KR100750076B1 - 광 섬유 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 목표로 하는 파장 분산 특성을 갖는 광 섬유를 용이하게 제조할 수 있는 광 섬유의 제조방법에 관한 것이다. 해당 광 섬유의 제조방법에서는, 광 섬유 모재의 일부를 먼저 선 인발함으로써 얻어진 일정 길이의 광 섬유의 컷 오프 파장이 측정된다. 이 측정된 컷 오프 파장에 기초하여, 목표로 하는 파장 분산 특성을 얻기 위한 목표 글래스 직경이 구해진다. 이어서, 구해진 목표 글래스 직경이 되도록 광 섬유 모재의 잔부가 선 인발되어 광 섬유가 제조된다.
광 섬유 모재, 파장 분산 특성, 목표 글래스 직경, 컷 오프 파장, 모드 필드 직경

Description

광 섬유 제조 방법{Method of manufacturing optical fiber}
본 발명은, 광 섬유 모재를 선 인발하여 소망의 광학 특성을 갖는 광 섬유를 제조하기 위한 광 섬유 제조 방법에 관한 것으로, 특히, 분산 보상 광 섬유를 제조하는 데 알맞은 제조방법에 관한 것이다.
광 섬유 전송로에 복수 파장의 신호를 전파시켜 광 통신을 행하는 광 전송시스템에서는, 광 섬유 전송로 중을 전파하는 신호의 파형 열화를 억제하기 위해서, 신호 파장(예를 들면 1.55 ㎛)에 있어서 광 섬유 전송로의 누적 파장 분산의 절대치가 작은 것이 요망된다. 그런데, 일반적으로 광 섬유 전송로로서 사용되고 있는 표준적인 싱글 모드 광 섬유는, 파장 1.3 ㎛ 부근에 영 분산 파장을 갖고, 파장 1.55 ㎛에서 17 ps/nm/km 정도의 파장 분산을 갖는다. 따라서, 상기 싱글 모드 광 섬유만이 적용된 광 섬유 전송로에서는, 신호 파형의 열화에 기인하여 고비트 레이트의 광 통신을 행할 수 없다. 그래서, 파장 1.55 ㎛에서 음의 파장 분산을 갖는 분산 보상 광 섬유를 이용하여 상기 싱글 모드 광 섬유의 파장 분산을 보상함으로써, 파장 1.55 ㎛에서의 평균 파장 분산의 절대치가 저감되어 있다.
발명자들은, 종래의 광 섬유 전송로에 관해서, 검토한 결과, 이하와 같은 과 제를 발견하였다. 즉, 싱글 모드 광 섬유 및 분산 보상 광 섬유(k) 등으로 구성된 광 섬유 전송로 전체의 평균 파장 분산의 절대치를 저감하기 위해서는, 상기 싱글 모드 광 섬유와 분산 보상 광 섬유의 길이 비를 적절하게 설계됨과 동시에 상기 싱글 모드 광 섬유의 파장 분산 특성에 따라서 상기 분산 보상 광 섬유의 파장 분산이 적절하게 설계되고, 또한 그의 설계대로 제조될 필요가 있다.
그런데, 분산 보상 광 섬유의 파장 분산 특성은 글래스 직경(해당 분산 보상 광 섬유의 파이버 직경)의 변화에 따라서 민감하게 변화한다. 또한, 광 섬유 모재의 가공 정밀도가 충분하지 않고, 또한, 프리폼 애널라이저에 의한 광 섬유 모재의 굴절율 분포의 측정 정밀도도 충분하지 않다. 따라서, 목표로 하는 파장 분산 특성을 갖는 분산 보상 광 섬유를 고정밀도로 제조하는 것은 곤란하였다. 또한, 상술의 과제는, 분산 보상 광 섬유를 제조할 때에 현저하지만, 다른 종류의 광 섬유를 제조할 때에도 생긴다.
본 발명은 상술과 같은 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 목표로 하는 파장 분산 특성을 갖는 광 섬유를 용이하게 제조할 수 있는 광 섬유 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.
