향상시킨 XY 스테이지의 실현을 과제로 하고 있다.
이와 같은 과제를 달성하기 위해, 본 발명은 다음과 같이 구성되어 있다.
(1) X축 방향 또는 Y축 방향으로 배치되고, 그 축 방향으로 위치 제어되는 하축 슬라이더를 구비하는 하축 모터와, 상기 하축 슬라이더 상에 Y축 방향 또는 X축방향으로 장착되고, 해당 축 방향으로 위치 제어되는 상축 슬라이더를 구비하는 상축 모터와, 상위 장치로부터의 명령에 기초하여 상기 하축 슬라이더 및 상기 상축 슬라이더를 위치 제어하는 하축 드라이버 및 상축 드라이버로 이루어지는 XY 스테이지에 있어서,
상기 하축 슬라이더의 축 방향 위치에 대응하여, 축 방향 진직선으로부터의 직교 방향의 편차량을 사전에 측정하여 보존하는 상축 위치 보정 수단을 구비하고,
상기 상축 드라이버는, 상기 하축 드라이버로부터 취득하는 상기 하축 슬라이더의 위치 정보에 기초하여, 상기 상축 위치 보정 수단에 의하여 상기 편차량을 읽어내어 상기 상축 슬라이더의 위치를 보정하는 것을 특징으로 하는 XY 스테이지.
(2) 상기 상축 슬라이더의 축 방향 위치에 대응하여, 축 방향 진직선으로부터의 직교 방향의 편차량을 사전에 측정하여 보존하는 상축 절대 위치 보정 수단을 구비하고,
상기 상축 드라이버는, 상기 상축 위치 보정 수단 및 상기 상축 절대 위치 보정 수단으로부터 읽어낸 상축 방향의 편차량 및 하축 방향의 편차량에 의해, 상기 상축 슬라이더의 절대 위치를 보정하는 것을 특징으로 하는 상기 (1)에 기재된 XY 스테이지.
(3) 상기 상축 드라이버는 상기 하축 드라이버로부터 하축 슬라이더의 좌표 정보를 취득하고, 상기 하축 드라이버는 상기 상축 드라이버로부터 상축 슬라이더의 좌표 정보를 취득하고,
상기 상축 드라이버 및 상기 하축 드라이버는, 취득한 상대편 축의 좌표 정보에 기초하여 상기 상축 위치 보정 수단 및 상기 상축 절대 위치 보정 수단으로부터 읽어낸 상축 방향의 편차량 및 하축 방향의 편차량에 의해, 상기 상축 슬라이더 및 상기 하축 슬라이더의 위치를 보정하는 것을 특징으로 하는 상기 (2)에 기재된 XY 스테이지.
(4) 상기 하축 슬라이더 또는 상기 상축 슬라이더의 축 방향 위치에 대응한 축 방향 진직선으로부터의 직교 방향의 편차량은, 레이저 간섭계에 의해 스테이지 고유의 편차량이 측정되어 상기 상축 위치 보정 수단 또는 상기 상축 절대 위치 보정 수단에 보존되는 것을 특징으로 하는 상기 (2)에 기재된 XY 스테이지.
(5) 상기 하축 슬라이더 또는 상기 상축 슬라이더의 축 방향 위치에 대응한 축 방향 진직선으로부터의 직교 방향의 편차량은, 레이저 간섭계에 의해 스테이지 고유의 편차량이 측정되어 상기 상축 위치 보정 수단 또는 상기 상축 절대 위치 보정 수단에 보존되는 것을 특징으로 하는 상기 (3)에 기재된 XY 스테이지.
(6) 상기 하축 모터는, 각각의 축 방향으로 위치 제어되는 슬라이더를 구비하고 평행하게 배치된 한 쌍의 리니어 모터로 구성되며,
상기 상축 모터는, 상기 한 쌍의 리니어 모터의 슬라이더 사이를 브리지 결합하여 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 상기 (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 XY 스테이지.
(7) 상기 상축 위치 보정 수단 또는 상기 상축 절대 위치 보정 수단은, 상기 상축 드라이버 또는 상기 하축 드라이버 내에 실장되어 있는 것을 특징으로 하는 상기 (2) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 XY 스테이지.
(8) 상기 상축 위치 보정 수단 또는 상기 상축 절대 위치 보정 수단은, 상기 상위 장치 내에 실장되어 있는 것을 특징으로 하는 상기 (2) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 XY 스테이지.
[실시예]
이하, 본 발명을 도면에서 상세하게 설명한다. 도 1은 본 발명을 적용한 XY 스테이지의 일실시예를 나타낸 기능 블록도이다. 도 5에서 설명한 종래 스테이지와 동일한 요소에는 동일한 부호를 부여하고, 그에 대한 설명은 생략한다.
