JP2000347740A - 真空内リニアアクチュエータ機構及びその制御方法 - Google Patents
真空内リニアアクチュエータ機構及びその制御方法Info
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- JP2000347740A JP2000347740A JP15832099A JP15832099A JP2000347740A JP 2000347740 A JP2000347740 A JP 2000347740A JP 15832099 A JP15832099 A JP 15832099A JP 15832099 A JP15832099 A JP 15832099A JP 2000347740 A JP2000347740 A JP 2000347740A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 大ストロークを実現し、高速・高精度位置決
め及び高い軌跡追従精度を実現することのできる真空内
リニアアクチュエータ駆動機構を提供すること。 【解決手段】 チャンバ１００内に配置されてワークを
搭載するためのステージをＸ軸及びＹ軸方向に駆動する
ためのＸ軸リニアモータ８及びＹ軸リニアモータ１８、
２３と、Ｘ軸ベース６、Ｙ軸ベース１４の移動を案内す
るためのＸ軸リニアベアリング７及びＹ軸リニアベアリ
ング１５、２０と、Ｘ軸ベース６、Ｙ軸ベース１４の位
置を検出するためのＸ軸リニアエンコーダ１０及びＹ軸
リニアエンコーダ１６、２１と、各リニアエンコーダか
らの位置検出値とそれぞれの位置の制御量目標値とから
各リニアモータへの指令値を算出する位置制御器を含ん
で、各リニアモータをフィードバック制御系にて制御す
るための制御装置とを備えた。
め及び高い軌跡追従精度を実現することのできる真空内
リニアアクチュエータ駆動機構を提供すること。 【解決手段】 チャンバ１００内に配置されてワークを
搭載するためのステージをＸ軸及びＹ軸方向に駆動する
ためのＸ軸リニアモータ８及びＹ軸リニアモータ１８、
２３と、Ｘ軸ベース６、Ｙ軸ベース１４の移動を案内す
るためのＸ軸リニアベアリング７及びＹ軸リニアベアリ
ング１５、２０と、Ｘ軸ベース６、Ｙ軸ベース１４の位
置を検出するためのＸ軸リニアエンコーダ１０及びＹ軸
リニアエンコーダ１６、２１と、各リニアエンコーダか
らの位置検出値とそれぞれの位置の制御量目標値とから
各リニアモータへの指令値を算出する位置制御器を含ん
で、各リニアモータをフィードバック制御系にて制御す
るための制御装置とを備えた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、減圧雰囲気中、高
真空、あるいはある一定圧力の不活性ガス雰囲気中にお
いて、ガラス等のワークに対して加工を行うために密封
チャンバ内に配置されてワークを少なくとも一軸方向に
駆動する真空内リニアアクチュエータ機構及びその制御
方法に関する。本発明による真空内リニアアクチュエー
タ機構は、特にガラス等の基板にレーザアニーリングを
行うようなレーザ加工装置に適している。
真空、あるいはある一定圧力の不活性ガス雰囲気中にお
いて、ガラス等のワークに対して加工を行うために密封
チャンバ内に配置されてワークを少なくとも一軸方向に
駆動する真空内リニアアクチュエータ機構及びその制御
方法に関する。本発明による真空内リニアアクチュエー
タ機構は、特にガラス等の基板にレーザアニーリングを
行うようなレーザ加工装置に適している。
【０００２】
【従来の技術】レーザ加工装置に用いられるワーク位置
決め用のＸ−Ｙステージ装置では、広い加工範囲（スト
ローク）を有すること並びに、加速・減速時及び高速運
動時を含めた運動精度がストローク内で変化の無いこと
が要求される。
決め用のＸ−Ｙステージ装置では、広い加工範囲（スト
ローク）を有すること並びに、加速・減速時及び高速運
動時を含めた運動精度がストローク内で変化の無いこと
が要求される。
【０００３】この種のＸ−Ｙステージ装置の一例を、大
気圧で使用されるタイプのものについて図７を参照して
説明する。図７において、このＸ−Ｙステージ装置は、
サーボモータ６１とボールねじ６２とを組み合わせたＸ
軸ステージ６０に、サーボモータ７１とボールねじ７２
とを組み合わせたＹ軸ステージ７０を積み上げるように
構成している。ボールねじ６２には、図示していない
が、その回転によりＸ軸方向に駆動される被駆動部材が
組み合わされており、この被駆動部材にＹ軸ステージ７
０が搭載された構成となっている。そして、Ｙ軸ステー
ジ７０のボールねじ７２にはトッププレート８０が組み
合わされ、ボールねじ７２の回転によりトッププレート
８０がＹ軸方向に駆動される。結果として、Ｘ軸ステー
ジ６０とＹ軸ステージ７０との組み合わせにより、トッ
ププレート８０はＸ軸方向及びＹ軸方向に駆動される。
気圧で使用されるタイプのものについて図７を参照して
説明する。図７において、このＸ−Ｙステージ装置は、
サーボモータ６１とボールねじ６２とを組み合わせたＸ
軸ステージ６０に、サーボモータ７１とボールねじ７２
とを組み合わせたＹ軸ステージ７０を積み上げるように
構成している。ボールねじ６２には、図示していない
が、その回転によりＸ軸方向に駆動される被駆動部材が
組み合わされており、この被駆動部材にＹ軸ステージ７
０が搭載された構成となっている。そして、Ｙ軸ステー
ジ７０のボールねじ７２にはトッププレート８０が組み
合わされ、ボールねじ７２の回転によりトッププレート
８０がＹ軸方向に駆動される。結果として、Ｘ軸ステー
ジ６０とＹ軸ステージ７０との組み合わせにより、トッ
ププレート８０はＸ軸方向及びＹ軸方向に駆動される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】トッププレート８０の
