KR100765744B1

KR100765744B1 - 폐 폴리에스테르를 재활용하여 토너, 잉크 및 코팅제용중합체 제조방법 및 그 조성물

Info

Publication number: KR100765744B1
Application number: KR1020010079882A
Authority: KR
Inventors: 김도균; 김효성; 김충길
Original assignee: 김도균; 삼성전자주식회사
Priority date: 2001-12-15
Filing date: 2001-12-15
Publication date: 2007-10-15
Also published as: CN1747982A; CN100427523C; KR20030049627A

Abstract

본 발명은 (1) (A) 폐폴리에틸렌 테레프탈레이트(이하 PET라 한다.)를 고체 수지 용해제로 해중합하고 (B) 다염기산으로 2차 해중합을 동반하는 부가반응 시키는 단계; (2) 단계(1)에서 얻어진 생성물에 다가알콜을 가하여 주석계 촉매사용 축중합 반응을 일으켜서 산가 10∼90mgKOH/g, 중량평균분자량 3,000∼50,000, 연화점 70∼150℃의 중합체를 제조하는 단계; 및 (3) 단계(2)에서 얻어진 중합체중 산가 20mgKOH/g 이상의 중합체는 염기수용액으로 중화하여 물 또는 수친화성 용제 및 이 용제에 물을 혼합한 용액에 용해시켜 수용성 바인다로 제조하는 단계를 포함하는 폴리에스텔수지조성물의 제조방법을 제공한다.

이들 수지 조성물은 복사기, 프린트, 전자사진용 중합법 토너의 원료인 결착제, 잉크젯 잉크 결착제등으로 사용하고 산가 10mgKOH/g 이하의 수지조성물은 그대로 인쇄잉크, 도료, 접착제, 분쇄법 토너의 결착제로 사용가능한 폴리에스텔수지 제조 방법을 제공한다.

Description

폐 폴리에스테르를 재활용하여 토너, 잉크 및 코팅제용 중합체 제조방법 및 그 조성물{omitted}

본 발명은 폐폴리에틸렌 테레프탈레이트 (이하 PET로 한다.)를 재활용하여 첨단 신소재용 폴리에스텔 수지조성물을 제조하는 방법에 관한 것이다. 근래 PET가 플라스틱 소재로 섬유, PET병, 필름, 사출성형재로 광범위하게 사용되어 이들의 제조과정 및 사용후에 발생되는 폐기물이 환경문제로 대두될 만큼 다량이나 이들을 재활용하는 양이 극히 제한적이고 또한 단순한 물리적으로만 열 용융처리하여 변형품을 만드는 기술수준이어서 재생품의 품질이 만족스럽지 못하여 재활용하는 양이 극히 제한적이었다. 그래서 이들의 처리에 큰 문제가 되고 있으며 이를 해결할 방법이 간절히 요구되고 있는 실정이다. 더구나 고기능성 소재를 얻기위한 연구 및 제조는 지금까지 이루어지지 않았다. 본 발명자들은 상기의 문제를 해소하기 위하여 예의 연구한 결과 폐PET를 로진 및 로진유도체 석유수지 디시아클로펜타디엔레진으로 해중합하여 다염가산과 부가반응을 시켜서 다가알콜을 가하여 축중합 반응을 일으켜서 원하는 물성의 중합체를 얻음으로 원천기술에의한 화학적인 처리결과로 고부가가치를 갖는 유용한 첨단 제품으로 탄생할 수 있다는 결론에 도달하여 본 발명을 완성하였다.

