JP4699118B2 - 制御装置及び制御方法 - Google Patents

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本発明は、制御装置及び制御方法に係り、特に移動体の各軸方向の計測値をZ軸回りの回動角θに応じて補正する制御装置及び制御方法に関する。
XYステージを各軸方向に移動させるステージ装置では、レーザ干渉計を用いてXYステージの位置を計測しているが、XYステージに搭載されたレーザ干渉計の光を反射させるミラーやXYステージ上に載置されるワーク(被加工物や被検査物)の位置などのステージ動作位置によってXYステージの重心を計測できないことがある。
このようなXYステージの動作位置により、XYステージがZ軸回りのθ方向に回動している場合には、レーザ干渉計により計測されたX軸計測値、Y軸計測値は、重心位置に対して誤差が生じてしまう。
従って、XYステージの計測値による制御誤差を解消するため、各軸ごとの制御を行なうコントローラでは、重心のθ方向、Y方向、X方向の位置偏差の速度変換値と重心の夫々の方向の速度偏差に基づいて重心の運動に必要な自由度毎の制御量を求め、制御量から変換されたモータ指令値を各軸毎のモータに供給する制御方法がある(例えば、特許文献1参照)。
特開平9−27433号公報
しかしながら、上記特許文献1に記載された制御方法では、コントローラが非干渉化の機能を有していないと実装できないという問題がある。また、レーザ干渉計により計測された計測値に非干渉化を実施すると、ステージがθ方向に回動している場合には、回動の中心がずれて位置決めされるという問題が生じる。
そこで、本発明は上記課題を解決した制御装置及び制御方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明は以下のような手段を有する。
請求項1記載の発明は、移動体の各軸方向の位置を計測する計測手段からの計測値に基づいて前記各軸毎の制御値を演算する制御値演算手段と、Z軸回りの回動角θをフィードバックし、少なくともX方向またはY方向の一方の計測値から前記計測手段による計測箇所と前記移動体の重心との距離を求めてこれを乗算して前記計測値に含まれる干渉による外乱成分を演算する外乱成分演算手段と、該外乱成分演算手段により演算される外乱成分を前記制御値演算手段により演算されたX方向またはY方向の制御値に加算または減算してX方向またはY方向の制御値から外乱成分を除去するように前記制御値を補正する補正手段と、を有することを特徴とする。
請求項2記載の発明は、前記移動体が、XYステージであることを特徴とする。
請求項3記載の発明は、前記計測手段が、レーザ干渉計であることを特徴とする。
請求項4記載の発明は、前記補正手段が、ハイパスフィルタを有することを特徴とする。
請求項5記載の発明は、前記補正手段が、PID制御方式に基づいて各軸毎の制御値を演算しており、前記制御値の比例要素及び微分要素を補正することを特徴とする。
請求項6記載の発明は、前記補正手段が、PID制御方式に基づいて各軸毎の制御値を演算しており、前記制御値の微分要素のみを補正することを特徴とする。
請求項7記載の発明は、前記外乱成分演算手段が、前記XYステージのX補正軸の制御パラメータをX基本軸と同じ制御パラメータに設定し、Z軸回りの回動角θをフィードバックし、Y計測値から前記計測手段による計測箇所と前記移動体のY方向の重心との距離を求めてこれを乗算して前記計測値に含まれる干渉による外乱成分を演算するX外乱成分演算手段と、
前記XYステージのY補正軸の制御パラメータをY基本軸と同じ制御パラメータに設定し、Z軸回りの回動角θをフィードバックし、X計測値から前記計測手段による計測箇所と前記移動体のX方向の重心との距離を求めてこれを乗算して前記計測値に含まれる干渉による外乱成分を演算するY外乱成分演算手段と、を有することを特徴とする。