位置制御方式としては、サーボモータ６１、７１のそれ
ぞれに設けられたエンコーダ６３、７３からの回転検出
信号に基づいてトッププレート８０のＸ軸方向、Ｙ軸方
向に関する位置を検出し、これを目標値と一致するよう
に制御するセミクローズドループ位置制御方式が採用さ
れている。しかし、この方式では、ボールねじ部分の剛
性やバックラッシュの影響がフィードバックされないた
めに、トッププレート８０の位置に誤差が生じる。
位置制御方式としては、サーボモータ６１、７１のそれ
ぞれに設けられたエンコーダ６３、７３からの回転検出
信号に基づいてトッププレート８０のＸ軸方向、Ｙ軸方
向に関する位置を検出し、これを目標値と一致するよう
に制御するセミクローズドループ位置制御方式が採用さ
れている。しかし、この方式では、ボールねじ部分の剛
性やバックラッシュの影響がフィードバックされないた
めに、トッププレート８０の位置に誤差が生じる。
【０００５】このため、上記の方式に代えて、トッププ
レート８０の位置を直接検出してフィードバックするフ
ルクローズドループ位置制御方式が採用される場合もあ
る。しかし、この方式では高速移動時のボールねじ部分
の振動による制御ループの安定性が確保できず、応答性
をあげられないという問題がある。
レート８０の位置を直接検出してフィードバックするフ
ルクローズドループ位置制御方式が採用される場合もあ
る。しかし、この方式では高速移動時のボールねじ部分
の振動による制御ループの安定性が確保できず、応答性
をあげられないという問題がある。
【０００６】更に、通常は位置決め分解能を確保するた
めに、ボールねじのリードを小さくすることが行われ
る。この場合、サーボモータの回転に応じた移動距離が
小さくなり、高速性が失われる。逆に、高速性を確保し
ようとすれば、ボールねじのリードを大きくする必要が
ある。この場合、サーボモータの回転に応じた移動距離
が大きくなり、精度を確保することが困難となる。この
ため、高精度の位置決めと高速応答性を両立することが
困難である。
めに、ボールねじのリードを小さくすることが行われ
る。この場合、サーボモータの回転に応じた移動距離が
小さくなり、高速性が失われる。逆に、高速性を確保し
ようとすれば、ボールねじのリードを大きくする必要が
ある。この場合、サーボモータの回転に応じた移動距離
が大きくなり、精度を確保することが困難となる。この
ため、高精度の位置決めと高速応答性を両立することが
困難である。
【０００７】そこで、本発明の課題は、従来のステージ
に比べ大ストロークを実現し、高速・高精度位置決め及
び高い軌跡追従精度を実現することのできる真空内リニ
アアクチュエータ機構を提供することにある。
に比べ大ストロークを実現し、高速・高精度位置決め及
び高い軌跡追従精度を実現することのできる真空内リニ
アアクチュエータ機構を提供することにある。
【０００８】本発明はまた、大気圧から１．０×１０-6
Ｔｏｒｒまでの雰囲気下で使用可能な真空内リニアアク
チュエータ機構を提供することにある。
Ｔｏｒｒまでの雰囲気下で使用可能な真空内リニアアク
チュエータ機構を提供することにある。
【０００９】本発明は更に、上記の真空内リニアアクチ
ュエータ機構に適した制御方法を提供することにある。
ュエータ機構に適した制御方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明による真空内リニ
アアクチュエータ機構は、密封チャンバ内に配置されて
ワークを搭載するためのステージを少なくとも一軸方向
に駆動するための駆動源と、前記ステージの移動を案内
するための案内機構と、前記ステージの位置を検出する
ための位置検出手段と、該位置検出手段からの位置検出
値と位置の制御量目標値とから前記駆動源への指令値を
算出する位置制御器を含んで、前記駆動源をフィードバ
ック制御系にて制御するための制御装置とを備えたこと
を特徴とする。
アアクチュエータ機構は、密封チャンバ内に配置されて
ワークを搭載するためのステージを少なくとも一軸方向
に駆動するための駆動源と、前記ステージの移動を案内
するための案内機構と、前記ステージの位置を検出する
ための位置検出手段と、該位置検出手段からの位置検出
値と位置の制御量目標値とから前記駆動源への指令値を
算出する位置制御器を含んで、前記駆動源をフィードバ
ック制御系にて制御するための制御装置とを備えたこと
を特徴とする。
【００１１】前記駆動源の好ましい形態について言え
ば、前記ステージをＸ軸用リニアモータによりＸ軸方向
に駆動するためのＸ軸駆動機構と、前記ステージをＹ軸
用リニアモータによりＹ軸方向に駆動するためのＹ軸駆
動機構とを含み、前記ステージは、前記Ｘ軸駆動機構に
よりＸ軸方向に駆動されるＸ軸ベースに搭載され、前記
Ｘ軸駆動機構及び前記Ｘ軸ベースが、前記Ｙ軸駆動機構
によりＹ軸方向に駆動されるＹ軸ベースに搭載される。
ば、前記ステージをＸ軸用リニアモータによりＸ軸方向
に駆動するためのＸ軸駆動機構と、前記ステージをＹ軸
用リニアモータによりＹ軸方向に駆動するためのＹ軸駆
動機構とを含み、前記ステージは、前記Ｘ軸駆動機構に
よりＸ軸方向に駆動されるＸ軸ベースに搭載され、前記
Ｘ軸駆動機構及び前記Ｘ軸ベースが、前記Ｙ軸駆動機構
によりＹ軸方向に駆動されるＹ軸ベースに搭載される。
【００１２】前記案内機構の好ましい形態について言え
ば、前記Ｙ軸ベースに設けられて前記Ｘ軸ベースを案内
するためのＸ軸リニアベアリングと、ステージベースに
設けられて前記Ｙ軸ベースを案内するためのＹ軸リニア
ベアリングとを含む。
ば、前記Ｙ軸ベースに設けられて前記Ｘ軸ベースを案内
するためのＸ軸リニアベアリングと、ステージベースに
設けられて前記Ｙ軸ベースを案内するためのＹ軸リニア
ベアリングとを含む。
【００１３】前記位置検出手段の好ましい形態について
言えば、前記Ｘ軸ベースの位置を検出するためのＸ軸リ
ニアエンコーダと、前記Ｙ軸ベースの位置を検出するた
