KR100730052B1 - 농담 불균일을 검사하는 장치, 그 방법 및 농담 불균일검사용 프로그램을 기록한 기록 매체 - Google Patents

농담 불균일을 검사하는 장치, 그 방법 및 농담 불균일검사용 프로그램을 기록한 기록 매체 Download PDF

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Abstract

기판(9)에 도포된 레지스트의 농담 불균일을 검사하는 불균일 검사장치(1)에서는, 기판(9)의 촬상 화상이 압축된 후에 로우패스 필터 처리가 행하여지고, 하이패스 필터부(4214)에 의해 하이패스 필터 처리가 더 행하여진다. 하이패스 필터부(4214)에서는, 하이패스 윈도우가 엣지 근방에 존재하는 경우에는, 하이패스 윈도우가 축소되어 필터 처리에 의한 화소값 산출의 대상이 되는 주목 화소가 속하는 영역이외의 영역을 피한다. 이렇게, 불균일 검사장치(1)에서는, 하이패스 필터 처리에 이용되는 화소군을, 하이패스 윈도우 내의 화소, 즉, 실질적으로 주목 화소가 속하는 영역 내의 화소로 제한하는 것에 의해, 엣지 근방에 있어서의 불균일 검사의 정밀도를 향상시킬 수 있다.
기판, 하이패스, 필터, 불균일

Description

농담 불균일을 검사하는 장치, 그 방법 및 농담 불균일 검사용 프로그램을 기록한 기록 매체{Apparatus and Method of Inspecting Density Unevenness and Recording Medium Carrying a Program for Inspecting Density Unevenness}
도1은, 제1의 실시형태에 관한 불균일 검사장치의 구성을 나타낸 도면이다.
도2는, 스테이지 및 촬상부를 나타내는 평면도면이다.
도3은, 불균일검출 동작의 흐름을 나타낸 도면이다.
도4는, 제2 화상의 일부를 확대해서 나타낸 도면이다.
도5는, 하이패스 필터 처리의 흐름을 나타낸 도면이다.
도6은, 제2 화상의 일부를 확대해서 나타낸 도면이다.
도7은, 촬상 화상의 일부를 나타낸 도면이다.
도8은, 처리가 끝난 화상의 일부를 나타낸 도면이다.
도9는, 비교예의 처리가 끝난 화상의 일부를 나타낸 도면이다.
도10은, 제2의 실시형태에 관한 불균일 검사장치에 의한 하이패스 필터 처리의 흐름을 나타낸 도면이다.
도11은, 제2 화상의 일부를 확대해서 나타낸 도면이다.
도12는, 처리가 끝난 화상의 일부를 나타낸 도면이다.
본 발명은, 대상물의 농담 불균일을 검사하는 기술에 관한 것이다.
종래부터, 표시장치의 표시면에 사용되는 여러가지 부품에 대하여, 전면에 걸쳐서 불균일이 점재하는 전체 불균일이나, 불균일이 부분적으로 존재하는 부분 불균일, 혹은 세로 또는 가로방향에 선상의 불균일이 생기는 선 불균일 등의 검출이 검사원의 육안관찰에 의해 행하여지고 있다.
예컨대, 일본국특허공개공보 평9-5057호에는, 칼라 브라운관용 새도우 마스크의 광투과율의 불균일 검사에 있어서, 새도우 마스크의 한쪽 주면측에서 광을 조사하여 다른쪽 주면측에서 촬상한 화상의 층조 데이타에 대하여, 메디안 필터에 의해 평활화 처리를 행하여 평활화 데이타를 구하고, 층조 데이타를 평활화 데이타에 의해 제산(除算)하여 산출한 규격화 데이타에 근거해서 검출해야 할 불균일이 강조된 새도우 마스크의 화상을 표시하는 것에 의해, 육안관찰 검사의 간략화, 및, 검사 정밀도의 향상을 도모하는 기술이 개시되어 있다.
최근, 검사 대상물의 화상으로부터 목시에 의지하지 않고 자동적으로 불균일을 검출하는 것이 행하여지고 있어, 농담의 콘트라스트가 약한 대상물을 검사하기 위해서, 대상물의 화상에 대한 콘트라스트 강조 처리가 행하여지고 있다. 그런데, 액정표시장치용 패널에 도포된 레지스트의 불균일 검사에 있어서, 1장의 대형 유리 기판에 복수장의 패널이 면접되어 있을 경우, 각 패널의 외주부의 전극부의 엣지에 있어서 불균일을 검출할 수 없는 선상의 영역, 또는, 불균일의 검출 정밀도가 저하 하는 선상의 영역이 생긴다. 이러한 영역이 생기는 주요한 원인은, 콘트라스트 강조의 효과를 방해하는 저주파의 농도변동을 제거하기 위해서 콘트라스트 강조 처리의 직전에 행하여지는 하이패스 필터 처리라고 생각된다.
본 발명은, 대상물의 농담 불균일을 검사하는 불균일 검사장치에 대한 것으로, 대상물로부터 취득된 화상 중에서 엣지 근방에 있어서의 불균일 검사의 정밀도를 향상하는 것을 목적이라고 하고 있다.
본 발명에 관한 불균일 검사장치는, 대상물을 유지하는 유지부와, 대상물의 한 주면을 촬상하는 촬상부와, 촬상부에서 취득된 대상 화상에 화상처리를 행하여 처리가 끝난 화상을 생성하는 화상처리부를 구비하고, 화상처리부가, 대상 화상에 있어서 서로 다른 농도의 영역의 경계인 엣지를 검출하는 엣지 검출부와, 대상 화상에 하이패스 필터 처리를 행하는 하이패스 필터부와, 하이패스 필터부에 의해 처리된 후의 대상 화상의 콘트라스트를 강조하는 콘트라스트 강조부를 구비하고, 하이패스 필터부가, 처리가 끝난 화상 중에서 하나의 주목 화소의 화소값을 구할 때에, 대상 화상 중에서 연산에 이용되는 화소군을 실질적으로 주목 화소가 속하는 영역의 화소로 제한한다.
하이패스 필터 처리시에, 연산에 이용되는 화소군을 실질적으로 주목 화소가 속하는 영역의 화소로 제한하는 것에 의해, 대상 화상 중에서 엣지 근방에 있어서 의 불균일 검사의 정밀도를 향상할 수 있다.
본 발명의 하나의 바람직한 형태로는, 하이패스 필터부에 의한 하이패스 필터 처리가, 주목 화소를 거의 중심으로 하는 윈도우내의 모든 화소의 화소값에 근거해서 행하여지고, 윈도우가 엣지 근방에 존재하는 경우에, 윈도우가 축소되어서 주목 화소가 속하는 영역 이외의 영역을 윈도우가 피한다. 이것에 의해, 엣지 근방에 있어서의 불균일 검사의 특성을 다른 부위와 근사시킬 수 있다.