請求項8記載の発明は、移動体の各軸方向の計測値に基づいて前記各軸毎の制御値を演算する過程と、Z軸回りの回動角θをフィードバックし、少なくともX方向またはY方向の一方の計測値から前記計測手段による計測箇所と前記移動体の重心との距離を求めてこれを乗算して前記計測値に含まれる干渉による外乱成分を演算する過程と、前記外乱成分をX方向またはY方向の前記制御値に加算または減算してX方向またはY方向の制御値から外乱成分を除去するように前記制御値を補正する過程と、を有することを特徴とする。
本発明によれば、移動体の各軸方向の計測値に基づいて前記各軸毎の制御値を演算し、Z軸回りの回動角θをフィードバックし、少なくともX方向またはY方向の一方の計測値から前記計測手段による計測箇所と前記移動体の重心との距離を求めてこれを乗算して計測値に含まれる干渉による外乱成分を演算し、当該外乱成分をX方向またはY方向の制御値に加算または減算してX方向またはY方向の制御値から外乱成分を除去するように制御値を補正するため、移動体がZ軸回りのθ方向に回動した場合でも、θ方向の外乱成分が制御値に含まれないように補正して制御系の計測精度及び制御値による動作制御を高めることが可能になる。
以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。
図1は本発明による制御装置の一実施例が適用された平面ステージ装置を示す平面図である。図2は平面ステージ装置をY方向からみた側面図である。図3は平面ステージ装置をX方向からみた側面図である。
図1に示されるように、平面ステージ装置10は、平板状に形成されたプラテン12と、プラテン12の上面に対向する正方形状のスライダ(移動体)14と、スライダ14をX,Y方向に移動させるソーヤモータ(駆動手段)16と、スライダ14の位置を計測するレーザ干渉計(計測手段)18〜20とを有する。
スライダ14は、上面に被加工物としてのウエハ26が載置されるXYステージ(移動体)28が形成されている。また、XYステージ28のX方向の端部には、X方向からのレーザ光を反射するためのXミラー30が取り付けられている。Xミラー30は、XYステージ28のY方向幅と同じ長さに延在形成されている。さらに、XYステージ28のY方向の端部には、Y方向からのレーザ光を反射するためのYミラー32が取り付けられている。Yミラー32は、スライダ14のX方向幅と同じ長さに延在形成されている。
本実施例では、レーザ干渉計18,20が対向するXミラー30のX方向端面がX基準面30aであり、レーザ干渉計19が対向するYミラー32のY方向端面がY基準面32aである。本実施例では、XYステージ28上にXミラー30とYミラー32とがL字状(非対称)に設けられているので、ウエハ26の載置位置の中心と重心位置とが一致していない。
プラテン12上には、スライダ14の移動方向を案内するガイド部材が無いため、XYステージ28は外乱があると重心を中心にθ方向に回動した状態で移動する場合がある。
図2及び図3に示されるように、ソーヤモータ16は、リニアモータを平面状に形成したものであり、固定子であるプラテン12と、スライダ14の下面に形成された可動子であるフォーサ36,37とから構成されている。プラテン12の上面に形成された格子状の溝34がX,Y方向に一定のピッチで整列されている。
X方向駆動用のフォーサ36とY方向駆動用のフォーサ37は、夫々一対ずつ直交する向きに配置され、下方に一定のピッチの凹凸があり、コイルと永久磁石による磁力により推進力を得る。
スライダ14は、プラテン12上面に対向するフォーサ36,37の下面にエアノズル40(図2,図3では隠れて見えない)が設けられている。このエアノズル40は、プラテン12上面に空気流を吹き付けることで、スライダ14の下方に空気圧層を形成する。そのため、スライダ14は、空気圧層を介してプラテン12上面から浮上するため、移動時の抵抗(摩擦)が極めて微小になっている。