めのＹ軸リニアエンコーダとを有する。
言えば、前記Ｘ軸ベースの位置を検出するためのＸ軸リ
ニアエンコーダと、前記Ｙ軸ベースの位置を検出するた
めのＹ軸リニアエンコーダとを有する。
【００１４】前記制御装置は、前記Ｘ軸駆動機構をフィ
ードバック制御系にて制御するためのＸ軸フィードバッ
ク制御部を有し、該Ｘ軸フィードバック制御部は、Ｘ軸
用の前記位置制御器からの制御量指令値を２次低域通過
型フィルタにてフィルタリングした制御量推定値と、前
記Ｘ軸用リニアモータ及び負荷を擬似した制御対象の逆
モデル及び２次低域通過型フィルタにて前記Ｘ軸リニア
エンコーダからの位置検出値より推定した実推力推定値
との差分を推定外乱力として推定する外乱オブザーバ
と、前記推定外乱力を前記制御量指令値から減算するこ
とで外乱を補償する減算器とから成る外乱補償器を含
む。
ードバック制御系にて制御するためのＸ軸フィードバッ
ク制御部を有し、該Ｘ軸フィードバック制御部は、Ｘ軸
用の前記位置制御器からの制御量指令値を２次低域通過
型フィルタにてフィルタリングした制御量推定値と、前
記Ｘ軸用リニアモータ及び負荷を擬似した制御対象の逆
モデル及び２次低域通過型フィルタにて前記Ｘ軸リニア
エンコーダからの位置検出値より推定した実推力推定値
との差分を推定外乱力として推定する外乱オブザーバ
と、前記推定外乱力を前記制御量指令値から減算するこ
とで外乱を補償する減算器とから成る外乱補償器を含
む。
【００１５】前記Ｙ軸駆動機構の好ましい形態について
言えば、互いに平行に配設された一対の第１、第２の前
記Ｙ軸用リニアモータを有し、該第１、第２のＹ軸用リ
ニアモータに対応して一対の第１、第２のＹ軸リニアエ
ンコーダが設けられる。この場合、前記制御装置は更
に、前記Ｙ軸駆動機構をフィードバック制御系にて制御
するためのＹ軸フィードバック制御部と、前記Ｙ軸ベー
スのＺ軸回りの回転量を制御するためのθ軸フィードバ
ック制御部とを有し、前記Ｙ軸フィードバック制御部
は、前記第１、第２のＹ軸用リニアモータからの第１、
第２の位置検出値の平均値を算出する手段と、Ｙ軸制御
量目標値と前記平均値との間の第１の差を算出する第１
の減算手段と、前記第１の差に基づいてＹ軸の制御量指
令値を推定するＹ軸位置制御器とを含み、前記θ軸フィ
ードバック制御部は、前記第１、第２の位置検出値との
間の第２の差を算出する第２の減算手段と、θ軸制御量
目標値と前記第２の差との間の第３の差を算出する第３
の減算手段と、前記第３の差に基づいてθ軸の制御量指
令値を推定するθ軸位置制御器とを含み、前記Ｙ軸フィ
ードバック制御部は更に、前記Ｙ軸の制御量指令値と前
記θ軸の制御量指令値との間の差を算出して前記第１の
Ｙ軸用リニアモータに指令値として出力する第４の減算
手段を有し、前記θ軸フィードバック制御部は更に、前
記θ軸の制御量指令値と前記Ｙ軸の制御量指令値とを加
算して前記第２のＹ軸用リニアモータに指令値として出
力する加算手段を有する。
言えば、互いに平行に配設された一対の第１、第２の前
記Ｙ軸用リニアモータを有し、該第１、第２のＹ軸用リ
ニアモータに対応して一対の第１、第２のＹ軸リニアエ
ンコーダが設けられる。この場合、前記制御装置は更
に、前記Ｙ軸駆動機構をフィードバック制御系にて制御
するためのＹ軸フィードバック制御部と、前記Ｙ軸ベー
スのＺ軸回りの回転量を制御するためのθ軸フィードバ
ック制御部とを有し、前記Ｙ軸フィードバック制御部
は、前記第１、第２のＹ軸用リニアモータからの第１、
第２の位置検出値の平均値を算出する手段と、Ｙ軸制御
量目標値と前記平均値との間の第１の差を算出する第１
の減算手段と、前記第１の差に基づいてＹ軸の制御量指
令値を推定するＹ軸位置制御器とを含み、前記θ軸フィ
ードバック制御部は、前記第１、第２の位置検出値との
間の第２の差を算出する第２の減算手段と、θ軸制御量
目標値と前記第２の差との間の第３の差を算出する第３
の減算手段と、前記第３の差に基づいてθ軸の制御量指
令値を推定するθ軸位置制御器とを含み、前記Ｙ軸フィ
ードバック制御部は更に、前記Ｙ軸の制御量指令値と前
記θ軸の制御量指令値との間の差を算出して前記第１の
Ｙ軸用リニアモータに指令値として出力する第４の減算
手段を有し、前記θ軸フィードバック制御部は更に、前
記θ軸の制御量指令値と前記Ｙ軸の制御量指令値とを加
算して前記第２のＹ軸用リニアモータに指令値として出
力する加算手段を有する。
【００１６】なお、前記ステージには加熱用のヒータが
配設されても良く、この場合、前記ステージと前記Ｘ軸
ベースとの間、前記Ｘ軸リニアモータ、前記第１、第２
のＹ軸リニアモータ、前記Ｘ軸リニアエンコーダ、前記
第１、第２のＹ軸リニアエンコーダにはそれぞれ、水冷
手段が組み合わされる。
配設されても良く、この場合、前記ステージと前記Ｘ軸
ベースとの間、前記Ｘ軸リニアモータ、前記第１、第２
のＹ軸リニアモータ、前記Ｘ軸リニアエンコーダ、前記
第１、第２のＹ軸リニアエンコーダにはそれぞれ、水冷
手段が組み合わされる。
【００１７】本発明によれば更に、密封チャンバ内に配
置されてワークを搭載するためのステージの駆動源とし
て、前記ステージをＸ軸用リニアモータによりＸ軸方向
に駆動するためのＸ軸駆動機構と、前記ステージをＹ軸
用リニアモータによりＹ軸方向に駆動するためのＹ軸駆
動機構とを含み、前記ステージは、前記Ｘ軸駆動機構に
よりＸ軸方向に駆動されるＸ軸ベースに搭載され、前記
Ｘ軸駆動機構及び前記Ｘ軸ベースが、前記Ｙ軸駆動機構
によりＹ軸方向に駆動されるＹ軸ベースに搭載されてい
る真空内リニアアクチュエータ機構の制御方法であっ
て、前記ステージの位置を検出するための位置検出手段
を有し、該位置検出手段からの位置検出値と位置の制御
量目標値とから前記各リニアモータをそれぞれフィード
バック制御系にて制御するようにしたことを特徴とする
真空内リニアアクチュエータ機構の制御方法が提供され
る。