본 발명의 다른 하나의 바람직한 형태로는, 하이패스 필터부에 의한 하이패스 필터 처리가, 주목 화소를 거의 중심으로 하는 고정된 크기의 윈도우 내의 화소 중에서, 주목 화소가 속하는 영역의 화소의 화소값만에 근거해서 행하여진다. 이 형태의 경우, 윈도우의 설정을 간단히 행할 수 있다.
바람직하게는, 불균일 검사장치는, 처리가 끝난 화상에 근거해서 연산 처리에 의해 대상물의 농담 불균일의 정도를 나타내는 값을 구하는 불균일 검출부를 더 구비한다.
본 발명은 또, 대상물의 농담 불균일을 검사하는 불균일 검사방법에 대한 것이고, 또한, 이 불균일 검사방법을 컴퓨터에 실행시키는 프로그램을 기록한 기록 매체에 관한 것이다.
상술한 목적 및 다른 목적, 특징, 태양 및 이점은, 첨부한 도면을 참조해서 이하에 행하는 이 발명의 상세한 설명에 의해 밝혀진다.
바람직한 실시형태의 설명
도1은, 본 발명의 제1의 실시형태에 관한 불균일 검사장치(1)의 구성을 나타 낸 도면이다. 불균일 검사장치(1)는, 유리 기판(이하, 단지 「기판」이라고 한다.)(9)에 도포된 레지스트의 농담 불균일(이하, 단지 「불균일」이라고 한다.)을 검사하는 장치이며, 기판(9)에는 액정표시장치용인 복수의 패널용 패턴이 면접되어 있다.
불균일 검사장치(1)는, 기판(9)을 유지하는 광투과성 스테이지(2), 스테이지(2)에 유지된 박판상의 기판(9)의 도1 중에 나타낸 (-Z)측의 주면인 하면에 광을 조사하는 광조사부(3), 기판(9)의 (+Z)측의 주면인 상면을 촬상하는 촬상부(5), 및, 각종연산 처리를 행하는 컴퓨터(4)를 구비한다. 컴퓨터(4)는, 촬상부(5)를 제어하기 위한 전용 보드로서 설치된 촬상 제어부(41), CPU나 그 주변회로가 각종 연산 처리를 행하는 연산부(42), 및, 메모리나 고정 디스크 등 각종 정보를 기억하는 기억부(43)를 구비한다. 기억부(43)에는, 컴퓨터(4)에 설치된 도시하지 않은 읽기 장치를 통해서 자기 디스크, 광디스크, 광자기 디스크 등의 컴퓨터 판독가능한 기록 매체(8)로부터 전용프로그램(81)이 판독되어 기억되고, CPU가 프로그램(81)에 따라서 연산 처리를 행하는 것에 의해, 즉, 컴퓨터(4)이 프로그램(81)을 실행하는 것에 의해, 컴퓨터(4)가 불균일 검사를 행한다. 또, 기억부(43) 자체도 프로그램(81)을 기록한 기록 매체의 하나로 파악할 수 있다.
도2는, 스테이지(2) 및 촬상부(5)를 나타내는 평면도이다. 촬상부(5)는, 도2 중에서 Y방향으로 지그재그형으로 배열된 복수(본 실시형태에서는 10개)의 CCD의 라인 센서(51)를 갖는 헤드부(52), 및, 헤드부(52)를 Y방향에 수직인 X방향으로 이동하는 헤드부 이동 기구(53)를 구비하고, 촬상 제어부(41)(도1참조)에 의해 헤드 부 이동 기구(53)가 제어되는 것에 의해, 복수의 라인 센서(51)가 일체적으로 이동하고, 스테이지(2) 상에 유지된 기판(9)이 촬상되어서 화상이 취득된다. 불균일 검사장치(1)에서는, 각각 5000개의 촬상 소자를 갖는 10개의 라인 센서(51)가 2m에 걸쳐서 배열되어 있고, 각 촬상 소자에 의해 기판(9) 상의 40㎛ 사방의 영역이 1화소로서 촬상된다. 기판(9)은, 약 2m 사방의 정방형이며, 촬상부(5)에 의해 50000화소×50000화소의 화상이 취득된다.
도2에 도시한 바와 같이, 기판(9)에는, 액정표시장치용인 8개의 패널에 대응하는 패턴이 면접되어 있고, 각 패턴은, 표시에 이용되는 중앙 부분(이하, 「표시부(91)」라고 한다.)과, 그 외주에 테두리상에 설치된 전극 패턴 형성용 전극부(92)를 갖는다. 표시부(91)와 전극부(92)는 광투과율이 다르기 때문에, 기판(9)의 화상에서는, 표시부(91)에 대응하는 영역, 및, 이것에 인접하는 전극부(92)에 대응하는 영역과 서로 농담의 정도(이하, 「농도」라고 한다.)가 다르다. 마찬가지로, 전극부(92)의 외측의 주변부(93)에 대응하는 영역과 전극부(92)에 대응하는 영역에서도 서로 농도가 다르다.
도1에 도시한 바와 같이, 연산부(42)는, CPU가 프로그램(81)을 따라서 연산 처리를 실행하는 것에 의해 실현되는 기능으로서, 촬상부(5)에 의해 취득된 화상(이하, 「촬상 화상」이라고 한다.)에 대한 화상처리를 행하여 처리가 끝난 화상을 생성하는 화상처리부(421), 및, 처리가 끝난 화상에 근거해서 연산 처리에 의해 기판(9)의 불균일의 정도를 나타내는 값을 구하는 불균일검출부(422)를 구비한다. 화상처리부(421)는, 촬상 화상을 압축해서 제1 화상을 생성하는 화상압축부(4211), 제1 화상에 대하여 로우패스 필터 처리를 행하여 제2 화상을 생성하는 로우패스 필터부(4212), 농도가 다른 2개 영역의 경계(예컨대, 표시부(91)와 전극부(92)의 경계)인 엣지를 검출하는 엣지 검출부(4213), 제2 화상에 대하여 하이패스 필터 처리를 행하여 제3 화상을 생성하는 하이패스 필터부(4214), 및, 제3 화상의 콘트라스트를 강조하여 처리가 끝난 화상을 생성하는 콘트라스트 강조부(4215)를 구비한다.
도3은, 불균일 검사장치(1)에 의한 기판(9) 상의 불균일검출 동작의 흐름을 나타낸 도면이다. 불균일 검사장치(1)에서는, 우선, 도1에 나타내는 광조사부(3)에 의해, 스테이지(2)에 유지된 기판(9)의 하면에 광이 조사된다(스텝 S11). 계속해서, 헤드부 이동 기구(53)에 의해 도1 중에서 X방향으로 이동하는 복수의 라인 센서(51)에 의해 기판(9)의 상면이 촬상되고, 촬상 화상의 데이타가 컴퓨터(4)의 연산부(42)에 보내져서 화상처리부(421)에 의해 접수된다(스텝 S12). 촬상 화상은 높은 S/N비(신호/잡음비)로 취득되는 것이 바람직하고, 필요에 따라서, 복수의 라인 센서(51)의 촬상 소자마다 감도의 격차에 따른 보정이, 촬상 화상에 대하여 행하여져도 좋다.
