JP3366802B2 - ムラ検査方法および装置 - Google Patents

ムラ検査方法および装置

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JP3366802B2 JP05843096A JP5843096A JP3366802B2 JP 3366802 B2 JP3366802 B2 JP 3366802B2 JP 05843096 A JP05843096 A JP 05843096A JP 5843096 A JP5843096 A JP 5843096A JP 3366802 B2 JP3366802 B2 JP 3366802B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、シャドウマスクの
透孔のパターンやシャドウマスク製造用の原版(通常、
ガラス板)に形成された濃淡パターン等のようなほぼ周
期的な明暗パターンにおけるムラを検査する方法および
そのための装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ブラウン管のシャドウマスクは、金属板
に微小な透孔がほぼ周期的なピッチで形成された透孔板
である。シャドウマスクや液晶表示パネル用カラーフィ
ルタのフォトエッチング工程で使用される原版には、微
細なパターンを露光するために黒白画像が形成されてい
る。この明細書では、シャドウマスクに形成された透孔
のパターンや原版上に形成された黒白画像のパターン
を、「明暗パターン」と呼ぶ。
【0003】シャドウマスクやその原版の品質の良否
は、その明暗パターンの誤差(孔径やピッチの誤差)に
依存する。透孔の孔径は約100μm程度の微小なもの
なので、肉眼でシャドウマスクを観察しても透孔自体を
見ることはできない。しかし、シャドウマスクや原版の
明暗パターンに誤差があり、特に誤差が局所的に片寄っ
ているような場合には、肉眼でシャドウマスクや原版を
観察したときに濃淡のムラが認識される。このため、従
来は、シャドウマスクや原版の品質検査において、その
光学的な濃淡ムラを検査員が肉眼で検査することによっ
て明暗パターンの誤差の良否を判定している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、肉眼によるム
ラの検査結果は、検査員の熟練や体調等にかなり依存し
てしまうので、安定した検査結果が得られない場合があ
る。また、検査に集中力を要するので、長時間連続した
検査が難しく、1日当たりの検査量も限られてしまうと
いう問題もある。従って、従来から、肉眼によらず、定
量的にムラを検査する方法や装置が切望されていた。
【0005】本発明は、従来技術における上述の課題を
解決するためになされたものであり、ほぼ周期的に形成
された明暗パターンのムラを定量的に検査する方法およ
び装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段およびその作用・効果】上
述の課題の少なくとも一部を解決するため、第1の発明
は、ほぼ周期的に形成された明暗パターンのムラを検査
する方法であって、(a)前記明暗パターンのボケ画像
を求める工程と、(b)前記ボケ画像内の少なくとも一
部の領域についてパワースペクトル分布を求める工程
と、(c)前記パワースペクトル分布の所定の空間周波
数領域におけるパワースペクトル値を加算してパワース
ペクトル加算値を求める工程と、(d)前記パワースペ
クトル加算値と所定の閾値とを比較することによって、
前記明暗パターンのムラの良否を判定する工程と、を備
える。
【0007】ボケ画像には明暗パターンのムラが現われ
ているので、ムラの空間周波数におけるパワースペクト
ル値が大きくなっている。従って、所定の空間周波数領
域のパワースペクトル値を加算したパワースペクトル加
算値は、ムラが多い場合には大きな値となり、ムラが少
ない場合には小さな値となる。パワースペクトル加算値
を閾値と比較すれば、ムラの良否を判定することができ
る。従って、ほぼ周期的に形成された明暗パターンのム
ラを定量的に検査することができる。
【0008】上記第1の発明において、前記工程(a)
は、(1)前記ボケ画像を撮像するための撮像手段と前
記明暗パターンとの間の合焦点位置を求める工程と、
(2)前記撮像手段の焦点位置を前記合焦点位置から所
定量ずらす工程と、(3)前記合焦点位置からずらせた
焦点位置において、前記明暗パターンの画像を撮像する