본 발명에 따른 광 섬유의 제조방법은, 얻어지는 광 섬유의 외경을 제어함으로써 소망의 광학 특성을 갖는 광 섬유를 제조한다. 상기 광 섬유의 제조방법에서는, 광 섬유 모재의 일부를 먼저 선을 인발함으로써 얻어진 일정 길이의 광 섬유의 컷 오프 파장이 측정되고, 상기 측정된 컷 오프 파장에 기초하여, 목표로 하는 파장 분산 특성을 얻기 위한 목표 글래스 직경이 구해지고, 상기 구해진 목표 글래스 직경이 되도록 외경 제어되면서 광 섬유 모재의 잔부가 선 인발된다.
이상과 같이, 본 발명에 따른 광 섬유의 제조방법에 의하면, 광 섬유 모재의 선 인발 개시 직후에 얻어진 일정 길이의 광 섬유에서의 컷 오프 파장의 측정 결과가 외경 제어에 피드백되므로, 광 섬유 모재의 가공 정밀도가 좋지 않아도, 혹은 프리폼 애널라이저에 의한 광 섬유 모재의 굴절율 분포의 측정 정밀도가 좋지 않아도, 목표로 하는 파장 분산 특성을 갖는 광 섬유가 용이하게 제조된다.
또한, 본 발명에 따른 광 섬유의 제조방법은, 상기 컷 오프 파장을 대신하여, 광 섬유 모재의 선 인발 개시 직후에 얻어진 일정 길이의 광 섬유의 모드 필드 직경의 측정 결과를 이용하여 외경 제어를 행하여도 된다. 이 경우, 상기 광 섬유의 제조방법에서는, 측정된 모드 필드 직경에 기초하여, 목표로 하는 파장 분산 특성을 얻기 위한 목표 글래스 직경이 구해지고, 상기 구해진 목표 글래스 직경이 되도록 외경 제어하면서 광 섬유 모재의 잔부가 선 인발된다.
이러한 광 섬유의 제조방법에 의하면, 광 섬유 모재의 가공 정밀도가 좋지 않아도, 혹은 프리폼 애널라이저에 의한 광 섬유 모재의 굴절율 분포의 측정 정밀도가 좋지 않아도, 목표로 하는 파장 분산 특성을 갖는 광 섬유가 용이하게 제조된다.
또한, 본 발명에 따른 각 실시예는, 이하의 상세한 설명 및 첨부 도면에 의해 더욱 충분히 이해 가능해진다. 이들 실시예는 단지 예시를 위해 도시되어 있는 것으로서, 본 발명을 한정하는 것으로 생각해서는 안된다.
또한, 본 발명의 응용 범위는, 이하의 상세한 설명으로부터 분명해진다. 그 렇지만, 상세한 설명 및 특정한 사례는 본 발명의 적합한 실시예를 나타내는 것이지만, 예시를 위한 것일 뿐이고, 본 발명의 사상 및 범위에서의 여러가지 변형 및 개량은 이 상세한 설명으로부터 당업자에는 자명한 것은 분명하다.
도 1의 (a) 및 (b)는 본 발명에 따른 광 섬유의 제조 방법을 실현하기 위한 선 인발 장치 및 측정 장치의 개략 구성을 도시하는 도면.
도 2의 (a)는 파장 분산과 글래스 직경(광 섬유 외경)과의 관계를 도시하는 그래프.
도 2의 (b)는 컷 오프 파장과 글래스 직경(광 섬유외경)과의 관계를 도시하는 그래프.
도 3은 본 발명에 따른 광 섬유의 제조방법에 있어서의 제 1 실시예를 설명하기 위한 플로우챠트.
도 4의 (a)는 파장 분산과 글래스 직경(광 섬유 외경)과의 관계를 도시하는 그래프.
도 4의 (b)는 모드 필드 직경과 글래스 직경(광 섬유 외경)과의 관계를 도시하는 그래프.
도 5는 본 발명에 따른 광 섬유의 제조방법에 있어서의 제 2 실시예를 설명하기 위한 플로우챠트.