촬상 화상이 화상처리부(421)에 의해 접수되면, 화상압축부(4211)에 의해 촬상 화상이 압축되어 제1 화상이 생성된다(스텝 S13). 여기에서, 촬상 화상에 있어서 좌표(X,Y)에 위치하는 화소의 화소값을 FXY로 나타내면, 촬상 화상을 Sa, 화소×Sa, 화소의 범위를 단위로써 압축해서 생성된 제1 화상에 있어서, 좌표(x, y)에 위치하는 주목 화소의 화소값Axy는, 식(1)에 의해 구해진다.
Figure 112005056031004-pat00001
본 실시형태에서는 Sa가 4(화소)이기 때문에, 제1 화상의 화소수는 12500화소×12500화소가 되고, 제1 화상의 S/N비는 촬상 화상의 4배로 향상한다.
제1 화상이 생성되면, 로우패스 필터부(4212)에 의해 제1 화상에 대한 로우패스 필터 처리가 행하여지고, 제1 화상으로부터 고주파 노이즈의 영향이 억제되어서 평활화된 제2 화상이 생성된다 (스텝 S14). 로우패스 필터 처리의 연산 범위를 결정하는 윈도우는, 한 변의 길이가 (2S1+1)화소의 정방형이고, 제2 화상에 있어서 좌표(x, y)에 위치하는 주목 화소의 화소값Lxy는, 주목 화소 근방의 각 화소의 제1 화상에 있어서의 화소값A(식(1)참조)를 이용하여, 식(2)에 의해 구해진다. 본 실시형태에서는, S1은 1(화소)로 된다.
Figure 112005056031004-pat00002
도4는, 제2 화상에 있어서의 1개의 패널에 상당하는 영역의 1개의 코너 근방을 확대해서 나타낸 도면이다. 이하의 설명에서는, 표시부(91) 및 전극부(92)에 대응하는 화상중의 영역도 단지 「표시부(91)」 및 「전극부(92)」라고 표현한다. 도4 중에서 크로스 해칭(cross-hatching)을 붙여서 나타내는 화소(901)는, 표시부(91)와 전극부(92)의 경계인 엣지(900) 상의 화소로서, 이하, 「엣지 화소(901)」 라고 한다. 도4 중에서 엣지(900)의 오른쪽 위쪽에서 평행 사선을 붙여서 나타내는 화소(911)는, 표시부(91) 상의 화소로서, 이하, 「표시부 화소(911)」라고 한다. 또한, 엣지(900)를 끼어서 표시부(91)와는 반대측에 있어서 다른 평행 사선을 붙여서 나타내는 화소(921)는, 전극부(92) 상의 화소로서, 이하, 「전극부화소(921)」라고 한다. 도4에 도시한 바와 같이, 본 실시형태에서는, 엣지(900)는 2화소분의 폭을 갖는 것이라고 한다.
제2 화상이 생성되면, 도1에 나타내는 엣지 검출부(4213)에 의해, 도4에 나타내는 엣지(900)가 검출되어서, 각 엣지 화소(901)의 좌표가 기억부(43)에 기억된다(스텝 S15). 또, 엣지 검출은, 하이패스 필터 처리 전이면, 로우패스 필터 처리 전이나 해상도 압축 전에 행하여져도 좋다. 계속해서, 하이패스 필터부(4214)에 의해, 제2 화상에 대하여 하이패스 필터 처리가 행하여지고, 제2 화상으로부터 후술하는 콘트라스트 강조 처리의 방해가 되는 저주파의 농도변동이 제거된 제3 화상이 생성된다(스텝 S16). 여기에서, 좌표(x, y)에 위치하는 주목 화소의 화소값H1 xy은, 주목 화소 근방의 각 화소의 제2 화상에 있어서의 화소값L(식(2)참조)을 이용하여, 식(3)에서 구해진다.
Figure 112005056031004-pat00003
식(3)은, 하이패스 필터 처리의 연산 범위를 결정하는 윈도우(이하, 「하이패스 윈도우」라고 한다.)로서, 주목 화소를 중심으로 하는 각 변의 길이가 (2S2+1) 화소의 정방형의 윈도우가 이용되는 경우를 나타내고 있어, 본 실시형태에서는, S2는 가변으로 되고, 최대로 12(화소)로 된다.
도5는, 스텝 S16에 있어서의 하이패스 필터 처리의 흐름을 나타낸 도면이다.하이패스 필터부(4214)(도1 참조)에서는, 우선, 1회의 하이패스 필터 처리의 연산에 의해 값이 구해지는 최초의 주목 화소가 적당히 선택되고, 주목 화소의 좌표, 및, 기억부(43)에 기억된 엣지 화소(901)의 좌표로부터, 주목 화소와 각 엣지 화소(901) 사이의 행방향(도4 중에서 수평방향)의 거리, 및, 열방향(도4 중에서 수직방향)의 거리가 구해지고, 각 엣지 화소(901)에 대해서 상기 행방향 및 열방향의 거리 중에서 큰 쪽의 값이 구해진다(스텝 S161). 그리고, 전체 엣지 화소(901)에 관한 상기 큰 쪽의 값의 최소값이, 주목 화소와 엣지(900)와의 사이의 거리의 최소값d로서, 주목 화소에 관련된다.
하이패스 필터부(4214)에서는, 주목 화소가 엣지(900) 근방에 존재하고 있는지 여부가 확인되고(스텝 S162), 주목 화소에 관련된 최소값d가, 13(화소) 이상일 경우에는 엣지(900)로부터 충분히 떨어져 있다고 판단되고, S2가 최대값인 12(화소)로 되어 하이패스 윈도우가 소정의 최대 사이즈(즉, 25화소 사방)로 설정된다(스텝 S163).
또한, 주목 화소의 최소값d가 13화소 미만일 경우에는, 주목 화소가 엣지(900) 근방에 존재하고 있다고 판단되어서, S2가 (d-1)으로 되어 하이패스 윈도우가 축소된다(스텝 S164). 이 때, 축소된 하이패스 윈도우는 엣지(900)에 접한다. 왜냐 하면, 가령 다른 엣지 화소(901)가 하이패스 윈도우 내에 존재한다고 하면, 주목 화소와 상기 이외의 엣지 화소(901)와의 사이의 행방향 및 열방향의 거리 중에서 큰 쪽의 값은, 반드시 최소값d 보다 작아지기 때문에, 하이패스 윈도우가 더 축소되기 때문이다.
