KR100673348B1 - 헤테로방향족카르복실산의아릴아미드의제조방법 - Google Patents

헤테로방향족카르복실산의아릴아미드의제조방법 Download PDF

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Abstract

일반 화학식 1:
Figure pat00001
[여기서 An 은 질소 또는 CRn (n = 1-5) 으로서, 고리 멤버들의 적어도 하나가 질소이고 두 개의 질소 원자들이 서로 직접 결합되어 있지 아니함을 조건부로 하며; R1 내지 R5 는, 존재하는 경우, 서로 독립적으로 수소, C1-4-알킬 또는 아릴이고, 이때 치환기들 R1 내지 R5 의 하나는 화학식 -OR (여기서 R 은 경우에 따라 치환되는 방향족 또는 헤테로방향족 라디칼임) 의 기이며; R6 는 수소 또는 C1-4-알킬이며; 그리고 R7 은 경우에 따라 치환되는 방향족 또는 헤테로방향족 라디칼임] 의 헤테로방향족 카르복실산들의 아릴아미드의 제조 방법이 기술된다. 상기 아미드들은 팔라듐 디포스핀 복합체의 존재하에서 해당하는 헤테로방향족 할로겐 화합물, 해당하는 방향족 아민 및 일산화 탄소로부터 얻어진다.
이 계열의 화합물들은 중요한 제초제가 된다.

Description

헤테로방향족 카르복실산의 아릴아미드의 제조 방법
본 발명은 촉매 및 염기 존재하에서의 헤테로방향족 할로겐 화합물과 일산화탄소 및 방향족 아민간의 반응에 의한 헤테로방향족 카르복실산의 아릴아미드의 제조 방법에 관한 것이다. 그것은 또한 헤테로방향족 디할로겐 화합물과 방향족 또는 헤테로방향족 히드록실 화합물간의 반응으로 (헤테로)아릴옥시-치환형의 헤테로 방향족 모노할로겐 화합물을 얻은 다음, 이 화합물을 촉매 및 염기의 존재하에 일산화 탄소 및 방향족 아민과 반응시켜, 헤테로방향족 고리상의 치환기로서 아릴옥시 또는 헤테로아릴옥시를 갖는 헤테로방향족 카르복실산의 아릴아미드를 제조하는 방법에 관한 것이기도 하다.
본 발명에 따라 제조될 수가 있는 아미드들은 일반 화학식 1:
[화학식 1]
Figure pat00002
[여기서: A1 은 질소 또는 CR1 이며,
A2 는 질소 또는 CR2 이고,
A3 는 질소 또는 CR3 이며,
A4 는 질소 또는 CR4 이고 A5 는 질소 또는 CR5 이며,
고리 멤버들 A1 내지 A5 의 적어도 하나는 질소이고 두 개의 질소 원자들은 서로 직접 결합되어 있지 아니함을 조건부로 하며;
R1 내지 R5 는, 존재하는 경우, 서로 독립적으로 수소, C1-4-알킬 또는 아릴이고, 이때 치환기들 R1 내지 R5 의 하나는 화학식 -OR (여기서 R 은 경우에 따라서는 치환된 방향족 또는 헤테로방향족 라디칼임) 의 기이며;
R6 는 수소 또는 C1-4-알킬이며; 그리고
R7 은 경우에 따라서는 치환된 방향족 또는 헤테로방향족 라디칼임] 을 갖는다.
상기 아미드들에는 특히 피리딘-, 피리미딘-, 피라진- 및 1,3,5-트리아진-카르복실산들 등이 있다.
이 구조의 수많은 화합물들, 특히 치환기들 R1 내지 R5 가 고리 질소 원자에 인접한 아릴옥시기 (-OR) 인 것들은 중요한 제초제들이 된다 (WO-A 94/27974 호, EP-A 0 053 011 호, EP-A 0 447 004 호). 이들 알려진 화합물들은 해당하는 카르복실산들이나 카르복실산 유도체들 (산 염화물들, 에스테르들, 니트릴들) 로부터 합성되는 것이 통상적이나, 이들은 종종 얻기가 어려우며 따라서 비용이 많이 드는 면은 있다.
본 발명의 목적은 따라서 보다 용이하게 얻을 수 있는 추출물들을 바탕으로 하는 대체 방법을 제공하는 것이었다.
