KR100656466B1 - 스피로사이클릭 테트론산 유도체의 제조방법 - Google Patents

스피로사이클릭 테트론산 유도체의 제조방법 Download PDF

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KR100656466B1
KR100656466B1 KR1020027010944A KR20027010944A KR100656466B1 KR 100656466 B1 KR100656466 B1 KR 100656466B1 KR 1020027010944 A KR1020027010944 A KR 1020027010944A KR 20027010944 A KR20027010944 A KR 20027010944A KR 100656466 B1 KR100656466 B1 KR 100656466B1
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팔베폴커
쿨커니셰커브이.
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바이엘 악티엔게젤샤프트
바이엘 코포레이션
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07D307/94Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom spiro-condensed with carbocyclic rings or ring systems, e.g. griseofulvins

Abstract

본 발명은 일반식 (II)의 화합물을 염기 및 일반식 (III)의 화합물과 반응시켜 일반식 (I)의 화합물을 제조하는 신규 방법에 관한 것이다:
Figure 112002027020670-pct00031
Figure 112002027020670-pct00032
Figure 112002027020670-pct00033
상기 식에서,
X, Y, Z, n, G, A, B, R1, R8 및 Hal은 각각 명세서에 정의된 바와 같다.

Description

스피로사이클릭 테트론산 유도체의 제조방법{Method for the production of spirocyclic tetronic acid derivatives}
본 발명은 공지된 스피로사이클릭 테트론산 유도체의 신규 제조방법에 관한 것이다.
스피로사이클릭 테트론산 유도체의 다단계 합성이 공지되었다(참조: EP-A-528 156).
본 발명에 따라, 하기 일반식 (I)의 화합물 및 그의 입체- 및 거울상이성체적으로 순수한 형태가 하기 일반식 (II)의 화합물을, 경우에 따라 희석제의 존재하에서 염기 및 하기 일반식 (III)의 화합물과 반응시킴으로써 수득됨이 밝혀졌다:
Figure 112002027020670-pct00001
Figure 112002027020670-pct00002
Figure 112002027020670-pct00003
상기 식에서,
X는 알킬, 할로겐, 알콕시 또는 할로게노알킬을 나타내고,
Y는 수소, 알킬, 할로겐, 알콕시 또는 할로게노알킬을 나타내며,
Z는 알킬, 할로겐 또는 알콕시를 나타내고,
n 은 0 내지 3의 수를 나타내거나,
래디칼 X 및 Z는 이들이 결합된 페닐 래디칼과 함께, 일반식
Figure 112002027020670-pct00004
의 나프탈렌 래디칼을 나타내며, 여기에서 Y는 상기 정의된 바와 같고,
A는 각 경우에 임의로 치환된 알킬, 알케닐, 알콕시알킬, 폴리알콕시알킬 및 알킬티오알킬로 구성된 그룹중에서 선택된 래디칼을 나타내거나, 각 경우에 임의로 치환된 포화 또는 불포화 사이클로알킬 또는 헤테로사이클릴을 나타내거나, 각 경우에 임의로 할로겐-, 알킬-, 할로게노알킬-, 알콕시-, 할로게노알콕시-, 시아노- 또는 니트로-치환된 아릴, 아릴알킬 또는 헤트아릴을 나타내며,
B는 알킬 또는 알콕시알킬을 나타내거나,
A 및 B는 이들이 결합된 탄소원자와 함께, 임의로 치환된 포화 또는 불포화 카보사이클 또는 헤테로사이클을 나타내고,
R1은 각 경우에 임의로 할로겐-치환된 알킬, 알케닐, 알콕시, 알케닐옥시, 알콕시알킬, 알킬티오알킬, 폴리알콕시알킬 또는 헤테로원자에 의해 차단될 수 있는 임의로 치환된 사이클로알킬을 나타내거나, 임의로 치환된 페닐 또는 페녹시를 나타내거나, 임의로 치환된 페닐알킬 또는 페닐알킬옥시를 나타내거나, 치환된 헤트아릴을 나타내거나, 치환된 페녹시알킬을 나타내거나, 치환된 헤트아릴옥시를 나타내며,
R8은 알킬을 나타내고,
Hal 은 할로겐, 특히 염소 또는 브롬을 나타낸다.
놀랍게도, 본 발명에 따른 방법을 이용하여 상기 언급된 화합물을 중간체의 분리없이 단일-용기 방법으로 간단하게 고순도 및 보다 나은 수율로 제조하는 것이 가능하다.