図4は平面ステージ装置10の各機器の構成を示すブロック図である。図4に示されるように、平面ステージ装置10を制御する制御回路(演算手段)42は、レーザ干渉計18〜20により計測された計測値によってスライダ14の動作位置を演算しており、予めメモリ(記憶手段)44に記憶された制御プログラムに基づいて、X方向駆動信号及びY方向駆動信号及びθ駆動信号を生成し、ソーヤモータ16を駆動させるX1,X2方向駆動ドライバ33a,33b及びY1,Y2方向駆動ドライバ35a,35bに各駆動信号を出力する。そして、X1,X2方向駆動ドライバ33a,33b及びY1,Y2方向駆動ドライバ35a,35bは、制御回路42からの制御信号に応じた電圧をフォーサ36,37に印加して駆動力(推力)を発生させる。また、制御回路42は、平面スライダ10の電源スイッチがオンになると、エア供給ユニット50に対してエア供給をオンにする信号を出力する。これにより、エア供給ユニット50は、エアノズル40に所定圧の空気を供給してスライダ14を浮上させる。

また、フォーサ36,37は、夫々一対ずつ設けられ、各X1フォーサ36a,X2フォーサ36b、Y1フォーサ37a,Y2フォーサ37bを有する。X1フォーサ36aは、X駆動信号とθ駆動信号の加算値が供給されたX1ドライバ33aからの駆動信号に応じた推力を発生させる。また、X2フォーサ36bは、X駆動信号とθ駆動信号の減算値が供給されたX2ドライバ33bからの駆動信号に応じた推力を発生させる。Y1フォーサ37aは、Y駆動信号とθ駆動信号の加算値が供給されたY1ドライバ35aからの駆動信号に応じた推力を発生させる。また、Y2フォーサ36bは、X駆動信号とθ駆動信号の減算値が供給されたY2ドライバ35bからの駆動信号に応じた推力を発生させる。
また、制御回路42は、XYステージ28の各軸方向の位置を計測するレーザ干渉計18〜20からの計測値に基づいて各軸毎の制御値を演算する制御値演算手段と、Z軸回りの回動角θをフィードバックし、少なくともX方向またはY方向の一方の計測値からレーザ干渉計18、19による計測箇所とスライダ14の重心との距離を求めてこれを乗算して計測値に含まれる干渉による外乱成分を演算する外乱成分演算手段と、各軸毎に演算された制御値から外乱スライダ成分を除去するように前記制御値を補正する補正手段とを有する。
ここで、スライダ14に形成されるXYステージ28が重心Gを中心にθ方向に回動した状態を計測する場合について図5を参照して説明する。
図5に示されるように、XYステージ28が重心Gを中心にθ方向に回動した状態では、回動していない場合(破線)と比較すると、XYステージ28上に設けられたXミラー30、Yミラー32とレーザ干渉計18〜20との距離に外乱が入るため、回動角θに応じてレーザ干渉計18〜20の計測値XM,YMもずれることになる。重心Gの座標位置を(xG,yG)とすると、X方向の計測値XMは(xG+θGyG)、Y方向の計測値YMは(yGθGxG)となる。
図6は一般的なフィードバック制御系を示す系統図である。図6に示されるように、P(s)はXYステージ28が重心Gを基準とした座標系、r=(rx ry rθ)Tは別途生成された目標位置、e=(ex ey eθ)Tは制御偏差を表し、K(s)はコントローラ(制御装置42に含まれる)を表す。fD=(fD1 fD2 fD3)Tはソーヤモータ16で発生する駆動トルクを表し、TDはfD=(fD1 fD2 fD3)Tを重心換算のトルクfG=(fx fy fθ)Tへ変換する変換手段である。
xM=(xM yM θM)Tはレーザ干渉計18〜20による位置の計測値で、TMは重心位置(xG yG θG)Tからの換算を行なう換算手段である。TD及びTMは、夫々ソーヤモータ16とレーザ干渉計18〜20との配置によって決まるパラメータであり、一般に非線形作用素となる。
コントローラK(s)は、PID(Proportional Integral Derivative)制御を行なう制御プログラムが組み込まれている。このPID制御では、各軸毎に制御ループを構成する場合、計測値xMに対してフィードバック制御を行なう際に各XYθ軸間の干渉により制御性が低下するため、重心Gの座標xGを算出し、この重心Gの座標xGに対してフィードバック制御を行なうことが望ましい。このフィードバック制御は、計測系の非干渉化を実現する制御手段である。
また、コントローラK(s)による制御演算結果は、重心Gを基準とした座標系P(s)に作用するトルクfGとして算出されるため、ソーヤモータ16の駆動トルクfDは、結果として座標系P(s)に作用するトルクがfGとなるように算出されることが望ましい。この制御は、駆動系の非干渉化を実現する制御手段である。