ことによって、前記ボケ画像を求める工程と、を備える
ことが好ましい。
【0009】こうすれば、ムラ検査に適したボケ画像を
容易に生成することができる。
【0010】あるいは、上記第1の発明において、前記
工程(a)は、(1)前記ボケ画像を撮像するための撮
像手段と前記明暗パターンとの間の合焦点位置を前記撮
像手段の開口絞りを開放した状態で求める工程と、
(2)前記開口絞りを絞り込む工程と、(3)前記開口
絞りが絞り込まれた状態で、前記合焦点位置において、
前記明暗パターンの画像を撮像することによって、前記
ボケ画像を求める工程と、を備えるようにしてもよい。
【0011】こうすれば、ムラ検査に適したボケ画像を
撮像倍率を変更することなく容易に作成することができ
る。
【0012】第2の発明は、ほぼ周期的に形成された明
暗パターンのムラを検査する装置であって、前記明暗パ
ターンのボケ画像を求めるボケ画像生成手段と、前記ボ
ケ画像内の少なくとも一部の領域についてパワースペク
トル分布を求めるパワースペクトル算出手段と、前記パ
ワースペクトル分布の所定の空間周波数領域におけるパ
ワースペクトル値を加算してパワースペクトル加算値を
求める加算手段と、前記パワースペクトル加算値と所定
の閾値とを比較することによって、前記明暗パターンの
ムラの良否を判定する判定手段と、を備える。
【0013】第2の発明も第1の発明と同様な作用・効
果を有しており、ほぼ周期的に形成された明暗パターン
のムラを定量的に検査することができる。
【0014】また、上記第2の発明において、前記ボケ
画像生成手段は、前記ボケ画像を撮像するための撮像手
段と前記明暗パターンとの間の合焦点位置を求める合焦
点位置算出手段と、前記撮像手段の焦点位置を前記合焦
点位置から所定量ずらす焦点位置調整手段と、前記合焦
点位置からずらせた焦点位置において、前記明暗パター
ンの画像を撮像することによって、前記ボケ画像を求め
る撮像手段と、を備えることが好ましい。
【0015】あるいいは、上記第2の発明において、前
記ボケ画像生成手段は、開口絞りを有する撮像手段と、
前記開口絞りが開放された状態で、前記撮像手段と前記
明暗パターンとの間の合焦点位置を求める合焦点位置算
出手段と、を備え、前記撮像手段は、前記開口絞りが絞
り込まれた状態で、前記合焦点位置において、前記明暗
パターンの画像を撮像することによって前記ボケ画像を
求めるようにするしてもよい。
【0016】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を実施
例に基づき説明する。図1は、この発明の一実施例を適
用するシャドウマスク検査装置30を示す概念図であ
る。このシャドウマスク検査装置30は、シャドウマス
クSMを撮像してその画像データを得るための光学測定
装置40と、画像データに基づき種々のデータ処理を行
なうデータ処理装置50とで構成されている。
【0017】光学測定装置40は、定盤41を備えてお
り、この定盤41の上には照明光を通過させるための透
過孔がほぼ中央に形成された測定テーブル42が設置さ
れている。また、測定テーブル42の上面には、光量分
布を均一化するため、光を拡散して透過するガラス板
(例えば、すりガラス)43が載置されており、測定テ
ーブル42の下方には、光源44が配置されている。ガ
ラス板43の代わりに、拡散板を採用しても良い。この
光源44としては、例えば高周波点灯型の蛍光灯が使用
される。なお、ガラス板43の上面には、シャドウマス
クSMが粘着テープ等により密着・固定される。
【0018】定盤41からは、上方に伸びるスタンド支
持アーム46が立設されており、スタンド支持アーム4
6には、撮像手段としてのCCDカメラ49を保持する
ためのカメラ保持ビーム47がいわゆる片持ちで設けら
れている。このカメラ保持ビーム47の先端部にはZ軸
ステージ48が固定されている。カメラ保持ビーム47
は、図中Z軸に沿ってスタンド支持アーム46に内蔵さ
れた図示しないボール螺子ユニットと連結されており、
図示しないZ軸駆動モータにより駆動されてZ方向に移
動(上下移動)する。従って、CCDカメラ49はカメ
ラ保持ビーム47と共に上下動する。このため、種々の
サイズのシャドウマスクSMにおける透孔の穿孔領域と
CCDカメラ49の撮像領域とが一致するようにCCD
カメラ49を上下に移動して、シャドウマスクSMを撮
像することができる。
【0019】CCDカメラ49は、CCD素子を二次元
配置したCCDカメラであり、シャドウマスクSMの明
