KR100618700B1 - 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법 - Google Patents

웨이퍼 레벨 패키지 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100618700B1
KR100618700B1 KR1020040056349A KR20040056349A KR100618700B1 KR 100618700 B1 KR100618700 B1 KR 100618700B1 KR 1020040056349 A KR1020040056349 A KR 1020040056349A KR 20040056349 A KR20040056349 A KR 20040056349A KR 100618700 B1 KR100618700 B1 KR 100618700B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
insulating layer
forming
ball land
seed metal
wafer
Prior art date
Application number
KR1020040056349A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20060007531A (ko
Inventor
한권환
Original Assignee
주식회사 하이닉스반도체
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 하이닉스반도체 filed Critical 주식회사 하이닉스반도체
Priority to KR1020040056349A priority Critical patent/KR100618700B1/ko
Publication of KR20060007531A publication Critical patent/KR20060007531A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100618700B1 publication Critical patent/KR100618700B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/11Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/60Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/11Manufacturing methods

Abstract

본 발명은 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법을 개시한다. 개시된 본 발명의 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법은 상부면 중심부에 본딩패드가 배열된 반도체 칩들로 이루어진 웨이퍼를 제공하는 단계; 상기 웨이퍼 상에 절연층을 형성하는 단계; 상기 절연층을 식각하여 본딩패드를 노출시키는 단계; 상기 절연층의 볼 랜드가 형성될 부분 상에 아일랜드 패턴을 형성하는 단계; 상기 아일랜드 패턴을 포함한 절연층과 본딩패드 상에 씨드(seed) 금속막을 형성하는 단계; 상기 씨드 금속막 상에 금속배선이 형성될 영역을 한정하는 감광막 패턴을 형성하는 단계; 상기 결과물에 대해 도금 공정을 진행하여 노출된 씨드 금속막 상에 상기 아일랜드 패턴에 의해 돌출된 형상의 볼 랜드를 갖는 금속배선을 형성하는 단계; 상기 감광막 팬턴을 제거함과 아울러 그 아래의 씨드 금속막 부분을 제거하는 단계; 상기 금속배선을 포함한 절연층 상에 볼 랜드를 노출시키는 솔더 마스크를 형성하는 단계; 상기 노출된 볼 랜드 상에 솔더 볼을 부착하는 단계; 및 상기 웨이퍼 레벨의 결과물을 칩 레벨로 분리시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