置されてワークを搭載するためのステージの駆動源とし
て、前記ステージをＸ軸用リニアモータによりＸ軸方向
に駆動するためのＸ軸駆動機構と、前記ステージをＹ軸
用リニアモータによりＹ軸方向に駆動するためのＹ軸駆
動機構とを含み、前記ステージは、前記Ｘ軸駆動機構に
よりＸ軸方向に駆動されるＸ軸ベースに搭載され、前記
Ｘ軸駆動機構及び前記Ｘ軸ベースが、前記Ｙ軸駆動機構
によりＹ軸方向に駆動されるＹ軸ベースに搭載されてい
る真空内リニアアクチュエータ機構の制御方法であっ
て、前記ステージの位置を検出するための位置検出手段
を有し、該位置検出手段からの位置検出値と位置の制御
量目標値とから前記各リニアモータをそれぞれフィード
バック制御系にて制御するようにしたことを特徴とする
真空内リニアアクチュエータ機構の制御方法が提供され
る。
【００１８】
【発明の実施の形態】図１〜図２を参照して、本発明に
よる真空内リニアアクチュエータ機構のうち、機械構成
についてその実施の形態を説明する。ここでは、レーザ
アニーリング用の真空チャンバ内に配置されるのに適し
た構成について説明する。真空チャンバについては、図
３に象徴的に破線１００で示しており、大気圧から１．
０×１０-6Ｔｏｒｒまでの雰囲気下で使用可能なもので
あれば良い。
よる真空内リニアアクチュエータ機構のうち、機械構成
についてその実施の形態を説明する。ここでは、レーザ
アニーリング用の真空チャンバ内に配置されるのに適し
た構成について説明する。真空チャンバについては、図
３に象徴的に破線１００で示しており、大気圧から１．
０×１０-6Ｔｏｒｒまでの雰囲気下で使用可能なもので
あれば良い。
【００１９】真空チャンバ１００内の底部に固定ベース
部材としてのステージベース９が設置されている。ステ
ージベース９には、離れた位置においてＹ軸方向に平行
に延びるようにＹ軸リニアベアリング１５、２０が取り
付けられている。Ｙ軸リニアベアリング１５、２０は、
それらの上に組み合わされるＹ軸ベース１４をＹ軸方向
に直線案内するためのものである。Ｙ軸ベース１４に
は、離れた位置においてＸ軸方向に平行に延びるように
一対のＸ軸リニアベアリング７が取り付けられている。
Ｘ軸リニアベアリング７は、それらの上に組み合わされ
るＸ軸ベース６をＸ軸方向に直線案内するためのもので
ある。Ｘ軸ベース６には、加熱用のヒータを内蔵してい
るステージ２を支持しているトロリ３が取り付けられ、
ステージ２上にはワーク（ガラス等）１を載せる構成と
なっている。
部材としてのステージベース９が設置されている。ステ
ージベース９には、離れた位置においてＹ軸方向に平行
に延びるようにＹ軸リニアベアリング１５、２０が取り
付けられている。Ｙ軸リニアベアリング１５、２０は、
それらの上に組み合わされるＹ軸ベース１４をＹ軸方向
に直線案内するためのものである。Ｙ軸ベース１４に
は、離れた位置においてＸ軸方向に平行に延びるように
一対のＸ軸リニアベアリング７が取り付けられている。
Ｘ軸リニアベアリング７は、それらの上に組み合わされ
るＸ軸ベース６をＸ軸方向に直線案内するためのもので
ある。Ｘ軸ベース６には、加熱用のヒータを内蔵してい
るステージ２を支持しているトロリ３が取り付けられ、
ステージ２上にはワーク（ガラス等）１を載せる構成と
なっている。
【００２０】Ｘ軸ベース６は、Ｘ軸リニアベアリング７
に隣接してＹ軸ベース１４に設けられた一対のＸ軸リニ
アモータ８により駆動される。Ｘ軸ベース６の位置は、
一方のＸ軸リニアモータ８に隣接してＹ軸ベース１４に
設置されたＸ軸リニアエンコーダ１０により検出され
る。これにより、Ｘ軸ベース６を直接駆動すると共に、
位置を直接計測することになり、従来のバックラッシに
よる精度劣化等がなくなり、高速応答化が可能となって
いる。
に隣接してＹ軸ベース１４に設けられた一対のＸ軸リニ
アモータ８により駆動される。Ｘ軸ベース６の位置は、
一方のＸ軸リニアモータ８に隣接してＹ軸ベース１４に
設置されたＸ軸リニアエンコーダ１０により検出され
る。これにより、Ｘ軸ベース６を直接駆動すると共に、
位置を直接計測することになり、従来のバックラッシに
よる精度劣化等がなくなり、高速応答化が可能となって
いる。
【００２１】Ｙ軸ベース１４は、ステージベース９上に
設けられた、各々独立に制御可能な２本のリニアモータ
１８、２３で駆動される。Ｙ軸ベース１４の位置は、リ
ニアモータ１８、２３に隣接してステージベース９に配
置された２本のリニアエンコーダ１６、２１により互い
に反対側の２箇所において検出される。これにより、Ｘ
軸と同様にバックラッシ等による精度劣化がなく、高速
応答化が可能となっている。また、Ｙ軸ベース１４の互
いに反対端部における２箇所においてリニアエンコーダ
１６、２１によりＹ軸方向の位置を検出することで、各
々の検出値の差によりＹ軸ベース１４の微小回転を検出
・制御することができる。Ｙ軸ベース１４の微小回転と
いうのは、Ｘ軸、Ｙ軸に直角なＺ軸回りの回転であり、
以下、これをＺ軸回りの回転θと呼ぶ。
設けられた、各々独立に制御可能な２本のリニアモータ
１８、２３で駆動される。Ｙ軸ベース１４の位置は、リ
ニアモータ１８、２３に隣接してステージベース９に配
置された２本のリニアエンコーダ１６、２１により互い
に反対側の２箇所において検出される。これにより、Ｘ
軸と同様にバックラッシ等による精度劣化がなく、高速
応答化が可能となっている。また、Ｙ軸ベース１４の互
いに反対端部における２箇所においてリニアエンコーダ
１６、２１によりＹ軸方向の位置を検出することで、各
々の検出値の差によりＹ軸ベース１４の微小回転を検出
・制御することができる。Ｙ軸ベース１４の微小回転と
いうのは、Ｘ軸、Ｙ軸に直角なＺ軸回りの回転であり、
以下、これをＺ軸回りの回転θと呼ぶ。
【００２２】ステージ２のヒータからの輻射熱がＸ軸ベ
ース６や、Ｙ軸ベース１４に伝達されるのを防止するた
めに、トロリ３とＸ軸ベース６との間には、水冷板４が
