KR100776108B1 - 잉크젯 펜용 오리피스 판의 제조 방법 및 잉크젯프린트헤드용 오리피스 판 - Google Patents

잉크젯 펜용 오리피스 판의 제조 방법 및 잉크젯프린트헤드용 오리피스 판 Download PDF

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Abstract

본 발명은 잉크젯 프린터용 오리피스 판(40)의 제조 방법에 관한 것이다. 오리피스 판은 오리피스(42, 44) 및 연결된 잉크 챔버(60, 62) 모두를 규정한다. 오리피스 판은 동일한 프린트헤드(26)에서 하나의 챔버(또는 오리피스)가 제 1 챔버에 가까울 수 있는 다른 챔버(또는 오리피스)보다 더 깊게(또한, 소망한다면 더 넓고 더 길게) 되도록 구성된다. 마찬가지로, 제 1 챔버(60)로 잉크를 전달하는 채널(64)은 필요에 따라 오리피스 판의 다른 채널(66)에 대해서 보다 깊거나 보다 얕도록 구성될 수도 있다.

Description

잉크젯 펜용 오리피스 판의 제조 방법 및 잉크젯 프린트헤드용 오리피스 판{INK CHAMBER AND ORIFICE SHAPE VARIATIONS IN AN INK-JET ORIFICE PLATE}
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 형성된 오리피스 판을 갖는 프린트 헤드를 구비하는 잉크젯 카트리지의 사시도,
도 2는 카트리지내에 수용된 4가지 칼라의 잉크와 결합된 4개의 오리피스 세트의 배열을 나타내는 프린트헤드의 확대 평면도,
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 제조된 오리피스 판을 도시하는 것으로, 도 2의 3-3선을 따라 취한 프린트헤드의 확대 단면도,
도 4 및 도 5는 본 발명에 따른 오리피스 판을 제조할 때 실행되는 바람직한 단계를 나타내는 다이어그램,
도 6은 본 발명에 따라 제조된 프린트헤드 및 오리피스 판의 다른 바람직한 실시예를 나타내는 단면도.
도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
40 : 오리피스 판 42, 44 : 오리피스
48 : 기판 58 : 제어층
60, 62 : 챔버 64 : 채널
본 발명은 잉크젯 프린터에 관한 것으로, 특히 이러한 프린터에 사용되는 잉크 카트리지의 프린트헤드내에 합체되는 오리피스 판에 관한 것이다.
잉크젯 프린터는 잉크를 저장하는 하나 또는 그 이상의 잉크 카트리지를 구비한다. 일부 설계에 있어서, 카트리지는 둘 이상의 칼라 잉크 저장통을 별개로 갖는다. 각 저장통은 도관을 경유하여 프린트헤드에 연결되며, 이 프린트헤드는 카트리지의 본체에 장착된다.
프린트헤드는 프린터를 통하여 전진하는 용지와 같은 프린팅 매체로 프린트헤드로부터 미세한 액적(droplet)을 분출하도록 제어된다. 액적이 용지상에 인식가능한 이미지를 형성하도록 액적의 분출이 제어된다.
잉크 액적은 대부분의 프린트헤드를 덮는 오리피스 판내에 형성된 오리피스를 통하여 분출된다. 오리피스 판은 전형적으로 프린트헤드의 잉크 방벽 층의 꼭대기에 접합된다. 이 층은 잉크 챔버를 규정하도록 형성된다. 각 챔버는 잉크 액적이 분출되는 오리피스와 정렬되고 이것과 연속적으로 되어 있다.
잉크 액적은 박막 레지스터와 같은 열 변환기에 의해 잉크 챔버로부터 분출된다. 레지스터는 절연 기판상에 지지되고, 절연 기판은 이산화규소와 같은 절연층이 형성되어 있는 통상의 실리콘 웨이퍼인 것이 바람직하다. 레지스터는 본 기술분야에 공지되고 예를 들어 본 명세서에 참조로 인용되는 미국 특허 제 4,719,477 호에 개시된 바와 같이 적합한 패시베이션(passivation)층 및 다른 층으로 덮여 있다.