일반식 (I), (II) 및 (III)에서, 치환체
X는 바람직하게는 C1-C6-알킬, 할로겐, C1-C6-알콕시 또는 C 1-C3-할로게노알킬을 나타내고,
Y는 바람직하게는 수소, C1-C6-알킬, 할로겐, C1-C6-알콕시 또는 C1-C3-할로게노알킬을 나타내며,
Z는 바람직하게는 C1-C6-알킬, 할로겐 또는 C1-C6-알콕시를 나타내고,
n은 바람직하게는 0 내지 3의 수를 나타내거나,
래디칼 X 및 Z는 이들이 결합된 페닐 래디칼과 함께, 일반식
Figure 112002027020670-pct00005
의 나프탈렌 래디칼을 나타내며, 여기에서 Y는 상기 정의된 바와 같고,
A는 바람직하게는 각 경우에 임의로 할로겐-치환된 C1-C12-알킬, C2-C8 -알케닐 또는 C1-C10-알콕시-C1-C8-알킬을 나타내거나, 임의로 하나 또는 직접 인접해 있지 않은 두개의 메틸렌 그룹이 산소 및/또는 황에 의해 대체되고 임의로 할로겐-, C1-C6-알킬- 또는 C1-C6-알콕시-치환된 C3-C8-사이클로알킬을 나타내거나, 각 경우에 임의로 할로겐-, C1-C6-알킬-, C1-C6-할로게노알킬-, C1 -C6-알콕시-, C1-C6-할로게노알콕시-, 시아노- 또는 니트로-치환된 페닐 또는 페닐-C1-C6-알킬을 나타내며,
B는 바람직하게는 C1-C12-알킬 또는 C1-C8-알콕시-C1-C 6-알킬을 나타내거나,
A, B 및 이들이 결합된 탄소원자는 바람직하게는 임의로 하나의 메틸렌 그룹이 산소 또는 황에 의해 대체되고 C1-C8-알킬, C3-C10-사이클로알킬, C1-C8-할로게노알킬, C1-C8-알콕시, C1-C8-알킬티오, 할로겐 또는 페닐에 의해 임의로 치환된 C5-C10-사이클로알킬 또는 C5-C10-사이클로알케닐을 나타내거나,
A, B 및 이들이 결합된 탄소원자는 바람직하게는 두 탄소 원자가 각 경우에 임의로 C1-C6-알킬-, C1-C6-알콕시- 또는 할로겐-치환된 C3 -C6-알칸디일, C3-C6-알켄 디일 또는 C4-C6-알칸디엔디일에 의해 상호 결합되고 각 경우에 임의로 하나의 메틸렌 그룹이 산소 또는 황에 의해 대체된 C5-C8-사이클로알킬 또는 C5-C8 -사이클로알케닐을 나타내고,
R8은 바람직하게는 C1-C6-알킬을 나타내며,
Hal은 바람직하게는 염소 또는 브롬을 나타내고,
R1은 바람직하게는 각 경우에 임의로 할로겐-치환된 C1-C20-알킬, C1 -C20-알콕시, C2-C20-알케닐, C3-C10-알케닐옥시, C1-C8 -알콕시-C1-C8-알킬, C1-C8-알킬티오-C1-C8-알킬, 또는 산소 및/또는 황원자에 의해 차단될 수 있고 임의로 C1-C6-알킬-, C1-C6-알콕시-, 불소- 또는 염소-치환된 3 내지 8 환원자의 사이클로알킬을 나타내거나,
바람직하게는 각 경우에 임의로 할로겐-, 니트로-, C1-C6-알킬-, C1-C6 -알콕시-, C1-C6-할로게노알킬- 또는 C1-C6-할로게노알콕시-치환된 페닐 또는 페녹시를 나타내거나,
바람직하게는 각 경우에 임의로 할로겐-, C1-C6-알킬-, C1-C6-알콕시-, C1-C6-할로게노알킬- 또는 C1-C6-할로게노알콕시-치환된 페닐-C1-C6-알킬 또는 페닐-C1-C4-알킬옥시를 나타내거나,
바람직하게는 임의로 할로겐- 또는 C1-C6-알킬-치환된 헤트아릴을 나타내거나,
바람직하게는 임의로 할로겐- 또는 C1-C6-알킬-치환된 페녹시-C1-C6 -알킬을 나타내거나,
바람직하게는 임의로 할로겐-, 아미노- 또는 C1-C6-알킬-치환된 헤트아릴옥시-C1-C6-알킬을 나타낸다.