設けられている。また、Ｘ軸べース６にも水冷機構が内
蔵されており、ステージ２のヒータからの輻射熱による
リニアベアリング等のトラブルを防止している。更に、
ステージ動作中に発熱する各リニアモータのコイルは、
各リニアモータに設けたＸ軸モータコイル冷却板１１、
Ｙ軸モータコイル冷却板１９、２４により冷却する構成
としている。また、Ｘ軸リニアエンコーダ１０、Ｙ軸リ
ニアエンコーダ１６、２１に関しても、熱変形による破
損・精度劣化を防ぐために、それぞれにＸ軸エンコーダ
冷却板１２、Ｙ軸エンコーダ冷却板１７、２２を設ける
ことにより一定温度に保持する構成としている。
ース６や、Ｙ軸ベース１４に伝達されるのを防止するた
めに、トロリ３とＸ軸ベース６との間には、水冷板４が
設けられている。また、Ｘ軸べース６にも水冷機構が内
蔵されており、ステージ２のヒータからの輻射熱による
リニアベアリング等のトラブルを防止している。更に、
ステージ動作中に発熱する各リニアモータのコイルは、
各リニアモータに設けたＸ軸モータコイル冷却板１１、
Ｙ軸モータコイル冷却板１９、２４により冷却する構成
としている。また、Ｘ軸リニアエンコーダ１０、Ｙ軸リ
ニアエンコーダ１６、２１に関しても、熱変形による破
損・精度劣化を防ぐために、それぞれにＸ軸エンコーダ
冷却板１２、Ｙ軸エンコーダ冷却板１７、２２を設ける
ことにより一定温度に保持する構成としている。
【００２３】なお、移動するＸ軸リニアエンコーダ１
０、Ｙ軸リニアエンコーダ１６、２１から固定部に検出
信号用のケーブルを導出するために、Ｘ軸リニアエンコ
ーダ１０に対応してケーブルガイド１３が設けられ、Ｙ
軸リニアエンコーダ１６、２１に対応してそれぞれケー
ブルガイド２５が設けられる。
０、Ｙ軸リニアエンコーダ１６、２１から固定部に検出
信号用のケーブルを導出するために、Ｘ軸リニアエンコ
ーダ１０に対応してケーブルガイド１３が設けられ、Ｙ
軸リニアエンコーダ１６、２１に対応してそれぞれケー
ブルガイド２５が設けられる。
【００２４】Ｘ軸リニアベアリング７、Ｙ軸リニアベア
リング１５、２０やＸ軸リニアモータ８、Ｙ軸リニアモ
ータ１８、２３は、周知のものを用いることができる
が、例えばリニアモータについては、特願平１０−３５
８２１６号に開示されているものを用いても良い。
リング１５、２０やＸ軸リニアモータ８、Ｙ軸リニアモ
ータ１８、２３は、周知のものを用いることができる
が、例えばリニアモータについては、特願平１０−３５
８２１６号に開示されているものを用いても良い。
【００２５】図４を参照して、Ｘ軸リニアモータ８に対
する制御は、Ｘ軸フィードバック制御系により行われ
る。Ｘ軸リニアエンコーダ１０の位置検出値をフィード
バックしてＸ軸制御量目標値との偏差を減算器４１で検
出し、この偏差をＸ軸位置制御器４２に与える。Ｘ軸位
置制御器４２では、この偏差に基づいてＸ軸に関する制
御量指令値を作成する。Ｘ軸フィードバック制御系の制
御ループには、外乱オブザーバ４３−１を用いた外乱補
償器４３を付加し、リニアベアリングの摩擦抵抗変動、
水供給配管、電流供給ケーブル抵抗などの外乱要因をキ
ャンセルする構成としている。外乱補償器４３から出力
される制御量指令値は、Ｘ軸リニアモータ８用のモータ
アンプ４４に電流指令値として与えられ、モータアンプ
４４は与えられた電流指令値に基づいてＸ軸リニアモー
タ８の制御を行う。
する制御は、Ｘ軸フィードバック制御系により行われ
る。Ｘ軸リニアエンコーダ１０の位置検出値をフィード
バックしてＸ軸制御量目標値との偏差を減算器４１で検
出し、この偏差をＸ軸位置制御器４２に与える。Ｘ軸位
置制御器４２では、この偏差に基づいてＸ軸に関する制
御量指令値を作成する。Ｘ軸フィードバック制御系の制
御ループには、外乱オブザーバ４３−１を用いた外乱補
償器４３を付加し、リニアベアリングの摩擦抵抗変動、
水供給配管、電流供給ケーブル抵抗などの外乱要因をキ
ャンセルする構成としている。外乱補償器４３から出力
される制御量指令値は、Ｘ軸リニアモータ８用のモータ
アンプ４４に電流指令値として与えられ、モータアンプ
４４は与えられた電流指令値に基づいてＸ軸リニアモー
タ８の制御を行う。
【００２６】図５をも参照して、外乱補償器４３は、Ｘ
軸において高精度な位置決めを行い、かつ軌跡追従性を
向上するために採用されている。外乱補償器４３におい
ては、まず２次低域通過型フィルタＧ（ｓ）からなるフ
ィルタ４３−１１を用いて、Ｘ軸位置制御器４２から出
力された制御量指令値をフィルタリングする。Ｇ（ｓ）
は伝達関数である。また、Ｘ軸リニアモータ８及び負荷
を擬似した制御対象の逆モデル（Ｍｓ2 ／Ｋｆ、ここ
で、Ｍはリニアモータ及び負荷の質量、Ｋｆはモータ推
力定数）及び２次低域通過型フィルタＧ（ｓ）から成る
フィルタ４３−１２を用いて、Ｘ軸リニアエンコーダ１
０にて検出された位置検出値より制御対象に印加されて
いる実推力推定値を推定する。そして、減算器４３−１
３により両者の差分をとることにより、制御対象に印加
されている外乱力を推定する。更に、推定された外乱力
を、減算器４５により制御量指令値から減算することに
より外乱力を補償する。
軸において高精度な位置決めを行い、かつ軌跡追従性を
向上するために採用されている。外乱補償器４３におい
ては、まず２次低域通過型フィルタＧ（ｓ）からなるフ
ィルタ４３−１１を用いて、Ｘ軸位置制御器４２から出
力された制御量指令値をフィルタリングする。Ｇ（ｓ）
は伝達関数である。また、Ｘ軸リニアモータ８及び負荷
を擬似した制御対象の逆モデル（Ｍｓ2 ／Ｋｆ、ここ
で、Ｍはリニアモータ及び負荷の質量、Ｋｆはモータ推
力定数）及び２次低域通過型フィルタＧ（ｓ）から成る
フィルタ４３−１２を用いて、Ｘ軸リニアエンコーダ１
０にて検出された位置検出値より制御対象に印加されて
いる実推力推定値を推定する。そして、減算器４３−１
３により両者の差分をとることにより、制御対象に印加