이하, 본 발명에 따른 광 섬유의 제조방법의 각 실시예를, 도 1의 (a) 내지 도 2(b), 도 3, 도 4의 (a), (b), 및 도 5를 참조하여 설명한다. 또한, 도면의 설명에 있어서 동일의 요소에는 동일의 부호를 붙이고, 중복하는 설명을 생략한다.
우선, 본 발명에 따른 광 섬유의 제조방법에 있어서의 선 인발 공정에 관해서 설명한다. 도 1의 (a)는, 본 발명에 따른 광 섬유의 제조방법을 실현하기 위한 선 인발 장치의 개략 구성을 도시하는 도이다. 도 1의 (a)의 선 인발 장치에 있어서, 광 섬유 모재(1)는, 프리폼 피더(12)에 고정되어 있고, 상기 프리폼 피더(12)에 의해 가열로(11)의 내부에 도입된다. 그리고, 가열로(11)에 의해 광 섬유 모재(1)의 하부가 가열·용융된다. 용융된 광 섬유 모재(1)의 하부로부터 선 인발된 누드 광 섬유는, 가열로(11)의 하방으로부터 외부로 인발된다.
상기 누드 광 섬유는, 외경 측정기(13)에 의해 글래스 직경(d)이 측정되고, 수지 코팅부(14)에 의해 수지로 표면이 피복된다. 즉, 수지 코팅부(14)에 있어서, 누드 광 섬유 표면에는 프라이머리 코팅 다이스에 의해 자외선 경화 수지가 도포되고, 상기 자외선 경화 수지가 자외 광 조사에 의해 일단 경화된다. 계속해서, 상기 누드 광 섬유에 도포된 수지 표면에 세컨더리 코팅 다이스에 의해 자외선 경화 수지가 또한 도포되고, 이 도포된 자외선 경화 수지가 자외 광 조사에 의해 경화됨으로써, 광 섬유 소선(2)이 얻어진다. 그리고, 상기 광 섬유 소선(2)은, 캡스턴(16) 및 롤러(17 내지 19)를 순차로 거쳐, 보빈(20)에 권취된다.
외경 측정기(13)에 의해 측정된 누드 광 섬유의 글래스 직경(d)에 관한 정보는 제어부(21)에 입력된다. 상기 제어부(21)에 의해, 가열로(11)에 의한 광 섬유 모재(1)의 가열 온도(선 인발 온도), 캡스턴(16)의 회전 속도(즉, 광 섬유 소선(2) 의 선 인발 속도), 및 프리폼 피더(12)에 의한 광 섬유 모재(1)의 공급 속도가 각각 제어된다. 이 때, 광 섬유 모재(1)의 외경을 D로 하고, 광 섬유 소선(2)의 설정 선 인발 속도를 v1로 하면, 광 섬유 모재(1)의 설정 공급 속도(Vf1)는, 이하의 식(1)을 만족하도록 제어부(21)에 의해 제어된다.
Vf1= v1·d2/D2 …(1)
(제 1 실시예)
다음에, 본 발명에 따른 광 섬유 제조 방법에 있어서의 제 1 실시예에 관해서, 도 2의 (a) 및 (b), 및 도 3을 참조하여 설명한다. 도 2의 (a)는, 파장 분산과 글래스 직경(누드 광 섬유의 외경)과의 관계를 도시하는 그래프이고, 도 2의 (b)는 컷 오프 파장과 글래스 직경(누드 광 섬유의 외경)과의 관계를 도시하는 그래프이다. 이들의 그래프로부터 알 수 있듯이, 글래스 직경이 변화하면, 컷 오프 파장도 변화하며, 또한, 파장 분산도 변화한다. 즉, 측정된 실제의 컷 오프 파장과 목표 컷 오프 파장과의 차는, 실제의 파장 분산과 목표 파장 분산과의 차에 대응하고 있다. 그래서, 이 제 1 실시예에 따른 광 섬유의 제조 방법에서는, 측정된 실제의 컷 오프 파장과 목표 컷 오프 파장과의 차에 기초하여 글래스 직경을 조정함으로써, 실제의 파장 분산을 목표 파장 분산으로 수정한다.
