KR100686657B1 - PROCESS FOR PRODUCING Al-Mg-Si ALLOY PLATE, Al-Mg-Si ALLOY PLATE AND Al-Mg-Si ALLOY MATERIAL - Google Patents

PROCESS FOR PRODUCING Al-Mg-Si ALLOY PLATE, Al-Mg-Si ALLOY PLATE AND Al-Mg-Si ALLOY MATERIAL Download PDF

Info

Publication number
KR100686657B1
KR100686657B1 KR1020047013535A KR20047013535A KR100686657B1 KR 100686657 B1 KR100686657 B1 KR 100686657B1 KR 1020047013535 A KR1020047013535 A KR 1020047013535A KR 20047013535 A KR20047013535 A KR 20047013535A KR 100686657 B1 KR100686657 B1 KR 100686657B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mass
alloy plate
less
alloy
manufacturing
Prior art date
Application number
KR1020047013535A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20040081812A (en
Inventor
기무라가즈오
아까기노부히꼬
Original Assignee
쇼와 덴코 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 쇼와 덴코 가부시키가이샤 filed Critical 쇼와 덴코 가부시키가이샤
Priority claimed from PCT/JP2003/002379 external-priority patent/WO2003074750A1/en
Publication of KR20040081812A publication Critical patent/KR20040081812A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100686657B1 publication Critical patent/KR100686657B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22FCHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
    • C22F1/00Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
    • C22F1/04Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of aluminium or alloys based thereon
    • C22F1/05Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of aluminium or alloys based thereon of alloys of the Al-Si-Mg type, i.e. containing silicon and magnesium in approximately equal proportions
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B21MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
    • B21BROLLING OF METAL
    • B21B3/00Rolling materials of special alloys so far as the composition of the alloy requires or permits special rolling methods or sequences ; Rolling of aluminium, copper, zinc or other non-ferrous metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C21/00Alloys based on aluminium
    • C22C21/06Alloys based on aluminium with magnesium as the next major constituent
    • C22C21/08Alloys based on aluminium with magnesium as the next major constituent with silicon

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To produce an Al-Mg-Si alloy plate having excellent thermal conductivity, electric conductivity and strength by simple and minimal steps. <P>SOLUTION: The process for producing the alloy plate comprises a step of hot rolling an Al-Mg-Si alloy ingot which has a composition consisting of, by mass, 0.2 to 0.8% Si, 0.3 to 1% Mg, ≤0.5% Fe, ≤0.5% Cu, further at least either of ≤0.1% Ti, and ≤0.1% B, and the balance Al with inevitable impurities and a step of cold rolling the resultant alloy plate. In the course between the completion of the hot rolling and the completion of the cold rolling, heat treatment is carried out by holding the rolled matter at 200 to 400°C for ≥1 h. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법 및 Al-Mg-Si계 합금판 및 Al-Mg-Si계 합금재 {PROCESS FOR PRODUCING Al-Mg-Si ALLOY PLATE, Al-Mg-Si ALLOY PLATE AND Al-Mg-Si ALLOY MATERIAL}Process for producing Al-Mg-Si-based alloy plate, Al-Mg-Si-based alloy plate and Al-Mg-Si-based alloy material {PROCESS FOR PRODUCING Al-Mg-Si ALLOY PLATE, Al-Mg-Si ALLOY PLATE AND Al -Mg-Si ALLOY MATERIAL}

본 출원은 2002년 3월 1일자로 출원된 일본국 특허 출원 제2002-55392호, 2002년 4월 28일자로 출원된 미국 특허 출원 60/374,500 및 2003년 2월 28일자로 출원된 일본국 특허 출원 제2003-52621호의 우선권 주장을 수반하는 것이고, 그 개시 내용은 그대로 본원의 일부를 구성하는 것이다. This application is directed to Japanese Patent Application No. 2002-55392, filed March 1, 2002, US Patent Application No. 60 / 374,500, filed April 28, 2002, and Japanese Patent Application, filed February 28, 2003. It is accompanied by the priority claim of the application 2003-52621, The content of which is what constitutes a part of this application as it is.

본 발명은 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법 및 이 방법에 의해 제조되는 Al-Mg-Si계 합금판에 관한 것이다. The present invention relates to a method for producing an Al-Mg-Si alloy plate and an Al-Mg-Si alloy plate produced by the method.

또한 본 발명은 Al-Mg-Si계 합금판, 특히 열전도성, 도전성, 강도 및 가공성이 우수한 Al-Mg-Si계 합금판 및 그 제조 방법 및 Al-Mg-Si계 합금재에 관한 것이다. The present invention also relates to an Al-Mg-Si-based alloy plate, in particular, an Al-Mg-Si-based alloy plate having excellent thermal conductivity, conductivity, strength, and workability, a method of manufacturing the same, and an Al-Mg-Si-based alloy material.

PDP(플라즈마 디스플레이), LCD(액정 디스플레이), 노트북 퍼스널 컴퓨터 등 섀시나 메탈 베이스 프린트 기판과 같이 발열체를 내장 또는 장착하는 부재 재료에 있어서는, 강도는 물론, 빠르게 방열하기 위해 우수한 열전도성이 요구된다. 게다가, 오늘날 이들 제품의 고성능화, 복잡화, 소형화, 발열체의 고밀도화에 의해 발 열량은 비약적으로 증대하여, 점점 열전도성과 가공성의 향상이 요망되고 있다. In a member material in which a heating element is built or mounted, such as a PDP (plasma display), an LCD (liquid crystal display), a notebook personal computer, or a metal base printed circuit board, excellent thermal conductivity is required for rapid heat dissipation as well as strength. In addition, due to the high performance, complexity, miniaturization, and high heat generation of these products, the amount of heat generated is dramatically increased, and heat conductivity and processability are increasingly desired.

그런데, 상기 부재를 알루미늄으로 제작하는 경우, 열전도성이 높은 재료로서는 JIS 1100, 1050, 1070 등의 순알루미늄계 합금이 적합하다. 그러나, 이들 합금은 강도에 난점이 있다. 한편, 고강도 재료로서 채용되는 JIS 5052 합금은 순알루미늄계 합금보다도 열전도성이 현저히 낮다. 또한, Al-Mg-Si계 합금은 열전도성이 좋아 시효 경화에 의해 고강도도 얻을 수 있지만, 압연 후 고온으로 용체화 처리 후 시효 처리하게 되는 복잡한 공정이 필요하다. 또한, 높은 강도를 얻어도 굽힘 가공성, 돌출 가공성 등의 성형 가공성이 극단적으로 저하되는 결점이 있었다(예를 들어, 일본 특허 공개 평8-209279호 공보, 일본 특허 공개 평9-1343644호 공보, 일본 특허 공개 제2000-144294호 공보). By the way, when the member is made of aluminum, a pure aluminum alloy such as JIS 1100, 1050, 1070 is suitable as a material having high thermal conductivity. However, these alloys have difficulty in strength. On the other hand, JIS 5052 alloy employed as a high strength material is significantly lower in thermal conductivity than pure aluminum alloy. In addition, the Al-Mg-Si-based alloy has good thermal conductivity, and thus high strength can be obtained by aging hardening. However, a complicated process of aging after solution treatment at high temperature after rolling is required. Moreover, even if high strength is obtained, there is a drawback that the molding workability such as bending workability and protrusion workability is extremely reduced (for example, JP-A-8-209279, JP-A-9-1343644, Japan Patent Publication No. 2000-144294).

이와 같은 상황에 있어서, 본 출원인은 Al-Mg-Si계 합금판의 제조시에 열간 압연 공정의 압연 조건을 규정함으로써, 열전도성과 강도의 양방을 실현할 수 있는 기술을 제안하여 용체화 처리 및 시효 처리를 행하지 않아도 소요의 강도를 얻을 수 있었다(예를 들어, 일본 특허 공개 제2000-87198호 공보, 일본 특허 공개 제2000-226628호 공보). In such a situation, the present applicant has proposed a technique capable of realizing both thermal conductivity and strength by specifying the rolling conditions of the hot rolling process at the time of manufacturing the Al-Mg-Si-based alloy plate, and solution treatment and aging treatment. The required strength can be obtained even without performing the above (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-87198 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-226628).

그러나, 상기 기술에 있어서는, 열간 압연 공정의 임의의 패스 공정에 있어서 패스 전의 재료 온도, 패스 사이의 냉각 속도, 패스 종료 온도, 종료 판 두께를 제어하고, 또한 그 후의 냉간 압연에 있어서의 가공도를 제어하는 복잡한 조건 관리를 필요로 하는 것이었다. However, in the above technique, in any pass step of the hot rolling step, the material temperature before the pass, the cooling rate between the pass, the pass end temperature, and the end plate thickness are controlled, and further, the degree of workability in the subsequent cold rolling. It required complex condition management to control.

또한, 제조된 합금판의 가공성은 시장의 요구를 충분히 만족시키는 것이 아 니며, 엄격한 조건으로 성형 가공하는 경우, 가공 설비나 가공 방법에 각별한 배려가 필요한 것이었다. In addition, the workability of the manufactured alloy sheet did not sufficiently satisfy the demands of the market, and when forming and processing under strict conditions, special consideration was required for processing facilities and processing methods.

그런데, JIS 1000계 내지 7000계의 알루미늄 합금에 있어서는, 열전도율과 도전율이 양호한 상관성을 나타내는 것이 알려져 있다. 도2에 도시하는 알루미늄 합금에 있어서의 열전도율과 도전율의 관계를 회귀 분석하면, 회귀식 : y = 3.5335x + 13.525, 결정 계수 : R2 = 0.981을 얻을 수 있어 매우 높은 상관성을 나타내고 있는 것을 알 수 있다. 따라서, 우수한 열전도성을 나타내는 알루미늄 합금판은 동시에 우수한 도전성도 겸비하는 것이며, 방열 부재 재료로서 이용되는 것 외에, 도전 부재 재료로서도 적합하게 이용할 수 있다. By the way, in the aluminum alloy of JIS1000-7000 system, it is known that thermal conductivity and electrical conductivity show the favorable correlation. Regression analysis of the relationship between the thermal conductivity and the electrical conductivity in the aluminum alloy shown in Fig. 2 shows that a regression equation: y = 3.5335x + 13.525 and a crystal coefficient: R 2 = 0.981 are obtained, indicating a very high correlation. have. Therefore, the aluminum alloy plate which shows the outstanding thermal conductivity simultaneously has excellent electroconductivity, and can be used suitably also as a conductive member material besides being used as a heat radiating member material.

본 발명은 상술한 기술 배경에 비추어, Al-Mg-Si계 합금판을 간단하고 적은 공정으로 제조하는 방법을 이용하는 동시에, 이 방법으로 제조된 Al-Mg-Si계 합금판의 제공을 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above technical background, an object of the present invention is to provide an Al-Mg-Si-based alloy sheet produced by this method while using a method for producing an Al-Mg-Si-based alloy sheet in a simple and small process. .