일반식 (I), (II) 및 (III)에서, 치환체
X는 특히 바람직하게는 C1-C4-알킬, 불소, 염소, 브롬, C1-C4-알콕시 또는 C1-C2-할로게노알킬을 나타내고,
Y는 특히 바람직하게는 수소, C1-C4-알킬, 불소, 염소, 브롬, C1-C4 -알콕시 또는 C1-C2-할로게노알킬을 나타내며,
Z는 특히 바람직하게는 C1-C4-알킬, 불소, 염소, 브롬 또는 C1-C4 -알콕시를 나타내고,
n은 특히 바람직하게는 0 내지 2의 수를 나타내며,
A, B 및 이들이 결합된 탄소원자는 특히 바람직하게는 각 경우에 임의로 하나의 메틸렌 그룹이 산소 또는 황에 의해 대체되고 C1-C6-알킬, C1-C3 -할로게노알킬, C1-C6-알콕시, 불소 또는 염소에 의해 임의로 치환된 C5-C8-사이클로알킬을 나타내거 나,
A, B 및 이들이 결합된 탄소원자는 특히 바람직하게는 각 경우에 임의로 하나의 메틸렌 그룹이 산소 또는 황에 의해 대체되고 두 탄소원자가 각 경우에 임의로 C1-C4-알킬-, C1-C4-알콕시-, 불소-, 염소- 또는 브롬-치환된 C3-C5-알칸디일 또는 C3-C5-알켄디일에 의해 서로 결합되거나, 부타디엔디일에 의해 서로 결합된 C5 -C6-사이클로알킬을 나타내고,
R8은 특히 바람직하게는 C1-C4-알킬을 나타내며,
Hal은 특히 바람직하게는 염소 또는 브롬을 나타내고,
R1은 특히 바람직하게는 각 경우에 임의로 불소- 또는 염소-치환된 C1-C16-알킬, C1-C16-알콕시, C3-C6-알케닐옥시, C2-C16 -알케닐, C1-C6-알콕시-C1-C4-알킬, C1-C 6-알킬티오-C1-C4-알킬, 또는 1 또는 2개의 산소 및/또는 황원자에 의해 차단될 수 있고 임의로 메틸-, 에틸-, 메톡시-, 불소- 또는 염소-치환된 3 내지 7 환원자의 사이클로알킬을 나타내거나,
각 경우에 임의로 불소-, 염소-, 브롬-, 니트로-, C1-C4-알킬-, C1-C4-알콕시-, C1-C3-할로게노알킬- 또는 C1-C 3-할로게노알콕시-치환된 페닐, 페녹시 또는 벤질옥시를 나타내거나,
임의로 할로겐- 또는 C1-C6-알킬-치환된 헤트아릴을 나타낸다.
일반식 (I), (II) 및 (III)에서, 치환체
X는 매우 특히 바람직하게는 메틸, 에틸, 프로필, i-프로필, 불소, 염소, 브롬, 메톡시, 에톡시 또는 트리플루오로메틸을 나타내고,
Y는 매우 특히 바람직하게는 수소, 메틸, 에틸, 프로필, i-프로필, 부틸, i-부틸, t-부틸, 불소, 염소, 브롬, 메톡시, 에톡시 또는 트리플루오로메틸을 나타내며,
Z는 매우 특히 바람직하게는 메틸, 에틸, i-프로필, 부틸, i-부틸, t-부틸, 불소, 염소, 브롬, 메톡시 또는 에톡시를 나타내고,
n은 매우 특히 바람직하게는 0 내지 1의 수를 나타내며,
A, B 및 이들이 결합된 탄소원자는 매우 특히 바람직하게는 각 경우에 임의로 하나의 메틸렌 그룹이 산소 또는 황에 의해 대체되고 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, 트리플루오로메틸, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, i-프로폭시, 부톡시 또는 i-부톡시에 의해 임의로 치환된 C3-C8-사이클로알킬을 나타내고,
R8은 매우 특히 바람직하게는 메틸, 에틸, 프로필 또는 i-프로필을 나타내며,
Hal은 매우 특히 바람직하게는 염소 또는 브롬을 나타내고,
R1은 매우 특히 바람직하게는 각 경우에 임의로 불소- 또는 염소-치환된 C1-C14-알킬, C1-C10-알콕시, C2-C14-알케닐, C3 -C6-알케닐옥시, C1-C4-알콕시-C1-C2-알킬, C1-C4-알킬티오-C1-C2-알킬 또는 1 또는 2개의 산소 및/또는 황원자에 의해 차단될 수 있는 3 내지 6 환원자의 사이클로알킬을 나타내거나,
각 경우에 임의로 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, 프로필-, i-프로필-, 메톡시-, 에톡시-, 트리플루오로메틸-, 트리플루오로메톡시- 또는 니트로-치환된 페닐, 페녹시 또는 벤질옥시를 나타내거나,
임의로 염소-, 메틸- 또는 에틸-치환된 피리딜을 나타낸다.
매우 특히 바람직한 일반식 (I)의 화합물은 하기 구조식 (IIa)의 화합물을 NaOH 및 하기 구조식 (IIIa)의 화합물과 반응시켜 수득된 하기 구조식 (Ia)의 화합물이다:
Figure 112002027020670-pct00006
Figure 112002027020670-pct00007
Figure 112002027020670-pct00008

또 다른 매우 특히 바람직한 일반식 (I)의 화합물은 하기 구조식 (IIb)의 화합물을 NaOH 및 하기 구조식 (IIIb)의 화합물과 반응시켜 수득된 하기 구조식 (Ib)의 화합물이다:
Figure 112002027020670-pct00009
Figure 112002027020670-pct00010
Figure 112002027020670-pct00011
폐환 반응에 적합한 염기(탈양성자화제)는 모든 통상의 양성자 수용체이다. 이들로는 알칼리 금속 및 알칼리 토금속 산화물, 수산화물 및 탄산염, 예를 들어, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 산화마그네슘, 산화칼슘, 탄산나트륨, 탄산칼륨 및 탄산칼슘을 사용하는 것이 바람직하며, 이들은 또한 상-전이 촉매, 예를 들어, 트리에틸벤질암모늄 클로라이드, 테트라부틸암모늄 브로마이드, 아도겐 464(=메틸트리알킬(C8-C10)암모늄 클로라이드) 또는 TDA 1(=트리스(메톡시에톡시에틸)-아민)의 존재하에서 사용될 수 있다. 알칼리 금속, 예를 들어, 소듐 또는 칼륨이 또한 사용 될 수 있다. 또한, 알칼리 금속 및 알칼리 토금속 아미드 및 수소화물, 예를 들어, 소듐 아미드, 수소화나트륨 및 수소화칼슘, 및 추가로 또한 알칼리 금속 알콕사이드, 예를 들어, 소듐 메톡사이드, 소듐 에톡사이드 및 포타슘 t-부톡사이드, 또는 삼급 아민, 예를 들어 디아자비사이클로옥탄(DABCO), 디아자비사이클로운데센 (DBU), 디아자비사이클로노넨(DBN) 및 휘니그(Huenig) 염기가 사용될 수 있다.
폐환 반응에 적합한 희석제는 사용되는 염기에 불활성인 모든 용매이다. 이들로 탄화수소, 예를 들어 벤진, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 및 테트랄린, 할로겐화 탄화수소, 예를 들어 메틸 클로라이드, 클로로벤젠 및 o-디클로로벤젠, 에테르, 예를 들어 디에틸 에테르, 메틸 t-부틸 에테르, t-아밀 에테르, 테트라하이드로푸란 및 디옥산, 또한 강한 극성 용매, 예를 들어 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸 설폭사이드 및 설폴란을 사용하는 것이 바람직하다.
폐환 반응이 일어난 후, 반응 용액에 산 할라이드를 첨가한다.
산 클로라이드 제제로부터 잔류 염화수소를 제거하기 위하여, 소량의 통상적인 산 수용체를 첨가할 수 있다. 삼급 아민, 예를 들어 트리에틸아민, 피리딘, 디아자비사이클로옥탄(DABCO), 디아자비사이클로운데센(DBU), 디아자비사이클로노넨(DBN) 및 휘니그 염기 및 N,N-디메틸아닐린, 또한 알칼리 토금속 산화물, 예를 들어 산화마그네슘 및 산화칼슘, 알칼리 금속 및 알칼리 토금속 탄산염, 예를 들어 탄산나트륨, 탄산칼륨 및 탄산칼슘을 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 방법에서, 반응 온도는 비교적 넓은 범위내에서 변할 수 있 다. 일반적으로, 본 발명에 따른 방법은 -20 내지 +200 ℃, 바람직하게는 0 내지 150 ℃의 온도에서 수행된다.
반응은 일반적으로 감압, 바람직하게는 50 내지 500 mbar 범위의 압력하에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법을 수행하는 경우, 일반식 (II) 및 (III)의 반응 성분과 탈양성자화 염기는 일반적으로 대략 동몰량으로 사용된다. 그러나, 한 성분 또는 다른 성분을 상대적 과량(5 몰이하, 바람직하게는 2 몰이하)으로 사용할 수도 있다.
일반식 (II)의 출발물질은 공지되었다. 이들의 제조방법이 EP-A-647 637호에 기술되어 있다. 일반식 (III)의 카보닐 할라이드 또한 마찬가지로 공지되었다. 이들은 상업적으로 입수가능하거나, 유기 화학의 일반적인 통상의 방법으로 제조될 수 있다.
일반식 (I) 화합물의 제조가 하기 제조 실시예로 예시된다.