본 발명의 구성상의 특징부는, 상축 제1 드라이버(41), 상축 제2 드라이버(42) 및 상축 제3 드라이버(43) 내에 실장된 굵은 선의 블록으로 나타낸 상축 위 치 보정 수단(101, 102, 103) 및 하축 진직 측정 수단(200)이다.
하축 리니어 모터(10)의 축 방향 위치에 대응한 축 방향 진직선으로부터의 직교 방향의 편차량은, 하축 진직 측정 수단(200)에 의해, 스테이지 고유의 편차량이 오프라인 환경에서 고정밀도로 측정된다. 상축 위치 보정 수단(101, 102, 103)은, 그 측정 데이터를 취득하여 보정 테이블 등의 형태로 보존한다.
상축 제1 드라이버(41), 상축 제2 드라이버(42) 및 상축 제3 드라이버(43)는, 드라이버 간의 통신 기능에 의해, 하축 드라이버(30)로부터 현재 하축 슬라이더의 X축의 좌표 정보 Px를 취득하고, 상축 위치 보정 수단(101, 102, 103)의 보정 테이블을 참조하여 좌표 Px에 있어서의 Y축 방향의 편차량을 읽어내어, 슬라이더(21, 22, 23)의 Y축 방향의 위치를 보정한다.
하축 진직 측정 수단(200)으로서는, 고정밀도(±1㎛ 이하)의 거리 측정이 가능한, 시판되고 있는 레이저 측장(測長) 시스템(예를 들면, 애질런트(Agilent) 5529A를 이용할 수 있다.
도 2는, 하축 진직 측정 수단(200)에 의해 측정된 데이터에 기초하여 작성된 상축 위치 보정 테이블이며, 하축 실측값 X1 내지 Xn에 대한 상축 방향 진치(眞値) 편차 ΔY1 내지 ΔYn이 보존되어 있다. 일반적으로, 편차량 ΔYi의 변 완만하므로, 하축 실측값 Xi의 측정 포인트수는 실용적인 빈도로 설정하고, 플롯 사이의 편차량은 보간법에 의해 추정 계산함으로써 필요한 정밀도를 확보할 수 있다.
도 3은 본 발명을 적용한 XY 스테이지의 다른 실시예를 나타낸 기능 블록도이다. 본 실시예의 특징은, 상축 리니어 모터(20)의 축 방향 위치에 대응하여, 축 방향 진직선으로부터의 편차량을 사전에 측정하여 보존하는 상축 절대 위치 보정 수단(301, 302, 303)을, 각 상축 드라이버(41, 42, 43)에 추가하여 구비하도록 구성된 점이다.
상축 리니어 모터(20) 축 방향 위치에 대응한 축 방향 진직선으로부터의 직교 방향의 편차량은, 상축 진직 측정 수단(400)에 의해, 스테이지 고유의 편차량이 오프라인 환경에서 고정밀도로 측정된다. 상축 절대 위치 보정 수단(301, 302, 303)은, 그 측정 데이터를 취득하여 보정 테이블 등의 형태로 보존한다.
각 상축 드라이버(41, 42, 43)는, 도 1에서 나타낸 상축 위치 보정 수단(101, 102, 103) 및 추가된 상축 절대 위치 보정 수단(301, 302, 303)으로부터 읽어낸 보정량 데이터에 기초하여, 상축 방향의 편차량의 보정(화살표 방향의 보정 1) 및 하축 방향의 편차량의 보정(화살표 방향의 보정 2)을 실행함으로써, 상축 슬라이더(21, 22, 23)의 절대 위치를 고정밀도로 보정할 수 있다.
도 4는 본 발명을 적용한 XY 스테이지의 또 다른 실시예를 나타낸 기능 블록도이다. 본 실시예는, 상축 슬라이더 및 하축 슬라이더가 각각 1개인 쌍으로 구성되는 경우에 실시될 수 있다.
본 실시예의 특징은, 상축 드라이버(40)는 하축 드라이버(30)로부터 하축 슬라이더의 좌표 정보 Xi를 취득하고, 하축 드라이버(30)가 상축 드라이버(40)로부터 상축 슬라이더의 좌표 정보 Yi를 취득하도록 구성되는 점이다.
상축 드라이버(40) 및 하축 드라이버(30)는, 취득한 상대편 축의 좌표 정보에 기초하여 상축 위치 보정 수단(100) 및 상축 절대 위치 보정 수단(300)으로부터 읽어낸 상축 방향의 편차량 및 하축 방향의 편차량에 의해, 상축 슬라이더 및 하축 슬라이더의 절대 위치를 고정밀도로 보정하고, 평면 위치 제어의 정밀도를 향상시킬 수 있다.