暗パターンの画像を10ビット/画素のデジタル画像デ
ータとして出力する。なお、CCDカメラ49からは、
1534画素×1024画素の領域の画像を取得するこ
とができる。
【0020】データ処理装置50は、後述する画像を表
示するディスプレイ52と、種々の画像処理を行なう画
像処理装置54と、CCDカメラ49を上下移動させる
ためのZ軸ステージコントローラ56と、CCDカメラ
49の撮像領域の確認のためにその撮像画像を表示する
補助ディスプレイ58と、画像データを記憶する外部記
憶装置60と、CCDカメラ49のフォーカス等を調整
するカメラ制御装置62とを備えている。なお、このカ
メラ制御装置62は、CCDカメラ49が撮像した画像
データを取り込み、他の機器に送り込む機能も有する。
【0021】図2は、シャドウマスク検査装置30の電
気的構成を示すブロック図である。光源44から出射さ
れた光は、測定テーブル42と、ガラス板43と、シャ
ドウマスクSMの透孔とを順次通過してCCDカメラ4
9に入射する。CCDカメラ49は、シャドウマスクS
Mの画像を2次元に配列された濃淡画像(多値画像)の
画像データとして得る。この画像データDiは、カメラ
制御装置62に取り込まれて補助ディスプレイ58に出
力される。よって、補助ディスプレイ58には、CCD
カメラ49で得られた生画像が表示される。
【0022】画像処理装置54は、ソフトウェアプログ
ラムを実行することによって様々な処理を行なうコンピ
ュータシステムである。この画像処理装置54は、CP
U66と、データの一時記憶手段としてのRAM68
と、データ入力手段としてキーボード70と、フレキシ
ブルディスク(FD)を駆動するフレキシブルディスク
装置72と、検査結果等の打ち出し用のプリンタ74と
を備えており、これらは互いにバスライン64を介して
接続されている。
【0023】この画像処理装置54のバスライン64に
は、カメラ制御装置62とZ軸ステージコントローラ5
6と外部記憶装置60のほかに、ディスプレイ52と、
CCDカメラ49のZ軸位置を検出するためのZ軸ロー
タリエンコーダ76とが接続されている。このZ軸ロー
タリエンコーダ76は、CCDカメラ49をカメラ保持
ビーム47とともに上下動させるためのZ軸駆動モータ
(図示省略)の駆動軸に取り付けられており、CCDカ
メラ49のZ軸位置の信号を出力する。なお、この信号
は、画像処理装置54とカメラ制御装置62とZ軸ステ
ージコントローラ56とに入力される。そして、この信
号や画像処理装置54からの制御信号に基づき、カメラ
制御装置62によるCCDカメラ49のフォーカス調整
やZ軸ステージコントローラ56によるCCDカメラ4
9のZ軸位置調整が行なわれる。
【0024】なお、CPU66は、ソフトウェアプログ
ラムを実行することによって、CCDカメラ49の合焦
点位置を求める合焦点位置算出手段や、CCDカメラ4
9の焦点位置を合焦点位置から所定量ずらせる焦点位置
調整手段、CCDカメラ49で得られたボケ画像のパワ
ースペクトル分布を求めるパワースペクトル算出手段、
所定の空間周波数領域のパワースペクトル値を加算して
パワースペクトル加算値を求める加算手段、および、パ
ワースペクトル加算値から明暗パターンのムラの良否を
決定する判定手段等の種々の手段の機能を実現してい
る。
【0025】図3は、実施例におけるムラ検査方法の手
順を示すフローチャートである。ステップT1では、ム
ラ検査の対象となるシャドウマスクSMをCCDカメラ
49で撮像してその画像を入力する。この際、ボケ画像
を撮像するために、CCDカメラ49とシャドウマスク
SMとの間の距離L(図1参照)を、合焦点位置よりも
所定量だけ短く設定する。例えば、CCDカメラ49の
合焦点位置がCCDカメラ49から1mの距離である場
合に、CCDカメラ49とシャドウマスクSMとの距離
を合焦点位置から20cm短い値(80cm)に設定す
る。こうすることによって、意図的にボケ画像を得るこ
とができる。このように意図的にボケ画像を撮像するの
は、CCDカメラ49の画素配列とシャドウマスクSM
の明暗パターンとの干渉によって、ビートと呼ばれる干
渉模様が画像内に発生するのを防止するためである。す
なわち、ステップT1では、ビートの無いボケ画像を生
成すればよい。ビートの無いボケ画像では、個々の透孔
を観察することは出来ないが、透孔パターンの誤差に起
因する濃淡のムラが画像内に現われている。
【0026】なお、ビートの無いボケ画像を得るために