도 3은, 제 1 실시예에 따른 광 섬유의 제조방법을 설명하기 위한 플로우챠트이다. 또한, 상기 제 1 실시예에 따른 광 섬유의 제조방법은, 도 1의 (a) 및 (b)에 도시된 선 인발 장치 및 측정 장치에 의해 실시된다.
제 1 실시예에서는, 우선, 굴절율 프로파일이 긴쪽 방향으로 균일한 광 섬유 모재(1)가 준비되고(스텝 ST11), 상기 광 섬유 모재(1)의 굴절율 분포가 프리폼 애널라이저에 의해 측정된다(스텝 ST12). 그리고, 이 측정 결과나 모재 구조 설계치에 기초하여, 소정 파장(예를 들면 1.55 ㎛)에 있어서 목표로 하는 파장 분산을 갖는 광 섬유 소선(2)을 제조하기 위한 누드 광 섬유의 글래스 직경이 구해진다. 상기 구해진 글래스 직경이 초기 글래스 직경이 된다(스텝 ST13).
그 후, 광 섬유 모재(1)는 프리폼 피더(12)에 고정되어, 상기 프리폼 피더(12)에 의해 광 섬유 모재(1)가 가열로(11) 내에 도입된다. 이로써, 광 섬유 모재(1)의 하단이 가열·용융된다. 하단이 용융하고 있는 광 섬유 모재(1)의 선 인발 시, 얻어지는 누드 광 섬유의 글래스 직경이 초기 글래스 직경이 되도록, 제어부(21)에 의한 외경 제어가 행하여진다.
여기서, 선 인발 개시 후에 얻어진 광 섬유 소선(2)으로부터 그 일부(일정 길이의 피측정용 광 섬유(2a))가 절단되고(스텝 ST14), 도 1의 (b)에 도시된 측정 장치(210)에 의해, 상기 피측정용 광 섬유(2a)의 컷 오프 파장이 측정된다(스텝 ST15). 또한, 피측정용 광 섬유(2a)는, 컷 오프 파장을 측정하는 데 충분한 길이를 갖고 있으며, 구체적으로는 1m 내지 10m 정도이다.
제어부(21)에서는, 상기 측정된 컷 오프 파장과 목표 컷 오프 파장을 비교하여, 이 비교 결과에 기초하여, 소정 파장에서 목표로 하는 파장 분산을 갖는 광 섬유 소선(2)을 제조하기 위한 누드 광 섬유의 글래스 직경을 수정한다. 이 수정된 글래스 직경이 목표 글래스 직경이 된다(스텝 ST16). 예를 들면, 초기 글래스 직경을 d0, 목표 컷 오프 파장을 λc1, 측정된 컷 오프 파장을 λc0으로 하면, 목표 글래스 직경(d1)은, 이하의 식(2)으로 주어진다.
d1=d0×λc1/λc0 …(2)
계속해서, 광 섬유 모재(1)의 잔부가, 얻어지는 누드 광 섬유의 글래스 직경이 목표 글래스 직경이 되도록 선 인발되어, 소망의 광학 특성을 갖는 광 섬유(광 섬유 소선(2))가 제조된다(스텝 ST17).
또한, 스텝(ST15)에서 측정된 컷 오프 파장과 목표 컷 오프 파장과의 차가 일정 범위 내이면, 실제의 파장 분산과 목표 파장 분산과의 차도 허용 범위 내이기 때문에, 초기 글래스 직경을 그대로 목표 글래스 직경으로 하여도 된다. 예를 들면, 측정된 컷 오프 파장(λc0)이 목표 컷 오프 파장(λc1)에 대하여, 이하의 조건(3)을 만족하는 경우, 초기 글래스 직경(d0)을 그대로 목표 글래스 직경(d1)으로 한다.