이상 설명한 실시예에서는, 하축 리니어 모터가 1개의 경우를 예시하였지만, 하축 리니어 모터를, 각각의 축 방향으로 위치 제어되는 슬라이더를 구비하고 평행하게 배치된 한 쌍의 리니어 모터로 구성하고, 각 리니어 모터의 슬라이더 사이를 브리지 결합하는 브리지 스테이지의 형태로 실시될 수도 있다.
또한, 상축 위치 보정 수단 또는 상축 절대 위치 보정 수단은, 상축 드라이버 또는 하축 드라이버 내에 실장되는 실시예에 대하여 설명하였으나, 이들 보정 수단을 상위 장치(50) 내에 실장하도록 실시될 수도 있다.
또한, 실시예에서는 리니어 모터를 사용한 경우에 대하여 설명하였으나, 이에 한정되지 않고 회전형 모터와 회전 운동을 직선 운동으로 변환하는 수단을 사용하도록 구성되어도 된다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면 다음과 같은 효과가 있다.
(1) 하축 슬라이더의 축 방향 위치에 대응하여, 축 방향 진직선으로부터의 편차량을 사전에 측정하여 보존하는 상축 위치 보정 수단을 구비함으로써, 상축 드라이버는, 하축 드라이버로부터 취득하는 하축 슬라이더의 위치 정보에 기초하여, 상축 위치 보정 수단에 의하여 편차량을 읽어내어 상축 슬라이더의 위치를 고정밀도로 보정할 수 있다.
(2) 상축 슬라이더의 축 방향 위치에 대응하여, 축 방향 진직선으로부터의 편차량을 사전에 측정하여 보존하는 상축 절대 위치 보정 수단을 더 구비함으로써, 상축 드라이버는, 상축 위치 보정 수단 및 상축 절대 위치 보정 수단에 의하여 읽어낸 상축 방향의 편차량 및 하축 방향의 편차량에 의해, 상축 슬라이더의 절대 위치를 고정밀도로 보정할 수 있다.
(3) 상축 드라이버는 하축 드라이버로부터 하축 슬라이더의 좌표 정보를 취득하고, 하축 드라이버는 상축 드라이버로부터 상축 슬라이더의 좌표 정보를 취득함과 동시에, 상축 드라이버 및 하축 드라이버는, 취득한 상대편 축의 좌표 정보에 기초하여 상축 위치 보정 수단 및 상축 절대 위치 보정 수단으로부터 읽어낸 상축 방향의 편차량 및 하축 방향의 편차량에 의해, 상축 슬라이더 및 하축 슬라이더의 절대 위치를 고정밀도로 보정할 수 있다.
(4) 하축 리니어 모터 또는 상축 슬라이더의 축 방향 위치에 대응한 축 방향 진직선으로부터의 직교 방향의 편차량은, 시판중인 레이저 측장 시스템에 의해, 스테이지 고유의 편차량을 고정밀도로 오프라인으로 측정할 수 있고, 그 측정 데이터를 상축 위치 보정 수단 또는 상축 절대 위치 보정 수단에 보정 테이블의 형태로 용이하게 보존시킬 수 있다.

Claims (8)

  1. X축 방향 또는 Y축 방향으로 배치되고, 해당 축 방향으로 위치 제어되는 하축 슬라이더를 구비하는 하축 모터와, 상기 하축 슬라이더 상에 Y축 방향 또는 X축 방향으로 장착되고, 해당 축 방향으로 위치 제어되는 상축 슬라이더를 구비하는 상축 모터와, 상위 장치로부터의 명령에 기초하여, 상기 하축 슬라이더 및 상기 상축 슬라이더를 위치 제어하는 하축 드라이버 및 상축 드라이버로 이루어지는 XY 스테이지에 있어서,
    상기 하축 슬라이더의 축 방향 위치에 대응하여, 축 방향 진직선으로부터의 직교 방향의 편차량을 사전에 측정하여 보존하는 상축 위치 보정 수단을 구비하고,
    상기 상축 드라이버는, 상기 하축 드라이버로부터 취득하는 상기 하축 슬라이더의 위치 정보에 기초하여, 상기 상축 위치 보정 수단으로부터 상기 편차량을 읽어내어 상기 상축 슬라이더의 위치를 보정하는 것을 특징으로 하는 XY 스테이지.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 상축 슬라이더의 축 방향 위치에 대응하여, 축 방향 진직선으로부터의 직교 방향의 편차량을 사전에 측정하여 보존하는 상축 절대 위치 보정 수단을 구비하고,
    상기 상축 드라이버는, 상기 상축 위치 보정 수단 및 상기 상축 절대 위치 보정 수단으로부터 읽어낸 상축 방향의 편차량 및 하축 방향의 편차량에 의해, 상 기 상축 슬라이더의 절대 위치를 보정하는 것을 특징으로 하는 XY 스테이지.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 상축 드라이버는 상기 하축 드라이버로부터 하축 슬라이더의 좌표 정보를 취득하고, 상기 하축 드라이버는 상기 상축 드라이버로부터 상축 슬라이더의 좌표 정보를 취득하고,