도6은, 도4와 같이, 제2 화상에 있어서의 1개의 패널에 상당하는 영역의 코너 근방을 확대해서 나타내는 도로서, 각표시부 화소(911) 중의 수치는, 각 표시부 화소(911)와 엣지(900)와의 사이의 최소값d를 나타낸다. 예컨대, 도6 중에 부호(911)a를 붙이는 표시부 화소가 주목 화소일 경우, 주목 화소(911)a와 각엣지 화소(901)와의 사이의 행방향 및 열방향의 거리 중에서 큰 쪽의 값은 항상 2화소 이상이기 때문에, 최소값d는 2화소가 되고, S2는 1(화소)가 된다. 그리고, 도6 중에 큰 선으로 나타내는 하이패스 윈도우(4214)a의 각 변의 길이는, 3화소(즉, (2S2+1)화소로 되고, 최소값d를 이용해서 나타내면, (2d-1)화소)로 된다.
이렇게, 하이패스 필터부(4214)에서는, 각 변의 길이가 (2S2+1)화소인 정방형의 하이패스 윈도우(4214)a가 설정되고, 하이패스 윈도우(4214)a가 엣지(900)로부터 충분히 떨어져 있을 경우에는, 하이패스 윈도우(4214)a는 소정의 최대 사이즈에 고정되고, 엣지(900) 근방에 존재하는 경우에는, 하이패스 윈도우(4214)a가 축소되어서 주목 화소(911)a가 속하는 영역인 표시부(91) 이외의 영역(즉, 도6 중에서는 엣지(900) 및 전극부(92))을 피한다.
그 결과, 하이패스 윈도우(4214)a 내의 모든 화소가, 주목 화소(911)a가 속 하는 영역 내의 화소인 표시부 화소(911)로 되고, 그 상태에서, 하이패스 윈도우(4214)a 내의 모든 화소의 화소값에 근거해서 하이패스 필터 처리가 행하여져서 제3 화상에 있어서의 주목 화소(911)a의 화소값H1 xy(식(3) 참조)이 구해진다(스텝 S165). 그리고, 주목 화소를 다음 화소로 절환하면서 순차 하이패스 필터 처리가 행하여지는 것에 의해 제3 화상이 생성된다(스텝 S166, S167). 또, 주목 화소(911)a가 엣지(900) 상에 있는 경우에는 하이패스 필터 처리는 행하여지지 않고, H1 xy는 1로 된다.
하이패스 필터 처리가 완료하면, 콘트라스트 강조부(4215)에 의해 제3 화상에 대하여 콘트라스트 강조 처리가 행하여져서 처리가 끝난 화상이 생성되고, 처리가 끝난 화상의 데이타가 기억부(43)에 기억된다(도3:스텝 S17). 처리가 끝난 화상에 있어서 좌표(x, y)에 위치하는 주목 화소의 화소값Exy는, 제3 화상에 있어서의 주목 화소의 화소값H1 xy, 콘트라스트 강조비rc, 및, 배경값b를 이용하여, 식(4)에서 구해진다. 본 실시형태에서는, rc는 0.01, 0.02, 0.05 또는 0.1이 된다.
Figure 112005056031004-pat00004
도7은, 촬상 화상의 일부를 나타낸 도면이다. 도7 중에서 엣지(900)의 좌측 영역은 전극부(92)를 나타내고, 우측 영역은 표시부(91)를 나타낸다. 또한, 전극부 (92) 및 표시부(91)에 붙이는 평행사선의 간격의 차이는 양쪽 영역의 농도의 차이를 나타내고, 간격이 좁은 전극부(92)의 농도가 표시부(91)보다도 높은 것을 나타낸다.
도8은, 도7에 나타낸 촬상 화상에 대하여 상술한 화상처리가 행하여져서 생성된 처리가 끝난 화상의 일부를 나타낸 도면이다. 도8에 도시한 바와 같이, 처리가 끝난 화상에서는, 예컨대, 촬상 화상에서는 확인 곤란한 수평한 선 불균일(95)이 강조된다. 도9는, 엣지(900) 근방에 있어서도 하이패스 윈도우(4214)a의 크기를 고정한 채, 하이패스 윈도우(4214)a 내의 모든 화소에 근거해서 하이패스 필터 처리를 행한 경우의 처리가 끝난 화상을 비교예로서 나타낸 도면이다.
비교예에서는, 엣지(900) 근방의 화소에 대하여, 농도가 크게 다른 2개의 영역(즉, 도7 중에서 표시부(91) 및 전극부(92))의 쌍방의 화소의 화소값에 근거해서 하이패스 필터 처리가 행하여지기 때문에, 도9에 도시한 바와 같이, 수평한 선 불균일(95)을 확인하는 것은 가능하지만, 화소값이 포화한 영역(즉, 콘트라스트 강조 처리에 의해 화소값이 계산상 0 미만 또는 최대값 이상이 되는 영역)(94)이 엣지(900) 근방에 생성되어버린다. 이하, 화소값의 포화에 의해 불균일의 검출을 할 수 없는 영역(94)을, 「불균일검출 불능영역」이라고 한다. 이러한 불균일검출 불능영역(94)이 생기는 원인은, 엣지(900)의 양측의 화소를 이용해서 하이패스 필터 처리를 하기 때문에, 엣지(900)를 가로 지르는 방향에 관한 화소값의 변동이 강조되기 때문이다.
한편, 불균일 검사장치(1)에서는, 크기가 가변인 하이패스 윈도우(4214)a를 이용하는 것에 의해, 엣지(900)를 끼워서 주목 화소와는 반대측의 영역에 존재하는 화소의 화소값을 이용하지 않고 하이패스 필터 처리를 하기 때문에, 도8 도시한 바와 같이, 비교예와 비교해서 엣지(900)(도8에 나타내는 처리가 끝난 화상 중에서는 명확한 엣지로는 인식되지 않기 때문에, 2점 쇄선으로 나타낸다.) 근방에 있어서 불균일검출 불능영역(94)(도8 중에서 파선으로 끼워져 있는 영역)을 축소할 수 있고, 엣지(900) 근방에 있어서의 불균일 검사의 정밀도를 향상할 수 있다.
콘트라스트 강조 처리가 완료하면, 도1에 나타내는 불균일검출부(422)에 의해 처리가 끝난 화상의 데이타에 대하여 연산 처리가 행하여지고, 기판(9)의 전면에 걸쳐서 불균일이 점재하는 전체 불균일, 기판(9)상의 일부에 부분적으로 불균일이 존재하는 부분 불균일, 및, 행방향 또는 열방향에 선상의 불균일이 생기는 선 불균일의 각종 불균일에 대해서 불균일의 정도(소위, 불균일 강도)가 정량화되어, 불균일의 정도를 나타내는 값인 평가값이 산출된다(스텝 S18). 이하, 각종 불균일에 관한 평가값을 구하는 방법에 대해서 설명한다.