또한 본 발명은 상술한 기술 배경에 비추어, 열전도성, 도전성, 강도 및 가공성이 우수한 Al-Mg-Si계 합금판을 간단하고 적은 공정으로 제조하는 방법을 이용하는 동시에, 이 방법으로 제조된 Al-Mg-Si계 합금판의 제공을 목적으로 한다. 또한, 본 발명은 열전도성, 도전성, 강도 및 가공성이 우수한 Al-Mg-Si계 합금재의 제공을 목적으로 한다. In addition, in view of the above technical background, the present invention utilizes a method for producing an Al-Mg-Si alloy plate having excellent thermal conductivity, conductivity, strength, and workability in a simple and small process, and at the same time, Al-Mg produced by this method. An object of the present invention is to provide an Si-based alloy plate. Moreover, an object of this invention is to provide the Al-Mg-Si type alloy material excellent in thermal conductivity, electroconductivity, strength, and workability.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법은 하 기의 구성을 갖는 것이다. In order to achieve the above object, the manufacturing method of the Al-Mg-Si-based alloy plate of the present invention is to have the following configuration.

(1) Si : 0.2 내지 0.8 질량 %, Mg : 0.3 내지 1 질량 %, Fe : 0.5 질량 % 이하, Cu : 0.5 질량 % 이하를 함유하고, 또한 Ti : 0.1 질량 % 이하 또는 B : 0.1 질량 % 이하 중 적어도 1종류를 함유하여 잔량부 Al 및 불가피 불순물로 이루어지는 Al-Mg-Si계 합금 주괴를 열간 압연하고, 또한 냉간 압연하는 공정을 포함하는 합금판의 제조 방법이며, 열간 압연 후에서 냉간 압연 종료까지의 동안에 200 내지 400 ℃로 1시간 이상 유지함으로써 열처리를 행하는 것을 특징으로 하는 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (1) Si: 0.2-0.8 mass%, Mg: 0.3-1 mass%, Fe: 0.5 mass% or less, Cu: 0.5 mass% or less, Ti: 0.1 mass% or less, or B: 0.1 mass% or less It is a manufacturing method of the alloy plate containing the process of hot-rolling and cold-rolling the Al-Mg-Si type alloy ingot which consists of at least 1 sort (s) of remainder part Al and an unavoidable impurity, and finishes cold rolling after hot rolling. A method of producing an Al-Mg-Si-based alloy plate, characterized by performing heat treatment by maintaining the temperature at 200 to 400 ° C. for at least 1 hour.

(2) 합금 주괴에 있어서, 불순물로서의 Mn 및 Cr이 Mn : 0.1 질량 % 이하, Cr : 0.1 질량 % 이하로 규제되어 있는 (1)항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (2) The method for producing an Al-Mg-Si alloy plate according to (1), wherein in the alloy ingot, Mn and Cr as impurities are regulated to Mn: 0.1 mass% or less and Cr: 0.1 mass% or less.

(3) 열처리는 열간 압연 후 냉간 압연 전에 행하는 (1)항 또는 (2)항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (3) The method for producing an Al-Mg-Si alloy sheet according to (1) or (2), wherein the heat treatment is performed after hot rolling and before cold rolling.

(4) 열처리는 냉간 압연 중에 행하는 (1)항 또는 (2)항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (4) The method for producing an Al-Mg-Si alloy plate according to (1) or (2), wherein the heat treatment is performed during cold rolling.

(5) 열처리는 220 내지 280 ℃로 1 내지 10시간 유지함으로써 행하는 (1)항 내지 (4)항 중 어느 한 항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (5) The method for producing an Al-Mg-Si alloy plate according to any one of (1) to (4), which is performed by maintaining the heat treatment at 220 to 280 ° C for 1 to 10 hours.

(6) 합금 주괴에 대해 500 ℃ 이상으로 균질화 처리를 행하는 (1)항 내지 (5)항 중 어느 한 항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (6) The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate in any one of (1)-(5) which homogenizes at 500 degreeC or more with respect to an alloy ingot.

(7) 열처리 후의 냉간 압연을 20 % 이상의 가공도로 행하는 (1)항 내지 (6) 항 중 어느 한 항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (7) The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate in any one of (1)-(6) which performs cold rolling after heat processing at 20% or more of workability.

(8) 가공도는 30 % 이상인 (7)항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (8) The manufacturing method of the Al-Mg-Si type-alloy plate as described in (7) which is 30% or more.

(9) 냉간 압연 종료 후, 200 ℃ 이하로 최종 어닐링을 행하는 (1)항 내지 (8)항 중 어느 한 항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (9) The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate in any one of (1)-(8) which performs final annealing at 200 degrees C or less after completion of cold rolling.

(10) 최종 어닐링은 110 내지 150 ℃로 행하는 (9)항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (10) The method of producing the Al-Mg-Si alloy plate according to (9), wherein the final annealing is performed at 110 to 150 ° C.

(11) 열간 압연 전에 재료 온도를 450 내지 580 ℃로 예비 가열하는 (1)항 내지 (10)항 중 어느 한 항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (11) The method for producing an Al-Mg-Si alloy plate according to any one of (1) to (10), wherein the material temperature is preheated to 450 to 580 ° C before hot rolling.

(12) 열간 압연의 임의의 패스 공정에 있어서, 패스 전의 재료 온도를 450 내지 350 ℃로 하고, 패스 후의 냉각 속도를 50 ℃/분 이상으로 하는 (1)항 내지 (11)항 중 어느 한 항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (12) In any pass step of hot rolling, the material temperature before the pass is set to 450 to 350 ° C, and the cooling rate after the pass is set to 50 ° C / min or more, any one of items (1) to (11). The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate of description.

(13) 합금 주괴 중 Si 함유량은 0.32 내지 0.6 질량 %인 (1)항 내지 (12)항 중 어느 한 항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (13) The method for producing an Al-Mg-Si alloy sheet according to any one of (1) to (12), wherein the Si content in the alloy ingot is 0.32 to 0.6 mass%.

(14) 합금 주괴 중 Mg 함유량은 0.35 내지 0.55 질량 %인 (1)항 내지 (12)항 중 어느 한 항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (14) The method for producing an Al-Mg-Si alloy plate according to any one of (1) to (12), wherein the Mg content in the alloy ingot is 0.35 to 0.55 mass%.

(15) 합금 주괴 중 Fe 함유량은 0.1 내지 0.25 질량 %인 (1)항 내지 (12)항 중 어느 한 항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (15) The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate in any one of (1)-(12) whose Fe content in an alloy ingot is 0.1-0.25 mass%.

(16) 합금 주괴 중 Cu 함유량은 0.1 질량 % 이하인 (1)항 내지 (12)항 중 어느 한 항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (16) The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate in any one of (1)-(12) whose Cu content in an alloy ingot is 0.1 mass% or less.

(17) 합금 주괴 중 Ti 함유량은 0.005 내지 0.05 질량 %인 (1)항 내지 (12) 항 중 어느 한 항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (17) The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate in any one of (1)-(12) whose Ti content in an alloy ingot is 0.005-0.05 mass%.

(18) 합금 주괴 중 B 함유량은 0.06 질량 % 이하인 (1)항 내지 (12)항 중 어느 한 항에 기재된 Al-Mg-S계 합금판의 제조 방법.(18) The method for producing an Al-Mg-S alloy plate according to any one of (1) to (12), wherein the B content in the alloy ingot is 0.06 mass% or less.

(19) 합금 주괴 중 Mn 함유량은 0.05 질량 % 이하로 규제되어 있는 (1)항 내지 (12)항 중 어느 한 항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법.(19) The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate in any one of (1)-(12) whose Mn content in an alloy ingot is regulated to 0.05 mass% or less.

(20) 합금 주괴 중 Cr 함유량은 0.05 질량 % 이하로 규제되어 있는 (1)항 내지 (12)항 중 어느 한 항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. (20) The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate in any one of (1)-(12) whose Cr content in an alloy ingot is regulated to 0.05 mass% or less.

(21) Si : 0.2 내지 0.8 질량 %, Mg : 0.3 내지 1 질량 %, Fe : 0.5 질량 % 이하, Cu : 0.5 질량 % 이하를 함유하고, 또한 Ti : 0.1 질량 % 이하 또는 B : 0.1 질량 % 이하 중 적어도 1종류를 함유하고, 잔량부 Al 및 불가피 불순물로 이루어지고, 도전율이 55 내지 60 %(IACS)인 것을 특징으로 하는 Al-Mg-Si계 합금재. (21) Si: 0.2-0.8 mass%, Mg: 0.3-1 mass%, Fe: 0.5 mass% or less, Cu: 0.5 mass% or less, Ti: 0.1 mass% or less, or B: 0.1 mass% or less Al-Mg-Si type alloy material containing at least 1 type, Comprising: It consists of remainder part Al and an unavoidable impurity, and electrical conductivity is 55 to 60% (IACS).

(22) 인장 강도가 140 내지 240 N/㎟인 (21)항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금재. (22) The Al-Mg-Si-based alloy material according to (21), wherein the tensile strength is 140 to 240 N / mm 2.

(23) 불순물로서의 Mn 및 Cr이 Mn : 0.1 질량 % 이하, Cr : 0.1 질량 % 이하로 규제되어 있는 (21)항 또는 (22)항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금재. (23) The Al-Mg-Si-based alloy material according to (21) or (22), wherein Mn and Cr as impurities are regulated to Mn: 0.1% by mass or less and Cr: 0.1% by mass or less.

본 발명의 Al-Mg-Si계 합금판은 하기의 구성을 갖는 것이다. The Al-Mg-Si type alloy plate of this invention has the following structures.

(24) (1)항 내지 (20)항에 기재된 방법으로 제조된 Al-Mg-Si계 합금판. (24) An Al-Mg-Si alloy plate produced by the method described in (1) to (20).

(25) Al-Mg-Si계 합금판, 방열 부재 재료, 도전 부재 재료, 케이스 재료, 혹은 반사판 또는 그 지지 부재인 (21)항 내지 (24)항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판. (25) The Al-Mg-Si-based alloy plate according to (21) to (24), which is an Al-Mg-Si-based alloy plate, a heat dissipation member material, a conductive member material, a case material, or a reflecting plate or a supporting member thereof.

(26) Al-Mg-Si계 합금판은 플라즈마 디스플레이 배면 섀시재, 플라즈마 디스 플레이 하우징 또는 플라즈마 디스플레이 외장 부재인 (21)항 내지 (24)항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판. (26) The Al-Mg-Si-based alloy plate according to (21) to (24), wherein the Al-Mg-Si-based alloy plate is a plasma display back chassis material, a plasma display housing, or a plasma display exterior member.

(27) Al-Mg-Si계 합금판은 액정 디스플레이 배면 섀시재, 액정 디스플레이 베젤재, 액정 디스플레이 반사 시트재, 액정 디스플레이 반사 시트 지지재 또는 액정 디스플레이 하우징인 (21)항 내지 (24)항에 기재된 Al-Mg-Si계 합금판. (27) The items of (21) to (24), wherein the Al-Mg-Si-based alloy plate is a liquid crystal display back chassis material, a liquid crystal display bezel material, a liquid crystal display reflection sheet material, a liquid crystal display reflection sheet support material, or a liquid crystal display housing. Al-Mg-Si type alloy plate as described.