본 발명에 따르면, 이러한 목적은 특허청구항 1 과 13 의 방법들에 의해서 달성된다.
팔라듐과 일반 화학식 4:
의 디포스핀과의 복합체가 촉매로서 존재하는 경우에 일반 화학식 2:
Figure pat00004
(여기서 A1 내지 A5 는 상기 정의된 바와 같으며 X 는 염소, 브롬 또는 요오드임)의 할로겐 화합물을, 염기의 존재하에, 일산화 탄소 및 일반 화학식 3:
Figure pat00005
(여기서 R6 및 R7 은 상기 정의된 바와 같음) 의 일차 또는 이차 아민과 반응시키면 원하는 생성물 (1) 들을 양호하거나 거의 대량의 수율로 얻을 수가 있음이 밝혀졌다. 상기 화학식 4 에서, R8 내지 R11 는 서로 독립적으로 페닐 또는 치환형 페닐이며 n 은 3 이거나 4 이다.
여기 및 이하에, C1-4-알킬은 4 개 까지의 탄소 원자를 갖는 어떠한 선형 또는 가지가 있는 형의 일차, 이차 또는 삼차 알킬기들을 의미하는 것으로서 이해될 수 있다. 여기 및 이하에, 방향족 또는 헤테로방향족 라디칼들은 특히 일(一)고리 또는 다(多)고리 시스템들, 예를 들면, 페닐, 나프틸, 비페닐릴, 안트라세닐, 푸릴, 피롤릴, 피라졸릴, 티오페닐, 피리딜, 인돌릴 또는 퀴놀리닐 등을 의미하는 것으로서 이해될 수 있다. 이들은 하나 또는 그 이상의 같거나 다른 치환기들, 예를 들어 저급 알킬기들 이를 테면 메틸 등, 할로겐화 알킬기들 이를 테면 트리플루오로메틸 등, 저급 알콕시기들 이를 테면 메톡시 등, 또는 저급 알킬티오 (알칸술파닐) 또는 알칸술포닐기들 이를 테면 메틸티오 또는 에탄술포닐 등을 가질 수가 있다. 치환형 페닐은 특히 (p)플루오로페닐, (p-)메톡시페닐, (p-)톨릴 또는 (p)트리플루오로메틸페닐 등의 기들을 의미하는 것으로서 이해된다.
출발 물질로서 사용되는 할로겐 화합물 (2) 들은 알려져 있는 화합물들이며 또는 알려진 화합물들과 유사하게 제조될 수가 있다. 이러한 종류의 수많은 화합물들은, 예를 들면 US-A 4 254 125 호 및 EP-A 0 001 187 호 등에 공고되었다.
일반 화학식 2 에서 화학식 -OR 기가 고리 질소 원자에 인접한 탄소 원자에 결합된 할로겐 화합물 (2) 들은 일반 화학식 5:
Figure pat00006
(여기서 A1 내지 A5 는 청구항 1 에서 정의된 바와 같으며, 고리 질소 원자에 인접한 탄소 원자상의 라디칼들 R1 내지 R5 의 하나는 Z 로 치환됨을 조건부로 하고, Z 는 염소, 브롬 또는 요오드이며 X 는 독립적으로 염소, 브롬 또는 요오드임) 의 디할리드를 일반 화학식 6:
Figure pat00007
(여기서 R 은 청구항 1 에서 정의된 바와 같음) 의 방향족 또는 헤테로방향족 히드록실 화합물과 반응시키는 방법에 의해 유리하게 제조된다. 상기한 방식으로, 일산화 탄소 및 아민 (3) 에 의한 후속 반응과 함께 상기 반응을 포함하는 두-단계법은 본 발명의 또 하나의 주제이며, 하기의 바람직한 구현예들은 이 두-단계법에 적용가능한 것이기도 하다.
본 발명에 따른 방법은 A2 가 질소이면서 나머지의 고리 멤버들과 피리딘 고리를 형성하는 아미드 (1) 들의 특히 적합하다. R1 이 화학식 -OR 기이고, R 은 상기한 바와 같은 아미드 (1) 들이 특히 좋다.