전체 불균일의 평가값이 구해지는 때에는, 우선, 불균일검출부(422)에 의해, 처리가 끝난 화상 중에서 소정의 크기로 늘어세워진 정방형의 평가 영역의 각각에 대하여 FFT(고속 퓨리에 변환)가 행하여지고, 식(5)에 도시한 바와 같이 스펙트럼Fk uv가 구해진다. 여기에서, k는, 대상으로 되는 평가 영역이, 처리가 끝난 화상에 있어서의 전체 평가 영역 중 k번째의 평가 영역인 것을 나타내는 첨자이고, (xk0, yk0) 및 (xk1, yk1)은, k번째의 평가 영역을 규정하는 정점의 화소의 좌표이다. 또한, Sf는 식(6)에 도시한 바와 같이, 평가 영역의 한 변의 길이이며, 본 실시형태에서는, Sf는 64(화소) 또는 128(화소)로 된다.
Figure 112005056031004-pat00005
Figure 112005056031004-pat00006
그리고, 스펙트럼Fk uv 중에서, 저주파의 소정의 주파수대역의 파워가 식(7)에 도시한 바와 같이 적산되어, k번째의 평가 영역에 있어서 전체 불균일의 평가값Pk f가 구해진다. 여기에서, λ1 및 λ2는 각각, 적산 범위의 주파수의 하한 및 상한이다. 이상의 처리에 의해, 불균일검출부(422)에서는, 처리가 끝난 화상의 각 평가 영역에 대해서 순차, 평가값Pk f가 구해진다.
Figure 112005056031004-pat00007
또한, 전체 불균일의 평가값으로서, 처리가 끝난 화상의 각평가 영역의 화소값의 표준편차가 이용되어도 좋다. 이 경우, k번째의 평가 영역의 평가값Pk d는, 불균일검출부(422)에 의해 식(8)에 의해 구해진다. 여기에서, 평가 영역의 크기 및 형상은 식(5) 및 식(6)의 경우와 마찬가진 것으로 하고, 파라미터k, (xk0, yk0）및 (Xk1, yk1)을 동일하게 식(8)에 이용하고 있지만, 평가 영역의 형상은 정방형으로는 한정되지 않고, 직사각형이나 구형 등의 다른 형상으로 되어도 좋다(이하의 다른 평가값의 설명에 있어서도 적절하게, 이들의 파라미터를 이용한다.). nk는, 식(9)에 도시한 바와 같이, k번째의 평가 영역의 화소수를 나타낸다.
Figure 112005056031004-pat00008
Figure 112005056031004-pat00009
부분 불균일에 대해서는, 예컨대, 불균일검출부(422)에 의해, 처리가 끝난 화상의 전체화소의 화소값의 평균값(이하, 「전체 화소평균값」라고 한다.) AVE가 식(10)에 나타내는 연산에 의해 구해지고, 해당 평균값로부터 소정값만 큰(또는, 작은) 문턱치값에 의해 전체 화소가 2값화된 다음에, 소정의 크기 이상의 연결 영역(즉, 같은 값을 갖는 복수의 화소가 연결되어 있는 영역)의 개수가 부분 불균일의 평가값으로 하여 산출된다. 여기에서, (wid+1) 및 (hei+1)은, 처리가 끝난 화상의 행방향 및 열방향의 화소수이며, 본 실시형태에서는, 상술한 바와 같이, 쌍방과도 12500(화소)가 된다.
Figure 112005056031004-pat00010
또한, 부분 불균일의 평가값으로서, 전체 불균일의 평가값산출시의 평가 영역보다 작은 정방형(또는 직사각형)의 평가 영역마다 화소값의 평균값이 구해지고, 평가 영역의 평균값의 표준편차가 구해져도 좋다. 또는, 각 평가 영역 내의 엣지의 수가 부분 불균일의 평가값으로 되어도 좋다.
선 불균일의 평가값을 구할 때에는, 우선, 불균일검출부(422)에 의해, 처리가 끝난 화상에 대하여 로우패스 필터 처리가 행하여져 제4 화상이 생성된다. 로우패스 필터의 윈도우는, 한 변의 길이가 (2S3+1)화소의 정방형이며, 제4 화상에 있어서 좌표(x, y)에 위치하는 주목 화소의 화소값L1 xy는, 주목 화소 근방의 각 화소의 처리가 끝난 화상에 있어서의 화소값E(식(4)참조)를 이용하여, 식(11)에 의하여 구해진다. 본 실시형태에서는, S3은 1(화소)로 된다.
Figure 112005056031004-pat00011
그리고, 불균일검출부(422)에 의해, 전체 불균일의 평가값 산출과 같이 규정되는 정방형의 평가 영역에 대해서, 식(12)에 도시한 바와 같이, 각 행에 대해서 각각 구해진 행방향의 투영값 중에서 최대값이, 행방향의 선 불균일(소위, 수평불 균일)의 평가값Pk h1으로 하여 산출된다. 여기에서, 평가 영역의 몇줄째인가를 나타내는 첨자Y는, yk0∼yk1,의 값을 취한다. 또한, b는 식(4)와 같이 배경값이다.
Figure 112005056031004-pat00012
동일하게, 식(13) 도시한 바와 같이, 평가 영역의 각 열에 대해서 각각 구해진 열방향의 투영값 중에서 최대값이, 열방향의 선 불균일(소위, 수직불균일)의 평가값Pk vl으로 산출된다. 여기에서, 평가 영역의 몇번째 열에서인가를 나타내는 첨자 X는, Xk0∼Xk1의 값을 취한다.
Figure 112005056031004-pat00013
또한, 선 불균일의 다른 평가값으로서, 검출해야할 선 불균일과 평행한 방향으로 긴 직사각형의 평가 영역에 있어서의 화소값의 평균값이 구해지고, 평가 영역의 평균값의 표준편차가 이용되어도 좋다.
불균일검출부(422)에서는, 상술한 바와 같이 산출된 각종불균일에 대한 기판(9)의 평가값과, 기억부(43)에 미리 기억되어 있는 각종 불균일에 관한 문턱치값과 비교되어, 어느쪽인가의 평가값이 대응하는 문턱치값을 넘었을 경우에, 해당 평가값에 대응하는 종류의 불균일이 검출된다(스텝 S19).
이상에 설명한 바와 같이, 불균일 검사장치(1)에는, 하이패스 필터부(4214)가, 제3 화상 중에서 하나의 주목 화소(즉, 처리가 끝난 화상을 생성할 때의 연산 대상으로 되는 화소)의 화소값을 구할 때에, 도6에 나타내는 제2 화상 중에서 연산에 이용되는 화소군을, 하이패스 윈도우(4214)a 내의 화소, 즉, 주목 화소(911)a가 속하는 영역인 표시부(91) 내의 표시부 화소(911)에 실질적으로 제한하는 것에 의해, 엣지(900) 근방에 있어서의 불균일 검사의 정밀도를 향상시킬 수 있다.