(1) (A) 폐폴리에틸렌 테레프탈레이트(이하 PET라 한다.)를 고체수지 용해제로 해중합하고 (B) 다염기산으로 2차 해중합을 동반하는 부가반응 시키는 단계; (2) 단계(1)에서 얻어진 생성물에 다가알콜을 가하여 주석계 촉매사용 축중합 반응을 일으켜서 산가 10∼90mgKOH/g, 중량평균 분자량 3,000∼50,000, 연화점 70∼150℃의 중합체를 제조하는 단계; (3) 단계(2)에서 얻어진 중합체중 산가 20mgKOH/g 이상의 중합체는 염기수용액으로 중화하여 물 또는 수친화성 용제 및 이 용제에 물을 혼합한 용액에 용해시켜 수용성 바인다로 제조하는 단계를 포함하는 폴리에스텔수지조성물을 제조하는 단계.

단계(1) (A)에서 사용될수 있는 PET는 테레프탈산과 에틸렌글리콜로부터 합성된 중합체로서 PET섬유 제조시의 발생된 폐 PET병 성형품등으로부터 기계적으로 분쇄 얻어지는 폐PET칩이고 고체수지 용해제는 로진 및 로진 유도체, 테르펜계수지, 석유수지 및 그 유도체, 디사이클로펜타디엔 및 그 유도체로 검로진, 우드로진, 탈로진, 수첨로진, 말레인화로진, 로진에스텔, 피넨수지, 디펜텐 수지, C5계 석유수지, C9계 석유수지, DCPD수지, 수첨 DCPD수지, 말레인화스티렌수지 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 혼합하여 사용될 수 있다. 이들은 원하는 성능에 따라 적절히 선택된다. 이들은 단계(1) (A)의 폐폴리에스텔과 중량비율이 1:9 ∼ 9:1 비율로 혼합되는 것이 바람직하다.

단계(1) (B)에서 사용될 수 있는 다염기산은 무수프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 아디핀산, 아제라인산, 세바신산, 무수테트라하이드로프탈산, 무수말레인산, 푸말산, 이타콘산, 무수트리멜리트산, 무수피로멜리트산, 벤조산 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 혼합하여 사용될 수 있다. 이들은 단계(1) (A)의 생성물에 10∼50중량%의 양으로 첨가되는 것이 바람직하다.

단계(2)에서 사용될 수 있는 다가알콜은 에틸렌글리콜, 프로필렌 글리콜, 1,3-프로판디올, 1,3-부탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸글리콜, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 폴리에필렌글리콜, 비스페놀A의 알킬렌옥사이드 부가물, 트리메틸올프로판, 글리세린, 펜타에리쓰리톨등이며 이들은 단독또는 혼합하여 사용될 수 있다. 이들은 단계(1)의 생성물에 10∼35중량%의 양으로 첨가하는 것이 바람직하다. 유기산금속 또는 주석계 촉매를 사용한다. 사용량은 반응물에 대하여 0.05∼0.5중량%이다.

단계(3)에서 사용될 수 있는 염기성 화합물은 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화암모늄, 수산화리튬, 아민류등이고 이들은 단독 또는 혼합하여 사용될 수 있다. 이들은 단계(2)에서 얻어진 생성물에 중화 및 수용화용으로 사용하며 5∼30중량%의 양을 첨가하는 것이 바람직하다. 단계(3)에서 사용될 수 있는 용제는 알콜류, 에테르류, 아세톤, 디메틸포름아미드, 테트라하이드로푸란, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜 등이며 이들은 단독 또는 혼합하여 사용될 수 있다. 10∼50중량%양으로 첨가하는 것이 바람직하다.

본 발명의 제조방법은 반응기에 (1)전처리된 폐PET와 고체 해중합제를 10:1∼1:1 비율로 넣고 주석계 촉매 0.05∼0.5중량%첨가하여 180∼280℃온도에서 1차 해중합하고 150℃이하로 냉각하여 상기생성물에 (2)다염기산을 10∼50중량% 첨가하여 160∼260℃온도에서 해중합과 부가반응을 시켜서 산가 10∼150mgKOH/g 반응생성물을 제조하고 여기에 다가알콜을 10∼50중량% 첨가한후 200∼260℃ 온도에서 축중합하여 산가 10∼90mgKOH/g, 연화점 70∼150℃, 중량평균분자량 3,000∼50,000 폴리에스테르수지를 제조하고 이 수지에 염기성화합물을 첨가하여 물 또는 친수성 용제 및 이 용제에 물을 혼합한 용액에 용해하여 폴리에스틸 수용성 수지조성물을 제조하여 산가 10mgKOH/g이하 수지를 그대로 고형수지로 제품화하는 것을 포함하는 수용성 폴리에스텔 수지조성물을 제조하는 것을 특징으로 한다. 이 수용성 폴리에스텔 수지조성물은 폐 PET를 재활용하여 생성되지만 상기 원재료들의 조성비율에 따라 원하는 연화점, 상용성, 접착성이 양호하고 고기능의 물성을 얻을 수 있을 뿐만 아니라 저비용으로 고부가 가치가있는 첨단 신소재를 탄생시킬 수 있다는 것이 특징인데 특히 이 수용성 폴리에스텔 수지 조성물은 복사기, 프린트기, 전자사진용장치에 사용되는 토너를 중합법으로 제조시에 결착제, 잉크젯잉크 결착제 등으로 사용하고 한편 산가 10mgKOH/g이하의 고형수지는 인쇄잉크, 도료, 접착제, 분쇄법토너의 결착제 수지로 사용가능한 폴리에스텔 수지조성물을 제조하는 것을 특징으 로 한다.

본 발명의 폴리에스텔 수지조성물은 (1) 전자사진, 정전하기록등에 정전하 화상을 현상시키는데 사용되는 토너용 수지 결착제로 사용되어 여기에 착색제, 전하제, 이형제 등을 첨가하여 중합법 또는 분쇄법으로 토너를 제조한다. 착색제는 카본블랙, 마그네타이트 등 흑색안료, 산화철황, 한자옐로우, 퍼마넌트옐로우등 황색안료. 프탈로시아닌블루, 바이올렛 등 청색안료. 산화철적, 카민, 톨루이진레트, 퀴나크리돈레등 적색안료. 프탈로시아닌그린, 크롬그린등 녹색안료등이 사용되고 착색제 함유량은 1∼40중량%이다. 전하제어제는 (+)대전 전하제어제는 니그로신계 염료, 4급암모늄염 등이있고 대표적상품명은 BONTRON N-07. BONTRON N-21 오리엔탈화학(주)이고 부(-)대전 전하조절제는 아조계금속착염, 살리실산계금속착염등이고 대표적 상품명은 BONTRON S-34, BONTRON E-84, 오리엔트화학(주)이고 전하제어제 사용량은 결착 수지에 대하여 0.5∼5중량%사용이 바람직하다.

이형제는 폴리에틸렌 왁스, 폴리프로필렌 왁스, 고급지방산에스테르, 고급지방족알콜, 카나바왁스, 몬탄왁스등을 단독 또는 혼합하여 결착수지에 대하여 0.5∼10중량%등이 있다. 이들 첨가제는 결착수지에 잘 분산 되어야만 만족할만한 화상을 형성 시킬수가 있다.

본 발명의 폴리에스텔수지 조성물은 물 또는 수친화성 용제 및 이용제와 물의 혼합용제에 잘 분산 용해되므로 액상수지조성물을 제조한후 여기에 상기 첨가제들을 분산시켜서 중합법으로 토너를 제조할 수 있고 또한 분쇄법으로 토너를 제조할 경우 본 발명의 폴리에스텔 수지 조성물의 고체 수지상태로 사용할 시에도 분자 내에 계면활성제기능을 하는 관능기가 함유되어 있으므로 상기 첨가제를 잘분산시켜서 성능이 우수한 토너를 제조할수 있게 된다.

이렇게 얻어진 토너는 레오미터에 의한 유출개시온도(Tfb)가 80∼95℃, 유출종료온도(Tend) 120∼135℃인 토너를 얻을 수 있으므로 화상형성 속도가 빠르고 저온 정착이 가능하고 오프섹 저항성이 양호하여 선명한 화상과 고품위의 화상을 얻을 수 있다.

(2) 에폭시 수지를 경화제로 하는 분체도료 조성물을 제조시에 본발명의 폴리에스텔 조성물은 고분자 사슬말단에 카복실기를 2∼3개 갖고 있으므로 반응성이 좋고 분산성이 좋으므로 블록킹방지제를 소량첨가해도 저장 안정성도 있을 수 있으며 저연화점 수지이므로 180℃이하에서 10분정도의 짧은 시간에 경화 반응이 가능하여 여기서 경화온도를 낮출수 있어서 고광택, 내열성, 내악품성등이 우수한 고품질의 도막을 얻을 수 있다.

(3) 유변성 알키드바니쉬 도료 및 인쇄잉크 제조시 있어서 본 발명 폴리에스텔 수지조성물을 고형수지 성분으로 하고 지방산 및 건성유를 기하여 반응 시켜서 얻은 생성물은 지방족탄화수소계 용제나 방향족 탄화수소계 용제에 용해성이 좋고 우수한 광택과 내수성, 내후성이 좋은 강견한 도막과 고품질의 인쇄화면을 얻을 수 있고, 그라비아잉크에서 본발명의 폴리에스텔 조성물은 케튼계용제와 방향족 탄화수소계 용제의 혼합용젱 용해성이 좋아서 속건성, 부착성, 내마모성, 견뢰성이 우수한 인쇄화면을 얻을 수 있다.

(4) 접착제 제조시에 본 발명의 폴리에스텔 수지 조성물을 접착제 기본 고착 수지로 사용시에 핫멜트 접착제에 사용시에는 저연화점, 저용윰점도, 부착성, 내수성,내약품성, 가속성, 상용성들이 우수하며, 종이, 보드류, 가죽, 직물, 목재, 플라스틱, 금속, 알미늄등 금속 등에 우수한 초기 접착 및 강견한 접착력을 얻을 수 있고 이들 접착제는 각종 용제에 용해시켜 액상 접착제로 상기의 피접착기제에 동일한 용도로 사용할 수 있다.

실시예에 의해 상세히 설명하지만 이 실시예에 의해 본 발명이 한정되지는 않는다.

<실시예 1>

단계(1) 교반기, 환류냉각기, 분리기, 온도계, 질소주입구를 설치한 반응기에 폐PET를 분쇄한 칩 400g, 검로진 200g, 주석산 모노부틸 0.3g을 사입하여 질소주입하에서 250℃로 가열하여 내용물을 2시간 유지한다. 온도가 상승하면서 PET가 점차로 용해되어 가면 교반을 시작한다. 내용물이 투명해지는 것을 확인한 후, 내용물은 150℃로 냉각하여 무수말레인산 12Og을 가하여 내용물의 온도가 고리개방 반응의 발생열이 완료되는 시점을 확인후 재 가열하여 235℃에서 3시간 반응시킨다. 해 중합 생성물의 산가는 115mgKOH/g이다. 단계(2) 여기에 비스페놀A 에틸렌옥사이드부가물 200g을 가하여 250℃에서 5시간 동안 탈수하면서 축중합을 한후 산가 55mgKOH/g에 도달하면 반응생성물을 냉각하여 수산화나트륨 50g, 증류수 1500g을 가하여 85℃에서 30분간 교반한 후 종료하여 수용성 폴리에스텔수지(수지용액 A로 지칭한)를 제조하였다. 상기 생성물은 산가 39mgKOH/g, 중량평균 분자량 11,000 연화점 80℃, PH 8.5이다.

상기 수용성 폴리에스텔 수지를 중합토너 결착제로 사용하여 중합법으로 토너를 제조하였다 물성이 좋고 정착성이 우수한 토너를 제조할 수 있었다.