λc1-10nm≤λc0≤λc1+10nm …(3)
한편, 측정된 컷 오프 파장(λco)이 상기 조건(3)을 만족하지 않는 경우, 상기 식(2)에 의해 목표 글래스 직경(d1)이 구해진다. 또한, 스텝(ST15)에서 측정된 컷 오프 파장과 목표 컷 오프 파장과의 차가 일정 범위 내가 될 때까지 글래스 직경을 갱신하면서 스텝(ST14 내지 ST16)이 반복하여 행해지는 구성이어도 되고, 이것에 의해, 보다 확실하게 목표 컷 오프 파장을 갖는 글래스 직경에 근접할 수 있 다.
또한, 광 섬유 소선(2)의 설정 선 인발 속도를 v1로 한 채로 글래스 직경을 목표 글래스 직경(혹은 초기 글래스 직경)으로 하기 위해서는, 상기 식(1)에 의해 광 섬유 모재(1)의 설정 공급 속도(Vf1)로 함과 동시에, 외경 측정기(13)에 의해 광 섬유 소선(2)의 글래스 직경(d)을 온 라인 측정하고, 상기 글래스 직경(d)에 기초하여 캡스턴(16)의 회전 속도를 제어함으로써 누드 광 섬유의 글래스 직경(d)을 일정하게 유지하는 것이 가능해진다. 이들의 제어는 제어부(21)에 의해 행하여진다.
이상과 같이 상기 제 1 실시예에서는, 선 인발 개시 후에 얻어진 일정 길이의 광 섬유(피측정용 광 섬유(2a))의 컷 오프 파장을 측정하고, 이 측정 결과에 기초하여 수정된 목표 글래스 직경을 구하고, 광 섬유 모재(1)의 잔부를 선 인발하여, 글래스 직경이 목표 글래스 직경이 되도록 외경 제어된 광 섬유 소선(2)이 제조된다. 이로써, 준비되는 광 섬유 모재의 가공 정밀도가 좋지 않아도, 혹은 프리폼 애널라이저에 의한 상기 광 섬유 모재의 굴절율 분포의 측정 정밀도가 좋지 않아도, 목표로 하는 파장 분산 특성을 갖는 광 섬유가 용이하게 제조된다. 특히, 해당 제조방법은, 글래스 직경의 변화에 따라서 파장 분산 특성이 민감하게 변화하는 분산 보상 광 섬유의 제조에 적합하다.
(제 2 실시예)
다음에, 본 발명에 따른 광 섬유 제조 방법에 있어서의 제 2 실시예에 관해서, 도 4의 (a) 및 (b), 및 도 5를 참조하여 설명한다. 도 4의 (a)는 파장 분산과 글래스 직경(누드 광 섬유의 외경)과의 관계를 도시하는 그래프이고, 도 4(b)는 모드 필드 외경과 글래스 직경(누드 광 섬유의 외경)과의 관계를 도시하는 그래프이다. 이들의 그래프로부터 알 수 있는 바와 같이, 글래스 직경이 변화하면, 모드 필드 직경도 변화하고, 또한, 파장 분산도 변화한다. 즉, 측정된 실제의 모드 필드 직경과 목표 모드 필드 직경과의 차는, 실제의 파장 분산과 목표 파장 분산과의 차에 대응하고 있다. 그래서, 상기 제 2 실시예에서는, 측정된 실제의 모드 필드 직경과 목표 모드 필드 직경과의 차에 기초하여 글래스 직경을 조정함으로써, 실제의 파장 분산을 목표 파장 분산으로 수정한다.
도 5는, 제 2 실시예에 따른 광 섬유 제조 방법을 설명하기 위한 플로우챠트이다. 또한, 상기 제 2 실시예에 따른 광 섬유의 제조방법도, 제 1 실시예와 마찬가지로, 도 1의 (a) 및 (b)에 도시된 선 인발 장치 및 측정 장치에 의해 실시된다.
제 2 실시예에서는, 우선, 굴절율 프로파일이 긴쪽 방향으로 균일한 광 섬유 모재(1)가 준비되고(스텝 ST21), 이 광 섬유 모재(1)의 굴절율 분포를 프리폼 애널라이저에 의해 측정된다(스텝 ST22). 그리고, 이 측정 결과나 모재 구조 설계치에 기초하여, 소정 파장(예를 들면 1.55 ㎛)에서 목표로 하는 파장 분산을 갖는 광 섬유 소선(2)을 제조하기 위한 누드 광 섬유의 글래스 직경이 구해진다. 이 구해진 글래스 직경이 초기 글래스 직경이 된다(스텝 ST23).