또한, 엣지(900) 근방에 있어서 하이패스 윈도우(4214)a가 축소되어서, 주목 화소(911)a가 속하는 영역 이외의 영역을 피하는 것에 의해, 엣지(900) 근방에 있어서도, 주목 화소(911)a가 하이패스 필터 처리에 이용되는 복수의 화소의 거의 중심에 위치하기 때문에, 엣지(900) 근방에 있어서의 불균일 검사의 특성을, 엣지(900)로부터 충분히 떨어진 영역에 있어서의 불균일 검사의 특성과 근사시킬 수 있다. 더욱이, 하이패스 윈도우(4214)a를 정방형이라고 하고, 각 변의 길이를, 주목 화소(911)a와 엣지 화소(901)의 사이의 행방향 및 열방향의 거리 중에서 큰 쪽의 값의 최소값의 2배보다 1화소 만큼 작게 하는 것에 의해, 주목 화소(911)a가 속하는 영역 이외의 영역을 용이하게 피해서 하이패스 윈도우(4214)a를 설정할 수 있다.
더욱이, 불균일 검사장치(1)에서는, 불균일검출부(422)에 의한 연산 처리에 의해, 엣지(900)의 영향을 대폭 누르면서 자동적으로 기판(9)의 불균일의 정도를 나타내는 평가값을 취득할 수 있다.
다음에, 본 발명의 제2의 실시형태에 관한 불균일 검사장치에 대해서 설명한 다. 제2의 실시형태에 관한 불균일 검사장치의 장치구성은, 도1에 나타내는 불균일 검사장치(1)와 같아서, 이하, 각구성 요소에 같은 부호를 붙인다. 또한, 제2의 실시형태에 있어서의 불균일검출 동작도, 하이패스 필터부(4214)에 의한 하이패스 필터 처리의 방법이 다른 것을 제외하고, 제1의 실시형태와 같다.
제2의 실시형태에 관한 불균일 검사장치에 의해 불균일 검사가 행하여지는 때에는, 우선, 도1에 나타내는 광조사부(3)에 의해 기판(9)에 광이 조사되고(도3:스텝 S11), 촬상부(5)에 의해 취득된 촬상 화상의 데이타가 화상처리부(421)에 의해 접수된다(스텝 S12). 계속해서, 화상압축부(4211)에 의해 촬상 화상이 압축되어서 제1 화상이 생성되고(스텝 S13), 로우패스 필터부(4212)에 의해 로우패스 필터 처리가 행하여져서 제2 화상이 생성된다(스텝 S14). 다음에, 엣지 검출부(4213)에 의해 엣지(900)가 검출되어, 각 엣지 화소(901)의 좌표가 기억부(43)에 기억된 후, 하이패스 필터부(4214)에 의해 제2 화상에 대한 하이패스 필터 처리가 행하여져서 제3 화상이 생성된다(스텝 S15, S16). 이들 처리는 제1의 실시형태의 경우와 마찬가지이다.
도10은, 제2의 실시형태에 관한 불균일 검사장치에 의한 하이패스 필터 처리의 흐름을 나타낸 도면이다. 도11은, 도4와 같이, 제2 화상에 있어서의 1개의 표시부(91)의 코너 근방을 확대해서 나타낸 도면이다. 하이패스 필터부(4214)에서는, 우선, 하이패스 필터 처리의 범위를 결정하기 때문에, 주목 화소(911)a를 중심으로하는 정방형의 하이패스 윈도우(4214)a(도11 중에 굵은 파선으로 나타낸다.)가 설정된다(스텝 S161a). 하이패스 윈도우(4214)a의 크기는 고정되고 있어, 각 변의 길 이는 제1의 실시형태에 있어서의 최대 사이즈의 하이패스 윈도우(4214)a와 같이 25화소(즉, 각 변의 길이를 (2S4+1)화소로 한 경우, S4가 12(화소)로 된다.)로 되지만, 도11에서는, 도시의 형편상, 7화소로 그리고 있다.
하이패스 윈도우(4214)a가 설정되면, 주목 화소(911)a 및 엣지 화소(901)의 좌표에 근거하여, 하이패스 윈도우(4214)a 내의 화소 중에서, 주목 화소(911)a가 속하는 영역인 표시부(91) 내의 화소(즉, 표시부 화소(911))로서, 엣지(900)에 방해되지 않고 주목 화소(911)a와 연결되어 있는 화소군에 의해 형성되는 영역(도11 중에 굵은 실선으로 나타내는 영역으로, 이하, 「연결 영역」이라고 한다.)(4214)b가 특정된다. 그리고, 하이패스 필터부(4214)에 의해, 식(14)에 도시한 바와 같이, 제2 화상의 연결 영역(4214)b 내의 화소의 화소값L(식(2)참조) 만에 근거해서 하이패스 필터 처리가 행하여지고, 제3 화상에 있어서의 주목 화소(911)a의 화소값H2 xy이 구해진다(스텝 S162a). 여기에서, mxy는, 연결 영역(4214)b 내의 화소수이다.
Figure 112005056031004-pat00014
그리고, 제2 화상의 각화소에 대해서 순차 하이패스 필터 처리가 행하여져서 제3 화상이 생성된다(스텝 S163a, S164a). 또, 주목 화소(911)a가 엣지(900)상에 있는 경우에는 하이패스 필터 처리는 행하여지지 않고, H2 xy는 1로 된다.
하이패스 필터 처리가 완료되면, 콘트라스트 강조부(4215)에 의해 제3 화상에 대하여 콘트라스트 강조 처리가 행하여져서 처리가 끝난 화상이 생성되고, 처리가 끝난 화상의 데이타가 기억부(43)에 기억된다(도3:스텝 S17). 계속해서, 불균일검출부(422)에 의해 처리가 끝난 화상의 데이타에 대하여 연산 처리가 행하여지고, 기술한 바와 같이, 기판(9)의 전체 불균일, 부분 불균일 및 선 불균일의 평가값이 산출된다(스텝 S18). 그리고, 각종 불균일에 대한 기판(9)의 평가값과, 기억부(43)에 미리 기억되어 있는 각종불균일에 관한 문턱치값이 비교되어, 어느쪽인가의 평가값이 대응하는 문턱치값을 넘었을 경우에, 해당 평가값에 대응하는 종류의 불균일이 검출된다(스텝 S19).
도12는, 제2의 실시형태에 관한 불균일 검사장치에 의해 화상처리가 행하여져서 생성된 처리가 끝난 화상의 일부를 나타낸 도면이다. 도12에 도시한 바와 같이, 제2의 실시형태에 관한 불균일 검사장치로는, 선 불균일(95)에 관한 불균일검출 불능영역(94)(도12 중에서 파선으로 끼워져 있는 영역)을 엣지(900)에 대응하는 영역(즉, 도11의 예의 경우는 2화소분의 폭의 영역)에까지 축소할 수 있다.