웨이퍼 레벨 패키지 제조방법{Method for fabricating wafer level package}
도 1은 솔더 마스크 한정형 볼 랜드 구조의 단면도.
도 2는 솔더 마스크 비한정형 볼 랜드 구조의 단면도.
도 3a 내지 도 3i는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법을 설명하기 위한 공정별 단면도.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 명칭*
31 : 웨이퍼 32 : 본딩패드
33 : 절연층 34 : 아일랜드 패턴
35 : 씨드(seed)금속막 36 : 감광막 패턴
37 : 금속배선 38 : 솔더 마스크
39 : 솔더 볼
본 발명은 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 솔더 조인트의 신뢰성(solderability)을 개선시키기 위한 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법에 관한 것이다.
반도체 칩의 고집적화 기술로 같은 크기의 반도체 칩에도 더 많은 회로배치가 가능해지고 반도체 칩의 크기도 커져 더 많은 입/출력 신호를 반도체 칩이 수용하게 됨으로서 반도체 패키지 분야에서는 수용가능한 입/출력핀의 수를 증가시켜 실장 밀도를 높인 BGA 패키지를 개발하게 되었다. 상기한 BGA 패키지는 그 입/출력 수단을 반도체 패키지의 일면 전체에 융착된 솔더 볼로 함으로서 종래보다 많은 수의 입/출력 신호를 수용할 수 있게 되었으며, 그 크기도 반도체 칩의 크기에 가까워 차세대 패키지로 각광받고 있다.
상기 BGA 패키지에서, 솔더 볼은 소자가 형성된 회로기판 상에 형성된 볼 랜드에 부착되는 외부 신호 연결단자로써, BGA 패키지는 상기와 같은 솔더 볼을 회로기판의 패턴에 접속하는 것에 의하여 실장된다.
이러한, BGA 패키지에서, 솔더 볼이 융착되는 영역인 볼 랜드는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 솔더 마스크 한정형(Solder Mask Defined Type : 이하 SMD)과 솔더 마스트 비한정형(Non Solder Mask Defined Type : 이하 NSMD)으로 크게 나눌 수 있다.
즉, 도 1은 SMD 타입 볼 랜드 구조를 도시한 단면도로서, 도시된 바와 같이, 회로기판(11)상에 구리(Cu)재질의 볼 랜드(12)가 형성 되어있고, 상기 볼 랜드(12)의 외곽부가 회로기판(11)과 솔더 마스크(13)사이에 끼워진 형상으로 되어 있으며, 상기 볼 랜드(12) 표면에 솔더 볼(14)이 부착되어있는 구조이다.
도 2는 NSMD 타입 볼 랜드 구조를 도시한 단면도로서, 도시된 바와 같이, 회로기판(21)상에 솔더 마스크(23)가 형성되어 있고, 볼 랜드(22)는 상기 회로기판 (21) 표면과 솔더 마스크(23)의 요홈부 내측에 형성 되어있고, 상기 볼 랜드(22) 표면에 솔더 볼(24)이 부착 되어있는 구조이다.
그러나, 이러한 볼 랜드 구조에 있어서, 도 1에 도시된 SMD 타입의 경우, 솔더 마스트(13)가 볼 랜드(12)를 지지하는 형상을 가지는 반면, 솔더 볼(14)과 볼 랜드(12)의 표면 접합면이 일직선으로 형성되어, 열스트레스에 인한 솔더 조인트 크랙(Solder Joint crack)의 진행이 빠르다. 즉, 솔더 조인트의 신뢰성이 취약하다는 단점이 있다.
또한, 도 2에 도시된 NSMD 타입의 경우, SMD타입에 비해 솔더 볼(24)과 볼 랜드(22)의 접합면은 굴곡을 가지고 있어 열 스트레스로 인한 솔더 조인트 크랙의 진행이 어려워, 솔더 조인트 신뢰도가 SMD타입에 비해 높지만, 솔더 볼(24)과 볼 랜드(22)가 함께 회로기판(21)표면에서 분리되는 문제가 있다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 솔더 조인트의 신뢰성을 갖도록 하는 웨이퍼레벨 패키지의 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 웨이퍼 레벨의 패키지 방법은, 상부면 중심부에 본딩패드가 배열된 반도체 칩들로 이루어진 웨이퍼를 제공하는 단계; 상기 웨이퍼 상에 절연층을 형성하는 단계; 상기 절연층을 식각하여 본딩패드를 노출시키는 단계; 상기 절연층의 볼 랜드가 형성될 부분 상에 아일랜드 패턴을 형성하는 단계; 상기 아일랜드 패턴을 포함한 절연층과 본딩패드 상에 씨드(seed) 금속막을 형성하는 단계; 상기 씨드 금속막 상에 금속배선이 형성될 영역을 한정하는 감광막 패턴을 형성하는 단계; 상기 결과물에 대해 도금 공정을 진행하여 노출된 씨드 금속막 상에 상기 아일랜드 패턴에 의해 돌출된 형상의 볼 랜드를 갖는 금속배선을 형성하는 단계; 상기 감광막 팬턴을 제거함과 아울러 그 아래의 씨드 금속막 부분을 제거하는 단계; 상기 금속배선을 포함한 절연층 상에 볼 랜드를 노출시키는 솔더 마스크를 형성하는 단계; 상기 노출된 볼 랜드 상에 솔더 볼을 부착하는 단계; 및 상기 웨이퍼 레벨의 결과물을 칩 레벨로 분리시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
(실시예)
이하, 첨부된 도면에 의거하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하도록 한다.
도 3a 내지 도 3i는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법을 설명하기 위한 공정별 단면도이다. 여기서, 각 도면은 단위 칩에 대해서 도시한 것이다.
도 3a를 참조하면, 상부면 중심부에 본딩패드(32)가 배열된 다수개의 반도체 칩들로 이루어진 웨이퍼(31)를 제공한다.
도 3b를 참조하면, 상기 웨이퍼(31)상에 절연층(33)을 형성한다. 상기 절연층(33)은 재배열 금속 라인간 쇼트 방지를 위해 형성하는 것이다.
도 3c를 참조하면, 상기 절연층(33)을 사진공정 등을 통해 식각하여 본딩패 드(32)를 노출시킨다. 그다음, 상기 절연층(33)의 "A"영역 상에 아일랜드 패턴(34)을 형성한다. 여기서, 상기 "A"영역은 볼 랜드가 형성될 부분을 나타낸다.
도 3d를 참조하면, 상기 아일랜드 패턴(34)을 포함한 절연층과 본딩패드(32) 상에 씨드(seed) 금속막(35)을 형성한다.
도 3e 내지 도 3f를 참조하면, 상기 씨드 금속막(35) 상에 감광막을 도포한후, 이를 노광 및 현상해서 금속배선(37)이 형성될 영역을 한정하는 감광막(36) 패턴을 형성한다.
도 3g를 참조하면, 상기 결과물에 대해 도금 공정을 진행하여 노출된 씨드 금속막(35) 상의 "A"영역에 상기 아일랜드 패턴(34)에 의해 돌출된 형상의 볼 랜드를 갖도록 금속배선(37)을 형성한다.
도 3h를 참조하면, 상기 잔류된 감광막 패턴(36)을 제거함과 아울러 그 아래의 씨드 금속막 부분(35)을 제거한다. 그다음, 상기 금속배선(37)을 포함한 절연층(33) 상에 볼 랜드를 노출시키는 솔더 마스크(38)를 형성한다. 이와 같이, 상기 볼 랜드, 즉, 솔더 볼이 부착되는 곳의 표면을 아일랜드 패턴에 삽입, 굴곡을 형성시킴으로써, NSMD의 볼랜드 형태와 유사하게 제작할 수 있다. 이러한 형태는 열 스테레스에 의한 솔더 조인트 크랙의 진행이 어려워져 솔더 조인트의 신뢰성이 향상되며, 동시에 SMD의 형태와 유사하게 솔더 마스크가 볼 랜드를 지지하는 특성 또한 갖게 되어 NSMD에서 종종 발생하는 볼 랜드와 그 하부 층간의 계면 박리에 대한 저항성을 높이게 된다.
도 3i를 참조하면 상기 노출된 "A"영역의 볼 랜드 상에 솔더 볼(39)을 부착 한 후, 이를 리플로우 시킨다.
이후, 웨이퍼 레벨로 제조된 다수개의 패키지를 칩 레벨로 절단하여 웨이퍼 레벨 패키지를 완성한다.
이상에서와 같이, 본 발명은 볼 랜드의 표면을 굴곡을 지닌 NSMD의 볼 랜드의 형태와 유사하게 하고, 동시에 SMD의 볼 랜드의 형태와 유사하게 솔더마스크가 볼 랜드를 지지하는 특성 또한 갖게 하여 솔더 조인트의 신뢰성을 개선시키으로 패키지의 신뢰성을 향상시킨다.
이상, 여기에서는 본 발명을 특정 실시예에 관련하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명이 그에 한정되는 것은 아니며, 이하의 특허청구의 범위는 본 발명의 정신과 분야를 이탈하지 않는 한도 내에서 본 발명이 다양하게 개조 및 변형될 수 있다는 것을 당업계에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 알 수 있다.