도1a 및 도1b는 본 발명의 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법에 있어서, 일련의 공정을 나타내는 흐름도이고, 도1a는 열처리를 열간 압연 후 냉간 압연 전에 행하는 경우, 도1b는 열처리를 냉간 압연 중에 행하는 경우를 나타낸 도면이다. 1A and 1B are flowcharts showing a series of processes in the method for producing an Al-Mg-Si-based alloy plate of the present invention, and FIG. 1A is a heat treatment before hot rolling after hot rolling. The figure which shows the case performed in cold rolling.

도2는 알루미늄 합금에 있어서의 도전율과 열전도율의 관계를 나타내는 상관도이다. 2 is a correlation diagram showing the relationship between electrical conductivity and thermal conductivity in an aluminum alloy.

본 발명의 방법이 대상으로 하는 Al-Mg-Si 합금 조성에 있어서, 각 원소의 첨가 의의 및 함유량의 한정 이유는 다음과 같다. In the Al-Mg-Si alloy composition which the method of this invention makes object, the meaning of addition and content of each element is as follows.

Mg 및 Si는 강도의 발현에 필요한 원소로, Si : 0.2 내지 0.8 질량 %, Mg : 0.3 내지 1 질량 %로 한다. Si 함유량이 0.2 질량 % 미만 혹은 Mg 함유량이 0.3 질량 % 미만에서는 충분한 강도를 얻을 수 없다. 한편, Si 함유량이 0.8 질량 %, Mg 함유량이 1 질량 %를 초과하면, 열간 압연에서의 압연 부하가 높아져 생산성이 저하되는 동시에, 가장자리 균열이 커져 도중 공정에서 트리밍이 필요해진다. 또한, 성형 가공성도 나빠진다. 바람직한 Si 함유량은 0.32 내지 0.6 질량 %이 다. 또한 바람직한 Mg 함유량은 0.35 내지 0.55 질량 %이다. Mg and Si are elements required for the expression of strength, and are Si: 0.2 to 0.8% by mass and Mg: 0.3 to 1% by mass. If the Si content is less than 0.2 mass% or the Mg content is less than 0.3 mass%, sufficient strength cannot be obtained. On the other hand, when Si content is 0.8 mass% and Mg content exceeds 1 mass%, the rolling load in hot rolling will become high, productivity will fall, edge crack will become large, and trimming is needed in the middle process. In addition, moldability deteriorates. Preferable Si content is 0.32-0.6 mass%. Moreover, preferable Mg content is 0.35 to 0.55 mass%.

Fe 및 Cu는 성형 가공상 필요한 성분이지만, 다량으로 함유하면 내식성이 저하되어 합금판으로서의 실용성이 결여되므로, Fe 함유량을 0.5 질량 % 이하, 바람직하게는 0.35 질량 % 이하로 규제하고, Cu 함유량을 0.5 질량 % 이하, 바람직하게는 0.2 질량 % 이하로 규제할 필요가 있다. 더욱 바람직한 Fe 함유량은 0.1 내지 0.25 질량 %, 바람직한 Cu 함유량은 0.1 질량 % 이하이다. Fe and Cu are necessary components for molding, but when contained in a large amount, the corrosion resistance is lowered and the practicality as an alloy plate is insufficient. Therefore, the Fe content is regulated to 0.5% by mass or less, preferably 0.35% by mass or less, and the Cu content is 0.5. It is necessary to regulate to mass% or less, Preferably it is 0.2 mass% or less. More preferable Fe content is 0.1 to 0.25 mass%, and preferable Cu content is 0.1 mass% or less.

Ti 및 B는 합금을 슬래브로 주조할 때에 결정 입자를 미세화하는 동시에 응고 균열을 방지하는 효과가 있다. 상기 효과는 Ti 또는 B 중 적어도 1종류의 첨가에 의해 얻을 수 있고, 양방을 첨가해도 된다. 그러나, 다량으로 함유하면, 정출물의 양이 많아지면서 또한 큰 정출물이 형성되므로 제품에의 가공성이 저하된다. 게다가, 열전도성 및 도전성이 저하된다. 이들의 이유에 의해, Ti 함유량은 0.1 질량 % 이하로 한다. 바람직한 Ti 함유량은 0.005 내지 0.05 질량 %이다. 또한, B 함유량은 0.1 질량 % 이하로 한다. 바람직한 B 함유량은 0.06 질량 % 이하이다. Ti and B have an effect of miniaturizing crystal grains and preventing solidification cracks when casting an alloy into a slab. The said effect can be obtained by addition of at least 1 sort (s) of Ti or B, and you may add both. However, when it contains a large amount, since the amount of crystallized substance increases, and large crystallized substance is formed, workability to a product falls. In addition, thermal conductivity and conductivity decrease. For these reasons, Ti content is made into 0.1 mass% or less. Preferable Ti content is 0.005-0.05 mass%. In addition, B content is made into 0.1 mass% or less. Preferable B content is 0.06 mass% or less.

또한, 합금 주괴에는 다양한 불순물 원소가 불가피적으로 함유되지만, Mn 및 Cr은 열전도성 및 도전성을 저하시키는 원인이 되므로 가급적 적은 것이 바람직하다. 불순물로서의 Mn 함유량을 0.1 질량 % 이하, Cr 함유량을 0.1 질량 % 이하로 규제하는 것이 바람직하다. 특히 바람직한 Mn 함유량은 0.05 질량 % 이하, 특히 바람직한 Cr 함유량은 0.05 질량 % 이하이다. 더욱 바람직한 Mn 함유량은 0.04 질량 % 이하, 더욱 바람직한 Cr 함유량은 0.03 질량 % 이하이다. 또한, 그 밖의 불순물 원소는 개개의 함유량으로서 0.05 질량 % 이하인 것이 바람직하다. In addition, although various impurity elements are inevitably contained in the alloy ingot, Mn and Cr are preferably as small as possible because they cause a decrease in thermal conductivity and conductivity. It is preferable to regulate Mn content as 0.1 mass% or less and Cr content to 0.1 mass% or less as an impurity. Especially preferable Mn content is 0.05 mass% or less, Especially preferable Cr content is 0.05 mass% or less. More preferable Mn content is 0.04 mass% or less, and more preferable Cr content is 0.03 mass% or less. Moreover, it is preferable that other impurity elements are 0.05 mass% or less as individual content.

다음에, 본 발명의 방법에 있어서의 일련의 처리 공정에 대해 도1a, 도1b를 참조하면서 상세하게 서술한다. Next, a series of processing steps in the method of the present invention will be described in detail with reference to Figs. 1A and 1B.

통상의 압연 공정에 있어서, 합금 주괴는 열간 압연 및 냉간 압연을 거쳐 소요 두께의 합금판으로 가공되고, 이들 공정간 혹은 공정 중에 다양한 열처리가 실시된다. 본 발명의 방법에 있어서는, 열간 압연 후에서 냉간 압연 종료까지의 동안에 소정 조건의 열처리가 이루어진다. 구체적으로는, 상기 열처리는 열간 압연 후와 냉간 압연 전(도1a), 또는 냉간 압연 중, 바꾸어 말하면 복수회 행해지는 냉간 압연의 패스 사이(도1b)에 행해진다. 또, 도1a 및 도1b에 있어서, 상기 열처리를 이중선 블럭으로 나타내고, 필수 처리를 실선 블럭으로 나타내고, 임의로 행해지는 처리를 파선 블럭으로 나타낸다. In a normal rolling process, an alloy ingot is processed into the alloy plate of required thickness through hot rolling and cold rolling, and various heat processing is performed between these processes or during a process. In the method of this invention, heat processing of predetermined conditions is performed after hot rolling until completion | finish of cold rolling. Specifically, the heat treatment is performed between hot rolling passes and before cold rolling (FIG. 1A) or during cold rolling, in other words, between cold rolling passes (FIG. 1B). 1A and 1B, the heat treatment is represented by a double line block, the essential processing is represented by a solid line block, and the processing performed arbitrarily is represented by a broken line block.

상기 열처리의 목적은 Mg2Si를 미세하면서 또한 균일하게 석출시키는 동시에, 압연 재료 중에 존재하는 가공 왜곡을 감소시키는 데 있다. 그리고, 그 후의 냉간 가공에 의해 가공 경화시켜, 성형 가공성을 손상시키지 않는 범위에서 고강도의 합금판을 얻을 수 있다. 이 열처리는 재료 중에 가공 왜곡이 존재하는 상태에서 행하는 것이 바람직하고, 도1b에 도시한 바와 같이 열간 압연 후 적어도 1패스의 냉간 압연을 하여 확실하게 가공 왜곡이 존재하는 상태에서 행하는 것을 추천할 수 있다. The purpose of the heat treatment is to deposit Mg 2 Si finely and uniformly, while reducing processing distortion present in the rolled material. And a high-strength alloy plate can be obtained in the range which does not harden work hardening by subsequent cold work and does not impair moldability. It is preferable to perform this heat treatment in a state where work distortion exists in the material, and as shown in FIG. 1B, it is recommended to perform at least one pass cold rolling after hot rolling to ensure that work distortion exists in a sure state. .

상기 열처리는 200 내지 400 ℃로 1시간 이상 유지함으로써 행한다. 200 ℃ 미만은 상기 효과를 얻기 위해 장시간이 필요하고, 400 ℃를 초과하면 조대 석출물이 형성되어 최종 제품에 있어서의 고강도 및 양호한 성형 가공성을 얻을 수 없다. 또한, 450 ℃ 이상에서는 재결정 입자의 조대화가 발생하여 최종 제품의 성형 가공성에 악영향을 미친다. 또한, 처리 시간이 1시간 미만인 경우에도 상기 효과를 얻을 수 없다. 바람직한 열처리 조건은 200 내지 300 ℃에서 1시간 이상이고, 더욱 바람직하게는 220 내지 280 ℃에서 1 내지 10시간이다. The heat treatment is carried out by maintaining the temperature at 200 to 400 ° C for at least 1 hour. If it is less than 200 degreeC, long time is required in order to acquire the said effect, and if it exceeds 400 degreeC, coarse precipitate will be formed and high strength and good moldability in a final product cannot be obtained. Further, at 450 ° C. or higher, coarsening of the recrystallized particles occurs, adversely affecting the molding processability of the final product. Moreover, even if the processing time is less than 1 hour, the above effects cannot be obtained. Preferable heat treatment conditions are 1 hour or more at 200-300 degreeC, More preferably, it is 1 to 10 hours at 220-280 degreeC.

다음에, 상기 열처리 이외의 임의로 행하는 처리 및 압연에 대해 설명한다. Next, the process and rolling which are performed arbitrarily other than the said heat processing are demonstrated.