그 후, 광 섬유 모재(1)는 프리폼 피더(12)에 고정되어, 상기 프리폼 피더(12)가 광 섬유 모재(1)를 가열로(11)내에 도입한다. 이로써, 광 섬유 모재(1)의 하단이 가열·용융된다. 하단이 용융하고 있는 광 섬유 모재(1)의 선 인발시, 얻어지는 누드 광 섬유의 글래스 직경이 초기 글래스 직경이 되도록, 제어 부(21)에 의한 외경 제어가 행하여진다.
여기서, 선 인발 개시 후에 얻어진 광 섬유 소선(2)으로부터 그의 일부(피측정용 광 섬유(2a))가 절단되고(스텝 ST24), 도 1의 (b)에 도시된 측정 장치(210)에 의해, 상기 피측정용 광 섬유(2a)의 모드 필드 직경이 측정된다(스텝 ST25). 또한, 피측정용 광 섬유(2a)는, 모드 필드 직경을 측정하는 데 충분한 길이를 갖고 있으며, 구체적으로는 1m 내지 10m 정도이다.
제어부(21)에서는, 이 측정된 모드 필드 직경과 목표 모드 필드 직경을 비교하여, 이 비교 결과에 기초하여, 소정 파장에서 목표로 하는 파장 분산을 갖는 광 섬유 소선(2)을 제조하기 위한 누드 광 섬유의 글래스 직경을 수정한다. 이 수정된 글래스 직경이 목표 글래스 직경이 된다(스텝 ST26). 예를 들면, 초기 글래스 직경을 d0, 목표 모드 필드 직경을 M1, 측정된 모드 필드 직경을 M0로 하면, 목표 글래스 직경(d1)은, 이하의 식(4)으로 주어진다.
d1=d0×M1/M0 …(4)
계속해서, 광 섬유 모재(1)의 잔부가, 얻어지는 누드 광 섬유의 글래스 직경이 목표 글래스 직경이 되도록 선 인발되고, 소망의 광학 특성을 갖는 광 섬유 소선(2)이 제조된다(스텝 ST27).
또한, 스텝(ST25)에서 측정된 모드 필드 직경과 목표 모드 필드 직경과의 차가 일정 범위 내이면, 실제의 파장 분산과 목표 파장 분산과의 차도 허용범위내이기 때문에, 초기 글래스 직경을 그대로 목표 글래스 직경으로 하여도 된다. 예를 들면, 측정된 모드 필드 직경(M0)이, 목표 모드 필드 직경(M1)에 대하여, 이하의 조건(5)을 만족하는 경우, 초기 글래스 직경(d0)을 그대로 목표 글래스 직경(d1)으로 한다.
M1-0.2 ㎛ ≤M0 ≤M1+ 0.2 ㎛ …(5)
한편, 측정된 모드 필드 직경(M0)이 상기 조건(5)을 만족하지 않는 경우, 상기 식(4)에 의해 목표 글래스 직경(d1)이 구해진다. 또한, 스텝(ST25)에서 측정된 모드 필드 직경과 목표 모드 필드 직경과의 차가 일정 범위내가 될 때까지 글래스 직경을 갱신하면서 스텝(ST24 내지 ST26)이 반복하여 행하여지는 구성이어도 가능하며, 이로써, 보다 확실하게 목표 모드 필드 직경을 갖는 글래스 직경에 근접할 수 있다.
또한, 광 섬유 소선(2)의 설정 선 인발 속도를 v1로 한 채로 글래스 직경을 목표 글래스 직경(혹은 초기 글래스 직경)으로 하기 위해서는, 상기 식(1)에 의한 광 섬유 모재(1)의 설정 공급 속도(Vf1)로 함과 동시에, 외경 측정기(13)에 의해 광 섬유(2)의 글래스 직경(d)을 온 라인 측정하고, 상기 글래스 직경(d)에 기초하여 캡스턴(16)의 회전 속도를 제어함으로써 누드 광 섬유의 글래스 직경(d)을 일정하게 유지하는 것이 가능해진다. 이들의 제어는 제어부(21)에 의해 행하여진다.
