JP4138905B2 - 複素環式芳香族カルボン酸のアリールアミドの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、複素環式芳香族アリールアミドの製造方法に関し、この方法は複素環式芳香族ハロゲン化物を、一酸化炭素および芳香族アミンと、触媒および塩基の存在下に反応させる。 本発明はさらに、本発明の製造方法による新規な中間体にも関する。
【0002】
本発明に従って製造されるアミドは、一般式
【0003】
【化13】
【0004】
〔式中、A1は窒素またはCR1、A2は窒素またはCR2、A3は窒素またはCR3、A4は窒素またはCR4、A5は窒素またはCR5であり、ただし、環のメンバーA1ないしA5のうち少なくとも一つが窒素であって、二つの窒素原子が相互に直接結合することはない。 R1ないしR5は、存在する場合、相互に独立に、水素、C1-4 アルキル基またはアリール基であり、また置換基R1ないしR5のうちの一つが式−ORの基〔式中、Rは場合によっては置換された、芳香族または複素環式芳香族の基である。〕を形成することもある。 R6は水素またはC1-4アルキル基であり、R7 は場合によっては置換された芳香族または複素環式芳香族の基である。〕
を有する。
【0005】
前記のアミドは、とくにピリジン−、ピリミジン−、ピラジン−および1,3,5−トリアジン−カルボン酸のアリールアミドを含む。
【0006】
この構造の多数の化合物、とくに置換基R1ないしR5のうちの一つが環の窒素原子に隣接するアリールオキシ基(−OR)であるものは、重要な除草剤である(WO−A94/27974,EP−A0053011,EP−A0447004)。
【0007】
これらの既知の化合物は、対応するカルボン酸またはカルボン酸誘導体(酸クロライド、エステル、ニトリル)から常法により合成されるが、これらはしばしば入手困難であり、従って高価である。
【0008】
本発明の目的はそれゆえ、もっと容易に入手できるエダクトから出発する別の製造方法を開発することである。
【0009】
この目的は、本発明に従って、請求項1の製造方法により達成することができる。
【0010】
一般式
【0011】
【化14】
【0012】
〔式中、A1ないしA5は上に定義したとおりであり、Xは塩素、臭素またはヨウ素である。〕
のハロゲン化物を、一酸化炭素および一般式
【0013】
【化15】
【0014】
〔式中、R6およびR7は上に定義したとおり。〕
の第一級または第二級アミンと、塩基の存在下に直接反応させるとき、触媒として、一般式
【0015】
【化16】
【0016】
のジホスフィンとパラジウムの錯体が存在する場合には、所望の生成物(I)がほぼ定量的な収率で得られる、ということが見出された。
【0017】
前記の式IV中では、R8は水素またはC1-4アルキル基であり、R9ないしR12は、相互に独立に、第二級または第三級C3-6アルキル基、C5-7シクロアルキル基、または場合によっては置換されたフェニル基である。YはCH 2 であり、nは0または1である。Qは橋かけ有機基であって、n=0の場合は、隣接する2個の炭素原子とともに、ベンゼン、ピリジン、ピロールまたはフラン環を形成し、n=1の場合は、隣接する2個の炭素原子とともに、ピロリジン環を形成する。これらの炭素環または複素環は、さらに置換されていてもよく、芳香族環として遷移元素と錯体を形成することもできる。
【0018】
以下、C1-4 アルキル基は、4箇までの炭素原子を有する直鎖または分岐鎖の第一級、第二級または第三級アルキル基とする。
【0019】
以下、芳香族または複素環式芳香族の基は、とくに単環のものまたは多環のものであって、たとえばフェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントラセニル基、フリル基、ピロリル基、ピラゾリル基、チオフェニル基、ピリジル基、インドリル基またはキノリニル基を意味すると理解すべきである。 これらは、1箇以上の同一または異なる置換基、たとえば塩素、臭素またはフッ素のようなハロゲン、メチル基のような低級アルキル基、トリフルオロメチル基のようなハロゲン化アルキル基、メトキシ基のような低級アルコキシ基、またはメチルチオ基またはエタンスルフォニル基のような低級アルキルチオ(アルカンスルファニル)基またはアルカンスルフォニル基を有していてもよい。
【0020】
遷移元素と錯体を形成した芳香族環は、とくに、メタロセンまたはその関連化合物、たとえばフェロセンまたはベンゼンクロミウムトリカルボニルのような、サンドイッチ−またはハーフサンドイッチ錯体中の、η5 −シクロペンタジエニル環およびη6−ベンゼン環を意味するものと理解すべきである。
【0021】
出発物質として使用するハロゲン化物(II)は、既知の化合物であるか、または既知の化合物と同様にして調製することができる。 この種の多数の化合物が、たとえばUS−A4254125およびEP−A0001187中に公表されている。
【0022】