합금 주괴에의 균질화 처리는 임의로 행한다. 균질화 처리는 500 ℃ 이상으로 행하는 것이 바람직하고, 합금 조직을 균질화할 수 있다. Homogenization treatment to an alloy ingot is optionally performed. It is preferable to perform a homogenization process at 500 degreeC or more, and it can homogenize an alloy structure.

열간 압연시에는, 예비 가열에 의해 재료 중에 정출물 및 Mg, Si를 고체 용융시켜, 균일한 금속 조직으로 한 후에 행하는 것이 바람직하다. 균일한 금속 조직으로 압연을 개시함으로써, 최종 제품의 품질 안정성이 확보된다. 예비 가열은 450 ℃ 이상으로 행하는 것이 바람직하고, 500 ℃ 이상이 특히 바람직하다. 한편, 580 ℃를 초과하면 공정 융해가 발생되므로, 580 ℃ 이하로 행하는 것이 바람직하다. At the time of hot rolling, it is preferable to carry out solid melting of crystallized substance, Mg, and Si in material by preheating, and to make it into a uniform metal structure. By starting rolling with a uniform metal structure, quality stability of the final product is ensured. It is preferable to perform preheating at 450 degreeC or more, and 500 degreeC or more is especially preferable. On the other hand, when it exceeds 580 degreeC, process fusion will generate | occur | produce, and it is preferable to carry out to 580 degreeC or less.

열간 압연의 조건은 한정되지 않아, 열간 조압연과 그 후의 열간 마무리 압연 등 통상 방법에 따른다. 단, 임의의 패스 공정에 있어서, 패스 전의 재료 온도를 450 내지 350 ℃로 하고, 패스 후의 냉각 속도를 50 ℃/분 이상으로 하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 패스 전의 Mg 및 Si가 고체 용융된 상태로부터 패스 후의 Mg2Si의 조대 석출물의 발생이 억제되고, 켄칭과 같은 효과를 얻어 최종 제품의 품질을 안정시킬 수 있다. 패스 전의 재료 온도가 350 ℃ 미만에서는 이 시점에서 Mg2Si가 조대 석출물이 되어 그 후의 켄칭 효과를 얻을 수 없다. 또한, 온도가 낮기 때문에 그 후의 패스의 압연성이 현저히 나빠지는 동시에, 패스 종료 온도가 지나치게 낮아져 표면 품질이 저하된다. 한편, 450 ℃를 초과하면 패스 종료로 재료 온도가 충분히 저하되지 않아 켄칭의 효과가 부족하다. 패스 전의 재료 온도는 420 내지 380 ℃의 범위가 특히 바람직하다. The conditions of hot rolling are not limited, According to normal methods, such as hot rough rolling and subsequent hot finishing rolling. However, in any pass process, it is preferable that the material temperature before a pass shall be 450-350 degreeC, and the cooling rate after a pass shall be 50 degreeC / min or more. As a result, the path prior to Mg and Si and is solid-state generation of coarse precipitates of Mg 2 Si after the pass from the molten state suppressed, it is possible to obtain the same effect as the hardening stabilize the quality of the final product. In the material temperature before the pass it is less than 350 ℃ at this point can not be obtained after the quenching effect Mg 2 Si precipitates are coarse. In addition, since the temperature is low, the rolling property of subsequent passes is significantly worsened, and the pass end temperature is too low, and the surface quality is lowered. On the other hand, when it exceeds 450 degreeC, the material temperature will not fall enough by the completion | finish of a pass, and the effect of hardening is lacking. As for the material temperature before a pass, the range of 420-380 degreeC is especially preferable.

상기 열처리 후에 행하는 냉간 압연은 가공 경화에 의해 소정의 강도를 얻기 위해 가공도를 20 % 이상으로 하는 것이 바람직하다. 특히 바람직한 가공도는 30 % 이상이다. 또, 도1b에 도시한 열처리 전의 냉간 압연의 가공도에 대해서는, 열처리에 이용하는 재료에 가공 왜곡을 발생시키는 것이 목적이며, 상기 가공도에 따르지 않아도 좋다. In the cold rolling carried out after the heat treatment, the workability is preferably 20% or more in order to obtain a predetermined strength by work hardening. Especially preferable workability is 30% or more. In addition, about the workability of the cold rolling before heat processing shown in FIG. 1B, it is an objective to produce work distortion in the material used for heat processing, and it is not necessary to follow the said workability.

또한, 필요하면 냉간 압연한 합금판을 200 ℃ 이하로 최종 어닐링한다. 저온에서의 열처리를 행함으로써 재료 중에 잔존하는 고체 용융된 Mg, Si를 Mg2Si로 하여 석출시키고, 또한 강도를 향상시키는 동시에, 신장도 향상시킬 수 있다. 또한 기계적인 모든 성질을 안정시키는 효과도 있다. 특히 바람직한 어닐링 온도는 110 내지 150 ℃이다. If necessary, the cold rolled alloy plate is finally annealed to 200 ° C or lower. By performing heat treatment at low temperature, the solid-melted Mg and Si remaining in the material can be precipitated as Mg 2 Si, and the strength can be improved, and the elongation can also be improved. It also has the effect of stabilizing all mechanical properties. Particularly preferred annealing temperatures are 110 to 150 ° C.

본 발명의 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법에 따르면, 소정의 조건에서의 열처리와 그 후의 냉간 압연에 의해 높은 강도와 양호한 가공성을 얻을 수 있다. 이 열처리는 소정 온도로 유지만 하는 처리이므로, 압연 공정 관리 범위 내에서 처리할 수 있어 종래의 용체화 처리, 켄칭, 템퍼링 등의 별도 공정의 복잡한 처리가 필요하지 않다. 또한, 원래부터 Al-Mg-Si계 합금은 열전도성, 도전성은 양호하므로, 열전도성, 도전성, 강도 및 가공성을 겸비한 합금판을 간단하고 적은 공정으로 제조할 수 있다. According to the manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate of this invention, high intensity | strength and favorable workability can be obtained by heat processing on predetermined conditions, and subsequent cold rolling. Since this heat treatment is only a process of maintaining at a predetermined temperature, it can be processed within a rolling process control range, so that a complicated process such as conventional solution treatment, quenching, and tempering is not required. In addition, since the Al-Mg-Si-based alloy has good thermal conductivity and conductivity, an alloy plate having both thermal conductivity, conductivity, strength, and workability can be manufactured in a simple and small process.

본 발명의 방법에 의해 제조된 Al-Mg-Si계 합금판은 상술한 모든 특성이 우수하므로 각종 성형 가공에 이용된다. 예를 들어, 방열 부재 재료, 도전 부재 재료, 케이스 재료, 혹은 반사판 또는 그 지지 부재로서 적합하게 이용된다. 여기서 말하는 방열 부재라 함은, 열교환기나 히트 싱크, 방열핀과 같이 방열을 본래의 목적으로 하는 부재 외에, 플라즈마 디스플레이, 액정 디스플레이, 컴퓨터 등의 전자 제품의 섀시나 알루미늄 베이스 프린트 기판 또는 메탈 코어 프린트 회로 기판과 같이 발열체를 내장 또는 장착하여 주목적 외에 방열성이 요구되는 부재를 포함하는 것이다. 도전 부재로서는, 버스 바아재, 각종 전지 단자재, 연료 전지차 및 하이브리드차용 캐패시터 단자재, 각종 전기 기기의 단자재, 각종 기계 설비의 단자재를 예시할 수 있다. 케이스로서는, 휴대 전화, PDA 등의 전지 케이스 및 하우징, 각종 전자 기기의 하우징을 예시할 수 있다. 본 발명의 합금판은 고강도로 가공성도 우수하므로, 얇아도 케이스로서 충분한 강도가 있어 케이스의 경량화나 소형화가 가능하다. 반사판으로서는, 액정 직하형 백라이트용 광반사판, 액정 엣지 라이트형 유닛용 광반사판, 전기 장식 간판용 반사판을 예시할 수 있다. 또한, 이들 반사판으로서 알루미늄 이외의 소재를 이용하는 경우의 지지 부재로서도 이용된 다. 예를 들어, 올레핀계 중합체, 황산바륨, 탄산칼슘, 산화티탄 등의 무기 충전제를 포함하는 수지 조성물을 발포시킨 다공성 수지 시트를 본 발명의 Al-Mg-Si계 합금판에 적층시킨 반사판을 예시할 수 있다. 상기 다공성 수지 시트는 래미네이션 가공이나 점착 테이프 등에 의해 지지 부재에 적층된다. 또한, 반사판의 소재로서 백색 도료가 이용되는 경우도 있어, 본 발명의 합금판을 지지 부재로 하여 이 지지 부재에 백색 도료에 의해 백색 도포 장착을 실시한 것을 반사판으로서 이용한다. 또한, 방열성, 강도 및 경량성이 요구되는 부재로서, 컴퓨터, 특히 엄격한 소형 경량화가 요구되는 노트형 컴퓨터의 키보드 기판, 히트 스프레더 플레이트, 하우징을 예시할 수 있다. 또한, 각종 강도 부재로서 적합하게 이용된다. The Al-Mg-Si-based alloy sheet produced by the method of the present invention is excellent in all the above-described characteristics, and thus is used in various molding processes. For example, it is suitably used as a heat dissipation member material, a conductive member material, a case material, or a reflecting plate or its supporting member. The heat dissipation member herein refers to a heat dissipation member, an aluminum base printed circuit board or a metal core printed circuit board, as well as a member for which heat dissipation is originally intended, such as a heat exchanger, a heat sink, and a heat dissipation fin. As such, it includes a member that requires heat dissipation in addition to the main purpose by embedding or mounting a heating element. Examples of the conductive member include bus bar materials, various battery terminal materials, capacitor terminal materials for fuel cell vehicles and hybrid vehicles, terminal materials for various electric devices, and terminal materials for various mechanical equipments. Examples of the case include battery cases and housings such as mobile phones and PDAs, and housings of various electronic devices. Since the alloy sheet of the present invention has high strength and excellent workability, even if thin, there is sufficient strength as the case, and the case can be made lighter in weight and smaller in size. As a reflecting plate, the light reflection board for liquid crystal direct type backlights, the light reflection board for liquid crystal edge light type units, and the reflecting plate for electric decoration signboards can be illustrated. Moreover, it is used also as a support member in the case of using materials other than aluminum as these reflecting plates. For example, the reflecting plate which laminated | stacked the porous resin sheet which foamed the resin composition containing inorganic fillers, such as an olefin type polymer, barium sulfate, calcium carbonate, titanium oxide, on the Al-Mg-Si type alloy plate of this invention is illustrated. Can be. The porous resin sheet is laminated on the support member by lamination processing, adhesive tape, or the like. In addition, a white paint may be used as a material of the reflecting plate, and a white coating is applied to the support member by a white paint using the alloy plate of the present invention as a supporting member, and the reflecting plate is used. Moreover, as a member which requires heat dissipation, strength, and light weight, a keyboard board, a heat spreader plate, and a housing of a computer, in particular, a notebook computer requiring strict small size and weight can be exemplified. Moreover, it is used suitably as various strength members.