이상과 같이 상기 제 2 실시예에서는, 선 인발 개시 후에 얻어진 일정 길이의 광 섬유(피측정용 광 섬유(2a))의 모드 필드 직경을 측정하고, 이 측정 결과에 기초하여 수정된 목표 글래스 직경을 구하고, 광 섬유 모재(1)의 잔부를 선 인발하여, 글래스 직경이 목표 글래스 직경이 되도록 외경 제어된 광 섬유 소선(2)이 제조된다. 이로써, 준비되는 광 섬유 모재의 가공 정밀도가 좋지 않아도, 혹은 프리폼 애널라이저에 의한 상기 광 섬유 모재의 굴절율 분포의 측정 정밀도가 좋지 않아도, 목표로 하는 파장 분산 특성을 갖는 광 섬유가 용이하게 제조된다. 특히, 해당 제조방법은, 글래스 직경의 변화에 따라서 파장 분산 특성이 민감하게 변화하는 분산 보상 광 섬유의 제조에 적합하다.
이상의 본 발명의 설명으로부터, 본 발명을 여러가지로 변형할 수 있음은 분명하다. 그러한 변형은, 본 발명의 사상 및 범위로부터 일탈하는 것으로는 인식할 수 없고, 모든 당업자에게 있어서 자명한 개량은, 이하의 청구의 범위에 포함되는 것이다.
이상과 같이 본 발명에 의하면, 광 섬유 모재의 선 인발 개시 후에, 얻어진 일정 길이의 광 섬유에 있어서의 컷 오프 파장 및 모드 필드 직경 중 어느 하나가 측정되고, 측정된 컷 오프 파장 혹은 모드 필드 직경에 기초하여, 목표로 하는 파장 분산 특성을 얻기 위한 목표 글래스 직경이 구해지고, 이 구해진 목표 글래스 직경이 되도록 외경 제어하면서 광 섬유 모재의 잔부가 선 인발된다. 따라서, 광 섬유 모재의 가공 정밀도가 좋지 않아도, 혹은 프리폼 애널라이저에 의한 광 섬유 모재의 굴절율 분포의 측정 정밀도가 좋지 않아도, 목표로 하는 파장 분산 특성을 갖는 광 섬유가 용이하게 제조된다. 특히, 해당 발명은, 글래스 직경(광 섬유 외경)의 변화에 따라서 파장 분산 특성이 민감하게 변화하는 분산 보상 광 섬유의 제조에 적합하다.

Claims (2)

  1. 광 섬유 모재를 선 인발하여 소망의 광학 특성을 갖는 광 섬유를 제조하기 위한 광 섬유의 제조방법에 있어서,
    상기 광 섬유 모재의 일부를 선 인발함으로써 얻어진 일정 길이의 광 섬유의 컷 오프 파장을 측정하고,
    상기 측정된 컷 오프 파장에 기초하여, 목표로 하는 파장 분산 특성을 얻기 위한 목표 글래스 직경을 구하고,
    상기 구해진 목표 글래스 직경이 되도록 외경 제어하면서 상기 광 섬유 모재의 잔부(殘部)를 선 인발하는, 광 섬유 제조방법.
  2. 광 섬유 모재를 선 인발하여 소망의 광학 특성을 갖는 광 섬유를 제조하기 위한 광 섬유 제조방법에 있어서,
    상기 광 섬유 모재의 일부를 선 인발함으로써 얻어진 일정 길이의 광 섬유의 모드 필드 직경을 측정하고,
    상기 측정된 모드 필드 직경에 기초하여, 목표로 하는 파장 분산 특성을 얻기 위한 목표 글래스 직경을 구하고,
    상기 구해진 목표 글래스 직경이 되도록 외경 제어를 행하면서 상기 광 섬유 모재의 잔부를 선 인발하는, 광 섬유 제조방법.
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