図7は上記非干渉化を行なう制御システムを示す系統図である。図7に示されるように、非干渉化を実施することによりコントローラK(s)は、重心を基準とした座標系に対して各XYθ軸毎に実施する制御演算とすることが可能にとなり、非干渉化をPID制御にも適用することが可能となる。
このとき、コントローラK0(s)は、(1)式のように対角にのみ要素をもつ伝達関数行列となり、夫々の対角要素が各XYθ軸毎の制御演算を表す。
Figure 0004699118
上記のような非干渉化に基づく制御系の構成は、非干渉化制御方式として知られており、有効性は検証されているが、実施することができない場合がある。本発明では、上記非干渉化のうち計測系の非干渉化にあたるTM−1の演算処理が実施できない場合を想定し、後述するように制御性の改善を図るものである。
計測系の非干渉化のできないケースとして、例えば、非干渉化の機能を実装することができない構成のコントローラを用いる場合がある。
また、制御システムの構成上、計測量に対して補正演算を行なわない方が良い場合がある。この場合の例としては、例えば、制御システムの座標系が光学系の光軸を基準に構成されている場合には、ステージの座標系はレーザ干渉計18〜20による計測位置を光学系の光軸にあわせており、光学系を基準として構成される。この場合、計測量に対して座標系を変換するような演算を行なうと、制御性能が改善されてもステージ座標系と全体システムの座標系で不整合が起きるおそれがある。
図8は本発明の制御システムを示す系統図である。図8に示す制御システム60は、擬似非干渉化システムである。制御システム60において、XYステージ28の各軸方向の位置を計測するレーザ干渉計18〜20からの計測値に基づいて各軸毎の制御値を演算する制御値演算手段62と、制御値演算手段62による演算結果から計測値に含まれる干渉による外乱成分を演算する外乱成分演算手段64と、各軸毎に演算された制御値から外乱成分を除去するように前記制御値を補正する補正手段66とを有する。
この制御システム60の伝達関数行列K0(s)も上式(1)で表される。以下、この演算を基本軸に対する演算と呼ぶ。
これに対し、計測量非干渉化に相当する補正値T’M−1は、次式(2)により求まる。
Figure 0004699118
上式(2)において、補正値の演算を行なうには、重心位置(xG yG θG)を算出する方法が正確であるが、重心位置(xG yG θG)を算出するための演算処理が複雑であるので、θGが小さい場合には、夫々レーザ干渉計18〜20の計測値(xM yM θM)を用いても効果は大きく変わらないので、本実施例では計測値(xM yM θM)を用いて補正値の演算を行なう。
上式(2)を計測値(xM yM θM)を用いた演算式に変換すると、次式(3)のように表せる。
Figure 0004699118
上式(3)において、制御系の構成によっては、計測値の低い周波数による定常偏差が問題となることもあるので、その場合にはハイパスフィルタFH(s)を用いた演算式(4)で補正値に計測値の高い周波数成分によるオフセットが残らないように演算する。
Figure 0004699118
また、制御系の構成の簡略化を図るには、次式(5)のようにKx(s),Ky(s)のうち、特に制御性能や安定性に関与の大きい要素のみを抽出して簡易的な補正を行なうようにしても良い。
Figure 0004699118
また、図1に示すような平面ステージ装置10では、精密な位置制御を行なうため、外乱によるθMは微小な値となる。そのため、補正演算式としては次式(6)のように表すようにしても良い。
Figure 0004699118
上記式(1)〜(6)は、本発明の基本的な補正方法を説明したものであり、以下具体的な構成例としてPID制御を用いて制御する場合について説明する。基本軸に対する制御演算式は、前述した式(1)の通りである。そして、基本軸の制御にPID制御を用いる場合の各要素は次式(7)のように表せる。
Figure 0004699118
上式(7)において、FL(s)はローパスフィルタを表す。また、kIは積分ゲインを表し、kPは比例ゲインを表し、kDは微分ゲインを表す。