또한 구체적 용도로서, 플라즈마 디스플레이 배면 섀시재, 플라즈마 디스플레이 하우징 또는 플라즈마 디스플레이 외장 부재 등의 플라즈마 디스플레이 관련 부재, 액정 디스플레이 배면 섀시재, 액정 디스플레이 베젤재, 액정 디스플레이 반사 시트재, 액정 디스플레이 반사 시트 지지재 또는 액정 디스플레이 하우징 등의 액정 디스플레이 관련 부재의 재료를 예시할 수 있다. 또, 상기 플라즈마 디스플레이 배면 섀시재는 방열판을 겸하는 것이다. In addition, as a specific use, a plasma display related member such as a plasma display back chassis material, a plasma display housing or a plasma display exterior member, a liquid crystal display back chassis material, a liquid crystal display bezel material, a liquid crystal display reflection sheet material, a liquid crystal display reflection sheet support material or The material of liquid crystal display related members, such as a liquid crystal display housing, can be illustrated. The plasma display back chassis also serves as a heat sink.

본 발명의 Al-Mg-Si계 합금재는 합금 조성이 상술한 Al-Mg-Si계 합금판과 공통이며, 도전율이 55 내지 60 %(IACS)로 이루어져 우수한 도전성을 갖는 것이다. 또한, 상술한 바와 같이 도전율과 열전도율은 높은 상관성을 나타내는 것이므로 우수한 열전도성을 갖는 것이다. 혹은 또한, 인장 강도가 140 내지 240 N/㎟로 이루어진 것은 강도와 가공성을 겸비한 것이다. 인장 강도가 140 N/㎟ 미만에서는 가 공성이 양호해도 강도가 부족하고, 한 쪽을 240 N/㎟ 초과하면 강도가 향상되어도 가공성이 나빠져 양자의 균형이 저하된다. 이와 같은 Al-Mg-Si계 합금재는, 예를 들어 본 발명의 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법에 의해 제조되고, 열간 압연 후에서 냉간 압연 종료까지의 동안에 소정의 열처리를 실시함으로써 함유 원소의 Fe, Mg, Si를 적절히 석출시키는 효과와, 그 열처리에 의한 회복 재결정화에 의한 그 후의 냉간 가공도의 감소 효과에 의해 상기 범위의 인장 강도가 달성된다. The Al-Mg-Si-based alloying material of the present invention has the same alloy composition as that of the Al-Mg-Si-based alloying plate described above, and has excellent conductivity with 55 to 60% (IACS) of electrical conductivity. In addition, as described above, the electrical conductivity and the thermal conductivity exhibit high correlation, and thus have excellent thermal conductivity. Alternatively, the tensile strength of 140 to 240 N / mm 2 combines strength and workability. If the tensile strength is less than 140 N / mm 2, the strength is insufficient even if the workability is good. If the tensile strength is more than 240 N / mm 2, even if the strength is improved, the workability is deteriorated and the balance of both is lowered. Such Al-Mg-Si type alloy material is manufactured by the manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate of this invention, for example, and is contained by performing predetermined | prescribed heat processing from after hot rolling to completion | finish of cold rolling. The tensile strength in the above range is achieved by the effect of properly depositing Fe, Mg, and Si of the element and the subsequent reduction in cold workability by recovery recrystallization by the heat treatment.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 방법이 대상으로 하는 Al-Mg-Si계 합금은 그 조성을 Si : 0.2 내지 0.8 질량 %, Mg : 0.3 내지 1 질량 %, Fe : 0.5 질량 % 이하, Cu : 0.5 질량 % 이하를 함유하고, 또한 Ti : 0.1 질량 % 이하 또는 B : 0.1 질량 % 이하 중 적어도 1종류를 함유하고, 잔량부 Al 및 불가피 불순물로 이루어지므로 열전도성 및 도전성이 우수하다. 그리고, 이 Al-Mg-Si계 합금 주괴를 열간 압연하고, 또한 냉간 압연하는 공정을 포함하는 합금판의 제조 방법에 있어서, 열간 압연 후에서 냉간 압연 종료까지의 동안에 200 내지 400 ℃로 1시간 이상 유지함으로써 열처리를 행하므로, 열처리 동안에 Mg2Si가 미세하면서 또한 균일하게 석출되는 동시에, 압연 재료 중에 존재하는 가공 왜곡이 감소된다. 그리고, 그 후의 냉간 가공에 의해 가공 경화하여 성형 가공성을 손상시키지 않는 범위에서 높은 강도를 얻을 수 있다. 이 열처리는 소정 온도로 유지만 하는 처리이므로, 압연 공정 관리 범위 내에서 처리할 수 있고, 종래의 용체화 처리, 켄칭, 템퍼링 등의 별도 공정의 복잡한 처리가 필요하지 않고, 열전도성, 도전성, 강도 및 가공성 을 겸비한 합금판을 간단하고 적은 공정으로 제조할 수 있다. As described above, the Al-Mg-Si-based alloy targeted by the method of the present invention has a composition of Si: 0.2 to 0.8% by mass, Mg: 0.3 to 1% by mass, Fe: 0.5% by mass or less, and Cu: 0.5% by mass. It contains% or less, and contains at least one of Ti: 0.1% by mass or less and B: 0.1% by mass or less, and is made of the remaining portion Al and unavoidable impurities, and thus is excellent in thermal conductivity and conductivity. And in the manufacturing method of the alloy plate which includes the process of hot-rolling and cold-rolling this Al-Mg-Si type alloy ingot, it is 1 hour or more at 200-400 degreeC from the time after hot rolling to completion | finish of cold rolling. Since the heat treatment is carried out by holding, Mg 2 Si precipitates finely and uniformly during heat treatment, and at the same time, processing distortion existing in the rolling material is reduced. And high intensity | strength can be obtained in the range which does not work harden by subsequent cold work and does not impair moldability. Since this heat treatment is only a process of maintaining at a predetermined temperature, it can be processed within the rolling process control range, and does not require complicated processing of separate processes such as conventional solution treatment, quenching, and tempering, and does not require thermal conductivity, conductivity, and strength. And alloy plate combines with workability can be produced in a simple and small process.

또한, 합금 주괴에 있어서, 불순물로서의 Mn 및 Cr이 Mn : 0.1 질량 % 이하, Cr : 0.1 질량 % 이하로 규제되어 있는 경우에는, 더욱 열전도성 및 도전성이 우수한 합금판이 될 수 있다. Moreover, in the alloy ingot, when Mn and Cr as impurities are regulated to Mn: 0.1 mass% or less and Cr: 0.1 mass% or less, it can become the alloy plate excellent in thermal conductivity and electroconductivity further.

상기 열처리는 열간 압연 후 냉간 압연 전, 또는 냉간 압연 중 어느 때든지 행해도 상기 효과를 발휘할 수 있다. The said heat treatment can exhibit the said effect even if it carries out after hot rolling, before cold rolling, or any time of cold rolling.

상기 열처리를 220 내지 280 ℃로 1 내지 10시간의 유지로 행하는 경우에는 가장 효율적으로 상기 효과를 발휘할 수 있다. When the heat treatment is carried out at 220 to 280 ° C. for 1 to 10 hours, the effect can be exhibited most efficiently.

또한, 상기 합금 주괴에 대해 500 ℃ 이상으로 균질화 처리를 행하는 경우에는 합금 조직을 균질화시킬 수 있다. Further, when the homogenizing treatment is performed at 500 ° C. or higher on the alloy ingot, the alloy structure can be homogenized.

또한, 상기 열처리 후의 냉간 압연을 20 % 이상, 특히 30 % 이상의 가공도로 행하는 경우에는 가공 경화에 의한 충분한 강도 향상이 달성된다. Moreover, when cold rolling after the said heat processing is performed with 20% or more, especially 30% or more of workability, sufficient strength improvement by work hardening is achieved.

또한, 상기 냉간 압연 종료 후, 200 ℃ 이하, 특히 110 내지 150 ℃로 최종 어닐링을 행함으로써 더욱 강도를 향상시키는 동시에, 신장도 향상시킬 수 있다. 또한 기계적인 모든 성질을 안정시킬 수 있다. Further, after the end of the cold rolling, the final annealing is carried out at 200 ° C. or lower, particularly 110 to 150 ° C., whereby the strength can be further improved and the elongation can be improved. It can also stabilize all mechanical properties.

또한, 상기 열간 압연 전에 재료 온도를 450 내지 580 ℃로 예비 가열하는 경우에는, 재료 중에 정출물 및 Mg, Si가 고체 용융되어 균일한 금속 조직이 되고, 이 상태에서 압연을 개시함으로써 최종 제품의 품질 안정성이 확보된다. In addition, when preheating a material temperature to 450-580 degreeC before the said hot rolling, crystallization substance, Mg, and Si melt | dissolve in a material, and it becomes a uniform metal structure, and rolling starts in this state, and the quality of a final product is carried out. Stability is secured.

또한, 상기 열간 압연의 임의의 패스 공정에 있어서, 패스 전의 재료 온도를 450 내지 350 ℃로 하고, 패스 후에 50 ℃/분 이상으로 냉각하는 경우에는 Mg2Si의 조대 석출물의 발생이 억제되어, 켄칭과 같은 효과를 얻어 최종 제품의 품질을 안정시킬 수 있다. Further, in any pass process of the hot rolling, when the material temperature before the pass to 450 to 350 ℃, cooled to 50 ℃ / min or more later passes, the generation of coarse precipitates of Mg 2 Si is suppressed, and quenched The same effect can be obtained to stabilize the quality of the final product.

상기 합금 주괴에 있어서, Si 함유량이 0.32 내지 0.6 질량 %인 경우에는, 특히 강도와 가공성의 균형이 잡힌 합금판이 될 수 있다. In the alloy ingot, in the case where the Si content is 0.32 to 0.6 mass%, it may be an alloy plate in which strength and workability are in particular balanced.

또한, Mg 함유량이 0.35 내지 0.55 질량 %인 경우에는 특히 강도와 가공성의 균형이 잡힌 합금판이 될 수 있다. Moreover, when Mg content is 0.35 to 0.55 mass%, it can become an alloy plate especially which the balance of strength and workability was balanced.

또한, Fe 함유량이 0.10 내지 0.25 질량 %인 경우에는 가공성이 우수하면서 또한 양호한 내식성도 확보된다. Moreover, when Fe content is 0.10 to 0.25 mass%, it is excellent in workability and also good corrosion resistance is ensured.

또한, Cu 함유량이 0.1 질량 % 이하인 경우에는 가공성이 우수하면서 또한 양호한 내식성도 확보된다. Moreover, when Cu content is 0.1 mass% or less, it is excellent in workability and also favorable corrosion resistance is ensured.

또한, Ti 함유량이 0.005 내지 0.05 질량 %인 경우에는 특히 양호한 가공성, 열전도성 및 도전성이 확보된다. In addition, when Ti content is 0.005 to 0.05 mass%, especially favorable workability, thermal conductivity, and electroconductivity are ensured.