    상기 상축 드라이버 및 상기 하축 드라이버는, 취득한 상대편 축의 좌표 정보에 기초하여, 상기 상축 위치 보정 수단 및 상기 상축 절대 위치 보정 수단으로부터 읽어낸 상축 방향의 편차량 및 하축 방향의 편차량에 의해, 상기 상축 슬라이더 및 상기 하축 슬라이더의 위치를 보정하는 것을 특징으로 하는 XY 스테이지.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 하축 슬라이더 또는 상기 상축 슬라이더의 축 방향 위치에 대응한 축 방향 진직선으로부터의 직교 방향의 편차량은, 레이저 간섭계에 의해 스테이지 고유의 편차량이 측정되어 상기 상축 위치 보정 수단 또는 상기 상축 절대 위치 보정 수단에 보존되는 것을 특징으로 하는 XY 스테이지.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 하축 슬라이더 또는 상기 상축 슬라이더의 축 방향 위치에 대응한 축 방향 진직선으로부터의 직교 방향의 편차량은, 레이저 간섭계에 의해 스테이지 고 유의 편차량이 측정되어 상기 상축 위치 보정 수단 또는 상기 상축 절대 위치 보정 수단에 보존되는 것을 특징으로 하는 XY 스테이지.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 하축 모터는, 각각의 축방향으로 위치 제어되는 슬라이더를 구비하고, 평행하게 배치된 1대의 리니어 모터로 구성되며,
    상기 상축 모터는, 상기 한 쌍의 리니어 모터의 슬라이더 사이를 브리지 결합하여 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 XY 스테이지.
  7. 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 상축 위치 보정 수단 또는 상기 상축 절대 위치 보정 수단은, 상기 상축 드라이버 또는 상기 하축 드라이버 내에 실장되어 있는 것을 특징으로 하는 XY 스테이지.
  8. 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 상축 위치 보정 수단 또는 상기 상축 절대 위치 보정 수단은, 상기 상위 장치 내에 실장되어 있는 것을 특징으로 하는 XY 스테이지.
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2868778T3 (es) * 2016-04-22 2021-10-21 Siemens Ag Accionamiento lineal y procedimiento para el funcionamiento de un accionamiento lineal
KR102497342B1 (ko) * 2021-03-17 2023-02-07 하이윈 마이크로시스템 코포레이션 동적 변위 오차 보상 시스템

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003162308A (ja) 2001-11-28 2003-06-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd 作業装置の位置決め方法および装置
JP2004087798A (ja) 2002-08-27 2004-03-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
KR20050041932A (ko) * 2003-10-31 2005-05-04 가부시끼가이샤 히다찌 하이테크 인스트루먼츠 전자 부품 장착 장치
KR20060080561A (ko) * 2006-05-11 2006-07-10 (주)와이티에스 아이디위치 검사기능을 갖는 레이저마킹 시스템 및 그검사방법

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60140408A (ja) * 1983-12-28 1985-07-25 Hitachi Ltd 外観検査装置
JPH04322302A (ja) * 1991-04-23 1992-11-12 Amada Co Ltd 平面移動体の位置決め制御方法
JP3480192B2 (ja) * 1996-10-01 2003-12-15 ウシオ電機株式会社 Ｘｙステージの位置決め装置
JPH10283033A (ja) * 1997-04-07 1998-10-23 Amada Co Ltd 軸送りにおける位置決め補正方法およびその装置
JP2000112527A (ja) * 1998-09-30 2000-04-21 Denso Corp 移動位置決め装置及びその移動位置決め方法
JP4327672B2 (ja) * 2004-07-14 2009-09-09 住友重機械工業株式会社 移動体位置制御装置及びこの制御装置を用いたステージ装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003162308A (ja) 2001-11-28 2003-06-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd 作業装置の位置決め方法および装置
JP2004087798A (ja) 2002-08-27 2004-03-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
KR20050041932A (ko) * 2003-10-31 2005-05-04 가부시끼가이샤 히다찌 하이테크 인스트루먼츠 전자 부품 장착 장치
KR20060080561A (ko) * 2006-05-11 2006-07-10 (주)와이티에스 아이디위치 검사기능을 갖는 레이저마킹 시스템 및 그검사방법

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