Claims (1)

  1. 상부면 중심부에 본딩패드가 배열된 반도체 칩들로 이루어진 웨이퍼를 제공하는 단계;
    상기 웨이퍼 상에 절연층을 형성하는 단계;
    상기 절연층을 식각하여 본딩패드를 노출시키는 단계;
    상기 절연층의 볼 랜드가 형성될 부분 상에 아일랜드 패턴을 형성하는 단계;
    상기 아일랜드 패턴을 포함한 절연층과 본딩패드 상에 씨드(seed) 금속막을 형성하는 단계;
    상기 씨드 금속막 상에 금속배선이 형성될 영역을 한정하는 감광막 패턴을 형성하는 단계;
    상기 결과물에 대해 도금 공정을 진행하여 노출된 씨드 금속막 상에 상기 아일랜드 패턴에 의해 돌출된 형상의 볼 랜드를 갖는 금속배선을 형성하는 단계;
    상기 감광막 팬턴을 제거함과 아울러 그 아래의 씨드 금속막 부분을 제거하는 단계;
    상기 금속배선을 포함한 절연층 상에 볼 랜드를 노출시키는 솔더 마스크를 형성하는 단계;
    상기 노출된 볼 랜드 상에 솔더 볼을 부착하는 단계; 및
    상기 웨이퍼 레벨의 결과물을 칩 레벨로 분리시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지의 제조방법.
KR1020040056349A 2004-07-20 2004-07-20 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법 KR100618700B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040056349A KR100618700B1 (ko) 2004-07-20 2004-07-20 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040056349A KR100618700B1 (ko) 2004-07-20 2004-07-20 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060007531A KR20060007531A (ko) 2006-01-26
KR100618700B1 true KR100618700B1 (ko) 2006-09-08