제조 실시예
실시예 1
Figure 112002027020670-pct00012
플라스크에서, 수산화나트륨 1.1 몰을 우선 N,N-디메틸아세트아미드 500 ㎖에 도입하여 200 mbar로 감압한 후, 혼합물을 가열하였다. 그후, 약 225 ㎖의 N,N-디메틸아세트아미드중의 디에스테르 1 몰 용액을 4 시간에 걸쳐 계량 첨가함과 동시에 증류액을 약 50 ㎖/h의 속도로 제거하였다. 증류액을 여전히 약 50 ㎖/h의 속도로 제거하면서 혼합물을 2 시간 더 교반하였다. 200 mbar에서, 약 70 g의 증류액을 추가로 제거하였다. 최종적으로, 증류 탑저물(distillation bottom)의 양은 688.5 g이었다.
에놀 Na 염으로의 전환을 다음과 같이 결정하였다:
실온에서, 증류 탑저물의 1/10을 5% 염산 150 ㎖에 교반하면서 첨가하였다. 침전된 에놀을 여과하여 물 100 ㎖로 연마한 후, 다시 여과하여 감압하에 50 ℃에서 건조시켰다. 순도 88.0%의 에놀 22.4 g(이론치의 72.4%)을 수득하였다; 또 다른 에놀 1.5%(이론치의 8.8%)가 모액(152.4 g)에서 검출되었고, 추가의 에놀 0.43%(이론치의 1.6%)가 세척수(101.5 g)에서 검출되었다. 따라서, 에놀의 총 수율은 이론치의 82.8% 이다.
탑저물 137.7 g을 먼저 트리에틸아민 약 15 몰%(산 클로라이드 제제로부터 잔류하는 HCl을 제거하기 위하여)와 함께 플라스크의 메틸사이클로헥산 130 ㎖에 도입하였다. 25 내지 30 ℃에서, 3,3-디메틸부티릴 클로라이드 0.25 몰을 2 시간에 걸쳐 계량 첨가하였다. 혼합물을 25 내지 30 ℃에서 2 시간동안 교반하였다. 그후, 반응 혼합물을 냉각없이, 물 320 ㎖중의 중탄산나트륨 8.4 g의 용액에 계량 첨가하였다. 혼합물을 50 ℃로 가열하여 이 온도에서 1 시간동안 교반하였다. 수성상을 제거하고, 물 80 ㎖를 첨가하였다. 혼합물을 50 ℃에서 30 분간 교반한 후, 수성상을 제거하였다. 유기상을 35 ℃로 냉각하여 시드(seed) 결정과 혼합한 다음, 25 ℃에서 1 시간동안 교반하였다. 이어서, 유기상을 -10 ℃로 서서히 냉각한 후, 이 온도에서 1 시간동안 교반하였다.
침전 생성물을 여과하여 건조시켰다: 51.7 g(이론치의 68.4%, 사용된 디에스테르 기준).
실시예 2
Figure 112002027020670-pct00013
플라스크에서, 수산화나트륨 2.2 몰을 우선 N,N-디메틸아세트아미드 1,000 ㎖에 도입하여 200 mbar로 감압한 후, 혼합물을 가열하였다. 약 1,150 ㎖의 N,N-디메틸아세트아미드중의 헥실 에스테르 2 몰 용액을 4 시간에 걸쳐 계량 첨가함과 동시에 증류액을 약 200 g/h의 속도로 제거하였다. 증류액을 여전히 약 200 g/h의 속도로 제거하면서 혼합물을 2 시간 더 교반하였다. 200 mbar에서, 약 120 g의 증류액을 추가로 제거하였다. 최종적으로, 증류 탑저물의 양은 1,484 g이었다.
에놀 Na 염으로의 전환을 다음과 같은 두 방법으로 결정하였다:
1. 탑저 샘플을 HPLC로 조사하였다. Na염이 유리 에놀로 결정되었다. 에 놀 함량은 40.0%인 것으로 밝혀졌다; 이것은 헥실 에스테르를 기준으로 하여 이론치의 94.8% 수율에 상당한다.
2. 실온에서, 증류 탑저물의 1/20을 5% 염산 150 ㎖에 교반하면서 첨가하였다. 침전된 에놀을 여과하여 물 100 ㎖로 연마한 후, 다시 여과하여 감압하에 50 ℃에서 건조시켰다. 순도 94.4%의 에놀 32.4 g을 수득하였다; 이것은 헥실 에스테르를 기준으로 하여 이론치의 97.6% 수율에 상당한다.