기타 바람직한 아미드 (1) 들은 A1 이 질소이면서 나머지의 고리 멤버들과 피리딘 고리를 형성하는 것들,
A1 및 A5 가 질소이면서 나머지의 고리 멤버들과 피리미딘 고리를 형성하는 것들,
A1 및 A4 가 질소이면서 나머지의 고리 멤버들과 피라진 고리를 형성하는 것들,
그리고 A1, A3 및 A5 가 질소이면서 나머지의 고리 멤버들과 1,3,5-트리아진 고리를 형성하는 것들이 있다.
이 마지막 네 종류들에 있어, R2 가 화학식 -OR 기이고, R 은 상기한 바와 같은 아미드들이 다시 특히 좋다. 기타 바람직한 아미드 (1) 들은 R 이 경우에 따라서는 치환된 페닐기인 것들이 있다. 이는 R1 또는 R2 가 화학식 -OR 기인 피리딘, 피리미딘, 피라진 또는 1,3,5-트리아진 고리를 함유하는 상기한 아미드들에 특히 적용된다. 기타 바람직한 아미드들은 R6 가 수소이고 R7 은 경우에 따라 치환된 페닐기인 것들이다.
바람직한 할로겐 화합물 (2) 들은 염소 화합물들이다 (X = C1).
촉매-활성 팔라듐 디포스핀 복합체는 잘게 나누어진 원소형의 팔라듐 (예를 들면 활성화 목탄상의 팔라듐 등), Pd(Ⅱ) 염 (예를 들면 염화물 또는 아세트산염 등) 또는 적합한 Pd(Ⅱ) 복합체 (예를 들면 디클로로비스(트리페닐포스핀)팔라듐(Ⅱ) 등) 를 디포스핀과 반응시키는 방법에 의해 제자리에서 (in situ) 유리하게 형성된다. 팔라듐은, 각 경우에 할로겐 화합물 (2) 을 기준으로 하여, Pd(Ⅱ) 0.02 내지 0.2 mol% 또는 (Pd/C 로서) Pd(0) 0.5 내지 2 mol% 의 양으로 사용되는 것이 좋다. 디포스핀은 (Pd 를 기준으로 하여) 과잉량, 바람직하게는, 다시 할로겐 화합물 (2) 을 기준으로 하여, 0.2 내지 5 mol% 의 양으로 사용되는 것이 좋다.
사용 용매들은 비교적 비극성이거나, 예를 들면 톨루엔 또는 크실렌 등, 또는 극성, 예를 들면 아세토니트릴, 테트라히드로푸란 또는 N,N-디메틸아세트아미드 등이 될 수가 있다.
사용 염기는 비교적으로 약한 염기가 좋다. 이것은 사용 용매에 용해될 필요는 없다. 적합한 염기의 예에는 탄산 소듐 또는 탄산 포타슘 등의 탄산염들, 또는 아세트산 소듐 등의 아세트산 염들이 있다. 특히 양호한 결과들은 아세트산 소듐으로 얻어졌다.
반응 온도는 80 내지 250 C 인 것이 좋다.
일산화 탄소 압력은 1 내지 50 바아인 것이 좋다.
다음의 실시예들은 본 발명에 따른 방법이 어떻게 실행되는 것인지를 구체적으로 설명한 것이다.
실시예 1
2-클로로-6-[3-(트리플루오로메틸)페녹시]피리딘
수소화 소듐 (95%) 17.45 g (690 mmol) 을 420 ml 의 N,N-디메틸아세트아미드에 현탁시켰다. 3-(트리플루오로메틸)페놀 106.7 g (658 mmol) 을 15 C 에서 2 시간에 걸쳐 한 방울씩 첨가하였다. 그 결과로서 얻어진 펜산염 용액을, 90 ℃ 까지 가열한, 2,6-디클로로피리딘 162.4 g (1.097 mol) 의 N,N-디메틸아세트아미드 330 ml 용액에, 질소하에서, 2.5 시간에 걸쳐 한 방울씩 첨가하였다. 3 시간 더 반응시킨 후, 이 혼합액을 실온까지 냉각시켰고, 염화 소듐 침전물을 여과하여 이 여과액을 농축시켰다. 잔류물은 톨루엔과 0.1 N 염산으로 녹였으며 유기상은 포화 염화소듐 용액으로 씻어내어 농축시켰다. 유성 잔류물 (대략 200 g) 을 진공하 증류시켰다.