本発明に従う製造方法は、アミド(I)においてA2 が窒素であって、残りの環メンバーとピリジン環を形成しているものの製造に、優先的に適している。 アミド(I)においてR1 が式−OR基〔式中、Rは上に定義したとおり。〕であるものが、とくに好ましい。
【0023】
その他の好ましいアミド(I)は、A1 が窒素であって、残りの環メンバーとピリジン環を形成するもの、A1およびA5が窒素であって、残りの環メンバーとピリミジン環を形成するもの、A1およびA4が窒素であって、残りの環メンバーとピラジン環を形成するもの、ならびに、A1,A3およびA5 が窒素であって、残りの環メンバーと1,3,5−トリアジン環を形成するもの、である。
【0024】
後者の4種類の中でも、R2が式-OR基〔式中、Rは上に定義したとおり。〕であるアミドが、とりわけ好ましい。
【0025】
アミド(I)において置換基R1ないしR5のうちの一つが式−OR基であるもののうち、式−OR基中のRが、場合によっては置換されたフェニル基であるものが好ましい。 このことは、とくにピリジン、ピリミジン、ピラジンまたは1,3,5−トリアジンを含む、上記のアミドであって置換基R1またはR2が式−ORの基であるものにおいていえる。
【0026】
その他の好ましいアミドは、R6が水素であり、R7が場合によっては置換されたフェニル基であるものである。
【0027】
好ましいハロゲン化物(II)は、塩素化合物(X=Cl)である。
【0028】
使用するジホスフィン(IV)は、n=0であり、Qが、二つの隣接する炭素原子と5員環を形成し、フェロセンのシステムの一部になるものが好ましい。 これらの化合物は、一般式
【0029】
【化17】
【0030】
〔式中、R8ないしR12は上に定義したとおり。〕
によりあらわされ、R8 が水素またはメチル基であるジホスフィンがとくに好ましい。 これらの化合物はキラルであり、(とくにR8≠H であるとき)たとえば不斉水素化のための純粋な立体異性体として使用されてきた(たとえば、EP−A0564406,EP−A0612758を参照のこと)。 本発明に従う製造方法において、キラルの新しい要素は形成されないため、これらのジホスフィンを、ラセミ体またはその他の立体異性体混合物として使用することもまた可能である。 きわめてとくに好ましいジホスフィン(IVa)は、R9 =R10、R11=R12であるものであり、これらの置換基はイソプロピル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基および場合によっては置換されたフェニル基から成るグループから選択する。
【0031】
その他の好ましいジホスフィン(IV)は、n=0であり、Qが、二つの隣接する炭素原子と、ベンゼン、ピリジン、ピロールまたはフラン環を形成するものである。
【0032】
トリカルボニル−η6−{1−(ジフェニルホスフィノ)−2−[(1−(ジフェニルホスフィノ)エチル]−ベンゼン}クロミウム(0)について、ここで例としてとりあげる(J. Organometall. Chem. 1995, 503, 143-148)。
【0033】
同様に、好ましいジホスフィンは、n=1であり、Yがメチレン基であって、Qおよび二つの隣接する炭素原子とピロリジン環を形成し、場合によってはさらなる置換基を有するものである。 これらのジホスフィンは、たとえば(2S,4S)−1−tert−ブトキシカルボニル−4−ジフェニルホスフィノ−2−(ジフェニルホスフィノメチル)ピロリジン(BPPM)である(J. Org. Chem.1980, 45, 4680)。
【0034】
触媒活性パラジウムジホスフィン錯体は、微細な元素形態をしたパラジウム (たとえば、活性炭上のパラジウム)、Pd(II)塩(たとえば、塩化物または酢酸塩)または適切なPd(II)錯体(たとえば、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II))をジホスフィンと反応させるという製造方法により、その場で好都合に形成される。 パラジウムは、それぞれハロゲン化物(II)基準で、Pd(II)0.02〜0.2 mol%またはPd(0)0.5〜2mol% の量を使用することが好ましい。 ジホスフィンは(Pd基準で)過剰量を使用することが好都合で、ハロゲン化物(II)基準でPd(II)0.2〜5mol%の量を使用することが好ましい。
【0035】
使用する溶媒は、比較的極性のないもの、たとえばトルエン、キシレンまたはメチルシクロヘキサン、または極性のあるもの、たとえばアセトニトリル、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルアセタミドまたはブチルアセテートである。
【0036】
使用する塩基は、比較的弱い塩基が好ましい。 これは、使用する溶媒に溶ける必要はない。 適切な塩基の例は、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムのような炭酸塩、酢酸ナトリウムのような酢酸塩、またはリン酸水素カリウムまたはリン酸カリウムのような第二級または第三級リン酸塩である。 炭酸ナトリウムまたは酢酸ナトリウムを使用すると、とくによい結果が得られる。