레지스터는 전류의 펄스로 선택적으로 구동(가열)된다. 레지스터로부터의 열은 잉크 챔버내에서 증기 기포(vapor bubble)를 형성하여서 액적을 연관된 오리피스를 통해 분출하기에 충분한 것이다. 각 액적 분출 후에 챔버는 잉크 저장통의 도관과 연결된 채널을 통하여 챔버내로 흐르는 잉크로 보충된다.
백색 매체로의 칼라 프린팅은 적어도 3개의 상이한 칼라(청록색, 황색, 자홍색)의 잉크를 사용하여 수행된다. 이러한 3개의 칼라는 섞여서 검정색을 형성할 수 있다. 그러나, 효율성의 견지에서, 통상은 별도의 검정색 잉크 공급원이 제공된다.
일반적으로, 프린트 품질은 여러가지 중에서도 특히 프린트헤드로부터 분출되는 각각의 잉크 액적의 체적을 정밀하게 제어할 수 있는 경우에 개선된다. 구체적으로, 프린트 품질은 잉크 액적의 하나의 칼라의 체적을 잉크 액적의 다른 칼라의 체적에 대해서 제어할 수 있는 경우에 향상된다. 예를 들면, 청색 도트를 생성하기 위하여, 청록색 잉크의 액적과 자홍색 잉크의 액적이 프린트 매체의 동일한 위치로 분출된다. 검정색 도트는 검정색 잉크의 단일 액적로 만들어진다. 청색 도트(또는 임의의 다른 2개 성분의 칼라)가 허용할 수 없을 정도로 커지지 않게 하기 위하여, 프린트헤드의 잉크 챔버 및/또는 오리피스는 검정색 잉크 액적이 청록색, 황색 및 자홍색 잉크에 대해서 생성되는 액적보다 대략 2배정도 크도록 설계될 수 있다.
잉크젯 프린터에 대한 다른 중요한 설계 고려사항은 턴-온 에너지(turn-on energy) 또는 TOE로 공지된 것과 관련되어 있다. 이것은 잉크의 액적을 분출하기 위해 증기 기포를 발생하기에 충분한 양에 의해 챔버내의 잉크를 가열하도록 레지스터에 의해 요구되는 에너지의 양을 지칭한다. 본질적으로 프린트헤드의 작동 온도를 감소시키고 또 잉크내의 기포의 발생과 같은 높은 작동 온도와 관련된 문제를 회피하기 위해, TOE를 최소화시키는 것이 바람직하다.
잉크 챔버가 보충될 수 있는 빈도는 액적이 분출될 수 있는 빈도를 제한하기 때문에 챔버 보충 시간은 프린터의 전체 작업 처리량에 대한 제한 요인일 수 있다. 또한, 챔버를 보충하는 잉크의 흐름을 가능한 한 신속하게 함으로써, 분출된 액적이 챔버내의 잉크의 임의의 웨이브 작용에 의한 영향을 받지 않도록 잉크 챔버와 그에 연결된 채널을 구성하는 것도 중요하다.
상술한 설계 고려사항을 충족하는 하나의 방법은 오리피스, 잉크 챔버 및 잉크 채널의 형상을 변경하는 것이다. 종래에는, 챔버가 형성된 방벽 층은 프린트헤드의 영역을 가로질러 일정한 깊이를 갖는 단일 층으로 부착되었다. 일정한 깊이의 오리피스 판은 방벽 층에 부착되었다. 그 결과, 하나의 챔버에 대해 다른 챔버의 형상을 변경하는 것과 관련하여, 챔버의 길이 또는 폭을 변경하는 것으로 제한되었다. 마찬가지로, 하나의 오리피스 크기는 그 깊이가 아닌 직경을 변경함으로써 다른 것에 대해 변경될 수 있다.
본 발명은 잉크젯 프린트헤드 설계자를 위한 선택 범위를 넓힌다. 본 발명은 오리피스 및 잉크 챔버 모두를 규정하는 잉크젯 프린터의 오리피스 판의 제조 방법에 관한 것이다. 오리피스 판은 동일한 프린트헤드에서 하나의 챔버가 제 1 챔버에 가까울 수 있는 다른 챔버보다 더 깊게(또한 소망한다면, 더 넓고 더 길게) 되도록 구성된다. 마찬가지로, 제 1 챔버로 잉크를 전달하는 채널은 필요에 따라 프린트헤드상의 다른 채널에 대해서 보다 깊거나 보다 얕도록 구성될 수도 있다.
본 발명의 이점은 청록색, 황색, 자홍색 및 검정색의 4개의 칼라 잉크 세트의 저장통을 구비하는 잉크젯 카트리지의 바람직한 실시예와 관련하여 가장 잘 고찰된다. 본 발명에 의해 제공된 챔버 형상, 오리피스 형상 및 채널 형상의 변형은 다른 칼라 세트에 대해 챔버, 채널 및/또는 오리피스의 하나의 칼라 세트에 실행될 수 있다. 예를 들면, 검정색 잉크와 관련된 잉크 챔버는 청록색 잉크와 관련된 챔버보다 깊게 형성될 수 있다.
본 발명을 실시하기 위한 바람직한 방법은 오리피스 판 및 방벽 모두에 대해 포토레지스트 재료의 층을 사용하는 것이다. 이 재료는 오리피스 판의 영역을 가로지르는 전자기 방사선의 강도를 변경하여 층내에서 발생하는 중합체 교차 결합(cross-linking)의 깊이를 변경하는 방식으로 전자기 방사선(예를 들면, UV 광)에 노출된다. 이에 의해, 동일한 오리피스 판에서의 노출 제어 마스크의 배열 및 잉크 챔버의 상이한 크기 등에 의하여 선택하도록 할 수 있다.
본 발명의 다른 이점 및 특징은 본 명세서 및 도면의 하기 부분을 검토함으로써 명확하게 될 것이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예는 잉크젯 카트리지(20)상에 유지되어 있다. 카트리지(20)는 4개의 잉크(청록색, 황색, 자홍색 및 검정색 잉크)의 공급부를 별개로 수용하기 위한 액체 잉크 저장통을 포함하는 플라스틱 본체(22)를 구비한다.
펜 본체(22)는 하측으로 연장된 스나우트(snout)(24)를 갖도록 형성된다. 프린트헤드(26)는 스나우트(24)의 하측면에 부착된다. 프린트헤드에는 프린팅 매체상에 잉크 액적이 분출되는 미세한 오리피스가 형성된다.
도 2에 도시된 바와 같이, 오리피스는 청록색 세트(30), 황색 세트(32), 자홍색 세트(34) 및 검정색 세트(36)의 몇 개의 오리피스의 세트로 배열된다. 각 세트는 그 이름과 관련된 잉크 칼라를 안내한다. 도 2는 본 발명에 따라 형성되고 이하에 보다 상세히 설명되는 오리피스 판(40)에 의해 덮여 있는 프린트헤드의 외측 표면을 도시하고 있다. 그러나, 본원에서는 용어 "오리피스 판"은 이하에서 프린트헤드의 오리피스, 잉크 챔버(그에 따라, 별개의 방벽 층을 제거함) 및 적어도 하나의 실시예에서 채널을 하나의 층으로 결합하는 일체형 부재를 의미하고자 한다는 것은 주목할 만하다.
도 3은 도 2의 3-3선을 따라 취한 프린트헤드(26)의 부분 단면도로서, 검정색 오리피스의 세트(36)중 하나의 오리피스(42) 및 자홍색 오리피스의 세트(34)중 하나의 오리피스(44)를 도시한 것이다.