또한, B 함유량이 0.06 질량 % 이하인 경우에는 특히 양호한 가공성, 열전도성 및 도전성이 확보된다. Moreover, when B content is 0.06 mass% or less, especially favorable workability, thermal conductivity, and electroconductivity are ensured.

또한, 불순물로서의 Mn 함유량이 0.05 질량 % 이하로 규제되어 있는 경우에는 특히 우수한 열전도성 및 도전성이 확보된다. In addition, when Mn content as an impurity is regulated to 0.05 mass% or less, especially excellent thermal conductivity and electroconductivity are ensured.

또한, 불순물로서의 Cr 함유량이 0.05 질량 % 이하로 규제되어 있는 경우에는 특히 우수한 열전도성 및 도전성이 확보된다. Moreover, when Cr content as an impurity is regulated to 0.05 mass% or less, especially the outstanding thermal conductivity and electroconductivity are ensured.                 

본 발명의 Al-Mg-Si계 합금재는 상기 조성의 합금이고, 도전율이 55 내지 60 %(IACS)이므로 우수한 열전도성 및 도전성을 갖는다. The Al-Mg-Si-based alloying material of the present invention is an alloy having the above composition, and has an excellent thermal conductivity and conductivity because the electrical conductivity is 55 to 60% (IACS).

또한, 인장 강도가 140 내지 240 N/㎟인 경우에는 강도와 가공성을 겸비한다. Moreover, when tensile strength is 140-240 N / mm <2>, it combines strength and workability.

또한, 합금에 있어서, 불순물로서의 Mn 및 Cr이 Mn : 0.1 질량 % 이하, Cr : 0.1 질량 % 이하로 규제되어 있는 경우에는, 더욱 열전도성 및 도전성이 우수한 합금재 판이 될 수 있다. Further, in the alloy, when Mn and Cr as impurities are regulated to Mn: 0.1% by mass or less and Cr: 0.1% by mass or less, the alloy plate can be further excellent in thermal conductivity and conductivity.

본 발명의 Al-Mg-Si계 합금판은 상술한 방법으로 제조된 것이므로, 열전도성, 도전성, 강도 및 가공성이 우수하다. Since the Al-Mg-Si type alloy plate of this invention was manufactured by the above-mentioned method, it is excellent in thermal conductivity, electroconductivity, strength, and workability.

또한, 상기 Al-Mg-Si계 합금판은 방열 부재 재료, 도전 부재 재료, 케이스 재료, 혹은 반사판 또는 그 지지 부재로서 적합하게 이용되고, 다양한 성형 가공이 실시되어 상술한 모든 특성을 발휘한다. In addition, the Al-Mg-Si-based alloy plate is suitably used as a heat dissipation member material, a conductive member material, a case material, a reflector or a support member thereof, and various molding processes are performed to exhibit all the above-described characteristics.

또한, Al-Mg-Si계 합금판은 플라즈마 디스플레이 배면 섀시재, 플라즈마 디스플레이 하우징 또는 플라즈마 디스플레이 외장 부재로서 적합하게 이용되고, 다양한 성형 가공이 실시되어 상술한 모든 특성을 발휘한다. In addition, the Al-Mg-Si-based alloy plate is suitably used as the plasma display back chassis material, the plasma display housing, or the plasma display exterior member, and various molding processes are performed to exhibit all the above-described characteristics.

또한, Al-Mg-Si계 합금판은 액정 디스플레이 배면 섀시재, 액정 디스플레이 베젤재, 액정 디스플레이 반사 시트재, 액정 디스플레이 반사 시트 지지재 또는 액정 디스플레이 하우징으로서 적합하게 이용되고, 다양한 성형 가공이 실시되어 상술한 모든 특성을 발휘한다. Moreover, Al-Mg-Si type alloy plate is suitably used as a liquid crystal display back chassis material, a liquid crystal display bezel material, a liquid crystal display reflection sheet material, a liquid crystal display reflection sheet support material, or a liquid crystal display housing, and various molding processes are performed, It exhibits all the above-mentioned characteristics.

우선, 뒤에 게재하는 표1 내지 표5에 나타내는 각 조성 합금을 통상 방법에 의해 연속 주조하여 슬래브를 제작하였다. 이 슬래브에 대해 580 ℃ × 10시간의 균질화 처리를 실시하거나, 혹은 균질화 처리하는 일 없이 면삭하였다. 이들 표에 나타내는 합금 조성에 있어서, 제1 내지 55 실시예 및 제1 내지 10 비교예는 불순물로서의 Mn 함유량 및 Cr 함유량은 모두 0.1 질량 % 미만이고, 다른 불순물 원소는 모두 0.05 질량 % 이하이다. 또한, 표4에 있어서의 제60A와 60B 실시예는 Mn 함유량 및 Cr 함유량만이 다르고, 그 밖의 원소의 함유량은 공통이고, 후술하는 제조 공정도 공통이다. 마찬가지로, 제61A 및 61B, 62A 및 62B, 63A 및 63B 실시예는 Mn 함유량 및 Cr 함유량만이 다르다. 또한, 표4의 각 실시예에 있어서의 다른 불순물 원소는 모두 0.O5 질량 % 이하였다. First, each composition alloy shown in Tables 1-5 shown later was continuously cast by the normal method, and the slab was produced. The slab was subjected to a homogenization treatment at 580 ° C. for 10 hours, or faced without performing the homogenization treatment. In the alloy compositions shown in these tables, in Examples 1 to 55 and Comparative Examples 1 to 10, both the Mn content and the Cr content as impurities are less than 0.1 mass%, and all other impurity elements are 0.05 mass% or less. In addition, in Example 60A and 60B of Table 4, only Mn content and Cr content differ, content of other elements is common, and the manufacturing process mentioned later is also common. Similarly, the 61A and 61B, 62A and 62B, 63A and 63B embodiments differ only in Mn content and Cr content. In addition, all the other impurity elements in each Example of Table 4 were 0.1 mass% or less.

제1, 3 내지 9, 11 내지 19, 21 내지 24, 26, 28 내지 34, 36 내지 44, 46 내지 49, 51, 52, 54, 55, 60A 내지 62B 실시예 및 제6 내지 9 비교예에 대해서는 도1a에 나타내는 공정에서 합금판을 제작하여 시험재로 하였다. 1, 3 to 9, 11 to 19, 21 to 24, 26, 28 to 34, 36 to 44, 46 to 49, 51, 52, 54, 55, 60A to 62B Examples and 6 to 9 Comparative Examples In the process shown in Fig. 1A, an alloy plate was produced to obtain a test material.

즉, 상기 슬래브를 표1 내지 표5에 나타내는 온도로 예비 가열하고, 상기 온도에서 열간 압연을 개시하였다. 그리고, 열간 조압연의 최종 패스 공정에 있어서, 패스 전의 재료 온도를 400 ℃로 하고, 패스 후 80 ℃/분의 속도로 냉각하였다. That is, the slab was preheated to the temperature shown in Tables 1 to 5, and hot rolling was started at the temperature. And in the final pass process of hot rough rolling, the material temperature before a pass was made into 400 degreeC, and it cooled at the speed of 80 degreeC / min after a pass.

계속해서, 상기 열간 압연판에 대해 표1 내지 표5에 나타내는 온도와 시간으로 유지하여 열처리를 실시하고, 표1 내지 표5에 나타내는 가공도로 냉간 압연하였다. Subsequently, heat treatment was performed for the hot rolled sheet at the temperature and time shown in Tables 1 to 5, and cold rolling was performed to the workability shown in Tables 1 to 5.

또한, 제3 및 제28 실시예에 대해서는 130 ℃로 4시간의 최종 어닐링을 행하 고, 그 밖에는 최종 어닐링을 행하지 않았다. In addition, in the 3rd and 28th Examples, final annealing was carried out at 130 ° C. for 4 hours, and final annealing was not performed elsewhere.

또한, 제2, 10, 20, 25, 27, 35, 45, 50, 53, 63A, 63B 실시예 및 제10 비교예에 대해서는, 도1b에 나타내는 공정에서 합금판을 제작하였다. In addition, about the 2nd, 10, 20, 25, 27, 35, 45, 50, 53, 63A, 63B Example, and the 10th comparative example, the alloy plate was produced at the process shown in FIG. 1B.

즉, 상기 슬래브를 표1 내지 표5에 나타내는 온도로 예비 가열하고, 상기 온도에서 열간 압연을 개시하였다. 그리고, 열간 조압연의 최종 패스 공정에 있어서, 패스 전의 재료 온도를 400 ℃로 하고, 패스 후 80 ℃/분의 속도로 냉각하였다. That is, the slab was preheated to the temperature shown in Tables 1 to 5, and hot rolling was started at the temperature. And in the final pass process of hot rough rolling, the material temperature before a pass was made into 400 degreeC, and it cooled at the speed of 80 degreeC / min after a pass.

계속해서, 상기 열간 압연판에 대해 3패스의 냉간 압연을 행한 후, 표1 내지 표4에 나타내는 온도와 시간으로 유지하여 열처리를 실시하였다. 그 후, 표1 내지 표5에 나타내는 가공도로 냉간 압연하였다. Subsequently, after performing 3-pass cold rolling with respect to the said hot rolled sheet, it heat-processed, maintaining at the temperature and time shown to Tables 1-4. Then, it cold-rolled to the workability shown in Tables 1-5.

또한, 제10 및 35 실시예에 대해서는 130 ℃로 4시간의 최종 어닐링을 행하고, 그 밖에는 최종 어닐링을 행하지 않았다. In the tenth and thirty-fifth embodiments, the final annealing was carried out at 130 ° C. for 4 hours, and the final annealing was not performed elsewhere.

제1 내지 5 비교예에 대해서는, 시판된 압연판 또는 압출형재를 시험재로 하였다. In Comparative Examples 1 to 5, a commercially available rolled plate or an extruded shape member was used as a test material.

이렇게 얻게 된 각 시험재에 대해, 인장 강도, 열전도율, 도전율, 가공성을 다음의 방법에 의해 평가하였다. 평가 결과를 표1 내지 표5에 아울러 나타낸다. About each test material thus obtained, tensile strength, thermal conductivity, electrical conductivity, and workability were evaluated by the following method. The evaluation results are combined with Tables 1-5.

인장 강도는 JIS 5호 시험 부재에 대해, 상온에서 통상 방법에 의해 측정하였다. Tensile strength was measured by the normal method at the normal temperature with respect to the JIS No. 5 test member.

열전도율은 25 ℃로 레이저 플래시법에 의해 측정하였다. The thermal conductivity was measured at 25 ° C. by the laser flash method.

도전율은 IACS(20 ℃)를 기초로 하여 측정하였다. IACS라 함은, 국제적으로 채택된 어닐링 표준 연동인 것을 가리킨다. 그 체적 저항률은 1.7241 × 10-2 μΩm이고, 이를 100 % IACS로 나타낸다. Electrical conductivity was measured based on IACS (20 degreeC). IACS refers to interworking with internationally adopted annealing standards. Its volume resistivity is 1.7241 × 10 −2 μΩm, which is expressed as 100% IACS.

