KR100647495B1 - 폴리카보네이트 성분이 함유된 수지 제품의 표면 특성을개선하기 위한 도금방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (9)
- 전처리 공정, 무전해도금 공정, 전기도금 공정, 세척 및 건조 공정을 포함하며,상기 전기도금 공정은 유산동 단계, 니켈도금 단계, 크롬도금 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리카보네이트(PC) 성분이 함유된 수지 제품의 표면 특성을 개선하기 위한 도금방법.
- 제 1항에 있어서,상기 전처리 공정은 초음파 전해 탈지 단계, 용제처리 단계, 프리에칭 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리카보네이트(PC) 성분이 함유된 수지 제품의 표면 특성을 개선하기 위한 도금방법.
- 제 1항에 있어서,상기 무전해도금 공정은 고농도 유산에칭 단계, 고농도 크롬산에칭 단계, 중화 단계, 폴리카보네이트 전용 활성화 단계, 활성 1단계, 활성 2단계, 화학니켈도금 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리카보네이트(PC) 성분이 함유된 수지 제품의 표면 특성을 개선하기 위한 도금방법.
- 삭제
- 제 2항에 있어서,상기 초음파 전해 탈지 단계에서는 폴리카보네이트(PC) 및 폴리카보네이트(PC) 수지가 70% 이상 혼합된 피도금물을 규산소다 7~12중량%, 폴리옥시에틸렌알칼에테르 3~7중량%, 글루코네이드염 3~7중량% 및 물 74~87중량%가 혼합된 처리액에 침지하였다가 수세하며,상기 용제처리 단계에서는 상기 피도금물을 비이온계면활성제 10~50㎖/ℓ, 농도 98%의 황산 50~100㎖/ℓ가 혼합된 처리액에 침지하였다가 수세하며,상기 프리에칭 단계에서는 상기 피도금물을 디에틸렌글리콜 알킬에테르 35~45중량% 및 알코올 유도체 55~65중량%가 혼합된 액과 순수한 물을 6:4로 혼합한 처리액에 침지하였다가 수세하는 것을 특징으로 하는 폴리카보네이트(PC) 성분이 함유된 수지 제품의 표면 특성을 개선하기 위한 도금방법.
- 제 3항에 있어서,상기 고농도 유산에칭 단계에서는 상기 피도금물을 산화크롬(CrO3) 14~18g/ℓ와 황산 550~650㎖/ℓ이 혼합된 처리액에서 침지하였다가 수세하며,상기 고농도 크롬산에칭 단계에서는 상기 피도금물을 산화크롬 550~6508g/ℓ와 황산 150~250g/ℓ이 혼합된 처리액에 침지하였다가 수세하며,상기 중화 단계에서는 상기 피도금물을 물에 염산을 첨가하여 10% 농도로 제조된 처리액에 침지하였다가 수세하며,상기 폴리카보네이트 전용 활성화 단계에서는 상기 피도금물을 45~55㎖/ℓ 의 콘디리저(condilizer) 용액에 침지하였다가 수세하며,상기 활성 1단계에서는 상기 피도금물을 석과 파라듐염이 10:1로 혼합된 촉매 75㎖/ℓ 및 염산 100㎖/ℓ이 혼합된 처리액에 침지하였다가 수세하며,상기 활성 2단계에서는 상기 피도금물을 15% 농도의 황산 용액에 침지하였다가 수세한 후, 10% 농도의 수산화나트륨 용액에 침지하였다가 수세하며,상기 화학니켈도금 단계에서는 상기 피도금물을 화학 니켈 도금액인 U-55-1 50㎖/ℓ, U-55-2 50㎖/ℓ 및 U-55-3 100㎖/ℓ이 혼합된 처리액에 침지하였다가 수세하는 것을 특징으로 하는 폴리카보네이트(PC) 성분이 함유된 수지 제품의 표면 특성을 개선하기 위한 도금방법.
- 제 1항에 있어서,상기 유산동 단계는 상기 피도금물을 황산동(CuSO4·5H2O) 200g/ℓ, 황산(H2SO4) 60g/ℓ, 동도금 광택제인 큐프라시드 울트라 A(Cupracid Ultra A) 0.5㎖/ℓ, 큐프라시드 울트라 B(Cupracid Ultra B) 0.5㎖/ℓ 및 건욕용 큐프라시드 울트라(Cupracid Ultra) 10㎖/ℓ가 혼합된 처리액에서 전류밀도 3~4A/d㎡로 침지하였다가 수세하며,상기 크롬도금 단계에서는 상기 피도금물을 산화크롬 200~300g/ℓ 와 황산 0.7~1.5g/ℓ가 혼합된 처리액에서 전류밀도 8~32A/d㎡로 침지하였다가 수세하는 것을 특징으로 하는 폴리카보네이트(PC) 성분이 함유된 수지 제품의 표면 특성을 개선하기 위한 도금방법.
- 제 1항에 있어서,상기 니켈 도금 단계는 상기 피도금물을 황산니켈 240~320g/ℓ, 염화니켈 40~50g/ℓ, 붕산 30~50g/ℓ, LL M 3~5㎖/ℓ 및 LL B 0.2~0.5㎖/ℓ가 혼합된 처리액에서 전류밀도 4~5A/d㎡로 침지하였다가 수세하는 것을 특징으로 하는 폴리카보네이트(PC) 성분이 함유된 수지 제품의 표면 특성을 개선하기 위한 도금방법.
- 제 1항에 있어서,상기 니켈 도금 단계는 피도금물을 황산니켈 460~500g/ℓ, 염화니켈 25~40g/ℓ, 붕산 37~45g/ℓ, PEARL SI-1 17~23㎖/ℓ, PEARL SI-2 4~8㎖/ℓ 및 PEARL NO-1 0.05~0.20㎖/ℓ가 혼합된 처리액에서 전류밀도 3~5A/d㎡로 침지하였다가 수세하는 것을 특징으로 하는 폴리카보네이트(PC) 성분이 함유된 수지 제품의 표면 특성을 개선하기 위한 도금방법.
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Families Citing this family (3)
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KR100856687B1 (ko) * | 2007-11-29 | 2008-09-04 | 동진P&I산업(주) | 유전체로 사용한 소재에 전도체 물질을 형성하는 무전해도금방법 |
KR102241457B1 (ko) * | 2019-06-19 | 2021-04-19 | 대영엔지니어링 주식회사 | 비 전도성 플라스틱의 습식 표면처리 방법 |
KR102232079B1 (ko) * | 2019-06-19 | 2021-03-25 | 대영엔지니어링 주식회사 | 비 전도성 플라스틱의 표면특성 개선을 위한 도금방법 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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KR19980076882A (ko) * | 1997-04-15 | 1998-11-16 | 김순택 | 폴리카보네이트 성분이 다량 함유된 수지 제품의 무전해 도금에 있어 수지제조시의 각종 첨가제의 영향을 제거하는 전처리과정을 가지는 전자파 차폐용 무전해도금방법 |
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09228058A (ja) * | 1995-12-19 | 1997-09-02 | Polyplastics Co | 表面に金属層を形成した熱可塑性樹脂成形品 |
KR19980076882A (ko) * | 1997-04-15 | 1998-11-16 | 김순택 | 폴리카보네이트 성분이 다량 함유된 수지 제품의 무전해 도금에 있어 수지제조시의 각종 첨가제의 영향을 제거하는 전처리과정을 가지는 전자파 차폐용 무전해도금방법 |
Non-Patent Citations (2)
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---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100848012B1 (ko) * | 2007-10-05 | 2008-07-23 | (주)경도화학 | 출입문 손잡이의 제조방법 |
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