탑저물 148 g을 먼저 트리에틸아민 약 15 몰%(산 클로라이드 제제로부터 잔류하는 HCl을 제거하기 위하여)와 함께 플라스크의 메틸사이클로헥산 130 ㎖에 도입하였다. 25 내지 30 ℃에서, 2,2-디메틸부티릴 클로라이드 0.25 몰을 2 시간에 걸쳐 계량 첨가하였다. 혼합물을 25 내지 30 ℃에서 2 시간동안 교반하였다. 그후, 반응 혼합물을 냉각없이, 물 320 ㎖중의 중탄산나트륨 8.4 g의 용액에 계량 첨가하였다. 혼합물을 50 ℃로 가열하여 이 온도에서 1 시간동안 교반하였다. 수성상을 제거하고, 물 80 ㎖를 첨가하였다. 혼합물을 50 ℃에서 30 분간 교반한 후, 수성상을 제거하였다. 유기상을 35 ℃로 냉각하여 시드 결정과 혼합한 다음, 25 ℃에서 1 시간동안 교반하였다. 이어서, 유기상을 -10 ℃로 서서히 냉각한 후, 이 온도에서 1 시간동안 교반하였다. 침전 생성물을 여과하여 건조시켰다: 73.7 g(이론치의 89.1%, 사용된 헥실 에스테르 기준).

Claims (6)

  1. 일반식 (II)의 화합물을, 경우에 따라 희석제의 존재하에서 염기 및 일반식 (III)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여, 일반식 (I)의 화합물을 제조하는 방법:
    Figure 112002027020670-pct00014
    Figure 112002027020670-pct00015
    Figure 112002027020670-pct00016
    상기 식에서,
    X는 알킬, 할로겐, 알콕시 또는 할로게노알킬을 나타내고,
    Y는 수소, 알킬, 할로겐, 알콕시 또는 할로게노알킬을 나타내며,
    Z는 알킬, 할로겐 또는 알콕시를 나타내고,
    n 은 0 내지 3의 수를 나타내거나,
    래디칼 X 및 Z는 이들이 결합된 페닐 래디칼과 함께, 일반식
    Figure 112002027020670-pct00017
    의 나프탈렌 래디칼을 나타내며, 여기에서 Y는 상기 정의된 바와 같고,
    A는 각 경우에 임의로 치환된 알킬, 알케닐, 알콕시알킬, 폴리알콕시알킬 및 알킬티오알킬로 구성된 그룹중에서 선택된 래디칼을 나타내거나, 각 경우에 임의로 치환된 포화 또는 불포화 사이클로알킬 또는 헤테로사이클릴을 나타내거나, 각 경우에 임의로 할로겐-, 알킬-, 할로게노알킬-, 알콕시-, 할로게노알콕시-, 시아노- 또는 니트로-치환된 아릴, 아릴알킬 또는 헤트아릴을 나타내며,
    B는 알킬 또는 알콕시알킬을 나타내거나,
    A 및 B는 이들이 결합된 탄소원자와 함께, 임의로 치환된 포화 또는 불포화 카보사이클 또는 헤테로사이클을 나타내고,
    R1은 각 경우에 임의로 할로겐-치환된 알킬, 알콕시, 알케닐, 알케닐옥시, 알콕시알킬, 알킬티오알킬, 폴리알콕시알킬 또는 헤테로원자에 의해 차단될 수 있는 임의로 치환된 사이클로알킬을 나타내거나, 임의로 치환된 페닐 또는 페녹시를 나타내거나, 임의로 치환된 페닐알킬 또는 페닐알킬옥시를 나타내거나, 치환된 헤트아릴을 나타내거나, 치환된 페녹시알킬을 나타내거나, 치환된 헤트아릴옥시를 나타내며,
    R8은 알킬을 나타내고,
    Hal 은 할로겐을 나타낸다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    일반식 (II)의 화합물을, 경우에 따라 희석제의 존재하에서 염기 및 일반식 (III)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여,
    X는 C1-C6-알킬, 할로겐, C1-C6-알콕시 또는 C1-C 3-할로게노알킬을 나타내고,