この制御系での基本軸Xに対する補正演算方法について以下説明する。PID制御を用いた制御系で実施すべき補正演算は、次式(8)のように表せる。
Figure 0004699118
実際には、積分器に累積誤差が蓄積するのを防ぐため、ハイパスフィルタを適用した次式(9)の補正演算を行なうことが望ましい。
Figure 0004699118
上式(9)において、FXH(s)はハイパスフィルタを表す。また、FXH(s)kXI/sは、ローパスフィルタとなることもある。さらに、積分器は、安定性への関与が比較的小さいため、補正演算から省略することも可能である。この場合の補正演算は、次式(10)のように表せる。
Figure 0004699118
さらに、安定性への関与が比較的大きい微分のみの補正演算は、次式(11)のように表せる。
Figure 0004699118
また、上式(11)において、計測されたヨー角θMが十分に小さく場合には、外乱成分kXDs(θM yM)は、yMkXDs(θM)としても効果に大きな違いはなく、上式(11)を次式(12)のようにしても良い。
Figure 0004699118
以上の説明では、PID制御を用いた制御系の基本軸Xの補正について説明したが、基本軸Yについても同様の補正演算を行なう。また、ヨー角によるθ方向の補正に関しては、基本軸X,Yからの干渉が非常に小さいので、補正の必要はない。
また、上記説明では、連続システムのアナログ制御系として説明したが、実際の平面ステージ装置10の制御を行なう制御装置42には、デジタルコントローラを用いるため、マイクロコンピュータによる演算処理が行えるように上記補正演算式(8)〜(12)と等価のデジタルシステム用制御プログラムに変換して実装することになる。
ここで、コントローラに上記演算補正式による補正処理を行う制御系を実装する場合の構成例について説明する。
図9は演算補正機能をプログラム可能なコントローラへ実装した場合の制御系を示す系統図である。図9に示されるように、メイン演算処理部70では、減算器72,74,76で各X,Y,θ軸毎の目標位置(rx ry rθ)とレーザ干渉計18〜20の計測値(xM yM θM)との偏差(ex ey eθ)を求め、この偏差(ex ey eθ)がコントローラKx(s),Ky(s),Kθ(s)に供給される。コントローラKx(s),Ky(s),Kθ(s)は、各X,Y,θ軸毎の駆動トルクの制御値(fD1 fD2 fD3)を演算する制御値演算手段78を有する。
そして、補正演算処理部80では、レーザ干渉計18〜20の計測値(xM yM θM)が供給されると共に、上式(12)の演算を行なってθ方向の外乱成分に対応した補正値KX(s)(θM yM),Ky(s)(θM xM)を算出する外乱成分演算手段81と、加算器82、減算器84でθ方向の補正値KX(s)(θM yM),Ky(s)(θM xM)を基本軸であるX軸、Y軸の制御値fD1 fD2に加算、減算して重心基準のトルクに相当する制御値fx0 fy0を生成する補正手段86とを有する。
これにより、XYステージ28の各軸方向の計測値に基づいて各軸毎の制御値を演算すると共に、計測値に含まれるθ方向の干渉による外乱成分を演算し、基本軸X,Y毎に演算された制御値からθ方向の外乱成分を除去するように制御値を補正することができる。そのため、XYステージ28が重心Gを中心にθ方向に回動した場合でも、外乱成分が制御値に含まれないように補正される。
また、補正演算処理部80において、図9中破線で示すように、基本軸X、YのコントローラKx(s),Ky(s)から計測基準の制御値(fD1 fD2 fD3)を演算する際の中間値を利用して補正値を演算する場合、演算量の減少による演算処理の負担を軽減することができると共に、各演算式やパラメータを格納するためのメモリ容量を節約することが可能になる。
尚、メイン演算処理部70は、制御装置42に予め組み込まれた基本的な制御演算を行なう演算処理部であり、補正演算処理部80は、制御対象に応じた補正制御プログラムを付加することができるように構成されている。従って、補正演算処理部80には、上式(8)〜(12)の何れかの演算式が予めプログラムされている。