は、合焦点位置におけるCCDカメラ49とシャドウマ
スクSMの距離の約10%〜約30%の値を加算または
減算した距離にCCDカメラ49を設定することが望ま
しい。あるいは、撮影状態におけるCCDカメラ49の
焦点深度の約1.5倍〜約4倍の値を加算または減算し
た距離にCCDカメラ49を設定することが望ましい。
【0027】図3のステップT2では、撮像したシャド
ウマスクSMのボケ画像から処理領域を切り出して処理
対象とする。図4は、ステップT2において切り出され
る6つの処理領域R1〜R6を示す説明図である。6つ
の処理領域R1〜R6は、それぞれ正方形の領域であ
り、互いに部分的に重なりあってシャドウマスクのボケ
画像のほぼ全面を覆うように配置されている。後述する
ように、この実施例では2次元フーリエ変換を行なうの
で、各処理領域は正方形であることが必要である。一
方、シャドウマスクSMは略長方形なので、図4に示す
ように、正方形の複数の処理領域を設定することによっ
て略長方形のシャドウマスクSMの全体を検査するよう
にしている。なお、各処理領域は必ずしも互いに重なり
合う必要はない。また、処理領域としては少なくとも1
つ設定すればよい。
【0028】図3のステップT3では、各処理領域R1
〜R6について2次元フーリエ変換(2d−FFT)を
行ない、ステップT4においてその変換係数からパワー
スペクトルを算出する。パワースペクトルは、フーリエ
変換係数の実数部と虚数部の2乗和である。こうして得
られるパワースペクトルは、各処理領域の画像データの
自己相関をフーリエ変換して得られるものと数学的に等
価である。従って、ステップT3,T4では、各処理領
域の画像データの相互相関を求めてこれをフーリエ変換
してもよい。すなわち、ステップT3,T4では、何等
かの方法で各処理領域R1〜R6のパワースペクトルを
求めればよい。
【0029】図5は、良品と不良品について得られたパ
ワースペクトル分布の一例を示すグラフである。グラフ
の横軸は空間周波数fspであり、縦軸はパワースペクト
ル値である。ここで、空間周波数fspは、図6に示すよ
うに、各処理領域の一辺の長さWにおける周波数として
定義されている。
【0030】図5に示されているように、良品ではパワ
ースペクトルの分布が比較的平坦であるが、不良品(透
孔の孔径やピッチの誤差の片寄りが大きいもの)では特
定の空間周波数におけるパワースペクトル値が高くなる
傾向にある。この理由は、不良品では誤差の片寄りがあ
るので、その片寄りの周波数におけるパワースペクトル
値が大きくなるからである。
【0031】図7は、各処理領域R1〜R6について得
られたパワースペクトル分布を示す概念図である。図3
のステップT5では、各処理領域に関して、特定周波数
領域FRのパワースペクトル値を加算することによって
パワースペクトル加算値をそれぞれ求める。図7に示す
ように、各処理領域R1〜R6はそれぞれ異なるパワー
スペクトル分布を有しているので、そのパワースペクト
ル加算値S1〜S6もそれぞれ異なる値となる。なお、
パワースペクトル加算値は、パワースペクトル分布を特
定周波数領域FRにおいて積分した値である。
【0032】加算値を求めるための特定周波数領域FR
としては、例えば空間周波数fspの値が5〜19の範囲
が好ましい。空間周波数fspが5未満のパワースペクト
ル値は、シャドウマスクSMのグレードの影響を受けて
いる。ここで、「グレード」とは、シャドウマスクSM
の周辺部付近において透孔の孔径やピッチの設計値を変
更していることを言う。例えば、シャドウマスクSMの
周縁部における透孔のピッチは、中央部におけるピッチ
よりも大きく設計されている。このようなグレードは、
比較的低い空間周波数の領域に現われる。従って、ムラ
検査においてグレードの影響を除去するために、約5未
満の比較的低い空間周波数領域を除去してパワースペク
トル値を加算している。一方、比較的高い空間周波数領
域におけるパワースペクトル値は、図5からも解るよう
に、良品と不良品とで大きな差が無い。そこで、ムラ検
査において、約20を越える比較的高い空間周波数領域
を除去してパワースペクトル値を加算している。
【0033】以上の説明からも解るように、ステップT
5における加算の範囲を示す特定空間周波数領域FRと
は、シャドウマスクSMのグレードの影響を受ける比較
的低い空間周波数領域を含まず、かつ、所定の周波数以
上の比較的高い空間周波数領域を含まない領域である。
なお、加算の対象とする空間周波数領域FRの範囲は、