이상에 설명한 바와 같이, 제2의 실시형태에 관한 불균일 검사장치로는, 엣지(900)에 인접하는 주목 화소(911)a에 관해서도, 주목 화소(911)a근방의 많은 화소에 근거해서 하이패스 필터 처리를 할 수 있기 때문에, 엣지(900) 근방에 있어서의 불균일 검사의 정밀도를 보다 향상시킬 수 있다. 또한, 하이패스 윈도우(4214)a의 크기를 고정하는 것에 의해, 하이패스 필터 처리를 간소화할 수 있다.
제2의 실시형태에 관한 불균일 검사장치로는, 제1의 실시형태와 같이, 하이 패스 필터부(4214)가, 제3 화상 중에서 하나의 주목 화소의 화소값을 구할 때에, 도11에 나타내는 제2 화상 중에서 연산에 이용되는 화소군을, 연결 영역(4214)b내의 화소, 즉, 실질적으로 주목 화소(911)a가 속하는 영역인 표시부(91)내의 화소로 제한하는 것에 의해, 엣지(900) 근방에 있어서의 불균일 검사의 정밀도를 향상시킬 수 있다. 또한, 불균일검출부(422)에 의한 연산 처리에 의해, 엣지(900)의 영향을 대폭 억제하면서 자동적으로 기판(9)의 불균일의 정도를 나타내는 평가값을 취득할 수 있다.
이상, 본 발명의 실시형태에 대해서 설명해 왔지만, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니고, 여러가지 변경이 가능하다.
예컨대, 촬상부(5)에서는, 라인 센서(51)에 대신하여 2차원CCD 센서가 촬상자로서 마련되어져도 좋다. 또한, 상기 실시형태에서는, 광조사부(3)에 의한 광의 조사가 기판(9)을 끼워서 촬상부(5)와 반대쪽에서부터 행하여져, 기판(9)을 투과한 광이 촬상부(5)에 입사하지만, 광의 조사가 촬상부(5)와 같은 측으로부터 행하여지고, 기판(9)에서 반사한 광이 촬상부(5)에 입사하는 구조라고 해도 좋다. 또, 기판(9)의 촬상에 충분한 밝기의 다른 광원(예컨대, 불균일 검사를 행하는 현장의 통상의 조명)이 존재하는 경우에는, 광조사부(3)는 생략되어도 좋다.
주목 화소(911)a는, 하이패스 윈도우(4214)a의 거의 중심으로 되기 때문에, 하이패스 윈도우(4214)a의 각 변의 화소수는 짝수여도 좋다. 또한, 하이패스 윈도우(4214)a는, 반드시 정방형으로 한정되지 않고, 직사각형이나 구형 등의 다른 형상이여도 좋지만, 하이패스 윈도우(4214)a의 설정을 간단히 행할 수 있다고 하는 점에서는, 직사각형으로 하는 것이 바람직하다.
하이패스 필터부(4214)에서는, 하이패스 윈도우(4214)a를 크게 해도 처리 속도를 일정하게 유지할 수 있다고 하는 관점에서는, 하이패스 필터 처리로서 식(3)에 나타내는 바와 같은 전체 평균 처리가 행하여지는 것이 바람직하지만, 다른 여러가지 처리, 예컨대, 가중평균 처리나 메디안 필터 처리가 행하여져도 좋다. 또한, 제2 화상을 퓨리에 변환하는 동시에 주파수공간으로 옮기고, 저주파성분의 파워를 삭제한 후, 두번째 화상 데이타로 역변환하는 것에 의해 제3 화상이 생성되어도 좋다.
화상처리부(421)에 의한 화상처리에서는, 하이패스 필터 처리 전에 촬상 화상에 대한 압축 처리 및 로우패스 필터 처리가 행하여지고 있지만, 촬상 화상의 S/N비가 높을 경우나 고주파 노이즈의 영향이 작을 경우에는, 이것들의 처리는 생략되어도 좋다. 반대로, 각 스텝의 사이에 적절하게, 다른 처리가 삽입되어도 좋다.
상기 실시형태에 관한 불균일 검사장치는, 예컨대, 칼라 브라운관용의 새도우 마스크와 같이 다수의 투공(透孔)이 배열 형성된 투공판의 광투과율의 불균일 검사 등, 다양한 다른 대상물의 여러가지 불균일 검사에 이용되어도 좋다.
이 발명을 상세하게 묘사하여 설명하였지만, 기술한 설명은 예시적인 것으로 한정적인 것이 아닙니다. 따라서, 이 발명의 범위를 일탈하지 않는 한, 다수의 변형이나 태양이 가능한 것으로 이해된다.
본 발명의 불균일 검사장치에 의하면, 하이패스 필터 처리에 이용되는 화소군을, 하이패스 윈도우 내의 화소, 즉, 실질적으로 주목 화소가 속하는 영역 내의 화소로 제한하는 것에 의해, 엣지 근방에 있어서의 불균일 검사의 정밀도를 향상시킬 수 있다.

Claims (14)

  1. 대상물의 농담(濃淡) 불균일을 검사하는 불균일 검사장치로서,
    대상물을 유지하는 유지부와,
    상기 대상물의 한 주면을 촬상하는 촬상부와,
    상기 촬상부에서 취득된 대상 화상에 화상처리를 행하여 처리가 끝난 화상을 생성하는 화상처리부를 구비하고,
    상기 화상처리부가,
    상기 대상 화상에 있어서 서로 다른 농도의 영역의 경계인 엣지를 검출하는 엣지 검출부와,
    상기 대상 화상에 하이패스 필터 처리를 하는 하이패스 필터부와,
    상기 하이패스 필터부에 의해 처리된 후의 상기 대상 화상의 콘트라스트를 강조하는 콘트라스트 강조부를 구비하고,
    상기 하이패스 필터부가, 상기 처리가 끝난 화상 중의 하나의 주목 화소의 화소값을 구할 때에, 상기 주목 화소를 거의 중심으로하는 윈도우내의 모든 화소의 화소값에 근거해서 연산이 행하여지고, 상기 윈도우가 상기 엣지 근방에 존재할 경우에, 상기 윈도우가 축소되어서 상기 주목 화소가 속하는 영역이외의 영역을 상기 윈도우가 피하는 것을 특징으로 하는 불균일 검사장치.
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 윈도우가 구형(矩形)인 것을 특징으로 하는 불균일 검사장치.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 윈도우가 정방형이며, 상기 하이패스 필터부가, 상기 주목 화소와 상기 엣지 중의 각 화소와 사이의 행방향 및 열방향의 거리 중에서 큰 쪽의 값을 구하고, 상기 엣지 중의 전체 화소에 관한 상기 큰 쪽의 값의 최소값의 2배보다 1화소만 작은 값을, 상기 윈도우의 각 변의 길이로 하는 것을 특징으로 하는 불균일 검사장치.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제 1항, 제3항 또는 제4항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처리가 끝난 화상에 근거해서 연산 처리에 의해 상기대상물의 농담 불균일의 정도를 나타내는 값을 구하는 불균일검출부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 불균일 검사장치.