【0037】
反応温度は、80〜250℃が好ましい。
【0038】
一酸化炭素の圧力は、1〜50barが好ましい。
【0039】
以下の実施例により、本発明の製造方法をどのように実施するかを示す。
【0040】
【実施例】
〔実施例1〕
2−クロロ−6−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン
水素化ナトリウム(95%)17.45g(690mmol)をN,N−ジメチルアセタミド420ml中に懸濁させた。 3−(トリフルオロメチル)フェノール106.7g(658mmol)を、2時間にわたり、15℃において滴下して加えた。 得られたフェノール塩溶液を、2.5時間にわたり、窒素雰囲気下に、90℃に加熱したN,N−ジメチルアセタミド330ml中の2,6−ジクロロピリジン162.4g(1.097mol)の溶液に、滴下して加えた。 さらに3時間反応させた後、混合物を室温まで冷却し、塩化ナトリウムの沈殿物を濾過除去して、濾液を濃縮した。 残渣にトルエンおよび0.1N塩酸を吸収させ、有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄して濃縮した。 油状の残渣(約200g)を真空下に蒸留した。
【0041】
収率:無色の油状物151.5g(84%),含有率(GC)99.8%
nD 20=1.5267
MS;m/z:273/275;238;39
【0042】
〔実施例2〕
3−クロロ−2−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン
水素化ナトリウム分散液(鉱油中約50%)7.68gを、窒素雰囲気下にペンタンで洗浄し、それからN,N−ジメチルホルムアミド100mlを加えた。 3−(トリフルオロメチル)フェノール21.92g(135mmol)を、30分間にわたり、室温において滴下して加えた。 得られたフェノール塩溶液を、2時間にわたり、窒素雰囲気下に、120℃に加熱したN,N−ジメチルホルムアミド80ml中の2,3−ジクロロピリジン20.1g(136mmol)の溶液に、滴下して加えた。 さらに3時間反応させた後、混合物を室温まで冷却し、塩化ナトリウムの沈殿物を濾過除去して濾液を濃縮した。 残渣をトルエンおよび0.1N塩酸で抽出し、有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄して濃縮した。 油状の残渣を真空下に蒸留した。
【0043】
収率:無色の油状物24.75g(67%),含有率(GC)99.7%
B.p.18mbar=145−148℃
nD 20=1.5282
MS;m/z:273/275
【0044】
〔実施例3〕
N−(4−フルオロフェニル)−6−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン−2−カルボキサミド
キシレン25ml中の2−クロロ−6−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン(含有率99.5%,実施例1で製造したもの)6.84g(25mmol)、4−フルオロアニリン4.17g(37.5mmol)、炭酸ナトリウム2.92g(27.5mmol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)17.5mg(25μmol)および(±)−1−[2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルジフェニルホスフィン(IVa,R8=メチル基、R9=R10=R11=R12=フェニル基であり、A. Togni et al., Inorg. Chim. Acta 1994, 222, 213-224に従って製造したもの)0.31g(0.75mmol)を、室温においてオートクレーブに装入した。 オートクレーブを不活性気体で満たし、それから一酸化炭素を5bar の圧力で導入し、温度を200℃に上昇させた。 CO圧力を16bar に上げ、混合物を21時間、200℃において撹拌した。 室温まで冷却し減圧した後、反応混合物をキシレン50mlおよび水50mlで処理し濾過した。 水相をキシレン25mlで抽出し、合わせた有機相を水30mlで洗浄した。 溶解した生成物の組成を、GCにより決定した。 表題化合物(アミド)97.8%および副生物(アニリンによるClの直接置換により形成される第二級アミン)2.2%が定量された。 溶媒の蒸留の後、粗生成物を黄色固体の形で得た。
【0045】
粗生成物の収率(HPLC分析、標準とも):89.9%
粗生成物をメチルシクロヘキサンからの再結晶により精製した。
【0046】
収率:無色の結晶状物6.3g(67%)
M.p.=104−105℃
MS;m/z:376(M+),238