シャドウマスクの設計や処理領域のサイズ等に応じてそ
れぞれ異なる適切な範囲に設定される。
【0034】図3のステップT6では、6つの処理領域
R1〜R6に対するパワースペクトル加算値S1〜S6
の最大値を求め、その最大値を所定の閾値と比較してシ
ャドウマスクSMのムラの良否を判定する。そして、ス
テップT7ではその判定結果がディスプレイ52に表示
される。ムラが大きいほどパワースペクトル加算値は大
きくなる。パワースペクトル加算値S1〜S6の最大値
を閾値と比較するのは、6つの処理領域R1〜R6の中
で、最もムラの大きな処理領域におけるムラ状態の良否
を判断するためである。
【0035】図8は、シャドウマスクのパワースペクト
ル加算値と、人間によるシャドウマスクのムラの良否の
ランクとの相関を示すグラフである。図8のグラフは、
検査員が肉眼でムラ検査を行なって付されたムラの良否
のランクを、実施例のムラ検査装置によって得られたパ
ワースペクトル加算値とを対応づけたグラフである。検
査員のランク付けでは、ランクが3.5以上のものは不
良品であり、ランクが3以下のものが良品である。図8
から解るように、この実施例のムラ検査装置で求めたパ
ワースペクトル加算値と、検査員が付したランクとの間
には極めて高い相関がある。例えば、図8のグラフにお
いて、検査員による肉眼検査における良品の最低ランク
3に対応するパワースペクトル加算値f3 と、不良品の
最高ランク3.5に対応するパワースペクトル加算値f
3.5 をそれぞれ閾値として使用すれば、シャドウマスク
のムラの良否を自動的に判定することができる。なお、
ムラ検査の誤差を考慮して、ランクが3〜3.5の間を
グレー領域として定義しておき、このグレー領域に入る
シャドウマスクは検査員が肉眼でその良否を確認するよ
うにしてもよい。こうすれば、グレー領域に入るシャド
ウマスクのみを検査員が肉眼で検査すればよいので検査
効率が向上するという利点がある。また、大部分のシャ
ドウマスクは自動的にムラの良否が判定されるので、検
査結果の安定性も確保することができる。
【0036】以上のように、この実施例によれば、シャ
ドウマスクSMのビートの影響の無いボケ画像を撮像し
ているので、シャドウマスクSMのビートがムラ検査の
結果に与える影響を小さくすることができる。また、ボ
ケ画像のパワースペクトルを求め、シャドウマスクSM
のグレードの周波数を除く特定の空間周波数領域におけ
るパワースペクトル値を加算して、そのパワースペクト
ル加算値に従ってムラの良否を判定しているので、シャ
ドウマスクSMのグレードがムラ検査の結果に与える影
響を小さくすることができる。すなわち、この実施例に
よれば、シャドウマスクSMのビートやグレードによる
影響を小さく抑えつつ、定量的にムラを検査することが
可能である。
【0037】なお、この発明は上記実施例に限られるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の
態様において実施することが可能であり、例えば次のよ
うな変形も可能である。
【0038】(1)上記実施例ではシャドウマスク内に
複数の処理領域R1〜R6を設定していたが、処理領域
としては少なくとも1つ設定すればよい。但し、図4に
示すように、シャドウマスクのほぼ全面を覆うように複
数の処理領域を設定すれば、複数の処理領域の中でムラ
状態の大きな領域を検出することができるので、局所的
なムラをよりうまく判定できるという利点がある。
【0039】(2)上記実施例ではビートの影響の無い
ボケ画像をCCDカメラ49によって直接撮像するもの
としたが、CCDカメラ49ではシャープな原画像を撮
像し、その原画像を処理することによってビートの影響
の無いボケ画像を得るようにしても良い。例えば、CC
Dカメラ49によって撮像されたシャープな原画像にメ
ディアンフィルタ等の平滑化処理を施すことによってボ
ケ画像を作成することが可能である。あるいは、原画像
の画像データを、その平滑化処理後のボケ画像の画像デ
ータで除算すると、グレードの影響を除去した画像が得
られる。このようなグレード除去画像を処理対象として
ムラ検査を行なうようにしてもよい。
【0040】(3)上記実施例では、ビートの影響の無
いボケ画像を得るために、合焦点位置からずれた位置に
CCDカメラ49を設定したが、CCDカメラ49を合
焦点位置に設定し、その解像度(光学的MTF)を低下
させることにより、ボケ画像を得るようにしても良い。
図9は、CCDカメラ49のレンズ系80の構成を示す
概念図である。このレンズ系80は、鏡筒82と、鏡筒
82の中に設けられたレンズ84,85,86および開
口絞り88を有している。このようなレンズ系80を用
いて、開口絞りを開放した状態(図9(A))で合焦点
位置を求めるとともに、ビートの影響がなくなるまで開
口絞りを絞り込んだ状態(図9(B))で撮像すれば、
ボケ画像を得ることができる。この場合には、ボケ画像
を撮像倍率を変更すること無く生成することができると
いう利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例を適用するシャドウマスク
検査装置30を示す概念図。
【図2】シャドウマスク検査装置30の電気的構成を示
すブロック図。
【図3】実施例におけるムラ検査方法の手順を示すフロ
ーチャート。
【図4】ステップT2において切り出される6つの処理
領域R1〜R6を示す説明図。
【図5】良品と不良品について得られたパワースペクト
ル分布の一例を示すグラフ。
【図6】実施例における空間周波数fspの定義を示す説
明図。
【図7】各処理領域R1〜R6について得られたパワー
スペクトル分布を示す概念図。
【図8】シャドウマスクのパワースペクトル加算値と人
間によるシャドウマスクのムラの良否のランクとの関係
を示すグラフ。
【図9】CCDカメラ49のレンズ系80の構成を示す
概念図。
【符号の説明】
30…シャドウマスク検査装置 40…光学測定装置 41…定盤 42…測定テーブル 43…ガラス板 44…光源 46…スタンド支持アーム 47…カメラ保持ビーム 48…Z軸ステージ 49…CCDカメラ 50…データ処理装置 52…ディスプレイ 54…画像処理装置 56…Z軸ステージコントローラ 58…補助ディスプレイ 60…外部記憶装置 62…カメラ制御装置 64…バスライン 66…CPU 68…RAM 70…キーボード 72…フレキシブルディスク装置 74…プリンタ 76…Z軸ロータリエンコーダ 80…レンズ系 82…鏡筒 84,85,86…レンズ 88…開口絞り
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01M 11/00 - 11/08 G01N 21/84 - 21/958

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ほぼ周期的に形成された明暗パターンの
    ムラを検査する方法であって、(a)前記明暗パターン
    のボケ画像を求める工程と、(b)前記ボケ画像内の少
    なくとも一部の領域についてパワースペクトル分布を求
    める工程と、(c)前記パワースペクトル分布の所定の
    空間周波数領域におけるパワースペクトル値を加算して
    パワースペクトル加算値を求める工程と、(d)前記パ
    ワースペクトル加算値と所定の閾値とを比較することに
    よって、前記明暗パターンのムラの良否を判定する工程
    と、を備えるムラ検査方法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のムラ検査方法であって、 前記工程(a)は、(1)前記ボケ画像を撮像するため
    の撮像手段と前記明暗パターンとの間の合焦点位置を求
    める工程と、(2)前記撮像手段の焦点位置を前記合焦
    点位置から所定量ずらす工程と、(3)前記合焦点位置
    からずらせた焦点位置において、前記明暗パターンの画
    像を撮像することによって、前記ボケ画像を求める工程
    と、を備えるムラ検査方法。
  3. 【請求項3】 請求項1記載のムラ検査方法であって、 前記工程(a)は、(1)前記ボケ画像を撮像するため
    の撮像手段と前記明暗パターンとの間の合焦点位置を前
    記撮像手段の開口絞りを開放した状態で求める工程と、
    (2)前記開口絞りを絞り込む工程と、(3)前記開口
    絞りが絞り込まれた状態で、前記合焦点位置において、
    前記明暗パターンの画像を撮像することによって、前記
    ボケ画像を求める工程と、を備えるムラ検査方法。
  4. 【請求項4】 ほぼ周期的に形成された明暗パターンの
    ムラを検査する装置であって、 前記明暗パターンのボケ画像を求めるボケ画像生成手段
    と、 前記ボケ画像内の少なくとも一部の領域についてパワー
    スペクトル分布を求めるパワースペクトル算出手段と、 前記パワースペクトル分布の所定の空間周波数領域にお