また、コントローラによっては、計測値に対する演算機能がなくても駆動トルクに対しては比較的高度なフィードバック制御による演算機能を有する制御系を有する場合があり、図9に示す実装方式では、このようなトルク制御を行なう制御系に適用すると有効である。
次に、図10は制御装置42がプログラムを付加することができない装置の場合、あるいは極力プログラムの付加を避けたい場合の実装例を示す系統図である。図10に示されるように、制御装置42に、基本軸X,Y,θの制御演算を行なう制御値演算手段78が標準装備されている場合、この標準機能を用いて補正値を演算する外乱成分演算手段90を設けることが可能である。
外乱成分演算手段90は、XYステージ28のX補正軸の制御パラメータをX基本軸と同じ制御パラメータに設定し、Z軸回りの回動角θをフィードバックし、Y計測値を乗算してX方向の基本軸に加算または減算するX外乱成分演算手段98と、XYステージ28のY補正軸の制御パラメータをY基本軸と同じ制御パラメータに設定し、Z軸回りの回動角θをフィードバックし、X計測値を乗算してY方向の基本軸に加算または減算するY外乱成分演算手段99とを有する。
この実装方式では、基本軸の他に補正値を求める補正軸X’,Y’を2軸用意する。以下、補正軸X’,Y’の設定方法について説明する。補正軸X’,Y’は、ヨー角θMを計測値としてフィードバックし、目標位置は夫々ゼロとする。補正軸X’,Y’の制御パラメータは、夫々X軸、Y軸で設定したパラメータと同様に設定することにより、補正軸X’,Y’のコントローラK’x(s),K’y(s)による演算を可能とする。
減算器91〜93で各X,Y,θ軸毎の目標位置(rx ry rθ)とレーザ干渉計18〜20の計測値(xM yM θM)との偏差(ex ey eθ)を求め、この偏差(ex ey eθ)がコントローラKx(s),Ky(s),Kθ(s)に供給される。コントローラKx(s),Ky(s),Kθ(s)では、各X,Y,θ軸毎の駆動トルクの制御値(fD1 fD2 fD3)を演算する。
そして、コントローラK’x(s),K’y(s)では、減算器94,95を介して入力されたヨー角−θMに応じた補正軸X’,Y’の補正演算処理を行う。この補正演算結果に、夫々の計測値xM,yMを乗算して基本軸X,Yの補正値を演算する。さらに、加算器96、減算器97で補正値を基本軸であるX軸、Y軸の制御値fD1 fD2に減算、加算して重心基準のトルクに相当する制御値fx0 fy0を生成する。
また、コントローラK’x(s),K’y(s)での演算は、補正の方式によって異なり、例えば、フィルタ要素の設定をハイパスフィルタに変更したり、積分制御や比例制御が無効になるように設定変更しても良い。
ここで、XYステージ28が重心Gを中心にθ方向に回動した状態でレーザ干渉計18〜20による計測値が得られた場合に上記基本軸に対する補正演算による作用について説明する。
平面ステージ装置10において、計測値xMが重心位置xGと一致しない場合、前述した図5で説明したX方向の計測値XM=(xG+θGyG)に基づいて、その関係は次式(13)で表せる。
Figure 0004699118
この計測値に対してフィードバック制御演算を実施すると、モータへの制御量fx0は次式(14)で求まる。
Figure 0004699118
本来は、各軸毎の制御演算は、重心に対してKx(s)(rx−xG)の演算を行なうのが望ましい。しかしながら、X軸の計測値xMを制御系にフィードバックした場合は、Kx(s)(θG yG)が外乱として作用し、制御性能の低下を引き起こすことが想定される。
このような外乱による影響を除去するため、本発明では、次式(15)に表される作用を有している。
Figure 0004699118
このため、上式の制御演算は、重心に対して軸毎に制御演算を実施することと等価になる。この制御性能は、重心に対してフィードバック制御を実施した場合と同等である。尚、実際の補正演算は、補正演算Kx(s)(θG yG)をそのまま実施するのではなく、ローパスフィルタやハイパスフィルタなど必要なフィルタ処理を行ったり、ヨー角θMによる影響が小さい演算を省略することも可能である。
