JPH10197453A - 光学的むら検査装置および光学的むら検査方法 - Google Patents

光学的むら検査装置および光学的むら検査方法

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JPH10197453A
JPH10197453A JP9005721A JP572197A JPH10197453A JP H10197453 A JPH10197453 A JP H10197453A JP 9005721 A JP9005721 A JP 9005721A JP 572197 A JP572197 A JP 572197A JP H10197453 A JPH10197453 A JP H10197453A
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optical
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Kunio Ueda
邦夫 上田
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 対象物の光学的むらを自動的にばらつきなく
検査することができる光学的むら検査装置および光学的
むら検査方法を提供することである。 【解決手段】 CCDカメラ17により検査対象物10
0を撮像し、検査対象物100の画像に対応する画像デ
ータを出力する。画像データを規格化することにより規
格化画像データを得る。規格化画像データの画素の値の
平均値を基準として平均値よりも低い第1のしきい値お
よび平均値よりも高い第2のしきい値を1組以上設定す
る。各組の第1のしきい値よりも低い値を有する画素お
よび第2のしきい値よりも高い値を有する画素を各組ご
とに抽出する。抽出された画素の数を各組ごとにカウン
トする。各組ごとに得られたカウント値に基づいて光学
的むらの有無を判定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、対象物の濃度のむ
ら、光透過率のむら等の光学的むらの有無を検査する光
学的むら検査装置および光学的むら検査方法に関する。
【0002】
【従来の技術】カラーブラウン管用のシャドウマスク、
ディスプレイパネル、フィルム、紙等のシート状物は、
均一またはほぼ均一な濃度または透過率を有するように
製造される。このようなシート状物の検査段階では、製
造されたシート状物に濃度や光透過率のむらがないかど
うかを判定する必要がある。
【0003】例えば、シャドウマスクは、フォトエッチ
ング法を用いて金属薄板に多数の透孔をほぼ周期的に形
成することにより製造される。上記の多数の透孔に局所
的な寸法異常があると、シャドウマスクに光透過率のむ
らが発生する。このようなシャドウマスクの光透過率の
むらの有無は、通常、検査員の目視により判定される。
【0004】この場合、良品のシャドウマスクであって
も、許容される範囲の光学的むらが存在している。検査
員は、検査対象となるシャドウマスクを目視しながらそ
のシャドウマスクのむらを経験的に認識している良品の
シャドウマスクのむらと比べることにより検査対象とな
るシャドウマスクの良否を判定する。
【0005】このような良否の判定には、高度の熟練お
よび相当な経験が必要である。また、熟練の程度や経験
がほぼ同一であっても、検査員の個人差や健康状態によ
り良否の判定結果がばらつくことがある。
【0006】一方、特開平3−61805号公報には、
二次元的なむらの検査装置が開示されている。この検査
装置では、試料面を二次元的に撮像し、その撮像データ
を、ある幅を有する中間レベルと、その中間レベルを上
に超過しているレベルと、その中間レベルを下に超過し
ているレベルとに変換し、3値で画像表示している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来の検査装置
によれば、二次元的なむらが見やすくなるが、検査対象
物が良品であるか否かの最終的な判断は検査員に委ねら
れており、自動的にむらを検出することはできない。そ
のため、上記の検査装置を用いても良否判断に高度の熟
練と相当の経験が必要となり、また検査員の個人差や健