수율: 무색 오일 151.5 g (84%), 함유량 (GC) 99.8%
nD 20 = 1.5267
MS; m/z: 273/275; 238; 39
Figure pat00008
Figure pat00009
실시예 2
3-클로로-2-[3-(트리플루오로메틸)페녹시]피리딘
수소화 소듐 분산액 7.68 g (대략 50% 미네랄유 분산액) 을 질소하에서 펜탄으로 씻어주었으며 이후 100 ml 의 N,N-디메틸포름아미드를 첨가하였다. 3-(트리플루오로메틸)페놀 21.92 g (135 mmol) 을 실온에서 30 분에 걸쳐 한 방울씩 첨가하였다. 그 결과로서 얻어진 펜산염 용액을, 120 ℃ 까지 가열한, 2,3-디클로로피리딘 20.1 g (136 mmol) 의 N,N-디메틸포름아미드 80 ml 용액에, 질소하에서, 2 시간에 걸쳐 한 방울씩 첨가하였다. 3 시간 반응시킨 후, 이 혼합액을 실온까지 냉각시켰고, 염화 소듐 침전물을 여과하여 이 여과액을 농축시켰다. 잔류물은 톨루엔과 0.1 N 염산으로 추출하였으며 유기상은 포화 염화소듐 용액으로 씻어내어 농축시켰다. 유성 잔류물을 진공하 증류시켰다.
수율: 무색 오일 24.75 g (67%), 함유량 (GC) 99.7%
B.p.18mbar = 145-148 C
nD 20 = 1.5282
MS; m/z: 273/275
Figure pat00010
Figure pat00011
실시예 3
N-(4-플루오로페닐)-6-[3-(트리플루오로메틸)페녹시]피리딘-2-카르복사미드
2-클로로-6-[3-(트리플루오로메틸)페녹시]피리딘 (함유량 99.5%, 실시예 1에 따라 제조됨) 6.84 g (25 mmol), 4-플루오로아닐린 4.17 g (37.5 mmol), 탄산소듐 2.92 g (27.5 mmol), 팔라듐/활성화 목탄 (10% Pd) 0.27 g (0.25 mmol) 및 1,4-비스(디페닐포스피노)부탄 (4, n = 4, R8 = R9 = R10 = R11 = 페닐) 0.32 g (0.75 mmol) 의 크실렌 25 ml 용액을 실온에서 오토클레이브에 두었다. 이 오토클레이브를 비활성 기체로 씻어내렸고, 이후 일산화 탄소를 5 바아의 압력하에서 도입하였으며 온도를 200 ℃ 까지 올려주었다. CO 압력은 14.5 바아 까지 증가되었으며 이 혼합물을 200 ℃ 에서 16시간 휘저어 주었다. 실온까지 냉각 및 감압 후, 이 반응 혼합물을 50 ml 의 크실렌과 50 ml 의 물로 처리하여 여과하였다. 수성상을 25 ml 의 크실렌으로 추출하였으며 합쳐 모은 유기상들을 30 ml 의 물로 씻어주었다. 용해 산물들의 조성은 GC 에 의해 결정되었다. 92.1% 의 표제 화합물 (아미드), 1.9% 의 추출물 그리고 6.0% 의 부산물들 (아닐린에 의한 C1 의 직접 치환에 의해 형성된 이차 아민 3.1%, 및 가수소분해에 의해서 2-[3-(트리플루오로메틸)페녹시]피리딘 2.9%) 이 밝혀졌다. 용매 증류 후, 미정제 산물 (8.63 g) 이 황색 고체의 형태로 얻어졌다. 이 미정제 산물은 메틸시클로헥산에서의 재결정화에 의해 정제되었다.
수율: 무색 결정 6.3 g (67%)
M.p. : 104-105 C
MS; m/z: 376 (M+), 238
Figure pat00012
실시예 4
N-(4-플루오로페닐)-6-[3-(트리플루오로메틸)페녹시]피리딘-2-카르복사미드
절차는 팔라듐/활성화 목탄을 디클로로비스(트리페닐포스핀)팔라듐(Ⅱ) 17.5 mg (25 μmol) 로 바꾼 것을 제외하고는 실시예 3 에 기술된 바와 같았다. CO 압력은 12.8 바아였고, 온도는 150 ℃ 였으며 반응 시간은 17.7 시간이었다. 크실렌상(相)의 용해 산물들의 조성은 GC 에 의해 결정되었다. 96.0% 의 표제 화합물(아미드) 과 4.0% 의 부산물들 (이차 아민 2.3%, 가수소분해 산물 1.7%) 이 밝혀졌다.
실시예 5
N-(4-플루오로페닐)-6-[3-(트리플루오로메틸)페녹시]피리딘-2-카르복사미드
절차는 1,4-비스(디페닐포스피노)부탄을 같은 몰량의 1,3-비스(디페닐포스피노)프로판 (4, n = 3, R8 = R9 = R10 = R11 = 페닐) 으로 바꾼 것을 제외하고는 실시예 4 에 기술된 바와 같았다. CO 압력은 16 바아였으며 반응 시간은 21.6 시간이었다. 크실렌상의 용해 산물들의 조성은 GC 에 의해 결정되었다. 98.9% 의 표제 화합물 (아미드), 0.1% 의 추출물 그리고 1.0% 의 부산물들 (이차 아민 0.3% 및 가수소분해 산물 0.7%) 이 밝혀졌다.
실시예 6
N-(2,4-디플루오로페닐)-2-[3-(트리플루오로메틸)페녹시]피리딘-3-카르복사미드
(디플루페니캄)
실시예 4 와 유사하게, 3-클로로-2-(3-트리플루오로메틸)페녹시피리딘 (실시예 2 에 따라 제조됨) 6.84 g (25 mmol), 2,4-디플루오로아닐린 4.84 g (37.5 mmol), 탄산 소듐 2.92 g (27.5 mmol), 디클로로비스(트리페닐포스핀)팔라듐(Ⅱ) 17.5 mg (25 μmol) 및 1,4-비스(디페닐포스피노)부탄 0.32 g (0.75 mmol) 의 크실렌 25 ml 용액을 15 바아의 CO 압력하에 190-195 ℃ 에서 19 시간 반응시켰다. 전환율은 대략 80% 였다. 이 혼합물을 실시예 3 에서와 같은 절차를 수행하여 미정제 산물 6 g 을 황색 결정질의 고체 형태로 얻었다. 그것은 50 ml 의 메틸시클로헥산에서의 재결정화에 의해 정제되었다.
수율: 백색 고체 3.25 g (33%)
M.p. : 157-159 C
MS; m/z: 394 (M+), 266 (100%)
Figure pat00013
비교 실시예 1
절차는 1,4-비스(디페닐포스피노)부탄을 같은 몰량의 트리페닐포스핀으로 바꾼 것을 제외하고는 실시예 4 에 기술된 바와 같았다. 15 바아의 CO 압력에서 15.5 시간의 반응 후에, 크실렌상의 용해 산물들의 조성이 GC 에 의해 결정되었다. 불과 43.2% 의 원하는 산물과 56.8% 의 미전환 추출물이 밝혀졌다.
비교 실시예 2
절차는 1,4-비스(디페닐포스피노)부탄을 같은 몰량의 트리-n-부틸포스핀으로 바꾼 것을 제외하고는 실시예 4 에 기술된 바와 같았다. 14 바아의 CO 압력에서 15 시간의 반응 후에, 크실렌상의 용해 산물들의 조성이 GC 에 의해 결정되었다. 겨우 미량 (0.4%) 의 원했던 산물과 96.8% 의 미전환 추출물이 밝혀졌다.
비교 실시예 3
절차는 1,4-비스(디페닐포스피노)부탄을 같은 몰량의 1,2-비스(디페닐포스피노)에탄으로 바꾼 것을 제외하고는 실시예 4 에 기술된 바와 같았다. 14.7 바아의 CO 압력에서 20.2 시간의 반응 후에, 크실렌상의 용해 산물들의 조성이 GC 에 의해 결정되었다. 겨우 미량 (2.2%) 의 원했던 산물과 97.7% 의 미전환 추출물이 밝혀졌다.
본 발명의 제조 방법은 종래의 방법보다 경제적이며, 중요한 제초제가 되고 있는 헤테로방향족 카르복실산들의 아릴아미드의 용이한 합성을 가능케 해 준다.