次に重心基準の補正演算Kx(s)(θG yG)を計測基準の補正演算Kx(s)(θM yM)に変更した場合の作用について説明する。重心位置(xG yG θG)と計測値(xM yM θM)との関係式は、前述した図5で説明したX方向の計測値XM=(xG+θGyG)、Y方向の計測値YM=(yG−θGxG)に基づいて、次式(16)のように表せる。

Figure 0004699118
従って、上式(16)から次式(17)が導き出される。
θM yM=θG yG−θG2 xG ・・・(17)
上式(17)において、θGが小さい場合、θG2xGによる作用は、非常に小さく、重心基準の補正演算Kx(s)(θG yG)と計測基準の補正演算Kx(s)(θM yM)との作用はほぼ等しくなる。また、(θG yG)を求める演算は複雑になるため、実際の補正演算では、計測基準の補正演算Kx(s)(θM yM)により補正する方が補正演算の負担が軽減される。
次に、計測基準の補正演算Kx(s)(θM yM)に、ハイパスフィルタ処理を加えることで、定常的な補正値をゼロとすることができる。これにより、XYステージ28の位置決め箇所がずれるという問題や誤差が蓄積されるという問題は、除去される。また、上記制御系において、積分器(積分要素)は、制御システムの安定性への関与が小さい傾向があるため、積分器を省略しても効果が変わらないことが多い。
そのため、上記補正演算処理を行う制御システムにおいては、計測値が高い周波数の場合には、次式(18)に示す重心基準に補正演算されたトルクを発生させる制御値fx0を生成する。
fx0=Kx(s)(rx−xG) ・・・(18)
計測値が定常的な状態を含む低周波数の場合には、次式(19)に示す計測基準により補正演算されたトルクを発生させる制御値fx0を生成する。
fx0=Kx(s)(rx−xM) ・・・(19)
次に、補正演算Kx(s)(θM yM)を、Kx(s)(θM)とした場合の作用について説明する。比例要素の補正演算であれば、次式(20)が成り立つため、前述したPID制御の場合と同様な効果が得られる。
kxP(θM yM)=yM kxP θM ・・・(20)
また、微分要素の補正演算では、次式(21)が成り立つ。
kxDs(θM yM)=yMkxDs(θM)+θMkxDs(yM)・・・(21)
上式(21)のθMkxDs(yM)と基本軸の補正演算kxDs(xM)とを比較すると、(yM)と(xM)とが同等で、且つ(θM)が十分に小さい場合には、θMkxDs(yM)による補正値は、基本軸に対して小さいため、yMkxDs(θM)のみによる補正でも良いことになる。これにより、補正演算処理が簡略化されてコントローラの負担を軽減することが可能になる。
従って、XYステージ28の各軸方向の計測値に基づいて各軸毎の制御値を演算し、演算結果から計測値に含まれるθ方向の干渉による外乱成分を演算し、各軸毎に演算された制御値から外乱成分を除去するように制御値を補正するため、XYステージ28がθ方向に回動した場合でも、θ方向の回動による外乱成分が制御値に含まれないように補正して制御系の計測精度及び制御値による動作制御を高めることが可能になる。
上記実施例では、平面ステージ装置のXYステージを制御する際の補正演算処理を例に挙げて説明したが、これに限らず、例えば、ステージを一方向のみに移動させる構成のステージ装置の制御システムに本発明を適用するようにしても良い。
上記実施例では、スライダ14を駆動する駆動手段としてソーヤモータ16を用いた構成を例に挙げて説明したが、これに限らず、例えば、スライダ14の周縁部にX方向、Y方向、θ方向の各ボイスコイルモータを設けてスライダ14を平面移動させるようにしても良い。
また、上記実施例では、スライダ14の位置を計測する計測手段としてレーザ干渉計を用いた構成を例に挙げて説明したが、これに限らず、例えば、静電容量式計測器や電磁誘導式計測器、超音波式計測器等を用いても良い。