康状態により良否の判定結果がばらつくこともある。
【0008】本発明の目的は、対象物の光学的むらを自
動的にばらつきなく検査することができる光学的むら検
査装置および光学的むら検査方法を提供することであ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
(1)第1の発明 第1の発明に係る光学的むら検査装置は、対象物の光学
的むらを検査する光学的むら検査装置であって、規格化
手段、設定手段、抽出手段、計数手段および判定手段を
備える。
【0010】規格化手段は、対象物の画像に対応する画
像データを規格化することにより規格化画像データを得
る。設定手段は、規格化手段により得られた規格化画像
データの画素の値の平均値を基準として平均値よりも低
い第1のしきい値および平均値よりも高い第2のしきい
値を1組以上設定する。抽出手段は、規格化手段により
得られた規格化画像データにおいて設定手段により設定
された各組の第1のしきい値よりも低い値を有する画素
および第2のしきい値よりも高い値を有する画素を各組
ごとに抽出する。計数手段は、抽出手段により抽出され
た画素の数を各組ごとに計数する。判定手段は、計数手
段により各組ごとに得られた計数値に基づいて光学的む
らの有無を判定する。
【0011】第1の発明に係る光学的むら検査装置にお
いては、規格化画像データにおいて、第1のしきい値よ
りも低い値を有する画素および第2のしきい値よりも高
い値を有する画素が各組ごとに抽出され、抽出された画
素の数が各組ごとに計数され、その計数値に基づいて光
学的むらの有無が判定される。この場合、計数値は、第
1のしきい値と第2のしきい値との差よりも大きな変動
幅を有するむらの面積を示している。
【0012】このように、第1および第2のしきい値で
定まる幅よりも大きい変動幅を有するむらの面積に基づ
いて光学的むらの有無が判定される。この場合、第1お
よび第2のしきい値を任意の値に設定することにより、
任意の変動幅を有するむらを検出することができる。し
たがって、一定の基準を超える光学的むらの有無を自動
的にかつ高い自由度でばらつきなく判定することが可能
となる。
【0013】(2)第2の発明 第2の発明に係る光学的むら検査装置は、第1の発明に
係る光学的むら検査装置の構成において、設定手段が第
1および第2のしきい値を複数組設定し、判定手段が、
計数手段により各組ごとに得られた計数値の加重和を算
出し、加重和を判定基準値と比較することにより光学的
むらの有無を判定するものである。
【0014】この場合、加重和の算出において各組の計
数値に与える重み係数および判定基準値をそれぞれ任意
の値に設定することにより、任意の変動幅および任意の
大きさを有する光学的むらを選択的に検出することが可
能となる。
【0015】(3)第3の発明 第3の発明に係る光学的むら検査装置は、第1または第
2の発明に係る光学的むら検査装置の構成において、対
象物を撮像して画像を取り込み、取り込んだ画像を画像
データとして規格化手段に与える画像入力手段をさらに
備えたものである。
【0016】この場合、対象物の画像に対応する画像デ
ータの取り込みから光学的むらの有無の判定までが自動
的に行われる。
【0017】(4)第4の発明 第4の発明に係る光学的むら検査装置は、第1、第2ま
たは第3の発明に係る光学的むら検査装置の構成におい
て、規格化手段が、画像データにおける低周波成分を除
去することにより規格化を行うものである。
【0018】これにより、対象物の性質に起因する画像
データの低周波成分や光学系に起因する画像データの低
周波成分が除去されるので、光学的むらの有無の判定が
正確に行われる。
【0019】(5)第5の発明 第5の発明に係る光学的むら検査方法は、対象物の光学
的むらを検査する光学的むら検査方法であって、対象物
の画像に対応する画像データを規格化することにより規
格化画像データを算出し、算出された規格化画像データ
の画素の値の平均値を基準として平均値よりも低い第1
のしきい値および平均値よりも高い第2のしきい値を1
組以上設定し、算出された規格化画像データにおいて設
定された各組の第1のしきい値よりも低い値を有する画
素および第2のしきい値よりも高い値を有する画素を各
組ごとに抽出し、抽出された画素の数を各組ごとに計数