수지용액A 100중량부, 카본블랙 3중량부 전하제 0.1중량부 이형제 1중량부를 혼합분산시키고 현탁시켜 입자를 만들고 여과하여 얻은 입자를 수세하고 건조하여 토너침전물을 만든후 토너조성물 100중량부에 외첨제1중량부를 첨가하여 토너를 만들어 프린터 카트리지에 충진하고 프린트를 시행하였다. 화상을 형성시킨 결과 선명한 화상과 정착성이 우수한 화상을 얻을 수가 있었다.

<실시예 2>

폐PET칩 400g, 수첨로진 200g, 주석산모노부틸 0.3g, 무수트리멜리트산 150g, 네오펜틸글리콜 200g을 반응기에 삽입하고 실시예(1)과 동일한 방법으로 실시하였다. (수지용액 B로 지칭한다. )

상기 수용성 폴리에스텔의 수지 산가는 30mgKOH/g이고 중량평균 분자량은 12,000 연화점 95℃, PH 8.7이다.

수지용액B 100중량부, 카본블랙 3중량부 전하제 0.1중량부 이형제 1중량부를 혼합분산시키고 현탁시켜 입자를 만들고 여과하여 얻은 입자를 수세하고 건조하여 토너침전물을 만든후 토너조성물 100중량부에 외첨제1중량부를 첨가하여 토너를 만들어 프린터 카트리지에 충진하고 프린트를 시행하였다. 화상을 형성시킨 결과 선명한 화상과 정착성이 우수한 화상을 얻을 수가 있었다.

<실시예 3>

반응기에 폐PET칩 400g, 로진에스텔 200g, 주석산 모노부틸 0.3g, 푸말산 150g 네오펜틸글라콜 100g, 디에틸렌글리콜 100g을 반응기에 사입하고 실시예 1)과 동일한 방법으로 실시하고 중화제로 수산화칼륨 55g으로 대체하였다. 상기 수용성폴리에스텔수지 산가는 28mgKOH/g이고 중량평균분자량은 12,000, 연화점은 105℃, PH 8.1이다.

<실시예 4>

폐PET칩 400g, C5석유수지 200g, 주석산 모노부틸 0.3g,무스트리멜리트산 150g 에틸렌글리콜 100g, 트리메틸롤프로판 80g 반응기에 사입하고 실시예 1)과 동일한 방법으로 실시하고 중화제로 수산화암모늄 50g 대체하고 수친화성용제로 부틸글리콘 200g을 사용하였다. 상기 수용성 폴리에스텔 수지 산가는 30mgKOH/g이고 중량평균 분자량은 13,000, 연화점은 108℃, PH 7.9이다.

<실시예 5>

폐PET칩 400g, C9석유수지 200g, 주석산 모노부틸 0.3g, 아디핀산 50g, 무수말레인산 100g, 프로필렌글리콜 100g, 네오펜틴글리콜 100g을 반응기에 사입하고 실시예 1)과 동일한 방법으로 실시하고 중화제로 수산화나트륨 30g, 트리에틸아민 35g을 사용하였다.상기 수용성 폴리에스텔수지 산가는 31mgKOH/g이고 중량평균 분자량은 13,000, PH 7.7이다.

<실시예 6>

폐PET칩 350g, 말레인화검로진 250g, 주석산 모노부틸 0.3g, 무수트리멜리트산 100g, 네오펜틸 글리콜 50g, 비스페놀A에틸렌복사이드 부가물 150g을 반응기에 사입하고 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다.

상기 수용성 폴리에스텔 수지 산가는 45mgKOH/g이고 중량평균 분자량은 11,500, 연화점은 81℃, PH 8.7이다.