【0047】
〔実施例4〕
N−(4−フルオロフェニル)−6−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン−2−カルボキサミド
手順は、(±)−1−[2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルジフェニルホスフィンを等モル量の(±)−1−[2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルジ−tert−ブチルホスフィン(IVa,R8 =メチル基、R9 =R10=tert−ブチル基、R11=R12=フェニル基)に替えたこと以外は、実施例3に記述したとおりとした。 CO圧力を19bar とした。 キシレン相に溶解した生成物の組成を、GCにより決定した。 表題化合物(アミド)97.2%および副生物(第二級アミン)2.8%が定量された。
【0048】
〔実施例5〕
N−(4−フルオロフェニル)−6−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン−2−カルボキサミド
手順は、(±)−1−[2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルジフェニルホスフィンを等モル量の(±)−1−[2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルジイソプロピルホスフィン(IVa,R8=メチル基、R9=R10=イソプロピル基、R11=R12=フェニル基)に替えたこと以外は、実施例3に記述したとおりとした。 CO圧力を19bar とした。 キシレン相に溶解した生成物の組成を、GCにより決定した。 表題化合物(アミド)96.7%および副生物(第二級アミン)3.3%が定量された。
【0049】
〔実施例6〕
N−(4−フルオロフェニル)−6−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン−2−カルボキサミド
手順は、(±)−1−[2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルジフェニルホスフィンを等モル量の(±)−1−[2−(ジイソプロピルホスフィノ)フェロセニル]エチルジ−tert−ブチルホスフィン(IVa,R8 =メチル基、R9 =R10=tert−ブチル基、R11=R12=イソプロピル基)に替えたこと以外は、実施例3に記述したとおりとした。 CO圧力を19bar とした。 キシレン相に溶解した生成物の組成を、GCにより決定した。 表題化合物(アミド)98.9%および副生物(第二級アミン)1.1%が定量された。
【0050】
〔実施例7〕
N−(4−フルオロフェニル)−6−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン−2−カルボキサミド
手順は、塩基として使用する炭酸ナトリウムを等モル量の酢酸ナトリウムに替えたこと以外は、実施例4に記述したとおりとした。 CO圧力を19bar とした。 キシレン相に溶解した生成物の組成を、GCにより決定した。 表題化合物(アミド)99.7%、エダクト0.2%および副生物(第二級アミン)<0.1%が定量された。
【0051】
〔実施例8〕
N−(4−フルオロフェニル)−6−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン−2−カルボキサミド
手順は、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)を等モル量の塩化パラジウム(II)に替えたこと以外は、実施例4に記述したとおりとした。 CO圧力を19bar とした。 キシレン相に溶解した生成物の組成を、GCにより決定した。 表題化合物(アミド)96.7%および副生物(第二級アミン)3.3%が定量された。
【0052】
〔実施例9〕
N−(4−フルオロフェニル)−6−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン−2−カルボキサミド
手順は、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)を等モル量の酢酸パラジウム(II)に替えたこと以外は、実施例7に記述したとおりとした。 CO圧力を19bar とした。 キシレン相に溶解した生成物の組成を、GCにより決定した。 表題化合物(アミド)99.0%および副生物(塩化物の水素化分解により形成された2−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン)0.8%が定量された。
【0053】
〔実施例10〕
N−(4−フルオロフェニル)−6−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン−2−カルボキサミド
手順は、フェロセニルホスフィンを(2S,4S)−1−tert−ブトキシカルボニル−4−(ジフェニルホスフィノ)−2−(ジフェニルホスフィノメチル)ピロリジン(Fluka社)0.21g(0.75mmol)に替えたこと以外は、実施例3に記述したとおりとした。 反応温度を20時間、CO圧力を17bar とした。 キシレン相に溶解した生成物の組成を、GCにより決定した。 表題化合物(アミド)98.7%および副生物(第二級アミン)1.1%が定量された。
【0054】
〔実施例11〕
N−(4−フルオロフェニル)−6−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン−2−カルボキサミド
手順は、(±)−1−[2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルジ−tert−ブチルホスフィン75μmol のみを使用したこと以外は、実施例4に記述したとおりとした。 CO圧力を19bar とした。 キシレン相に溶解した生成物の組成を、GCにより決定した。 表題化合物(アミド)88.8%、転化されないエダクト7.4%および副生物(第二級アミン)3.3%が定量された。
【0055】
〔実施例12〕
N−(4−フルオロフェニル)−6−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン−2−カルボキサミド
手順は、4−フルオロアニリン27.5mmolのみを使用したこと以外は、実施例4に記述したとおりとした。 CO圧力を19bar とした。 キシレン相に溶解した生成物の組成を、GCにより決定した。 表題化合物(アミド)97.3%および副生物(第二級アミン)2.7%が定量された。
【0056】
〔実施例13〕
N−(4−フルオロフェニル)−6−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン−2−カルボキサミド
アセトニトリル25ml中の2−クロロ−6−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン(含有率99.5%、実施例1で製造したもの)6.84g(25mmol)、4−フルオロアニリン3.33g(30mmol)、炭酸ナトリウム2.92g(27.5mmol)、酢酸パラジウム(II)2.8mg(12.5μmol)および(±)−1−[2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチル−ジ−tert−ブチルホスフィン(IVa,R8 =メチル基、R9=R10=tert−ブチル基、R11=R12=フェニル基)68mg(125μmol)を、室温においてオートクレーブに装入した。 オートクレーブを不活性気体で満たし、それから一酸化炭素を5barの圧力において導入し、圧力を7.6barに高めながら温度を150℃に上昇させた。 混合物を4時間、150℃において撹拌した。 室温まで冷却し減圧した後、溶媒を蒸留除去し、80℃において、残渣をメチルシクロヘキサン90mlに吸収させた。 得られた懸濁液を濾過し、フィルターケークを温メチルシクロヘキサン10mlで洗浄した。 濾液を5℃まで冷却すると、生成物が結晶化した。
【0057】
収率:淡いベージュ色の固体状物8.11g(86.2%)
M.p.=104.5−105.2℃。
【0058】
〔実施例14〕
N−(2,4−ジフルオロフェニル)−2−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン−3−カルボキサミド(ジフルフェニカム)
実施例3と同じように、キシレン25ml中の3−クロロ−2−(3−トリフルオロメチル)フェノキシピリジン(実施例2で製造したもの)6.84g(25mmol)、2,4−ジフルオロアニリン4.84g(37.5mmol)、炭酸ナトリウム2.92g(27.5mmol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)17.5mg(25μmol)および(±)−1−[2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルジ−tert−ブチルホスフィン0.31g(0.75mmol)を、15bar のCO圧力下に、150℃において、19時間反応させた。 転化率は約70%であった。 混合物を実施例3のように処理し、黄色結晶性固体の形で、粗生成物6gを得た。 それを、メチルシクロヘキサン50mlからの再結晶化により精製した。
【0059】
収率:白色固体状物3.25g(33%)
M.p.=157−159℃
MS;m/z:394(M+),266(100%)
【0060】
〔実施例15〕
N−(4−フルオロフェニル)−6−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピラジン−2−カルボキサミド