    けるパワースペクトル値を加算してパワースペクトル加
    算値を求める加算手段と、 前記パワースペクトル加算値と所定の閾値とを比較する
    ことによって、前記明暗パターンのムラの良否を判定す
    る判定手段と、を備えるムラ検査装置。
  5. 【請求項5】 請求項4記載のムラ検査装置であって、 前記ボケ画像生成手段は、 前記ボケ画像を撮像するための撮像手段と前記明暗パタ
    ーンとの間の合焦点位置を求める合焦点位置算出手段
    と、 前記撮像手段の焦点位置を前記合焦点位置から所定量ず
    らす焦点位置調整手段と、 前記合焦点位置からずらせた焦点位置において、前記明
    暗パターンの画像を撮像することによって、前記ボケ画
    像を求める撮像手段と、を備えるムラ検査装置。
  6. 【請求項6】 請求項4記載のムラ検査装置であって、 前記ボケ画像生成手段は、 開口絞りを有する撮像手段と、 前記開口絞りが開放された状態で、前記撮像手段と前記
    明暗パターンとの間の合焦点位置を求める合焦点位置算
    出手段と、を備え、 前記撮像手段は、前記開口絞りが絞り込まれた状態で、
    前記合焦点位置において、前記明暗パターンの画像を撮
    像することによって前記ボケ画像を求める、ムラ検査装
    置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4353479B2 (ja) * 2004-10-08 2009-10-28 大日本スクリーン製造株式会社 ムラ検査装置、ムラ検査方法、および、濃淡ムラをコンピュータに検査させるプログラム
JP4899306B2 (ja) * 2004-11-17 2012-03-21 凸版印刷株式会社 周期性パターンムラ検査装置
GB0818625D0 (en) * 2008-10-10 2008-11-19 Renishaw Plc Backlit vision machine
JP2010286353A (ja) * 2009-06-11 2010-12-24 Ricoh Elemex Corp 画像検査装置、画像検査方法およびプログラム
JP5659507B2 (ja) * 2010-03-05 2015-01-28 凸版印刷株式会社 パターン描画装置の状態監視方法および状態監視装置
JP5702639B2 (ja) * 2011-03-25 2015-04-15 株式会社Screenホールディングス ムラ検査用画像取得装置およびムラ検査装置並びに照射部の位置決定方法
DE102016000629A1 (de) * 2016-01-22 2017-07-27 Display-Messtechnik & Systeme GmbH & Co. KG Messverfahren für Bildstörungen an Bildschirmen
JP7186054B2 (ja) * 2018-10-11 2022-12-08 神鋼検査サービス株式会社 欠陥検出支援装置、該方法および該プログラム
WO2021251497A1 (ja) * 2020-06-11 2021-12-16 凸版印刷株式会社 評価指標値算出装置、評価指標値算出方法、および評価指標値算出プログラム
JP6977816B1 (ja) * 2020-06-11 2021-12-08 凸版印刷株式会社 評価指標算出装置、評価指標算出方法、および評価指標算出プログラム

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR950003643B1 (ko) * 1988-06-28 1995-04-17 금성산전 주식회사 새도우 마스크 검사용 영상취득 장치
KR900017072A (ko) * 1989-04-04 1990-11-15 김정배 화상처리 시스템을 이용한 형광막 검사방법 및 그 장치
JPH04209440A (ja) * 1990-11-30 1992-07-30 Toshiba Seiki Kk 露光装置における光源の位置合わせ装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012194022A (ja) * 2011-03-16 2012-10-11 Toppan Printing Co Ltd むら検査装置、むら検査方法およびむら判定方法

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