し、各組ごとに得られた計数値に基づいて光学的むらの
有無を判定するものである。
【0020】第5の発明に係る光学的むら検査方法にお
いては、規格化画像データにおいて、第1のしきい値よ
りも低い値を有する画素および第2のしきい値よりも高
い値を有する画素が各組ごとに抽出され、抽出された画
素の数が各組ごとに計数され、その計数値に基づいて光
学的むらの有無が判定される。この場合、計数値は、第
1のしきい値と第2のしきい値との差よりも大きな変動
幅を有するむらの面積を示している。
【0021】このように、第1および第2のしきい値で
定まる幅よりも大きい変動幅を有するむらの面積に基づ
いて光学的むらの有無が判定される。この場合、第1お
よび第2のしきい値を任意の値に設定することにより、
任意の変動幅を有するむらを検出することができる。し
たがって、一定の基準を超える光学的むらの有無を自動
的にかつ高い自由度でばらつきなく判定することが可能
となる。
【0022】(6)第6の発明 第6の発明に係る光学的むら検査方法は、第5の発明に
係る光学的むら検査方法において、第1および第2のし
きい値を複数組設定し、各組ごとに得られた計数値の加
重和を算出し、加重和を判定基準値と比較することによ
り光学的むらの有無を判定するものである。
【0023】この場合、加重和の算出において各組の計
数値に与える重み係数および判定基準値をそれぞれ任意
の値に設定することにより、任意の変動幅および任意の
大きさを有する光学的むらを選択的に検出することが可
能となる。
【0024】
【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施例における
光学的むら検査装置の正面図、図2は図1の光学的むら
検査装置の電気的構成を示すブロック図である。
【0025】図1の光学的むら検査装置は、検査対象物
を撮像して画像データを得るための光学測定装置10お
よび画像データに基づいて種々のデータ処理を行うデー
タ処理装置20により構成されている。
【0026】光学測定装置10においては、定盤11上
に光源13が配置され、光源13の上方にガラス等から
なる拡散板12が設けられている。光源13としては、
例えば高周波点灯型の蛍光灯が使用される。拡散板12
上には、図2に示すように、開口部14aを有するマス
ク板14が載置され、このマスク板14上に検査対象物
100が固定される。なお、以下の説明では、検査対象
物100がシャドウマスクである場合を説明する。この
場合、検査対象物100は中央部に透孔領域100aを
有する。
【0027】定盤11には、上方に延びる支持アーム1
5が立設されており、この支持アーム15にカメラ保持
部材16が上下方向に移動可能に取り付けられている。
また、カメラ保持部材16には、CCDカメラ17が水
平方向に移動可能に取り付けられている。これにより、
種々のサイズの検査対象物100の検査領域とCCDカ
メラ17の撮像領域とが一致するように、CCDカメラ
17を上下および左右に移動させることができる。
【0028】CCDカメラ17は、二次元CCD(電荷
結合素子)を有し、画像の濃淡を画像データとして出力
する。
【0029】データ処理装置20は、CCDカメラ17
のゲインおよびシャッタ速度を制御するカメラ制御装置
21、後述する画像処理を行う画像処理装置22、およ
び画像を表示するディスプレイ23を含む。
【0030】図2に示すように、光源13から出射され
た光は、拡散板12および検査対象物100の透孔を順
次通過してCCDカメラ17に入射する。この場合、検
査対象物100の透孔領域100aはマスク板14の開
口部14aに位置決めされている。したがって、検査対
象物100の透孔領域100aの周囲の領域はマスク板
14によりマスクされる。
【0031】CCDカメラ17は、検査対象物100の
画像を多値の画像データとして出力する。この画像デー
タは、カメラ制御装置21を介して画像処理装置22に
取り込まれる。
【0032】画像処理装置22は、予め記憶されたプロ
グラムに従って後述する判定処理を行うCPU(中央演
算処理装置)31、画像データおよびその他のデータを
一時的に記憶するRAM(ランダムアクセスメモリ)等
からなる主記憶装置32、データおよび各種指令を入力