프린트헤드는 실리콘 베이스(50)를 갖는 기판(48)을 구비하고, 실리콘 베이스는 이산화규소와 같은 절연 층이 그 위에 성장된 통상의 실리콘 웨이퍼인 것이 바람직하다. 미국 특허 제 4,719,477 호와 같은 종래 기술에 설명된 바와 같이, 기판은 탄탈 알루미늄과 같은 저항 재료의 층을 구비하고, 저항 재료의 층의 각 부분(52)은 카트리지(20)의 외부에 장착되는 플렉스 회로(54)(도 1)상의 트레이스(traces)에 전도층에 의해 각각 연결되어 있다. 이러한 트레이스는 프린터 캐리지(도시하지 않음)상의 유사 콘택트(contacts)와 정합하는 콘택트(56)에서 종료하고, 프린트 캐리지는 리본형 다중 전도체(ribbon-type multi conductor) 등에 의해 프린터의 마이크로프로세서에 연결된다.
도 3을 참조하면, 이하에서 레지스터(52)로서 지칭되는 저항층의 각 부분(52)은 기판(48)의 제어층(58)으로서 집합적으로 지칭될 수 있는 것의 일부이고, 기판(48)은 예를 들어 미국 특허 제 4,719,477 호에 설명된 패시베이션층 및 다른 서브 층을 구비한다.
오리피스 판(40)은 제어층에 고정되는 일체형 부재이고, 각 오리피스마다 오리피스와 이어져 있어 오리피스와 유체 연통되어 있는 잉크 챔버를 그 하부에 구비한다. 도 3은 대표적인 "칼라" 챔버(62)(자홍색 잉크 저장통에 연결됨) 및 대표적인 "검정색" 챔버(62)(검정색 잉크 저장통에 연결됨)를 도시한 것이다. 레지스터(52)는 전류의 펄스에 의해 선택적으로 구동(가열)된다. 레지스터로부터의 열은 챔버(60, 62)중 선택된 챔버내의 잉크의 일부를 기화시켜 관련 오리피스(44, 42)를 통하여 액적을 분출시키기에 충분하다.
챔버는 각 액적 분출 후에 잉크의 대응하는 저장통과 연결된 채널을 통하여 챔버내로 흐르는 잉크로 보충된다. 도 3에서 이러한 "칼라" 채널(64)은 칼라 챔버(60)와 연결되어 있다. 한편, "검정색" 채널(66)은 검정색 챔버(62)와 연결되어 있다. 도 6과 관련하여 설명되는 바와 같이, 잉크 챔버는 기판(50) 및 제어층(58)을 관통하여 연장된 슬롯을 경유하여 충전 및 보충될 수 있으므로, 오리피스 판내의 채널은 필요하지 않거나 또는 제공되지 않는다.
도 3에 도시된 2개의 챔버(60, 62)는 본 발명의 중요한 실시예를 나타낸 것이다. 특히, 상술한 설계의 고려사항에 어드레스하기 위하여, 본 발명은 하나(또는 그 이상)의 잉크 챔버(60)가 동일한 일체형 오리피스 판의 일부분인 다른 챔버(62)보다 깊을 수도 있는 일체형 오리피스 판(40)에 이르게 한다. 다른 방법으로, 하나(또는 그 이상)의 오리피스(42)는 동일한 일체형 오리피스 판의 일부분인 다른 오리피스(44)보다 깊을 수도 있다. 이러한 점에서, 깊이는 기판(48)을 향하여 오리피스 판(40)의 외측 표면(68)으로부터 도 3의 수직방향에서 측정되는 것으로 고려된다.
오리피스의 깊이를 고려하면, 오리피스를 둘러싸고 관련 챔버 위에 놓인 오리피스 판의 환형 부분으로서 설명될 수 있는 환형부의 면에서 그 구조를 고려하는 것이 유용하다. 도 3의 단면도에 도시되는 바와 같이, 하나의 "칼라" 환형부(70)는 칼라 오리피스(44)를 둘러싸고 아래에 놓인 챔버(60)의 상향으로 연장되는 점선(72) 사이에 있는 오리피스 판 재료의 용적내에 존재한다. 마찬가지로, "검정색" 환형부(74)는 검정색 오리피스(42)를 둘러싸고 아래에 놓인 챔버(62)의 상향으로 연장하는 점선(76) 사이에 있는 오리피스 재료의 용적내에 표시된다.
도 3을 참조하면, 하나의 채널(66)의 깊이는 동일한 오리피스 판(40)에서의 다른 채널(64)의 깊이와 동일하거나 또는 그것보다 클 수도 있다. 채널을 고려하면, 깊이 치수는 수직으로 측정되었지만 채널이 기판(48) 위로 연장되는 거리를 의미한다.
상술한 설명이 대체로 원통형인 오리피스 및 챔버와 관련되는 반면, 오리피스 및 그와 연결된 챔버는 임의의 다양한 형태로 구성될 수 있다는 것은 이해된다. 예를 들면, 오리피스가 원통형일지라도, 아래에 놓인 챔버는 (둥근 코너를 갖는) 정사각형 또는 직사각형일 수도 있다. 이와 같이, 상술한 환상 또는 환형 부분은 다소 프레임형일 것이다. 따라서, 용어 환형은 특정한 환형 또는 링 형상에 한정되는 것은 아니다.
2개의 오리피스, 챔버 또는 채널 사이에서와 같이 길이(도 3에서 수평으로 측정됨) 및 폭(도 3의 평면에 수직 방향으로 측정됨)은 변경될 수도 있다는 것이 이해될 것이다. 그러나, 본 발명은 상술한 바와 같이, 단일의 오리피스 판을 가로지르는 깊이 치수의 변경과 관련된다. 이러한 깊이의 가변성은 그것 단독으로 또는 가변하는 길이 및 폭 치수와 조합하여 프린트헤드의 설계를 담당하는 자에게 이용가능한 옵션의 수를 크게 향상시킨다. 예를 들면, 챔버의 깊이에 대한 챔버 및 그와 연관된 오리피스의 혼합 깊이의 비는 분출된 액적의 체적, 액적의 테일의 길이, 챔버 보충 시간, 액적이 분출된 후에 챔버를 보충하는데 요구되는 시간과 관계가 있다. 이하, 이러한 설명은 다양한 깊이의 오리피스, 챔버 및 채널을 갖는 일체형 오리피스 판의 하나의 바람직한 제조 방법으로 옮겨진다.
도 4를 참조하면, 도 4의 세그먼트의 완전한 처리 전이기는 하지만, 도 3의 세그먼트와 대체로 대응하는 프린트헤드의 세그먼트가 도시되어 있다. 바람직한 실시예에서, 오리피스 판(40)의 생성은 상술한 바와 같이 제조되는 기판(48) 위로 도포되는 포토레지스트(photoresist) 재료(80)의 베이스 층으로 시작한다. (변형예로서, 오리피스 판은 맨드렐상에서 제조 및 제거된 후에, 사전 제조된 기판에 부착될 수 있다.)
바람직한 실시예에서, 포토레지스트 재료(80)(도 4)는 일반적으로 상품명 SU-8로서 알려진 광중합가능한(photo-polymerizable) 에폭시 수지를 포함한다. 일 예로서는 미국 매사추세츠주 뉴튼(Newton, MA) 소재의 MicroChem사의 SU8-10이라는 이름으로 시판되는 것이 사용가능하다. 그러나, 오리피스 판은 200 내지 500나노미터 범위의 UV 방사선과 같은 전자기 방사선에 노출된 후에 현상 용액에서 용해되지 않는 다수의 네거티브 포토레지스트 재료를 포함할 수 있다.
포토레지스트 층(80)은 약 20㎛의 깊이(D)로 기판상에 스핀 코팅(spun)된다. 도포되자마자, 포토레지스트 층이 적어도 3개의 상이한 형태의 영역으로 분할되도록 패턴화된 마스크(82)를 통하여 층(80)이 UV 방사선에 노출된다. 마스크(82)상의 방사선 블록킹 패턴(radiation-blocking patterns)(84, 86)으로 인하여 하나의 영역이 방사선을 수용하지 않는다. 이러한 패턴은, 예를 들면 크롬의 얇은 층을 포함할 수도 있다. 하나의 블록킹 패턴(84)은 평면도에서(즉, 도 4의 평면에 대해 평행한 방향에서 볼 때) 비교적 작은 직경의 칼라 오리피스(44)의 직경과 일치하는 형상을 갖는다. 다른 블록킹 패턴(86)은 평면도에서 검정색 오리피스(42)의 직경과 정합한다.
마스크(82)상에는 소스 방사선의 강도를 감쇠시키기 위해 하나의 블록킹 패턴(84)을 둘러싸는 감쇠 패턴(attenuating pattern)(88)이 있다. 예를 들면, 이러한 패턴은 간섭(interference) 필터 재료의 얇은 층, 또는 은이나 인코넬(inconel)로 공지된 니켈, 크롬, 철 합금 등의 얇은 흡수성 필름이 될 수도 있다. 그 결과, 비교적 낮은 강도의 환형의 방사선이 층(80)의 표면(68)에 도달한다. 이러한 낮은 강도의 방사선은 도 4에서 화살표(90)로 표시되어 있다.
블록킹 패턴(84, 86) 및 감쇠 패턴(88)으로부터 떨어진 영역에서, 충분하고 비교적 높은 강도의 소스 방사선은 층(80)의 표면(68)에 도달한다. 이러한 높은 강도의 방사선은 도 4에서 화살표(92)로 표시되어 있다.
포토레지스트 층(80)은 방사선을 받는 영역에서 중합체 교차 결합이 일어난다. 이러한 교차 결합은 도 4에서 이중 해칭 영역으로 표시되어 있다. 특히, 높은 강도의 방사선을 받는 영역은 비교적 낮은 방사선을 받는 영역에서 발생하는 교차 결합의 깊이(D1)보다 상대적으로 깊은 깊이(D2)까지 교차 결합이 일어난다.
낮은 강도의 방사선의 크기는 낮은 강도 영역의 교차 결합 침투의 깊이(D1)가 칼라 오리피스(44)를 둘러싸는 환형부(70)의 설계 깊이와 정합하도록 선택된다. 마찬가지로, 높은 강도의 방사선의 크기는 높은 강도 영역의 교차 결합 침투 깊이(D2)가 검정색 오리피스(42)를 둘러싸는 환형부(74)의 설계 깊이와 정합하도록 선택된다.
도 5를 참조하면, 다음에 포토레지스트 층(80)은 블록킹 패턴(98, 100)을 갖도록 패턴화된 마스크(96)를 통하여 층으로 배향되는 고강도 방사선을 받으며, 이 블록킹 패턴(98, 100)은 층의 표면(68) 위에 놓이고 오리피스(44, 42) 및 환형부(70, 74)에 대응하는 층(80)의 부분을 덮는다. 다른 방식으로, 블록킹 패턴(98, 100)은 평면도에서 잉크 챔버(60, 62)의 형상과 대응한다.
도 5에 도시된 바와 같이, 이러한 단계에서 사용되는 고강도 방사선은 교차 결합이 잉크 챔버(60, 62) 사이의 영역과 같이 그 방사선에 노출되는 영역에서 전체의 깊이(D)에 걸쳐서 발생하게 하도록 선택된다. 이러한 노출이 완료되면, 층(80)은 (예를 들면, 95℃에서 30분 동안) 베이킹(baking)되고, 도면부호(102, 104)로 도시된 바와 같은 층의 노출되지 않은 나머지 부분을 제거하는 통상의 방식으로 현상된다(developed). 이러한 노출되지 않은 부분(102, 104)은 연속적인 칼라 오리피스(44) 및 챔버(60)에 그리고 연속적인 검정색 오리피스(42) 및 챔버(62)에 각기 대응한다. 현상은 동일 부재내에 가변적인 형상을 갖는 오리피스 및 잉크 챔버를 포함하는 본 발명의 일체형 오리피스 판(40)을 산출한다.
도 3의 도면부호(64)로 도시된 바와 같은 채널이 요구되는 경우에, 채널(64) 위의 마스크(96)의 대응 부분은 중간 레벨의 강도가 층(80)을 침투하여(도 5) 프린트헤드 설계자가 선택한 깊이(D)에 근접하지만 그 보다 얕은 깊이까지 교차 결합을 발생시키도록 감쇠 필터로 패턴화된다. 노출되지 않은 나머지 부분은 상술한 노출되지 않은 부분(102, 104)과 동시에 제거된다. 이러한 방식으로, 단일 오리피스 판의 깊이를 변경하는 채널이 생성될 수 있다.
도 6은 변형된 프린트헤드의 구조를 나타낸 것으로, 상술한 채널의 기능은 제어층(258)[이 층은 다른 점에서는 상술한 층(58)과 유사함]을 관통하여 형성된 이송 슬롯(264, 266)으로 대체된다. 이송 슬롯은 현상되지 않은 영역(202, 204)이 제거된 후에 나타나는 챔버 및 실리콘 기판(250)내로 에칭된 관련 도관(265, 267)과의 유체 연통을 제공한다. 이러한 도관(265, 267)은 카트리지내의 각각의 칼라 및 검정색 잉크 저장통에 연결된다. 따라서, 이러한 실시예에서는 채널이 포토레지스트 층(280)에 형성될 필요가 없다는 것이 이해될 것이다. 이 층은(280)은 다른 점에서는 도 4 및 도 5와 관련하여 설명된 방식으로 처리된다.
본 발명은 바람직한 실시예에 의하여 설명되었지만, 당업자에 의해 본 발명의 정신 및 범위는 이러한 실시예에 제한되지 않고, 첨부된 청구범위에 규정된 바와 같이 다양한 변형 및 동등물까지 연장된다는 것이 이해될 것이다.
본 발명에 따르면, 동일한 프린트헤드에서 하나의 챔버가 제 1 챔버에 근접한 다른 챔버보다 깊게 되도록 구성된 오리피스 판을 제공함으로써, 잉크젯 프린트헤드 설계자를 위한 선택 범위를 넓힐 수 있다.

Claims (10)

  1. 잉크젯 펜(20)용 오리피스 판(40)의 제조 방법에 있어서,
    외측 표면(68) 및 깊이를 갖는 포토레지스트 재료(photoresist material)의 층(80)을 기판(48)상에 제공하는 단계와;
    하나의 환형 부분의 깊이가 다른 환형 부분의 깊이보다 깊게되도록 외측 표면으로부터 상기 층의 깊이내로 연장되는 적어도 2개의 환형 부분(72, 76)을 규정하도록 상기 포토레지스트 층을 노출시키는 단계와;
    상기 환형 부분에 의해 둘러싸인 층의 일부를 제거하여 오리피스(44, 42)를 형성하는 단계와;
    상기 환형 부분과 상기 기판 사이에 있는 상기 층 부분(102, 104)을 제거함으로써, 상기 환형 부분의 오리피스와 이어져 있는 챔버(60, 62)를 형성하는 단계를 포함하는
    잉크젯 펜용 오리피스 판의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 노출 단계는 하나의 환형 부분을 향하는 전자기 방사선의 강도가 다른 환형 부분을 향하는 방사선의 강도와 상이하게 되도록 전자기 방사선(92)을 상기 층으로 배향시키는 단계를 포함하는
    잉크젯 펜용 오리피스 판의 제조 방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 층을 향하는 방사선의 적어도 일부의 강도 레벨을 감소시키기 위한 마스크(82)를 제공하는 단계를 포함하는
    잉크젯 펜용 오리피스 판의 제조 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 노출 단계는 상기 환형 부분 사이의 영역에서 상기 포토레지스트 층(80)의 전체 깊이를 노출시키는 단계를 포함하는
    잉크젯 펜용 오리피스 판의 제조 방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 오리피스 형성 단계 및 챔버 형성 단계는 상기 층의 노출되지 않은 부분(102, 104)을 제거하도록 상기 포토레지스트 층(80)을 현상시키는 단계를 더 포함하는
    잉크젯 펜용 오리피스 판의 제조 방법.
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