本発明による制御装置の一実施例が適用された平面ステージ装置を示す平面図である。 平面ステージ装置をY方向からみた側面図である。 平面ステージ装置をX方向からみた側面図である。 平面ステージ装置10の各機器の構成を示すブロック図である。 スライダ14上に設けられたXYステージ28が重心Gを中心にθ方向に回動した状態を示す平面図である。 一般的なフィードバック制御系を示す系統図である。 非干渉化を行なう制御システムを示す系統図である。 本発明の制御システムを示す系統図である。 演算補正機能をプログラム可能なコントローラへ実装した場合の制御系を示す系統図である。 制御装置42がプログラムを付加することができない装置の場合、あるいは極力プログラムの付加を避けたい場合の実装例を示す系統図である。
符号の説明
10 平面ステージ装置
12 プラテン
14 スライダ
16 ソーヤモータ
18〜20 レーザ干渉計
28 XYステージ
30 Xミラー
32 Yミラー
36,37 フォーサ
42 制御装置
60 制御システム
62,78 制御値演算手段
64,81,90 外乱成分演算手段
66,86 補正手段
70 メイン演算処理部
80 補正演算処理部
98 X外乱成分演算手段
99 Y外乱成分演算手段

Claims (8)

  1. 移動体の各軸方向の位置を計測する計測手段からの計測値に基づいて前記各軸毎の制御値を演算する制御値演算手段と、
    Z軸回りの回動角θをフィードバックし、少なくともX方向またはY方向の一方の計測値から前記計測手段による計測箇所と前記移動体の重心との距離を求めてこれを乗算して前記計測値に含まれる干渉による外乱成分を演算する外乱成分演算手段と、
    該外乱成分演算手段により演算される外乱成分を前記制御値演算手段により演算されたX方向またはY方向の制御値に加算または減算してX方向またはY方向の制御値から外乱成分を除去するように前記制御値を補正する補正手段と、
    を有することを特徴とする制御装置。
  2. 前記移動体は、XYステージであることを特徴とする請求項1に記載の制御装置。
  3. 前記計測手段は、レーザ干渉計であることを特徴とする請求項1または2に記載の制御装置。
  4. 前記補正手段は、ハイパスフィルタを有することを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の制御装置。
  5. 前記補正手段は、PID制御方式に基づいて各軸毎の制御値を演算しており、前記制御値の比例要素及び微分要素を補正することを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載の制御装置。
  6. 前記補正手段は、PID制御方式に基づいて各軸毎の制御値を演算しており、前記制御値の微分要素のみを補正することを特徴とする請求項1乃至5の何れかに記載の制御装置。
  7. 前記外乱成分演算手段は、
    前記XYステージのX補正軸の制御パラメータをX基本軸と同じ制御パラメータに設定し、Z軸回りの回動角θをフィードバックし、Y計測値から前記計測手段による計測箇所と前記移動体のY方向の重心との距離を求めてこれを乗算して前記計測値に含まれる干渉による外乱成分を演算するX外乱成分演算手段と、
    前記XYステージのY補正軸の制御パラメータをY基本軸と同じ制御パラメータに設定し、Z軸回りの回動角θをフィードバックし、X計測値から前記計測手段による計測箇所と前記移動体のX方向の重心との距離を求めてこれを乗算して前記計測値に含まれる干渉による外乱成分を演算するY外乱成分演算手段と、
    を有することを特徴とする請求項1乃至6の何れかに記載の制御装置。
  8. 移動体の各軸方向の計測値に基づいて前記各軸毎の制御値を演算する過程と、
    Z軸回りの回動角θをフィードバックし、少なくともX方向またはY方向の一方の計測値から計測箇所と前記移動体の重心との距離を求めてこれを乗算して前記計測値に含まれる干渉による外乱成分を演算する過程と、
    前記外乱成分をX方向またはY方向の前記制御値に加算または減算してX方向またはY方向の制御値から外乱成分を除去するように前記制御値を補正する過程と、
    を有することを特徴とする制御方法。
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