されている外乱力を推定する。更に、推定された外乱力
を、減算器４５により制御量指令値から減算することに
より外乱力を補償する。
【００２７】このように、実推力推定時の制御対象モデ
ルとして、Ｘ軸リニアモータ８及び負荷の質量からなる
モデルを用いることで、リニアベアリングの摩擦抵抗変
動、水供給配管、電流供給ケーブル抵抗の変動等を外乱
力として推定し補償することができる。
ルとして、Ｘ軸リニアモータ８及び負荷の質量からなる
モデルを用いることで、リニアベアリングの摩擦抵抗変
動、水供給配管、電流供給ケーブル抵抗の変動等を外乱
力として推定し補償することができる。
【００２８】図６を参照して、Ｙ軸については、Ｙ軸リ
ニアベアリング１５、２０の取り付け間隔が大きいた
め、Ｚ軸周りの回転θによるヨーイング誤差が生じやす
い構成となっている。そこで、位置決め精度を確保する
ために、各々のリニアベアリングに位置計測・駆動系を
設ける構成とし、Ｙ−θ制御方式を採用した。
ニアベアリング１５、２０の取り付け間隔が大きいた
め、Ｚ軸周りの回転θによるヨーイング誤差が生じやす
い構成となっている。そこで、位置決め精度を確保する
ために、各々のリニアベアリングに位置計測・駆動系を
設ける構成とし、Ｙ−θ制御方式を採用した。
【００２９】Ｙ軸リニアエンコーダ１６の位置検出値を
Ｙ１FB、Ｙ軸リニアエンコーダ２１の位置検出値をＹ２
FBとすると、Ｙ軸のフィードバック値ＹFBは、位置検出
値Ｙ１FBとＹ２FBとを加算する加算器６１、１／２演算
器６２により、 ＹFB＝（Ｙ１FB＋Ｙ２FB）／２ となる。
Ｙ１FB、Ｙ軸リニアエンコーダ２１の位置検出値をＹ２
FBとすると、Ｙ軸のフィードバック値ＹFBは、位置検出
値Ｙ１FBとＹ２FBとを加算する加算器６１、１／２演算
器６２により、 ＹFB＝（Ｙ１FB＋Ｙ２FB）／２ となる。
【００３０】また、θ軸のフィードバック値θFBは、位
置検出値Ｙ１FBとＹ２FBとを減算する第２の減算器６７
により、 θFB＝Ｙ１FB−Ｙ２FB となる。
置検出値Ｙ１FBとＹ２FBとを減算する第２の減算器６７
により、 θFB＝Ｙ１FB−Ｙ２FB となる。
【００３１】第１の減算器６３は、Ｙ軸制御量目標値Ｙ
ref とフィードバック値ＹFBとの偏差を算出し、Ｙ軸位
置制御器６４はこの偏差に基づいてＹ軸に関する制御量
指令値ＦY を作成する。
ref とフィードバック値ＹFBとの偏差を算出し、Ｙ軸位
置制御器６４はこの偏差に基づいてＹ軸に関する制御量
指令値ＦY を作成する。
【００３２】一方、第３の減算器６８は、θ軸制御量目
標値θref とフィードバック値θFBとの偏差を算出し、
θ軸位置制御器６９はこの偏差に基づいてθ軸に関する
制御量指令値Ｆθを作成する。
標値θref とフィードバック値θFBとの偏差を算出し、
θ軸位置制御器６９はこの偏差に基づいてθ軸に関する
制御量指令値Ｆθを作成する。
【００３３】次に、第４の減算器６５によりＹ軸に関す
る制御量指令値ＦY とθ軸に関する制御量指令値Ｆθと
の減算が行われ、減算結果が力指令値ＦY2としてモータ
アンプ６６に出力される。
る制御量指令値ＦY とθ軸に関する制御量指令値Ｆθと
の減算が行われ、減算結果が力指令値ＦY2としてモータ
アンプ６６に出力される。
【００３４】一方、加算器７０によりＹ軸に関する制御
量指令値ＦY とθ軸に関する制御量指令値Ｆθとの加算
が行われ、加算結果が力指令値ＦY1としてモータアンプ
７１に出力される。
量指令値ＦY とθ軸に関する制御量指令値Ｆθとの加算
が行われ、加算結果が力指令値ＦY1としてモータアンプ
７１に出力される。
【００３５】各Ｙ軸リニアモータ１８、２３への力指令
値ＦY1、ＦY2の演算式は次式のようになる。
値ＦY1、ＦY2の演算式は次式のようになる。
【００３６】ＦY1＝ＦY ＋Ｆθ ＦY2＝ＦY −Ｆθ 上式の演算結果を各モータアンプ６６、７１に出力する
ことにより、Ｙ−θ方向の制御が行われる。このよう
に、Ｙ軸ベース１４に独立に制御可能な駆動系をある一
定の距離をおいて設置することにより、Ｙ軸ベース１４
のヨーイングによる誤差の発生を抑制し、ステージの位
置決め精度を向上させることができる。
ことにより、Ｙ−θ方向の制御が行われる。このよう
に、Ｙ軸ベース１４に独立に制御可能な駆動系をある一
定の距離をおいて設置することにより、Ｙ軸ベース１４
のヨーイングによる誤差の発生を抑制し、ステージの位
置決め精度を向上させることができる。
【００３７】以上のように、Ｘ軸、Ｙ軸について、各々
のリニアモータの推力を各々のリニアエンコーダの位置
フィードバック値に基づいて制御することで、ステージ
２上に乗せられたワーク１の位置決めをＸ軸、Ｙ軸の２
方向について行うことができる。
のリニアモータの推力を各々のリニアエンコーダの位置
フィードバック値に基づいて制御することで、ステージ
２上に乗せられたワーク１の位置決めをＸ軸、Ｙ軸の２
方向について行うことができる。
【００３８】以上、本発明の実施の形態をＸ、Ｙの２軸
ステージに適用して説明したが、本発明は、以下のよう
な変更が可能である。例えば、本発明は、Ｘ軸あるいは
Ｙ軸の１軸のみでも適用可能である。また、Ｚ軸回りの
回転駆動機構やＺ軸方向の駆動機構を付加することも可
能である。すなわち、積極的にヨーイング角θを制御す
る回転駆動機構を付加することにより、Ｙ軸ベース１４
を微小回転させることが可能となる。駆動機構としてリ
ニアモータを使用することにより、駆動部が非接触であ
りパーティクルフリーである。しかし、駆動源はリニア
モータに限定されず、超音波モータやエアシリンダ等を
用いても良い。一方、位置検出手段としては、リニアエ
ンコーダを採用しているが、可動部に光学ミラー等を取
り付けることにより、レーザ干渉計等を用いて位置を検
出しても良い。案内方式は、リニアベアリングによる転
がり案内を採用したが、静圧案内、滑り案内等を用いて