するためのキーボード33、画像データおよびその他の
データを記憶する補助記憶装置34、および検査結果を
出力するためのプリンタ35を備え、これらは互いにバ
スライン36を介して接続されている。また、このバス
ライン36には、カメラ制御装置21およびディスプレ
イ23が接続されている。
【0033】本実施例では、CPU31が規格化手段、
設定手段、計数手段および判定手段を構成し、CCDカ
メラ17が画像入力手段を構成する。
【0034】次に、図3、図4および図5を参照しなが
ら図1の光学的むら検査装置の動作を説明する。図3は
画像データの規格化処理の一例を示す波形図、図4は光
学的むらの判定処理を示すフローチャート、図5は光学
的むらの判定処理におけるデータ処理を示す波形図であ
る。
【0035】まず、図1の拡散板12上に設置された検
査対象物100がCCDカメラ17により撮像され、検
査対象物100の画像が取り込まれる。CCDカメラ1
7は、検査対象物100の画像を画像データとして画像
処理装置22に転送する。画像処理装置22は、光源1
3の照明特性、CCDカメラ17のレンズ系の光学特性
および検査対象物100の性質に起因する画像データの
大きな変動(低周波成分)を除去するために規格化処理
を行う。
【0036】図3(a)はCCDカメラ17から出力さ
れる画像データの波形を示し、図3(b)はその画像デ
ータを平滑化することにより得られる平滑化データの波
形を示し、図3(c)は規格化処理により得られた規格
化画像データの波形を示す。図3の各波形において、横
軸は画素位置に相当し、縦軸は画素値に相当する。
【0037】図3の規格化処理では、画像データD1を
平滑化データD2で除算することにより規格化画像デー
タD3が得られる。このようにして得られた規格化画像
データD3は、画像処理装置22の主記憶装置32およ
び補助記憶装置34に記憶される。
【0038】次に、CPU31はこの規格化画像データ
の画素値の平均値を算出し、その平均値を基準として上
下にそれぞれ1つ以上のしきい値を設定する。すなわ
ち、画素値の平均値よりも予め設定された値だけ高いレ
ベルに1つ以上のしきい値を設定するとともに、平均値
よりも予め設定された値だけ低いレベルに1つ以上のし
きい値を設定する。
【0039】本実施例では、図5(a)に示すように、
平均値よりも高いレベルに2つのしきい値thH1,t
hH2を設定し、平均値よりも低いレベルに2つのしき
い値thL1,thL2を設定する。ここで、thH2
>thH1であり、thL2<thL1である。このよ
うにして設定されたしきい値thH1,thH2,th
L1,thL2は、主記憶装置32および補助記憶装置
34に記憶される。
【0040】以下、CPU31は、主記憶装置32また
は補助記憶装置34に記憶された規格化画像データおよ
びしきい値thH1,thH2,thL1,thL2に
基づいて図4のフローチャートに示す光学的むらの判定
処理を行う。
【0041】まず、主記憶装置32または補助記憶装置
34に記憶された規格化画像データおよびしきい値th
H1,thH2,thL1,thL2を読み込む(ステ
ップS1)。
【0042】次に、規格化画像データにおいて、しきい
値thL1以下の値を有する画素およびしきい値thH
1以上の値を有する画素を抽出し、抽出した画素を第1
の領域Raとする(ステップS2)。具体的には、図5
(b)に示すように、しきい値thL1以下の値を有す
る画素およびしきい値thH1以上の値を有する画素の
値を“1”で置き換え、残りの画素の値を“0”で置き
換える。
【0043】このとき、必要に応じて所定のノイズ除去
処理を行ってもよい。ノイズ除去処理としては、2値画
像の収縮・膨張処理、閉領域へのラベリング(番号付
け)後に微小面積要素を除去する処理等の公知の手法が
用いられる。
【0044】次いで、第1の領域Raの画素(値が
“1”である画素)の数をカウントし、カウント値をA
とする(ステップS3)。
【0045】次に、規格化画像データにおいて、しきい
値thL2以下の値を有する画素およびしきい値thH
2以上の値を有する画素を抽出し、抽出した画素を第2
の領域Rbとする(ステップS4)。具体的には、図5
(c)に示すように、しきい値thL2以下の値を有す
る画素およびしきい値thH2以上の値を有する画素の