    Y는 수소, C1-C6-알킬, 할로겐, C1-C6-알콕시 또는 C1 -C3-할로게노알킬을 나타내며,
    Z는 C1-C6-알킬, 할로겐 또는 C1-C6-알콕시를 나타내고,
    n은 0 내지 3의 수를 나타내거나,
    래디칼 X 및 Z는 이들이 결합된 페닐 래디칼과 함께, 일반식
    Figure 112002027020670-pct00018
    의 나프탈렌 래디칼을 나타내며, 여기에서 Y는 상기 정의된 바와 같고,
    A는 각 경우에 임의로 할로겐-치환된 C1-C12-알킬, C2-C8-알케닐 또는 C1-C10-알콕시-C1-C8-알킬을 나타내거나, 임의로 하나 또는 직접 인접해 있지 않은 두개의 메틸렌 그룹이 산소 및/또는 황에 의해 대체되고 임의로 할로겐-, C1-C6-알킬- 또는 C1-C6-알콕시-치환된 C3-C8-사이클로알킬을 나타내거나, 각 경우에 임의로 할로겐-, C1-C6-알킬-, C1-C6-할로게노알킬-, C1-C6 -알콕시-, C1-C6-할로게노알콕시-, 시아노- 또는 니트로-치환된 페닐 또는 페닐-C1-C6-알킬을 나타내며,
    B는 C1-C12-알킬 또는 C1-C8-알콕시-C1-C6 -알킬을 나타내거나,
    A, B 및 이들이 결합된 탄소원자는 임의로 하나의 메틸렌 그룹이 산소 또는 황에 의해 대체되고 C1-C8-알킬, C3-C10-사이클로알킬, C1 -C8-할로게노알킬, C1-C8-알콕시, C1-C8-알킬티오, 할로겐 또는 페닐에 의해 임의로 치환된 C5-C10 -사이클로알킬 또는 C5-C10-사이클로알케닐을 나타내거나,
    A, B 및 이들이 결합된 탄소원자는 두 탄소 원자가 각 경우에 임의로 C1-C6-알킬-, C1-C6-알콕시- 또는 할로겐-치환된 C3-C6-알칸디일, C3-C6-알켄디일 또는 C4-C6-알칸디엔디일에 의해 상호 결합되고 각 경우에 임의로 하나의 메틸렌 그룹이 산소 또는 황에 의해 대체된 C5-C8-사이클로알킬 또는 C5-C8-사이클로알케닐을 나타내고,
    R1은 각 경우에 임의로 할로겐-치환된 C1-C20-알킬, C1-C20 -알콕시, C2-C20-알케닐, C3-C10-알케닐옥시, C1-C8-알콕시-C1-C8 -알킬, C1-C8-알킬티오-C1-C8-알킬, 또는 산소 및/또는 황원자에 의해 차단될 수 있고 임의로 C1-C6-알킬-, C1-C6 -알콕시-, 불소- 또는 염소-치환된 3 내지 8 환원자의 사이클로알킬을 나타내거나,
    각 경우에 임의로 할로겐-, 니트로-, C1-C6-알킬-, C1-C6-알콕시-, C1-C6-할로 게노알킬- 또는 C1-C6-할로게노알콕시-치환된 페닐 또는 페녹시를 나타내거나,
    각 경우에 임의로 할로겐-, C1-C6-알킬-, C1-C6-알콕시-, C 1-C6-할로게노알킬- 또는 C1-C6-할로게노알콕시-치환된 페닐-C1-C6-알킬 또는 페닐-C 1-C4-알킬옥시를 나타내거나,
    임의로 할로겐- 또는 C1-C6-알킬-치환된 헤트아릴을 나타내거나,
    임의로 할로겐- 또는 C1-C6-알킬-치환된 페녹시-C1-C6-알킬을 나타내거나,
    임의로 할로겐-, 아미노- 또는 C1-C6-알킬-치환된 헤트아릴옥시-C1-C6 -알킬을 나타내는 일반식 (I)의 화합물을 제조하는 방법:
    Figure 112002027020670-pct00019
    Figure 112002027020670-pct00020
    상기 식에서,
    X, Y, Z, n, A, B 및 R1은 각각 상기 정의된 바와 같고,
    R8은 C1-C6-알킬을 나타내며,
    Hal은 염소 또는 브롬을 나타낸다.