<실시예 7>

폐PET칩 350g, 디사이클로펜타디엔 레진 250g, 주석산 모노부틸 0.3g, 무수말레인산 150g, 네오펜틸글리콜 100g, 폴리에틸렌글리콜 100g을 반응기에 사입하고 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하고 중화제로 수산화 암모늄 30g, 트리에틸아민 50g을 대체하였다. 상기 수용성 폴리에스텔수지 산가는 30mgKOH/g이고 중량평균 분자량은 12,000, 연화점은 95℃, PH 8.1이다.

<실시예 8>

폐PET칩 400g, 디싸이크로펜타디엔레진 200g, 주석산 모노부틸 0.3g, 이소프탈산 100g, 아디핀산 50g, 네오펜틸글리콜 70g, 비스페놀A에틸렌 옥사이드부가물 120g을 반응기에 사입하고 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였으나 단계(3)의 중화와 수용화 단계는 생략하고 고형폴리에스텔 수지를 제조하였다. 상기 고형폴리에스텔수지 산가는 10mgKOH/g이고 중량평균 분자량은 20,000, 연화점은 93℃이다.

<실시예 9>

폐PET칩 500g, 검로진 200g, 주석산 모노부틸 0.3g, 무수말레인산 100g, 펜타에리쓰리톨 200g을 반응기에 사입하고 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였으나 단계(3)의 중화와 수용화 단계는 생략하고 고형폴리에스텔수지를 제조하였다. 상기 고형폴리에스텔수지는 산가 11mgKOH/g이고 중량평균 분자량은 30,000, 연화점은 145℃이다.

본 발명에 의한 폐PET로 제조된 폴리에스텔 수지는 착색제, 기타첨가제와 상용성과 분산성이 우수하고 매체와의 부착성이 우수할 뿐만 아니라 중화 및 수용화가 가능하여 첨단신소재로 응용되어 중합법으로 제조되는 복사기, 프린터, 전자 사진용 화상현상용 토너의 결착제로 사용할 수 있고 고형수지는 분쇄법 토너의 결착제로 사용할 수 있고 인쇄잉크, 도료, 접착제의 고착수지로 제공된다. 본 발명은 자원재생의 관점에서 환경친화성과 사회적 가치를 지니는 고부가 가치 소재로 안정적으로 제조할 수 있다.

Claims

(1) (A) 폐폴리에틸렌테레프탈레이트를 고체수지용해제로 1차 해중합하고, (B)상기 용해물에 다염기산을 가하여 2차 해중합 및 부가반응을 시키는 단계;

(2) 단계(1)에서 얻어진 생성물에 다가알콜을 가하여 축중합 반응을 시켜 산가 10∼150mgKOH/g의 중량 평균분자량 3,000∼50,000, 연화점 70∼150℃의 중합체를 제조하는 단계; 및

(3) 단계(2)에서 얻어진 중합체중 산가 20mgKOH/g 이상의 중합체는 고형수지 원상태로 제조하거나 염기성화합물로 중화 및 수용화하기 위하여 물 또는 수친화성 용제 및 이 용제의 물 혼합물에 용해 및 희석시켜 수용성 폴리에스텔수지를 제조하고 산가 15mgKOH/g 이하의 중합체는 그대로 고형수지로 제조하는 단계로서, 상기 중합체의 일정하중 압출세관식 레오미터에 의한 유출개시온도(Tfb)가 80℃∼105℃, 유출 종료온도(Tend)가 120℃∼160℃, 유리전이온도(Tg)가 40℃∼80℃인 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리에스텔 수지조성물의 제조방법.
제1항에 있어서, 단계(1)(A)의 고체수지용해제는 검로진, 우드로진, 탈로진, 수첨로진, 말레인화로진, 로진에스텔, 피넨수지, 디펜텐 수지, C5계 석유수지, C9계 석유수지, DCPD수지, 수첨 DCPD수지, 또는 말레인화스티렌수지인 것을 특징으로하는 폴리에스텔 수지조성물의 제조방법.
제1항에 있어서, 단계(1)(A)의 폐폴리에틸렌테레프탈레이트와 고체수지용해제의 중량비율이 1:9∼9:1인 것을 특징으로 하는 폴리에스텔 수지조성물의 제조방법.
제1항에 있어서, 단계(1)(B)의 해중합을 동반하는 부가반응용 다염기산은 무수프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 아디핀산, 아제라인산, 세바신산, 무수테트라하이드로프탈산, 무수말레인산, 푸말산, 이타콘산, 무수트리멜리트산, 무수피로멜리트산, 또는 벤조산인 것을 특징으로 하는 폴리에스텔 수지조성물의 제조방법.
제1항에 있어서, 단계(1)(B)의 다염기산은 (A)의 생성물에 대하여 10∼70중량%의 양으로 첨가되는 것을 특징으로하는 폴리에스텔 수지조성물의 제조방법.
제1항에 있어서, 단계(1)의 해중합 및 부가반응과 중축합용 촉매를 0.05∼0.5중량%의 양으로 사용하여 반응 온도를 200∼250℃에서 실행하는 것을 특징으로 하는 폴리에스텔 수지조성물의 제조방법.
제1항에 있어서, 단계(2)의 다가알콜은 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 1,3-프로판디올, 1,3-부탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 비스페놀A의 알킬렌옥사이드 부가물, 트리메틸올 프로판, 글리세린, 또는 펜타에리쓰리톨인 것을 특징으로 하는 폴리에스텔 수지조성물의 제조방법.
제1항에 있어서, 단계(2)의 다가알콜은 단계(1)의 해중합물에 대하여 10∼70중량%의 양으로 첨가하여 산가 10∼90mgKOH/g인 것을 특징으로하는 폴리에스텔 수지조성물의 제조방법.
제1항에 있어서, 단계(3)의 중화용 염기성 화합물은 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화암모늄, 수산화리튬, 또는 아민류인 것을 특징으로 하는 폴리에스텔 수지조성물의 제조방법.
제1항에 있어서, 단계(3)의 중화용 염기성 화합물은 단계(2)의 산가 20mgKOH/g∼l50mgKOH/g의 생성물에 대하여 3∼30중량%의 양으로 첨가하여 수용성 폴리에스텔 수지조성물이 가능하도록 하는 것을 특징으로 하는 폴리에스텔 수지조성물의 제조방법.
제1항에 있어서, 염기성 화합물로 중화된 생성물에 사용하는 수친화성 용제는 알콜류, 에테르류, 아세톤, 디아세톤알콜, 디메틸포름아미드, 테트라하이드로푸란, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 부틸렌 글리콜, 또는 n-메틸피롤리돈인 것을 특징으로 하는 폴리에스텔수지 조성물의 제조방법.
제1항에 있어서, 염기성 화합물로 중화된 생성물에 물 또는 수친화성 용제 및 이 용제의 물 혼합물을 1∼10배를 첨가하여 희석하는 것을 특징으로 하는 폴리에스텔 수지조성물의 제조방법.
제1항에 있어서, 단계(2)의 산가 10mgKOH/g∼150mgKOH/g의 생성물은 고형수지로 연화점이 70∼150℃, 유출개시온도(Tfb)가 80∼105℃, 유출종료온도(Tend)가 120℃ ∼160℃,유리전이온도(Tg)가 40∼80℃인 폴리에스텔 수지조성물의 제조방법.
제10항에 있어서, 상기 수용성 폴리에스텔 수지 조성물은 잉크젯 잉크 또는 중합법토너의 결착 수지로 사용되는 것을 특징으로 하는 폴리에스텔 수지조성물의 제조방법.
제13항에 있어서, 상기 고형수지는 분쇄법 토너, 인쇄잉크, 도료, 또는 접착제의 결착제 수지로 사용되는 것을 특징으로 하는 폴리에스텔 수지조성물의 제조방법.
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