가공성은 JIS Z 2248 금속 재료 굽힘 시험 방법의 5.3 V 블럭법에 의한 90도 굽힘으로, 굽힘 내측 반경 r = 0 ㎜에 의해 판정하였다. 판정 구분은 다음과 같다. Workability was 90 degree bending by the 5.3V block method of JISZ2248 metal material bending test method, and was determined by bending inner radius r = 0mm. Judgment classification is as follows.

○ : 양호○: good

△ : 약간 균열이 발생함△: slight cracking

× : 균열이 발생함. X: A crack generate | occur | produces.                 

Figure 112004039222499-pct00001
Figure 112004039222499-pct00001

Figure 112004039222499-pct00002
Figure 112004039222499-pct00002

Figure 112004039222499-pct00003
Figure 112004039222499-pct00003

Figure 112004039222499-pct00004
Figure 112004039222499-pct00004

Figure 112004039222499-pct00005
Figure 112004039222499-pct00005

표1 내지 표5의 결과로부터, 본 발명의 조건으로 열처리함으로써 순알루미늄에 필적하는 높은 열전도성, 도전성과, JIS 5052 합금 및 6063 합금에 필적하는 높은 강도를 겸비한 알루미늄 합금판을 얻을 수 있는 것을 확인할 수 있었다. 또한, 가공성도 양호했다. From the results of Tables 1 to 5, it was confirmed that by heat treatment under the conditions of the present invention, an aluminum alloy plate having high thermal conductivity and conductivity comparable to pure aluminum and high strength comparable to JIS 5052 alloy and 6063 alloy can be obtained. Could. Moreover, workability was also favorable.

여기에 이용된 용어 및 표현은 설명을 위해 이용된 것이며, 한정적으로 해석하기 위해 이용된 것은 아니고, 여기에 나타내고 또한 서술된 특징 사항의 어떠한 균등물도 배제하는 것은 아니며, 본 발명의 청구된 범위 내에 있어서의 각종 변형도 허용되는 것으로 인식되어야만 한다. The terms and expressions used herein are for the purpose of description and are not intended to be limiting, and do not exclude any equivalents of the features shown and described herein, and are intended to be within the scope of the claimed subject matter. It should also be appreciated that various variations of.

본 발명의 제조 방법에 따르면, 열간 압연 후에서 냉간 압연 종료까지의 동안에 열처리를 실시하는 간단한 공정에 의해 열전도성, 도전성, 강도 및 가공성이 우수한 Al-Mg-Si계 합금판을 제조할 수 있다. 이로 인해, 이들의 특성이 요구되는 각종 부재의 제조에 있어서, 간단한 공정으로 이들 부재의 성능 향상을 도모할 수 있다. 또한, 본 발명의 Al-Mg-Si계 합금재는 열전도성, 도전성, 강도 및 가공성이 우수한 것으로, 이들의 특성이 요구되는 각종 부재의 재료로서 광범위하게 이용할 수 있다. According to the production method of the present invention, an Al-Mg-Si alloy plate having excellent thermal conductivity, conductivity, strength, and workability can be produced by a simple step of performing heat treatment from after hot rolling to the end of cold rolling. For this reason, in the manufacture of the various members for which these characteristics are calculated | required, the performance improvement of these members can be aimed at by a simple process. Moreover, the Al-Mg-Si type alloy material of this invention is excellent in thermal conductivity, electroconductivity, strength, and workability, and can be used extensively as a material of various members for which these characteristics are calculated | required.

Claims (27)

Si : 0.32 내지 0.6 질량 %, Mg : 0.3 내지 1 질량 %, Fe : 0.5 질량 % 이하, Cu : 0.5 질량 % 이하를 함유하고, 또한 Ti : 0.1 질량 % 이하 또는 B : 0.1 질량 % 이하 중 적어도 1종류를 함유하고, 잔량부 Al 및 불가피 불순물로 이루어지는 Al-Mg-Si계 합금 주괴를 열간 압연하고, 또한 냉간 압연하는 공정을 포함하는 합금판의 제조 방법이며, Si: 0.32-0.6 mass%, Mg: 0.3-1 mass%, Fe: 0.5 mass% or less, Cu: 0.5 mass% or less, and Ti: 0.1 mass% or less or B: 0.1 mass% or less at least 1 It is a manufacturing method of the alloy plate containing the kind, including the process of hot-rolling and cold-rolling the Al-Mg-Si type alloy ingot which consists of remainder part Al and an unavoidable impurity, 열간 압연 후에서 냉간 압연 종료까지의 동안에 200 내지 400 ℃로 1시간 이상 유지함으로써 열처리를 행하여 Mg2Si를 미세하면서 균일하게 석출시키는 동시에 가공 왜곡을 감소시키고, 또한 냉각 압연 후에 용체화 처리를 행하지 않는 것을 특징으로 하는 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법.The heat treatment is carried out by maintaining the temperature at 200 to 400 ° C. for at least 1 hour after the hot rolling to the end of the cold rolling to precipitate Mg 2 Si finely and uniformly while reducing processing distortion and not performing solution treatment after cold rolling. The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서, 합금 주괴에 있어서 불순물로서의 Mn 및 Cr이 Mn : 0.1 질량 % 이하, Cr : 0.1 질량 % 이하로 규제되어 있는 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. The method for producing an Al-Mg-Si alloy plate according to claim 1, wherein Mn and Cr as impurities in the alloy ingot are regulated to Mn: 0.1 mass% or less and Cr: 0.1 mass% or less. 제1항 또는 제2항에 있어서, 열처리는 열간 압연 후 냉간 압연 전에 행하는 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. The method for producing an Al-Mg-Si alloy plate according to claim 1 or 2, wherein the heat treatment is performed after hot rolling and before cold rolling. 제1항 또는 제2항에 있어서, 열처리는 냉간 압연 중에 행하는 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. The method for producing an Al-Mg-Si alloy plate according to claim 1 or 2, wherein the heat treatment is performed during cold rolling. 제1항 또는 제2항에 있어서, 열처리는 220 내지 280 ℃로 1 내지 10시간 유지함으로써 행하는 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. The method for producing an Al-Mg-Si alloy plate according to claim 1 or 2, wherein the heat treatment is performed by maintaining the temperature at 220 to 280 ° C for 1 to 10 hours. 제1항 또는 제2항에 있어서, 합금 주괴에 대해 500 ℃ 이상으로 균질화 처리를 행하는 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate of Claim 1 or 2 which homogenizes at 500 degreeC or more with respect to an alloy ingot. 제1항 또는 제2항에 있어서, 열처리 후의 냉간 압연을 20 % 이상의 가공도로 행하는 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate of Claim 1 or 2 which performs cold rolling after heat processing with 20% or more of workability. 제7항에 있어서, 가공도는 30 % 이상인 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate of Claim 7 whose workability is 30% or more. 제1항 또는 제2항에 있어서, 냉간 압연 종료 후, 200 ℃ 이하로 최종 어닐링을 행하는 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate of Claim 1 or 2 which performs final annealing at 200 degrees C or less after completion | finish of cold rolling. 제9항에 있어서, 최종 어닐링은 110 내지 150 ℃로 행하는 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. The method for producing an Al-Mg-Si alloy plate according to claim 9, wherein the final annealing is performed at 110 to 150 ° C. 제1항 또는 제2항에 있어서, 열간 압연 전에 재료 온도를 450 내지 580 ℃로 예비 가열하는 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. The manufacturing method of the Al-Mg-Si type-alloy plate of Claim 1 or 2 which preheats a material temperature to 450-580 degreeC before hot rolling. 제1항 또는 제2항에 있어서, 열간 압연의 임의의 패스 공정에 있어서, 패스 전의 재료 온도를 450 내지 350 ℃로 하고, 패스 후의 냉각 속도를 50 ℃/분 이상으로 하는 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. The Al-Mg-Si system according to claim 1 or 2, wherein in any pass step of hot rolling, the material temperature before the pass is 450 to 350 ° C and the cooling rate after the pass is 50 ° C / min or more. Method for producing an alloy plate. 삭제delete 제1항 또는 제2항에 있어서, 합금 주괴 중 Mg 함유량은 0.35 내지 0.55 질량 %인 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. The method for producing an Al-Mg-Si alloy plate according to claim 1 or 2, wherein the Mg content in the alloy ingot is 0.35 to 0.55 mass%. 제1항 또는 제2항에 있어서, 합금 주괴 중 Fe 함유량은 0.1 내지 0.25 질량 %인 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate of Claim 1 or 2 whose Fe content in an alloy ingot is 0.1-0.25 mass%. 제1항 또는 제2항에 있어서, 합금 주괴 중 Cu 함유량은 0.1 질량 % 이하인 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate of Claim 1 or 2 whose Cu content in an alloy ingot is 0.1 mass% or less. 제1항 또는 제2항에 있어서, 합금 주괴 중 Ti 함유량은 0.005 내지 0.05 질량 %인 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate of Claim 1 or 2 whose Ti content in an alloy ingot is 0.005-0.05 mass%. 제1항 또는 제2항에 있어서, 합금 주괴 중 B 함유량은 0.06 질량 % 이하인 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법.The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate of Claim 1 or 2 whose B content in an alloy ingot is 0.06 mass% or less. 제2항에 있어서, 합금 주괴 중 Mn 함유량은 0.05 질량 % 이하로 규제되어 있는 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법.The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate of Claim 2 whose Mn content in an alloy ingot is regulated to 0.05 mass% or less. 제2항에 있어서, 합금 주괴 중 Cr 함유량은 0.05 질량 % 이하로 규제되어 있는 Al-Mg-Si계 합금판의 제조 방법. The manufacturing method of the Al-Mg-Si type alloy plate of Claim 2 whose Cr content in an alloy ingot is regulated to 0.05 mass% or less. Si : 0.32 내지 0.6 질량 %, Mg : 0.3 내지 1 질량 %, Fe : 0.5 질량 % 이하, Cu : 0.5 질량 % 이하를 함유하고, 또한 Ti : 0.1 질량 % 이하 또는 B : 0.1 질량 % 이하 중 적어도 1종류를 함유하고, 잔량부 Al 및 불가피 불순물로 이루어지고, 도전율이 55 내지 60 %(IACS)인 것을 특징으로 하는 Al-Mg-Si계 합금재. Si: 0.32-0.6 mass%, Mg: 0.3-1 mass%, Fe: 0.5 mass% or less, Cu: 0.5 mass% or less, and Ti: 0.1 mass% or less or B: 0.1 mass% or less at least 1 An Al-Mg-Si-based alloy material containing a kind, comprising a remainder part Al and unavoidable impurities, and having a conductivity of 55 to 60% (IACS). 제21항에 있어서, 인장 강도가 140 내지 240 N/㎟인 Al-Mg-Si계 합금재. The Al-Mg-Si-based alloy material according to claim 21, wherein the tensile strength is 140 to 240 N / mm 2. 제21항 또는 제22항에 있어서, 불순물로서의 Mn 및 Cr이 Mn : 0.1 질량 % 이하, Cr : 0.1 질량 % 이하로 규제되어 있는 Al-Mg-Si계 합금재. The Al-Mg-Si-based alloy material according to claim 21 or 22, wherein Mn and Cr as impurities are regulated to Mn: 0.1 mass% or less and Cr: 0.1 mass% or less. 제1항 또는 제2항에 기재된 방법으로 제조된 Al-Mg-Si계 합금판. The Al-Mg-Si type alloy plate manufactured by the method of Claim 1 or 2. 제24항에 있어서, Al-Mg-Si계 합금판은 방열 부재 재료, 도전 부재 재료, 케이스 재료, 혹은 반사판 또는 그 지지 부재인 Al-Mg-Si계 합금판. The Al-Mg-Si-based alloy plate according to claim 24, wherein the Al-Mg-Si-based alloy plate is a heat radiating member material, a conductive member material, a case material, or a reflecting plate or a supporting member thereof. 제24항에 있어서, Al-Mg-Si계 합금판은 플라즈마 디스플레이 배면 섀시재, 플라즈마 디스플레이 하우징 또는 플라즈마 디스플레이 외장 부재인 Al-Mg-Si계 합금판. The Al-Mg-Si-based alloy plate according to claim 24, wherein the Al-Mg-Si-based alloy plate is a plasma display back chassis material, a plasma display housing, or a plasma display exterior member. 제24항에 있어서, Al-Mg-Si계 합금판은 액정 디스플레이 배면 섀시재, 액정 디스플레이 베젤재, 액정 디스플레이 반사 시트재, 액정 디스플레이 반사 시트 지지재 또는 액정 디스플레이 하우징인 Al-Mg-Si계 합금판. The Al-Mg-Si-based alloy according to claim 24, wherein the Al-Mg-Si-based alloy plate is a liquid crystal display back chassis material, a liquid crystal display bezel material, a liquid crystal display reflection sheet material, a liquid crystal display reflection sheet support material, or a liquid crystal display housing. plate.
KR1020047013535A 2002-03-01 2003-02-28 PROCESS FOR PRODUCING Al-Mg-Si ALLOY PLATE, Al-Mg-Si ALLOY PLATE AND Al-Mg-Si ALLOY MATERIAL KR100686657B1 (en)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2002-00055392 2002-03-01
JP2002055392 2002-03-01
US37450002P 2002-04-23 2002-04-23
US60/374,500 2002-04-23
JPJP-P-2003-00052621 2003-02-28
PCT/JP2003/002379 WO2003074750A1 (en) 2002-03-01 2003-02-28 PROCESS FOR PRODUCING Al-Mg-Si ALLOY PLATE, Al-Mg-Si ALLOY PLATE AND Al-Mg-Si ALLOY MATERIAL
JP2003052621A JP4739654B2 (en) 2002-03-01 2003-02-28 Method for producing Al-Mg-Si alloy plate and Al-Mg-Si alloy plate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040081812A KR20040081812A (en) 2004-09-22
KR100686657B1 true KR100686657B1 (en) 2007-02-27