も良い。
ステージに適用して説明したが、本発明は、以下のよう
な変更が可能である。例えば、本発明は、Ｘ軸あるいは
Ｙ軸の１軸のみでも適用可能である。また、Ｚ軸回りの
回転駆動機構やＺ軸方向の駆動機構を付加することも可
能である。すなわち、積極的にヨーイング角θを制御す
る回転駆動機構を付加することにより、Ｙ軸ベース１４
を微小回転させることが可能となる。駆動機構としてリ
ニアモータを使用することにより、駆動部が非接触であ
りパーティクルフリーである。しかし、駆動源はリニア
モータに限定されず、超音波モータやエアシリンダ等を
用いても良い。一方、位置検出手段としては、リニアエ
ンコーダを採用しているが、可動部に光学ミラー等を取
り付けることにより、レーザ干渉計等を用いて位置を検
出しても良い。案内方式は、リニアベアリングによる転
がり案内を採用したが、静圧案内、滑り案内等を用いて
も良い。
【００３９】本発明は、高真空あるいは、ある一定圧力
の不活性ガス雰囲気中で位置決め動作を必要とする密封
チャンバ内における加工装置や検査装置等全般に適用可
能である。
の不活性ガス雰囲気中で位置決め動作を必要とする密封
チャンバ内における加工装置や検査装置等全般に適用可
能である。
【００４０】
【発明の効果】本発明によれば、以下のような効果が得
られる。
られる。
【００４１】１）リニアモータ駆動方式を採用したこと
により、従来では困難であった、高真空下での、高速・
高精度な位置決めを行うことが可能となった。
により、従来では困難であった、高真空下での、高速・
高精度な位置決めを行うことが可能となった。
【００４２】２）Ｘ軸フィードバック制御系に、外乱オ
ブザーバを付加したことで、プロセス上重要となる低速
域での高い軌跡追従性能が得られる。
ブザーバを付加したことで、プロセス上重要となる低速
域での高い軌跡追従性能が得られる。
【００４３】３）Ｙ軸を、独立に制御可能な２組のリニ
アモータにより駆動する構成としたことで、Ｙ−θ制御
系を構成することが可能となり、Ｚ軸周りの回転（ヨー
イング）による位置決め精度劣化を防ぐことができる。
アモータにより駆動する構成としたことで、Ｙ−θ制御
系を構成することが可能となり、Ｚ軸周りの回転（ヨー
イング）による位置決め精度劣化を防ぐことができる。
【００４４】４）各構成要素に冷却部を取り付けたこと
により、対流による放熱のない高真空下でも、高い位置
決め精度を確保し、熱によるトラブルの発生しにくい真
空内リニアアクチュエータ駆動機構を提供できる。
により、対流による放熱のない高真空下でも、高い位置
決め精度を確保し、熱によるトラブルの発生しにくい真
空内リニアアクチュエータ駆動機構を提供できる。
【図１】本発明による真空内リニアアクチュエータ駆動
機構の縦断面図である。
機構の縦断面図である。
【図２】図１の線Ｃ−Ｃによる縦断面図である。
【図３】図１の駆動機構の概略構成を説明するための図
である。
である。
【図４】図１の装置におけるＸ軸に関する制御系のブロ
ック構成図である。
ック構成図である。
【図５】図４における外乱補償器の具体的構成を説明す
るための図である。
るための図である。
【図６】図１の装置におけるＹ軸に関する制御系のブロ
ック構成図である。
ック構成図である。
【図７】従来のＸ−Ｙステージ装置を説明するための図
である。
である。
１ ワーク ２ ステージ ３ トロリ ４ 水冷板 ６ Ｘ軸ベース ７ Ｘ軸リニアベアリング ８ Ｘ軸リニアモータ ９ ステージベース １０ Ｘ軸リニアエンコーダ １４ Ｙ軸ベース １５、２０ Ｙ軸リニアベアリング １８、２３ Ｙ軸リニアモータ １６、２１ Ｙ軸リニアエンコーダ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 冨田 良幸 神奈川県平塚市夕陽ヶ丘63番30号 住友重 機械工業株式会社平塚事業所内 (72)発明者 小梁川 靖 神奈川県平塚市夕陽ヶ丘63番30号 住友重 機械工業株式会社平塚事業所内 Ｆターム(参考） 5F031 CA05 HA38 HA57 LA08 LA12 MA30 NA04 NA05 5H303 AA05 BB02 BB08 BB12 BB14 CC06 CC10 DD04 EE03 EE07 FF06 HH02 HH07 KK02 KK11
Claims (8)
- 【請求項１】 密封チャンバ内に配置されてワークを搭
載するためのステージを少なくとも一軸方向に駆動する
ための駆動源と、 前記ステージの移動を案内するための案内機構と、 前記ステージの位置を検出するための位置検出手段と、 該位置検出手段からの位置検出値と位置の制御量目標値
とから前記駆動源への指令値を算出する位置制御器を含
んで、前記駆動源をフィードバック制御系にて制御する
ための制御装置とを備えたことを特徴とする真空内リニ
アアクチュエータ機構。 - 【請求項２】 請求項１記載の真空内リニアアクチュエ
ータ機構において、 前記駆動源として、前記ステージをＸ軸用リニアモータ
によりＸ軸方向に駆動するためのＸ軸駆動機構と、前記
ステージをＹ軸用リニアモータによりＹ軸方向に駆動す
るためのＹ軸駆動機構とを含み、 前記ステージは、前記Ｘ軸駆動機構によりＸ軸方向に駆
動されるＸ軸ベースに搭載され、前記Ｘ軸駆動機構及び
前記Ｘ軸ベースが、前記Ｙ軸駆動機構によりＹ軸方向に
駆動されるＹ軸ベースに搭載されていることを特徴とす
る真空内リニアアクチュエータ機構。 - 【請求項３】 請求項２記載の真空内リニアアクチュエ
ータ機構において、 前記案内機構として、前記Ｙ軸ベースに設けられて前記
Ｘ軸ベースを案内するためのＸ軸リニアベアリングと、
ステージベースに設けられて前記Ｙ軸ベースを案内する
ためのＹ軸リニアベアリングとを含むことを特徴とする
真空内リニアアクチュエータ機構。 - 【請求項４】 請求項３記載の真空内リニアアクチュエ
ータ機構において、 前記位置検出手段として、前記Ｘ軸ベースの位置を検出