値を“1”で置き換え、残りの画素の値を“0”で置き
換える。このときにも、必要に応じて所定のノイズ除去
処理を行ってもよい。
【0046】次いで、第2の領域Rbの画素(値が
“1”である画素)の数をカウントし、カウント値をB
とする(ステップS5)。
【0047】その後、カウント値A,Bに基づいて光学
的むらの有無を判定する(ステップS6)。例えば、次
式に示すようにカウント値A,Bの加重和Sを算出す
る。
【0048】S=mA+nB・・・(1) 上式(1)において、mおよびnは0以上の任意の値を
有する重み係数である。この加重和Sを予め定められた
判定基準値と比較し、加重和Sが判定基準値以上の場合
には検査対象物100を不良品と判定し、加重和Sが判
定基準値よりも小さい場合には検査対象物100を良品
と判定する。
【0049】この場合、重み係数mを大きく設定する
と、面積の大きい光学的むらが選択的に検出され、重み
係数nを大きく設定すると、変動幅の大きい光学的むら
が選択的に検出される。
【0050】また、カウント値Aおよびカウント値Bを
別個に予め定められた判定基準値と比較することにより
検査対象物100の良否を判定してもよい。
【0051】最後に、良否の判定結果をディスプレイ2
3に表示するとともにプリンタ35に出力する(ステッ
プS7)。
【0052】このようにして、本実施例の光学的むら検
査装置においては、一定の基準を超える光学的むらの有
無が自動的にばらつきなく判定される。
【0053】この光学的むら検査装置では、しきい値t
hH1,thH2,thL1,thL2を任意の値に設
定するとともに、判定基準値を任意の値に設定すること
により、任意の変動幅および任意の大きさの光学的むら
を選択的に検出することが可能となる。
【0054】これにより、画素値の変動幅は小さいが面
積の大きな光学的むらや、面積は小さいが画素値の変動
幅の大きな光学的むらのように、性質の異なるむらを選
択的に検出することも可能となる。
【0055】なお、上記実施例では、2組のしきい値を
用いているが、必要に応じて3組以上のしきい値を用い
てもよく、あるいは1組のしきい値のみを用いてもよ
い。また、検査対象となる光学的むらが明暗のどちらか
に偏って存在することが予想される場合には、画素値の
平均値の上下のいずれかの側の複数のしきい値に同じ値
を設定してもよい。さらに、平均値と上側のしきい値と
の差および平均値と下側のしきい値との差を異ならせて
もよい。
【0056】なお、本実施例のように、検査対象物10
0の一部に検査対象領域(透孔領域100a)が存在す
る場合には、規格化画像データに検査対象領域設定用の
しきい値を設定し、そのしきい値よりも大きい値を有す
る部分のみが検査対象となるようにマスク処理を行えば
よい。
【0057】上記実施例では、検査対象物がシャドウマ
スクである場合を説明したが、本発明の光学的むら検査
装置および光学的むら検査方法は、ディスプレイパネ
ル、フィルム、紙等のシート状物の濃度のむら、光透過
率のむら等の光学的むらの検査にも同様にして適用する
ことができ、さらにシート状物に限らず任意の対象物の
2次元的なむらの検査にも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例における光学的むら検査装置
の正面図である。
【図2】図1の光学的むら検査装置の電気的構成を示す
ブロック図である。
【図3】画像データの規格化処理の一例を示す波形図で
ある。
【図4】図1の光学的むら検査装置における光学的むら
の判定処理を示すフローチャートである。
【図5】光学的むらの判定処理におけるデータ処理を示
す波形図である。
【符号の説明】
10 光学測定装置 20 データ処理装置 12 拡散板 13 光源 17 CCDカメラ 22 画像処理装置 100 検査対象物

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 対象物の光学的むらを検査する光学的む
    ら検査装置であって、 前記対象物の画像に対応する画像データを規格化するこ
    とにより規格化画像データを得る規格化手段と、 前記規格化手段により得られた規格化画像データの画素
    の値の平均値を基準として前記平均値よりも低い第1の