Family

ID=29552184

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020047013535A KR100686657B1 (en) 2002-03-01 2003-02-28 PROCESS FOR PRODUCING Al-Mg-Si ALLOY PLATE, Al-Mg-Si ALLOY PLATE AND Al-Mg-Si ALLOY MATERIAL

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4739654B2 (en)
KR (1) KR100686657B1 (en)
AT (1) ATE507316T1 (en)
DE (1) DE60336891D1 (en)

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5254764B2 (en) * 2002-03-01 2013-08-07 昭和電工株式会社 Al-Mg-Si alloy material
KR20060134375A (en) * 2005-06-22 2006-12-28 삼성전자주식회사 Backlight assembly and display device provided with the same
JP4777487B1 (en) * 2008-08-11 2011-09-21 住友電気工業株式会社 Method for manufacturing aluminum alloy wire
JP4787885B2 (en) * 2008-08-11 2011-10-05 住友電気工業株式会社 Wire harness for wire harness and wire harness for automobile
JP5247584B2 (en) * 2009-05-14 2013-07-24 株式会社フジクラ Al alloy and Al alloy conductive wire
SE534689C2 (en) * 2009-09-17 2011-11-15 Sapa Heat Transfer Ab Soldered aluminum sheet
JP5542472B2 (en) * 2010-02-17 2014-07-09 株式会社東芝 Battery component, battery pack, and battery pack manufacturing method
JP5490594B2 (en) * 2010-03-31 2014-05-14 Jx日鉱日石金属株式会社 Cu-Zn alloy strip for battery connection tab material
JP5555580B2 (en) * 2010-09-15 2014-07-23 株式会社Uacj Aluminum alloy excellent in thermal conductivity, strength and formability and method for producing the same
JP5586502B2 (en) * 2011-02-18 2014-09-10 三協立山株式会社 Method for producing extruded aluminum alloy
WO2013147270A1 (en) 2012-03-29 2013-10-03 古河電気工業株式会社 Aluminum alloy wire and process for producing same
CN104297300A (en) * 2014-10-23 2015-01-21 西南铝业(集团)有限责任公司 Method for determining head and tail reference saw cutting quantity of aluminum alloy round ingot
JP2017082281A (en) * 2015-10-27 2017-05-18 昭和電工パッケージング株式会社 Small sized electronic device case, molding method thereof and aluminum alloy rolled laminate sheet material for small sized electronic device case
JP2017179457A (en) * 2016-03-30 2017-10-05 昭和電工株式会社 Al-Mg-Si-BASED ALLOY MATERIAL
CN108884542B (en) * 2016-03-30 2022-03-01 堺铝业株式会社 Method for producing Al-Mg-Si alloy sheet
JP2017179456A (en) * 2016-03-30 2017-10-05 昭和電工株式会社 Al-Mg-Si-BASED ALLOY MATERIAL
JP6774200B2 (en) * 2016-03-30 2020-10-21 昭和電工株式会社 Manufacturing method of Al-Mg-Si based alloy plate
JP2017179454A (en) * 2016-03-30 2017-10-05 昭和電工株式会社 MANUFACTURING METHOD OF Al-Mg-Si-BASED ALLOY SHEET
JP2017179452A (en) * 2016-03-30 2017-10-05 昭和電工株式会社 MANUFACTURING METHOD OF Al-Mg-Si-BASED ALLOY SHEET
JP2017179451A (en) * 2016-03-30 2017-10-05 昭和電工株式会社 MANUFACTURING METHOD OF Al-Mg-Si-BASED ALLOY SHEET
JP2017179450A (en) * 2016-03-30 2017-10-05 昭和電工株式会社 MANUFACTURING METHOD OF Al-Mg-Si-BASED ALLOY SHEET
WO2017168891A1 (en) * 2016-03-30 2017-10-05 昭和電工株式会社 Method for producing al-mg-si alloy plate
JP6774199B2 (en) * 2016-03-30 2020-10-21 昭和電工株式会社 Manufacturing method of Al-Mg-Si based alloy plate
WO2017204576A1 (en) * 2016-05-25 2017-11-30 한국기계연구원 Method for producing working material using aluminum alloy
KR101792799B1 (en) 2016-05-25 2017-11-20 한국기계연구원 Manufacturing method of wrought materials using aluminum alloy
CN110475885B (en) * 2017-03-29 2021-08-24 古河电气工业株式会社 Aluminum alloy material, and conductive member, battery member, fastening member, spring member, and structural member using same
KR101979344B1 (en) * 2017-09-14 2019-08-28 한국기계연구원 Methods of treating aluminum alloy
JP7007884B2 (en) * 2017-12-12 2022-02-10 昭和電工株式会社 Case and its manufacturing method
CN110373579A (en) * 2019-08-14 2019-10-25 上海应用技术大学 A kind of high conductive high strength aluminum alloy materials and preparation method thereof
JP7442304B2 (en) 2019-11-25 2024-03-04 堺アルミ株式会社 Aluminum alloy rolled material with excellent thermal conductivity, electrical conductivity, and strength, and its manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
KR20040081812A (en) 2004-09-22
JP2003321755A (en) 2003-11-14
DE60336891D1 (en) 2011-06-09
JP4739654B2 (en) 2011-08-03
ATE507316T1 (en) 2011-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100686657B1 (en) PROCESS FOR PRODUCING Al-Mg-Si ALLOY PLATE, Al-Mg-Si ALLOY PLATE AND Al-Mg-Si ALLOY MATERIAL
US7189294B2 (en) Al-Mg-Si series alloy plate, method for manufacturing the same and Al-Mg-Si series alloy material
JP5254764B2 (en) Al-Mg-Si alloy material
JP2007009262A (en) Aluminum alloy sheet with excellent thermal conductivity, strength and bendability and its manufacturing method
WO2017168890A1 (en) Al-mg-si-based alloy material, al-mg-si-based alloy plate, and method for manufacturing al-mg-si-based alloy plate
JP6695725B2 (en) Al-Mg-Si alloy plate
JP5555580B2 (en) Aluminum alloy excellent in thermal conductivity, strength and formability and method for producing the same
JP2020033605A (en) Al-Mg-Si-BASED ALLOY SHEET
JP2017179454A (en) MANUFACTURING METHOD OF Al-Mg-Si-BASED ALLOY SHEET
JP2017179453A (en) MANUFACTURING METHOD OF Al-Mg-Si-BASED ALLOY SHEET
JP6718276B2 (en) Method for manufacturing Al-Mg-Si alloy plate
JP2021105198A (en) Rolled aluminum alloy material having excellent thermal conductivity, conductivity and strength and method for producing the same
JP2017179452A (en) MANUFACTURING METHOD OF Al-Mg-Si-BASED ALLOY SHEET
JP2020033607A (en) Al-Mg-Si-BASED ALLOY SHEET
CN108884542B (en) Method for producing Al-Mg-Si alloy sheet
JP2008248297A (en) Rolled aluminum alloy sheet with excellent thermal conductivity, strength and bendability, and its manufacturing method
US20040118493A1 (en) A1-Mg-Si series alloy plate excellent in thermal conductivity and strength, and method of manufacturing the same
JP2017179443A (en) Al-Mg-Si-BASED ALLOY MATERIAL
JP2017179444A (en) Al-Mg-Si-BASED ALLOY SHEET
JP6774198B2 (en) Al-Mg-Si based alloy plate
JP6718275B2 (en) Method for manufacturing Al-Mg-Si alloy plate
JP2020033609A (en) Al-Mg-Si-BASED ALLOY SHEET
JP6774200B2 (en) Manufacturing method of Al-Mg-Si based alloy plate
JP2021085040A (en) Rolled aluminum alloy material having excellent thermal conductivity, electrical conductivity and strength and method for producing the same
JP2017179451A (en) MANUFACTURING METHOD OF Al-Mg-Si-BASED ALLOY SHEET

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130118

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140117

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150119

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160119

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170119

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180202

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190130

Year of fee payment: 13

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200205

Year of fee payment: 14