Claims (13)

  1. 하기 일반 화학식 1:
    [화학식 1]
    Figure pat00014
    [여기서: A1 은 질소 또는 CR1 이며, A2 는 질소 또는 CR2 이고, A3 는 질소 또는 CR3 이며, A4 는 질소 또는 CR4 이고, A5 는 질소 또는 CR5 이며, 고리 멤버들 A1 내지 A5 의 적어도 하나는 질소이고 두 개의 질소 원자들은 서로 직접 결합되어 있지 아니함을 조건부로 하며;
    R1 내지 R5 는, 존재하는 경우, 서로 독립적으로 각각 수소, C1-4-알킬, 페닐, 나프틸, 비페닐일 또는 안트라세닐이며, 또한 치환기들 R1 내지 R5 의 하나는 화학식 -OR (식 중 R 은, 할로겐, 메틸, 트리플루오로메틸, 메톡시, 메틸티오, 에탄설포닐, 또는 메틸티오 및 에탄설포닐로써 치환될 수 있는, 페닐, 나프틸, 비페닐일, 안트라세닐, 푸릴, 피롤일, 피라졸릴, 티오페닐, 피리딜, 인돌릴 또는 퀴놀리닐임) 의 기이며;
    R6 는 수소 또는 C1-4-알킬이며; 그리고
    R7 은 상기에서 정의된 바와 같이 치환될 수 있는 페닐, 나프틸, 비페닐일, 안트라세닐, 푸릴, 피롤일, 피라졸릴, 티오페닐, 피리딜, 인돌릴 또는 퀴놀리닐임]의 아미드들의 제조 방법으로서,
    팔라듐 (Ⅱ) 복합체와 하기 일반 화학식 4:
    [화학식 4]
    Figure pat00015
    (여기서 R8 내지 R11 은 서로 독립적으로 페닐 또는 상기에서 정의된 바와 같은 치환형 페닐이며 n 은 3 또는 4임) 의 디포스핀으로부터 제자리에서(in situ) 형성되는 복합체, 및 염기의 존재하에, 하기 일반 화학식 2:
    [화학식 2]
    Figure pat00016
    (여기서 A1 내지 A5 는 상기 정의된 바와 같으며 X 는 염소, 브롬 또는 요오드임) 의 할로겐 화합물을 일산화탄소 및 하기 일반 화학식 3:
    [화학식 3]
    Figure pat00017
    (여기서 R6 및 R7 은 상기 정의된 바와 같음) 의 아민과 반응시킴을 특징으로 하는 방법.
  2. 제 1항에 있어서, A2 는 질소 및 피리딘 고리의 일부임을 특징으로 하는 방법.
  3. 제 2항에 있어서, R1 은 화학식 -OR (R 은 제 1항에서 정의된 바와 같음) 의 기임을 특징으로 하는 방법.
  4. 제 1항에 있어서, A1 은 질소 및 피리딘 고리의 일부임을 특징으로 하는 방법.
  5. 제 1항에 있어서, A1 및 A5 는 질소 및 피리미딘 고리의 일부임을 특징으로 하는 방법.
  6. 제 1항에 있어서, A1 및 A4 는 질소 및 피라진 고리의 일부임을 특징으로 하는 방법.
  7. 제 3항에 있어서, R은 치환될 수 있는 페닐기임을 특징으로 하는 방법.
  8. 제 1항에 있어서, R6 은 수소이며 R7 은 치환될 수 있는 페닐기임을 특징으로 하는 방법.
  9. 제 1항에 있어서, X 는 염소임을 특징으로 하는 방법.
  10. 제 1항에 있어서, 사용된 디포스핀 (화학식 4) 은 1,3-비스(디페닐포스피노)프로판 또는 1,4-비스(디페닐포스피노)부탄임을 특징으로 하는 방법.
  11. 제 1항에 있어서, A1, A3 및 A5 는 질소임을 특징으로 하는 방법.
  12. 제 4항 내지 제 6 항 또는 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, R2는 화학식 -OR (R은 제 1 항에서 정의된 바와 같음)의 기임을 특징으로 하는 방법.
  13. 제 12 항에 있어서, R은 치환될 수 있는 페닐기임을 특징으로 하는 방법.
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