    しきい値および前記平均値よりも高い第2のしきい値を
    1組以上設定する設定手段と、 前記規格化手段により得られた規格化画像データにおい
    て前記設定手段により設定された各組の第1のしきい値
    よりも低い値を有する画素および第2のしきい値よりも
    高い値を有する画素を各組ごとに抽出する抽出手段と、 前記抽出手段により抽出された画素の数を各組ごとに計
    数する計数手段と、 前記計数手段により各組ごとに得られた計数値に基づい
    て光学的むらの有無を判定する判定手段とを備えたこと
    を特徴とする光学的むら検査装置。
  2. 【請求項2】 前記設定手段は第1および第2のしきい
    値を複数組設定し、前記判定手段は、前記計数手段によ
    り各組ごとに得られた計数値の加重和を算出し、前記加
    重和を判定基準値と比較することにより光学的むらの有
    無を判定することを特徴とする請求項1記載の光学的む
    ら検査装置。
  3. 【請求項3】 前記対象物を撮像して画像を取り込み、
    取り込んだ画像を画像データとして前記規格化手段に与
    える画像入力手段をさらに備えたことを特徴とする請求
    項1または2記載の光学的むら検査装置。
  4. 【請求項4】 前記規格化手段は、前記画像データにお
    ける低周波成分を除去することにより規格化を行うこと
    を特徴とする請求項1、2または3記載の光学的むら検
    査装置。
  5. 【請求項5】 対象物の光学的むらを検査する光学的む
    ら検査方法であって、前記対象物の画像に対応する画像
    データを規格化することにより規格化画像データを算出
    し、前記算出された規格化画像データの画素の値の平均
    値を基準として前記平均値よりも低い第1のしきい値お
    よび前記平均値よりも高い第2のしきい値を1組以上設
    定し、前記算出された規格化画像データにおいて前記設
    定された各組の第1のしきい値よりも低い値を有する画
    素および第2のしきい値よりも高い値を有する画素を各
    組ごとに抽出し、前記抽出された画素の数を各組ごとに
    計数し、各組ごとに得られた計数値に基づいて光学的む
    らの有無を判定することを特徴とする光学的むら検査方
    法。
  6. 【請求項6】 第1および第2のしきい値を複数組設定
    し、各組ごとに得られた計数値の加重和を算出し、前記
    加重和を判定基準値と比較することにより光学的むらの
    有無を判定することを特徴とする請求項5記載の光学的
    むら検査方法。
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CN100385200C (zh) * 2004-10-08 2008-04-30 大日本网目版制造株式会社 不均检查装置及方法
JP2012103110A (ja) * 2010-11-10 2012-05-31 Olympus Corp エッジ検出方法およびエッジ検出装置
JP2015049095A (ja) * 2013-08-30 2015-03-16 株式会社トプコンテクノハウス ムラ測定方法およびムラ測定装置
JP2021161579A (ja) * 2020-04-02 2021-10-11 東芝三菱電機産業システム株式会社 色むら監視装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100385200C (zh) * 2004-10-08 2008-04-30 大日本网目版制造株式会社 不均检查装置及方法
JP2012103110A (ja) * 2010-11-10 2012-05-31 Olympus Corp エッジ検出方法およびエッジ検出装置
JP2015049095A (ja) * 2013-08-30 2015-03-16 株式会社トプコンテクノハウス ムラ測定方法およびムラ測定装置
JP2021161579A (ja) * 2020-04-02 2021-10-11 東芝三菱電機産業システム株式会社 色むら監視装置

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