  3. 제 1 항에 있어서,
    일반식 (II)의 화합물을, 경우에 따라 희석제의 존재하에서 염기 및 일반식 (III)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여,
    X는 C1-C4-알킬, 불소, 염소, 브롬, C1-C4-알콕시 또는 C1 -C2-할로게노알킬을 나타내고,
    Y는 수소, C1-C4-알킬, 불소, 염소, 브롬, C1-C4-알콕시 또는 C1-C2-할로게노알킬을 나타내며,
    Z는 C1-C4-알킬, 불소, 염소, 브롬 또는 C1-C4-알콕시를 나타내고,
    n은 0 내지 2의 수를 나타내며,
    A, B 및 이들이 결합된 탄소원자는 각 경우에 임의로 하나의 메틸렌 그룹이 산소 또는 황에 의해 대체되고 C1-C6-알킬, C1-C3-할로게노알킬, C1-C6-알콕시, 불소 또는 염소에 의해 임의로 치환된 C5-C8-사이클로알킬을 나타내거나,
    A, B 및 이들이 결합된 탄소원자는 각 경우에 임의로 하나의 메틸렌 그룹이 산소 또는 황에 의해 대체되고 두 탄소원자가 각 경우에 임의로 C1-C4-알킬-, C1 -C4-알콕시-, 불소-, 염소- 또는 브롬-치환된 C3-C5-알칸디일 또는 C3-C5 -알켄디일에 의해 서로 결합되거나, 부타디엔디일에 의해 서로 결합된 C5-C6-사이클로알킬을 나타내고,
    R1은 각 경우에 임의로 불소- 또는 염소-치환된 C1-C16-알킬, C1-C 16-알콕시, C3-C6-알케닐옥시, C2-C16-알케닐, C1-C6-알콕시-C 1-C4-알킬, C1-C6-알킬티오-C1-C4-알킬, 또는 1 또는 2개의 산소 및/또는 황원자에 의해 차단될 수 있고 임의로 메틸-, 에틸-, 메톡시-, 불소- 또는 염소-치환된 3 내지 7 환원자의 사이클로알킬을 나타내거나,
    각 경우에 임의로 불소-, 염소-, 브롬-, 니트로-, C1-C4-알킬-, C1-C4-알콕시-, C1-C3-할로게노알킬- 또는 C1-C 3-할로게노알콕시-치환된 페닐, 페녹시 또는 벤질옥시를 나타내거나,
    임의로 할로겐- 또는 C1-C6-알킬-치환된 헤트아릴을 나타내는 일반식 (I)의 화합물을 제조하는 방법:
    Figure 112002027020670-pct00021
    Figure 112002027020670-pct00022
    상기 식에서,
    X, Y, Z, n, A, B, R1은 각각 상기 정의된 바와 같고,
    R8은 C1-C4-알킬을 나타내며,
    Hal은 제 1 항에 정의된 바와 같다.
  4. 제 1 항에 있어서,
    일반식 (II)의 화합물을, 경우에 따라 희석제의 존재하에서 염기 및 일반식 (III)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여,
    X는 메틸, 에틸, 프로필, i-프로필, 불소, 염소, 브롬, 메톡시, 에톡시 또는 트리플루오로메틸을 나타내고,
    Y는 수소, 메틸, 에틸, 프로필, i-프로필, 부틸, i-부틸, t-부틸, 불소, 염소, 브롬, 메톡시, 에톡시 또는 트리플루오로메틸을 나타내며,
    Z는 메틸, 에틸, i-프로필, 부틸, i-부틸, t-부틸, 불소, 염소, 브롬, 메톡시 또는 에톡시를 나타내고,
    n은 0 내지 1의 수를 나타내며,
    A, B 및 이들이 결합된 탄소원자는 각 경우에 임의로 하나의 메틸렌 그룹이 산소 또는 황에 의해 대체되고 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, 트리플루오로메틸, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, i-프로폭시, 부톡시 또는 i-부톡시에 의해 임의로 치환된 C3-C8-사이클로알킬을 나타내고,
    R1은 각 경우에 임의로 불소- 또는 염소-치환된 C1-C14-알킬, C1-C 10-알콕시, C2-C14-알케닐, C3-C6-알케닐옥시, C1-C4-알콕시-C 1-C2-알킬, C1-C4-알킬티오-C1-C2-알킬 또는 1 또는 2개의 산소 및/또는 황원자에 의해 차단될 수 있는 3 내지 6 환원자의 사이클로알킬을 나타내거나,
    각 경우에 임의로 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, 프로필-, i-프로필-, 메톡시-, 에톡시-, 트리플루오로메틸-, 트리플루오로메톡시- 또는 니트로-치환된 페닐, 페녹시 또는 벤질옥시를 나타내거나,
    임의로 염소-, 메틸- 또는 에틸-치환된 피리딜을 나타내는 일반식 (I)의 화합물을 제조하는 방법:
    Figure 112002027020670-pct00023
    Figure 112002027020670-pct00024
    상기 식에서,
    X, Y, Z, n, A, B, R1은 각각 상기 정의된 바와 같고,
    R8은 메틸, 에틸, 프로필 또는 i-프로필을 나타내며,
    Hal은 제 1 항에 정의된 바와 같다.
  5. 구조식 (IIa)의 화합물을 NaOH 및 구조식 (IIIa)의 화합물과 반응시킴을 특 징으로 하여 구조식 (Ia)의 화합물을 제조하는 방법:
    Figure 112002027020670-pct00025
    Figure 112002027020670-pct00026
    Figure 112002027020670-pct00027
  6. 구조식 (IIb)의 화합물을 NaOH 및 구조식 (IIIb)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여 구조식 (Ib)의 화합물을 제조하는 방법:
    Figure 112002027020670-pct00028
    Figure 112002027020670-pct00029
    Figure 112002027020670-pct00030
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