するためのＸ軸リニアエンコーダと、前記Ｙ軸ベースの
位置を検出するためのＹ軸リニアエンコーダとを有する
ことを特徴とする真空内リニアアクチュエータ機構。 - 【請求項５】 請求項４記載の真空内リニアアクチュエ
ータ機構において、 前記制御装置は、前記Ｘ軸駆動機構をフィードバック制
御系にて制御するためのＸ軸フィードバック制御部を有
し、 該Ｘ軸フィードバック制御部は、Ｘ軸用の前記位置制御
器からの制御量指令値を２次低域通過型フィルタにてフ
ィルタリングした制御量推定値と、前記Ｘ軸用リニアモ
ータ及び負荷を擬似した制御対象の逆モデル及び２次低
域通過型フィルタにて前記Ｘ軸リニアエンコーダからの
位置検出値より推定した実推力推定値との差分を推定外
乱力として推定する外乱オブザーバと、前記推定外乱力
を前記制御量指令値から減算することで外乱を補償する
減算器とから成る外乱補償器を含むことを特徴とする真
空内リニアアクチュエータ機構。 - 【請求項６】 請求項５記載の真空内リニアアクチュエ
ータ機構において、 前記Ｙ軸駆動機構は、互いに平行に配設された一対の第
１、第２の前記Ｙ軸用リニアモータを有し、該第１、第
２のＹ軸用リニアモータに対応して一対の第１、第２の
Ｙ軸リニアエンコーダが設けられ、 前記制御装置は更に、前記Ｙ軸駆動機構をフィードバッ
ク制御系にて制御するためのＹ軸フィードバック制御部
と、前記Ｙ軸ベースのＺ軸回りの回転量を制御するため
のθ軸フィードバック制御部とを有し、 前記Ｙ軸フィードバック制御部は、前記第１、第２のＹ
軸用リニアモータからの第１、第２の位置検出値の平均
値を算出する手段と、Ｙ軸制御量目標値と前記平均値と
の間の第１の差を算出する第１の減算手段と、前記第１
の差に基づいてＹ軸の制御量指令値を推定するＹ軸位置
制御器とを含み、 前記θ軸フィードバック制御部は、前記第１、第２の位
置検出値との間の第２の差を算出する第２の減算手段
と、θ軸制御量目標値と前記第２の差との間の第３の差
を算出する第３の減算手段と、前記第３の差に基づいて
θ軸の制御量指令値を推定するθ軸位置制御器とを含
み、 前記Ｙ軸フィードバック制御部は更に、前記Ｙ軸の制御
量指令値と前記θ軸の制御量指令値との間の差を算出し
て前記第１のＹ軸用リニアモータに指令値として出力す
る第４の減算手段を有し、 前記θ軸フィードバック制御部は更に、前記θ軸の制御
量指令値と前記Ｙ軸の制御量指令値とを加算して前記第
２のＹ軸用リニアモータに指令値として出力する加算手
段を有することを特徴とする真空内リニアアクチュエー
タ機構。 - 【請求項７】 請求項４記載の真空内リニアアクチュエ
ータ機構において、前記ステージには加熱用のヒータが
配設されており、前記ステージと前記Ｘ軸ベースとの
間、前記Ｘ軸リニアモータ、前記第１、第２のＹ軸リニ
アモータ、前記Ｘ軸リニアエンコーダ、前記第１、第２
のＹ軸リニアエンコーダにはそれぞれ、水冷手段が組み
合わされていることを特徴とする真空内リニアアクチュ
エータ機構。 - 【請求項８】 密封チャンバ内に配置されてワークを搭
載するためのステージの駆動源として、前記ステージを
Ｘ軸用リニアモータによりＸ軸方向に駆動するためのＸ
軸駆動機構と、前記ステージをＹ軸用リニアモータによ
りＹ軸方向に駆動するためのＹ軸駆動機構とを含み、前
記ステージは、前記Ｘ軸駆動機構によりＸ軸方向に駆動
されるＸ軸ベースに搭載され、前記Ｘ軸駆動機構及び前
記Ｘ軸ベースが、前記Ｙ軸駆動機構によりＹ軸方向に駆
動されるＹ軸ベースに搭載されている真空内リニアアク
チュエータ機構の制御方法であって、 前記ステージの位置を検出するための位置検出手段を有
し、 該位置検出手段からの位置検出値と位置の制御量目標値
とから前記各リニアモータをそれぞれフィードバック制
御系にて制御するようにしたことを特徴とする真空内リ
ニアアクチュエータ機構の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15832099A JP3448733B2 (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | 真空内リニアアクチュエータ機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15832099A JP3448733B2 (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | 真空内リニアアクチュエータ機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000347740A true JP2000347740A (ja) | 2000-12-15 |
| JP3448733B2 JP3448733B2 (ja) | 2003-09-22 |
Family
ID=15669070
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15832099A Expired - Fee Related JP3448733B2 (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | 真空内リニアアクチュエータ機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3448733B2 (ja) |
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-
1999
- 1999-06-04 JP JP15832099A patent/JP3448733B2/ja not_active Expired - Fee Related
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