  8. 대상물로부터 얻을 수 있은 대상 화상에 근거해서 상기 대상물의 농담 불균일을 검사하는 불균일 검사방법으로서,
    대상 화상에 있어서 서로 다른 농도의 영역의 경계인 엣지를 검출하는 공정과,
    상기 대상 화상에 하이패스 필터 처리를 하는 공정과,
    상기 하이패스 필터 처리가 행하여진 후의 상기 대상 화상의 콘트라스트를 강조해서 처리가 끝난 화상을 생성하는 공정과,
    상기 처리가 끝난 화상에 근거해서 상기 대상물의 농담 불균일을 검출하는 공정을 구비하고,
    상기 하이패스 필터 처리를 하는 공정에 있어서, 상기 처리가 끝난 화상 중에서 하나의 주목 화소의 화소값을 구할 때에, 상기 주목 화소를 거의 중심으로하는 윈도우내의 모든 화소의 화소값에 근거해서 연산이 행하여지고, 상기 윈도우가 상기 엣지 근방에 존재할 경우에, 상기 윈도우가 축소되어서 상기 주목 화소가 속하는 영역이외의 영역을 상기 윈도우가 피하는 것을 특징으로 하는 불균일 검사방법.
  9. 삭제
  10. 제 8항에 있어서,
    상기 윈도우가 구형인 것을 특징으로 하는 불균일 검사방법.
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 윈도우가 정방형이며, 상기 하이패스 필터 처리를 하는 공정에 있어서, 상기 주목 화소와 상기 엣지 중의 각화소와의 사이의 행방향 및 열방향의 거리 중에서 큰 쪽의 값이 구해지고, 상기 엣지 중의 전체 화소에 관한 상기 큰 쪽의 값의 최소값의 2배보다 1화소만 작은 값이, 상기 윈도우의 각 변의 길이로 되는 것을 특징으로 하는 불균일 검사방법.
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 대상물로부터 얻을 수 있은 대상 화상에 근거해서 상기 대상물의 농담 불균일을 컴퓨터로 검사시키는 프로그램을 기록한 기록 매체로서, 상기 프로그램의 상기 컴퓨터에 의한 실행은, 상기 컴퓨터에,
    대상 화상에 있어서 서로 다른 농도의 영역의 경계인 엣지를 검출하는 공정과,
    상기 대상 화상에 하이패스 필터 처리를 하는 공정과,
    상기 하이패스 필터 처리가 행하여진 후의 상기 대상 화상의 콘트라스트를 강조해서 처리가 끝난 화상을 생성하는 공정과,
    상기 처리가 끝난 화상에 근거해서 상기 대상물의 농담 불균일을 검출하는 공정을 실행시켜,
    상기 하이패스 필터 처리를 하는 공정에 있어서, 상기 처리가 끝난 화상 중에서 하나의 주목 화소의 화소값을 구할 때에, 상기 주목 화소를 거의 중심으로하는 윈도우내의 모든 화소의 화소값에 근거해서 연산이 행하여지고, 상기 윈도우가 상기 엣지 근방에 존재할 경우에, 상기 윈도우가 축소되어서 상기 주목 화소가 속하는 영역이외의 영역을 상기 윈도우가 피하는 것을 특징으로 하는 기록매체.
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4702953B2 (ja) * 2006-06-01 2011-06-15 大日本スクリーン製造株式会社 ムラ検査方法、ムラ検査装置およびプログラム
JP4702952B2 (ja) * 2006-06-01 2011-06-15 大日本スクリーン製造株式会社 ムラ検査方法、ムラ検査装置およびプログラム
IL188825A0 (en) * 2008-01-16 2008-11-03 Orbotech Ltd Inspection of a substrate using multiple cameras
KR101939572B1 (ko) 2011-04-15 2019-01-17 제온 코포레이션 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 및 광학 이방체
JP2013015389A (ja) * 2011-07-04 2013-01-24 Hitachi-Ge Nuclear Energy Ltd 溶接位置の検査方法及びその装置
TWI460395B (zh) * 2012-07-25 2014-11-11 Ind Tech Res Inst 平整度檢測裝置及其檢測方法
TWI477766B (zh) * 2012-12-18 2015-03-21 Ind Tech Res Inst 檢測裝置以及檢測方法
CN103245309B (zh) * 2013-05-21 2017-12-12 杭州鼎热科技有限公司 一种激光平整度测量误差补偿方法
TWI509268B (zh) * 2013-12-16 2015-11-21 Machvision Inc 雙進料之電路板檢測方法及其系統
JP6638453B2 (ja) * 2016-02-16 2020-01-29 コニカミノルタ株式会社 不良画像発生予測システム及び不良画像発生予測プログラム
CN107945170B (zh) * 2017-12-04 2020-09-29 苏州精濑光电有限公司 一种判定线性制程不均匀的方法及装置
JP2021096195A (ja) * 2019-12-19 2021-06-24 コニカミノルタ株式会社 画像検査装置、画像形成装置及びプログラム

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980069998A (ko) * 1997-01-17 1998-10-26 이시다아키라 광학적 불균일 검사장치 및 광학적 불균일 검사방법
KR20000062529A (ko) * 1999-02-08 2000-10-25 가네꼬 히사시 음극선관의 검사 방법

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3224620B2 (ja) * 1993-02-05 2001-11-05 大日本印刷株式会社 周期性パターンのムラ定量化方法
US5974160A (en) * 1993-10-26 1999-10-26 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Measuring method and apparatus of gloss irregularity and printing unevenness
IL108974A (en) * 1994-03-14 1999-11-30 Orbotech Ltd Device and method for testing a display panel
JP3366802B2 (ja) * 1995-06-21 2003-01-14 大日本スクリーン製造株式会社 ムラ検査方法および装置
JP3335503B2 (ja) * 1995-06-22 2002-10-21 大日本スクリーン製造株式会社 透孔板の検査方法および検査装置
JP3302863B2 (ja) * 1995-08-30 2002-07-15 大日本スクリーン製造株式会社 透孔板の検査方法および検査装置
JPH0968502A (ja) * 1995-08-30 1997-03-11 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 透孔板の検査方法および検査装置
JPH10197453A (ja) * 1997-01-16 1998-07-31 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 光学的むら検査装置および光学的むら検査方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980069998A (ko) * 1997-01-17 1998-10-26 이시다아키라 광학적 불균일 검사장치 및 광학적 불균일 검사방법
KR20000062529A (ko) * 1999-02-08 2000-10-25 가네꼬 히사시 음극선관의 검사 방법

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