実施例3と同じように、キシレン25ml中の2−クロロ−6−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピラジン(US−A4254125の実施例21に従って製造したもの)25mmol、4−フルオロアニリン27.5mmol、炭酸ナトリウム2.92g(27.5mmol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)17.5mg(25μmol)および(±)−1−[2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルジ−tert−ブチルホスフィン0.31g(0.75mmol)を、17bar のCO圧力下に、120℃において、21時間反応させた。 キシレン相に溶解した生成物の組成を、GCにより決定した。 表題化合物(アミド)65.3%および副生物(第二級アミン)34.7%が測定された。アミドを、カラムクロマトグラフィーにより単離精製した。
【0061】
M.p.=109−110℃,無色の固体状物
【0062】
〔比較例1〕
手順は、(±)−1−[2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルジフェニルホスフィンを等モル量のトリフェニルホスフィンに替えたこと以外は、実施例3に記述したとおりとした。 15bar のCO圧力において15.5時間反応させた後、キシレン相に溶解した生成物の組成をGCにより決定した。 所望の生成物がわずか43.2%しか定量されず、未転化のエダクト56.8%が検出された。
【0063】
〔比較例2〕
手順は、(±)−1−[2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルジフェニルホスフィンを等モル量のトリ−n−ブチルホスフィンに替えたこと以外は、実施例3に記述したとおりとした。 14bar のCO圧力において15時間反応させた後、キシレン相に溶解した生成物の組成をGCにより決定した。 所望の生成物がほんの微量(0.4%)しか検出されず、未転化のエダクト96.8%が残っていた。
【0064】
〔比較例3〕
手順は、(±)−1−[2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルジフェニルホスフィンを等モル量の1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタンに替えたこと以外は、実施例3に記述したとおりとした。 14.7bar のCO圧力において20.2時間反応させた後、キシレン相に溶解した生成物の組成をGCにより決定した。 所望の生成物がほんの微量(2.2%)検出されただけで、未転化のエダクトが97.7%も残っていた。
Claims (14)
- 一般式I
のアミドの製造方法であって、一般式II
のハロゲン化物を、一酸化炭素、一般式III
のアミンおよび塩基と、一般式IV
のジホスフィン、または一般式 IV a
のフェロセンであるジホスフィンと、パラジウム錯体との存在下に反応させることを特徴とする製造方法。 - A2が窒素であり、ピリジン環の一部であることを特徴とする請求項1の製造方法。
- R1が式−ORの基[式中、Rは請求項1において定義したとおり。]であることを特徴とする請求項2の製造方法。
- A1が窒素であり、ピリジン環の一部であることを特徴とする請求項1の製造方法。
- A1およびA5が窒素であり、ピリミジン環の一部であることを特徴とする請求項1の製造方法。
- A1およびA4が窒素であり、ピラジン環の一部であることを特徴とする請求項1の製造方法。
- A1,A3およびA5が窒素であることを特徴とする請求項1の製造方法。
- R2が式−ORの基[式中、Rは請求項1において定義したとおり。]であることを特徴とする、請求項4ないし7のいずれかの製造方法。
- Rが場合によっては置換されたフェニル基であることを特徴とする、請求項3または8の製造方法。
- R6が水素であり、R7が場合によっては置換されたフェニル基であることを特徴とする、請求項1ないし9のいずれかの製造方法。
- Xが塩素であることを特徴とする、請求項1ないし10のいずれかの製造方法。
- R8が水素またはメチル基であることを特徴とする請求項1ないし11のいずれかの製造方法。
- 一般式I'
のアミドの製造方法であって、第一工程において、一般式V
のジハロゲン化物を、一般式VI
の芳香族または複素環式芳香族のヒドロキシル化合物と反応させて、一般式II'
の(ヘテロ)アリールオキシハロゲン化物を得、第二工程において、上記の生成物を、一酸化炭素、一般式III
のアミンおよび塩基と、一般式IV
のジホスフィン、または一般式 IV a
のフェロセンであるジホスフィンと、パラジウム錯体の存在下に反応させることを特徴とする製造方法。 - 3−クロロ−2−[3−(トリフルオロメチル)フェノキシ]ピリジン。
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