Family

ID=37118768

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040056349A KR100618700B1 (ko) 2004-07-20 2004-07-20 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100618700B1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100790527B1 (ko) * 2006-07-27 2008-01-02 주식회사 네패스 웨이퍼레벨 패키지 및 그 제조 방법
KR100780960B1 (ko) 2006-09-22 2007-12-03 삼성전자주식회사 반도체 소자의 배선 및 범프의 형성 방법
KR100780696B1 (ko) * 2006-12-29 2007-11-30 주식회사 하이닉스반도체 웨이퍼 레벨 패키지 제조 방법

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1022324A (ja) 1996-06-28 1998-01-23 Mitsui High Tec Inc 半導体装置およびその製造方法
JPH1032280A (ja) 1996-04-01 1998-02-03 Anam Ind Co Inc Bga半導体パッケージのソルダボールランドメタル構造
JP2000174160A (ja) 1998-12-03 2000-06-23 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置
JP2003017624A (ja) 2001-07-02 2003-01-17 Hitachi Ltd 半導体装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1032280A (ja) 1996-04-01 1998-02-03 Anam Ind Co Inc Bga半導体パッケージのソルダボールランドメタル構造
JPH1022324A (ja) 1996-06-28 1998-01-23 Mitsui High Tec Inc 半導体装置およびその製造方法
JP2000174160A (ja) 1998-12-03 2000-06-23 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置
JP2003017624A (ja) 2001-07-02 2003-01-17 Hitachi Ltd 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20060007531A (ko) 2006-01-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100319609B1 (ko) 와이어 어래이드 칩 사이즈 패키지 및 그 제조방법
KR102198629B1 (ko) 예비 형성된 비아를 갖는 매립 패키징
JP5567489B2 (ja) アンダーバンプ配線層の方法および装置
JP4916241B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
US20170018493A1 (en) Semiconductor package and manufacturing method thereof
JP2008244437A (ja) ダイ収容開口部を備えたイメージセンサパッケージおよびその方法
US8847369B2 (en) Packaging structures and methods for semiconductor devices
JP2005354070A (ja) ソルダー接合信頼度を高めることができる印刷回路基板及びそれを利用した半導体パッケージモジュール
KR20060079754A (ko) 반도체 패키지용 칩 패드가 라우트된 리드 프레임
JP2004349593A (ja) 半導体装置及びその製造方法
US20050090090A1 (en) Method of fabricating ultra thin flip-chip package
US8061024B2 (en) Method of fabricating a circuit board and semiconductor package.
US20010011777A1 (en) Semiconductor device using a BGA package and method of producing the same
KR20240017393A (ko) 반도체 장치 및 이의 제조 방법
JP2010161419A (ja) 半導体装置の製造方法
US9408313B2 (en) Packaging substrate and method of fabricating the same
JP2009004721A (ja) 半導体パッケージ及びその製造方法
JP2002231749A (ja) 半導体装置およびその接合構造
US9066458B2 (en) Fabricating method of circuit board and circuit board
KR100618700B1 (ko) 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법
KR100713912B1 (ko) 웨이퍼 레벨 공정을 이용한 플립칩 패키지 및 그 제조방법
US8742575B2 (en) Semiconductor device and fabrication method thereof
JP2005183868A (ja) 半導体装置およびその実装構造
KR20110013902A (ko) 패키지 및 그 제조방법
US7378345B2 (en) Metal electroplating process of an electrically connecting pad structure of circuit board and structure thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20100726

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee