KR100567183B1 - 포르밀이미다졸의제조방법 - Google Patents
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- XYHKNCXZYYTLRG-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazole-2-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=NC=CN1 XYHKNCXZYYTLRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 14
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- ZOMATQMEHRJKLO-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazol-2-ylmethanol Chemical compound OCC1=NC=CN1 ZOMATQMEHRJKLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 17
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 14
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 11
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 11
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 9
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 8
- -1 alkali metal acetate Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 7
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical group OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 6
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 5
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 abstract description 2
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 abstract 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- PTHGVOCFAZSNNA-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-1h-imidazole-5-carbaldehyde Chemical compound CCCCC1=NC=C(C=O)N1 PTHGVOCFAZSNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- UZKBZGAMRJRWLR-UHFFFAOYSA-N (2-butyl-1H-imidazol-4-yl)methanol Chemical compound CCCCC1=NC=C(CO)N1 UZKBZGAMRJRWLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 6
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 6
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000003884 phenylalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- GLVYLTSKTCWWJR-UHFFFAOYSA-N 2-carbonoperoxoylbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O GLVYLTSKTCWWJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJSNEKCXVFDKW-UHFFFAOYSA-N 3-(5-amino-1h-indol-3-yl)-2-azaniumylpropanoate Chemical compound C1=C(N)C=C2C(CC(N)C(O)=O)=CNC2=C1 YNJSNEKCXVFDKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 3-chloroperbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCKXCAADGDQQCS-UHFFFAOYSA-N Performic acid Chemical compound OOC=O SCKXCAADGDQQCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229940030600 antihypertensive agent Drugs 0.000 description 1
- 239000002220 antihypertensive agent Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- ZOKDWBDDYVCACM-UHFFFAOYSA-N bismuth platinum Chemical compound [Pt].[Bi] ZOKDWBDDYVCACM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002934 diuretic Substances 0.000 description 1
- 229940030606 diuretics Drugs 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
- C07D233/54—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D233/64—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms, e.g. histidine
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/38—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
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- B01J23/56—Platinum group metals
- B01J23/62—Platinum group metals with gallium, indium, thallium, germanium, tin or lead
- B01J23/622—Platinum group metals with gallium, indium, thallium, germanium, tin or lead with germanium, tin or lead
- B01J23/628—Platinum group metals with gallium, indium, thallium, germanium, tin or lead with germanium, tin or lead with lead
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- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
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- B01J23/644—Arsenic, antimony or bismuth
- B01J23/6447—Bismuth
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- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
- C07D233/54—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D233/66—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
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- C07D233/66—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D233/88—Nitrogen atoms, e.g. allantoin
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/582—Recycling of unreacted starting or intermediate materials
Abstract
본 발명은 히드록시메틸이미다졸의 포르밀이미다졸로의 촉매 전화 방법에 관한 것이다. 촉매작용은 과산화물의 존재하에 일어난다. 포르밀이미다졸은 약제학적 활성 성분의 중요한 중간물질이다.
Description
본 발명은 하기 화학식 3 또는 4 의 히드록시메틸이미다졸의 촉매산화에 의한 하기 화학식 1 또는 2 의 포르밀이미다졸의 신규 제조 방법에 관한 것이다:
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
[화학식 4]
[화학식 1∼4 에서, R1 은 수소 또는 임의로 치환된 알킬기이며, R2 는 수소, 또는 임의로 치환된 알킬, 아릴 또는 아릴알킬기이며, R3 은 수소 또는 임의로 치환된 알킬기이다].
포르밀이미다졸은 예를 들어, 이뇨제 또는 항고혈압제와 같은 약제학적 유효 성분의 제조에 있어 중요한 중간물질이다 (WO-A 제 92/20651 호). 포르밀이미다졸의 여러 가지 제조 방법이 현재 공지되어 있다. CH-A 제 685496 호에는 히드록시메틸이미다졸의 포르밀이미다졸로의 촉매산화를 플라티늄-비스무트, 플라티늄 블랙, 활성탄 상의 플라티늄 또는 팔라듐과 같은 귀금속의 존재하에 산소중에 통과시키면서 수행하는 방법이 기술되어 있다.
상기 방법의 단점은 수시간의 긴 반응 시간과 부산물의 형성이다.
그러므로, 본 발명의 목적은 상기 단점을 갖지 않는 포르밀이미다졸의 경제적인 제조 방법을 제공하는 것이었다.
본 발명에 따라, 상기 목적은 특허 청구항 1 에 따른 방법에 의해 달성된다. 하기 화학식 3 또는 4 의 히드록시메틸이미다졸은 귀금속 촉매 및 과산화물의 존재하에 하기 화학식 1 또는 2 의 포르밀이미다졸로 촉매산화된다:
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
[화학식 4]
[화학식 1∼4 에서, R1, R2 및 R3 은 상기 정의한 바와 같다].
R1 및 R2 는 서로 독립적으로 수소 또는 임의로 치환된 알킬기, 특히 직쇄 또는 측쇄 C1-6-알킬기이다. 예로 들 수 있는 기는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, t-부틸, 펜틸과 그의 이성질체 및 헥실과 그의 이성질체이다. R2 는 또한, 임의로 치환된 아릴 또는 아릴알킬, 특히 페닐 또는 페닐알킬일 수 있으며, 이 경우, 페닐알킬은 바람직하게는, 페닐 C1-6-알킬, 특히 바람직하게는 벤질을 의미한다. 알킬기 또는 아릴 작용기의 방향족계의 적당한 치환기는 예를 들면, 할로겐, 아미노, 알킬아미노, 디알킬아미노, 알콕시 또는 히드록실이며, 알킬은 바람직하게는 상기와 같이 C1-6-알킬이며, 알콕시는 바람직하게는 C1-6-알콕시이고 예를 들면 메톡시, 에톡시이다. 상기 및 하기 명세서에서 사용되는 할로겐은 플루오르, 염소, 브롬 또는 요드를 의미한다. 특히 바람직하게는, R1 은 부틸을, R2 는 수소를 의미한다.
R3 는 수소 또는 임의로 치환된 알킬기, 특히, 직쇄 또는 측쇄 C1-6-알킬기이다. 예로 들 수 있는 기는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 이소부틸, 부틸, t-부틸, 펜틸과 그의 이성질체 및 헥실과 그의 이성질체이다. 치환기는 상기에 주어진 것일 수 있다. R3 은 특히 바람직하게는, 수소이다.
출발 화합물인 히드록시메틸이미다졸은 예를 들어, WO-A 제 92/20651 호의 방법에 따라, 또는 문헌 [E.F. Godefroi et al., Trav. Chim. Receuil Pays-Bas, 91, 1383 (1972)] 에 따라 간단한 방법으로 제조될 수 있다.
귀금속 촉매는 플라티늄, 팔라듐, 로듐 또는 금일 수 있다. 귀금속은 적당하게는, 예를 들어 제2 성분인 비스무트, 납, 세륨 또는 인듐과 같은 금속과 혼합하여 사용될 수 있다. 플라티늄/비스무트 또는 플라티늄/납 촉매가 바람직하다.
귀금속 촉매는 상기와 같이, 또는 예를 들어 활성탄, 이산화실리콘, 산화알루미늄, 산화실리콘알루미늄, 산화지르코늄 또는 산화티타늄과 같은 지지 물질에 결합하여 사용될 수 있다. 활성탄에 결합된 것이 바람직하다.
활성탄에 결합된 귀금속 촉매는, 예를 들어 데구싸(Degussa) 사제와 같이 상업적으로 시판중이다.
지지 물질에 결합된 귀금속의 양은 적당하게는 지지 재료를 기준으로 0.1 내지 15 중량 %, 바람직하게는 0.5 내지 7 중량 % 이다.
귀금속 촉매는 바람직하게는 히드록시메틸이미다졸에 대하여, 귀금속 기준 0.05 내지 1.0 mol % 의 양으로, 특히 바람직하게는 히드록시메틸이미다졸에 대하여 귀금속 기준 0.1 내지 0.4 mol % 의 양으로 사용된다.
사용되는 과산화물은 유기 또는 무기 과산화물이다. 적당한 과산화물의 예는 과산화수소, 퍼보레이트, 퍼카르복실산, t-부틸 히드로퍼옥시드, 큐멘 히드로퍼옥시드, 퍼벤조산, m-클로로퍼벤조산, 모노퍼프탈산 또는 퍼아세트산이다. 특히 적당한 과산화물은 과산화수소이며, 이는 유리하게는 10∼30 % 강도 수용액으로 사용된다.
촉매산화는 적당하게는, 알칼리성 매질중에서 물, 물과 혼화되는 용매, 물과 혼화되지 않는 유기 용매 또는 이들의 혼합물의 존재하에 수행된다.
적당한 물과 혼화되는 용매의 예는 탄소수 1∼6 의 알콜 또는 카르복실산, 또는 예를 들어 아세톤 또는 메틸 에틸 케톤과 같은 케톤이다.
적당한 물과 혼화되지 않는 유기 용매의 예는 이소부틸 메틸 케톤 또는 에틸 아세테이트이다. 바람직하게는 물이 사용된다.
알칼리금속 수산화물, 알칼리금속 탄산염 또는 알칼리금속 아세트산염을 반응 혼합물에 첨가함으로써 알칼리성 매질을 제조하는 것이 유리하다는 것을 알게 되었다. 알칼리금속 수산화물은 바람직하게는 화학식 3 또는 4 의 히드록시메틸 이미다졸의 사용되는 몰양을 기준으로 1 : 0.05 내지 1.2, 바람직하게는 1 : 0.1 내지 1 의 비율로 사용된다.
촉매산화는 적당하게는 20∼120 ℃, 유리하게는 50∼80 ℃ 의 온도에서 수행된다.
약 1 시간의 통상적인 과산화물 도입 시간 후, 충분한 후반응시간이 지난 다음, 숙련된 당업자에게 통상적인 방법으로 화학식 1 또는 2 의 화합물을 단리하는 것이 가능하다.
용매계에 따라, 결정화 및 여과에 의하거나, 적당한 용매로 추출함으로써 생성물을 편리하게 단리할 수 있다.
사용된 촉매는 활성도의 감소없이 반복하여 사용할 수 있다.
[실시예]
실시예 1
2-n-부틸-5-포르밀이미다졸의 제조
2-n-부틸-5-히드록시메틸이미다졸 1.5 g, 내부 GC 표준으로 도데칸 1.5 g, 활성탄 상의 5 % 플라티늄 및 5 % 비스무트 0.3 g (61.3 % 물 함유), 이소부틸 메틸 케톤 20 g 및 1.6 % 강도 NaOH 용액 2.4 g 을 교반하면서 약 58 ℃ 로 가열한다. 58∼64 ℃ 에서, 15.7 % 강도 H2O2 수용액 2.9 g 을 45 분간 적가한다. 이어서, 반응혼합물을 15 분간 반응하도록 한 후 여과한다. 여과물을 분별깔때기로 통과시키고, H2O 층을 분리제거한 후, 유기층을 농축 및 냉각하고, 생성물을 결정화한 다음 여과한다. 수율을 GC (내부 표준) 에 의해 검출한다.
반응 수율: 88.2 % (출발물질 6.75 %)
실시예 2
2-n-부틸-5-포르밀이미다졸의 제조
2-n-부틸-5-히드록시메틸이미다졸 2.0 g, 활성탄 상의 5 % 플라티늄 및 5 % 비스무트 0.3 g (물 61.3 % 함유), 1N NaOH 용액 13 ml, H2O 7 g 을 교반하면서 약 60 ℃ 로 가열한다. 60∼64 ℃ 에서 15 % 강도 H2O2 수용액 3.4 g 을 45 분간 적가한다. 이어서, 반응혼합물을 15 분간 반응하도록 한 후 여과한다. 20 % H2SO4 을 사용하여 여과물의 pH 를 13.4 내지 9.0 으로 조절하고, 그 결과로서 담황색 서스펜션이 형성된다. 이를 냉각시켜 조생성물을 여과 및/또는 메틸렌 클로라이드로 추출할 수 있다.
반응을 GC 분석에 의해 모니터한다.
반응수율: 100 % (출발물질 0 %)
실시예 3
2-n-부틸-5-포르밀이미다졸의 제조
활성탄 상의 5 % 플라티늄 및 5 % 비스무트 0.3 g (부산물 0.5 %) 대신에 활성탄 상의 5 % 플라티늄 및 5 % 납 (55.7 % 물 함유) 0.3 g 을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 2 에 기재된 순서를 반복한다.
반응수율: 99.5 % (부산물 0.5 %)
실시예 4
2-n-부틸-5-포르밀이미다졸의 제조
2-n-부틸-5-히드록시메틸이미다졸 4.0 g, 활성탄 상의 5 % 플라티늄 및 5 % 비스무트 0.6 g (물 61.3 % 함유), 및 1N NaOH 용액 25.6 ml 를 교반하면서 약 60 ℃ 로 가열한다. 60∼64 ℃ 에서 15 % 강도 H2O2 수용액 6.8 g 을 45 분간 적가한다. 이어서, 반응혼합물을 15 분간 반응하도록 한 후 여과한다. 20 % H2SO4 을 사용하여 여과물의 pH 를 13.2 내지 9.0 으로 조절하고, 그 결과로서 황색 서스펜션이 형성된다. 이를 냉각시켜 조생성물을 여과 및/또는 메틸렌 클로라이드로 추출할 수 있다.
반응을 GC 분석에 의해 모니터한다.
반응수율: 98.2 % (출발물질 1.8 %)
실시예 5
2-n-부틸-5-포르밀이미다졸의 제조
60∼64 ℃ 대신 50∼54 ℃ 에서 15 % 강도 H2O2 용액을 적가하는 것을 제외하고는 실시예 4 에 기재된 순서를 반복한다.
반응수율: 97.6 % (출발물질 2.4 %)
실시예 6
2-n-부틸-5-포르밀이미다졸의 제조
60∼64 ℃ 대신 70∼74 ℃ 에서 15 % 강도 H2O2 용액을 적가하는 것을 제외하고는 실시예 4 에 기재된 순서를 반복한다.
반응수율: 97.7 % (출발물질 2.1 %)
실시예 7
조출발물질로부터 출발한 2-n-부틸-5-포르밀이미다졸의 제조
2-n-부틸-5-히드록시메틸이미다졸 4.4 g (조출발물질 90.4 %), 활성탄 상의 5 % 플라티늄 및 5 % 비스무트 0.6 g (61.3 % 물 함유), 1N NaOH 용액 25.6 ml 및 메탄올 5 ml 을 교반하면서 약 60 ℃ 로 가열한다. 60∼64 ℃ 에서, 15 % 강도 H2O2 수용액 6.8 g 을 45 분간 적가한다. 이어서, 반응혼합물을 15 분간 반응하도록 한 후 여과한다. 20 % H2SO4 를 사용하여 여과물의 pH 를 13.0 내지 9.0 으로 조절하고, 그 결과로서 황색 서스펜션이 형성된다. 이를 냉각시켜 조생성물을 여과 및/또는 메틸렌 클로라이드로 추출할 수 있다. 반응을 GC 분석에 의해 모니터한다.
반응 수율: 94.5 % (출발물질 3.5 %)
실시예 8 (산화제로서 공기를 사용하는 CH-A 제 685 496 호에 따른 비교실험)
2-n-부틸-5-포르밀이미다졸의 제조
2-n-부틸-5-히드록시메틸이미다졸 4.6 g, 내부 GC 표준으로서 도데칸 4.6 g, 활성탄 상의 5 % 플라티늄 및 5 % 비스무트 0.6 g (물 61.3 % 함유), 이소부틸 메틸 케톤 42 g 및 1.6 % 강도 NaOH 용액 7.5 g 을 교반하면서 80 ℃ 로 가열한다.
80 ℃ 에서 시간당 3.6 리터 (STP) 의 공기를 산소의 흡수가 종결될 때까지 (350 분!) 용액내로 도입한다. 반응혼합물을 여과한다. 여과물을 분별깔때기로 통과시키고, H2O 상을 분리제거한 후, 유기층을 농축 및 냉각한 다음, 생성물을 결정화시킨후, 여과한다.
반응을 GC 분석 (내부 표준) 에 의해 모니터한다.
반응수율: 90.0 % (출발물질 0.3 %)
실시예 9 (촉매 재생)
2-n-부틸-5-히드록시메틸이미다졸 20.9 g (조출발물질 95.3 %), 활성탄 상의 5 % 플라티늄 및 5 % 납 3.2 g (물 55.7 % 함유), 1N NaOH 용액 130 ml 및 메탄올 22 ml 을 교반하면서 약 60 ℃ 로 가열한다. 60 ℃ 에서 20 % 강도 H2O2 수용액 22.5 g 을 60 분간 적가한다.
이어서, 반응혼합물을 10 분간 반응하도록 한 후 여과한다. 50 % H2SO4 을 사용하여 여과물의 pH 를 12.8 내지 7.5 으로 조절하고, 그 결과로서 황색을 띤 서스펜션이 형성된다. 메탄올 및 어느 정도의 물을 증류제거하고, 서스펜션을 2 ℃ 로 냉각한 후 생성물을 여과한다. 생성물을 65 ℃, 30 mbar 에서 건조시킨다. 촉매를 첫번째 사용한 후, 담황색 물질 18 g (함량: 98.5 %, HPLC 중량 %) 을 단리시킨다. 단리 수율은 90 % 이다.
재사용되는 촉매의 능력을 GC 분석 (표준 %) 을 이용하여 모니터한다. 촉매는 총 8 회 사용된다. 촉매 손실은 보충되지 않는다.
본 발명은 반응 시간을 짧게 하고 부산물을 형성하지 않으면서 귀금속 촉매와 과산화물의 존재하에 포르밀이미다졸을 제조할 수 있다.
Claims (7)
- 과산화물의 존재하에 촉매산화가 일어나는 것을 특징으로 하는, 귀금속 촉매 존재하에 하기 화학식 3 또는 4 의 히드록시메틸이미다졸의 촉매산화에 의한 하기 화학식 1 또는 2 의 포르밀이미다졸의 제조 방법:[화학식 1][화학식 2][화학식 3][화학식 4][상기 화학식 1∼4 에서,R1 은 수소; 또는 할로겐, 아미노, C1-6 ̄알킬아미노, 디-C1-6 ̄알킬아미노, C1-6 ̄알콕시 또는 히드록실로 치환될 수 있는 C1-6 ̄알킬기이고;R2 는 수소; 할로겐, 아미노, C1-6 ̄알킬아미노, 디-C1-6 ̄알킬아미노, C1-6 ̄알콕시 또는 히드록실로 치환될 수 있는 C1-6 ̄알킬기; 할로겐, 아미노, C1-6 ̄알킬아미노, 디-C1-6 ̄알킬아미노, C1-6 ̄알콕시 또는 히드록실로 치환될 수 있는 알릴기; 또는 할로겐, 아미노, C1-6 ̄알킬아미노, 디-C1-6 ̄알킬아미노, C1-6 ̄알콕시 또는 히드록실로 치환될 수 있는 아릴-C1-6 ̄알킬리이고;R3 은 수소; 또는 할로겐, 아미노, C1-6 ̄알킬아미노, 디-C1-6 ̄알킬아미노, C1-6 ̄알콕시 또는 히드록실로 치환될 수 있는 C1-6 ̄알킬기이다].
- 제 1 항에 있어서, R1 이 부틸기인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, R2 및 R3 가 수소인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 귀금속 촉매가 플라티늄/비스무트 촉매 또는 플라티늄/납 촉매인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 과산화물이 과산화수소인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 알칼리성 매질 중에서, 물, 탄소수 1∼6 의 알콜 또는 카르복실산, 또는 케톤으로부터 선택되는 물-혼화성 용매, 이소부틸 메틸 케톤 또는 에틸 아세테이트로부터 선택되는 물-비혼화성 유기 용매, 또는 이들의 혼합물의 존재하에 촉매산화가 일어나고,상기 알칼리성 매질은 알칼리금속 수산화물, 알칼리금속 탄산염 또는 알칼리금속 아세트산염을 반응 혼합물에 첨가함으로써 수득되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 20∼120 ℃ 의 온도에서 반응을 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH263797 | 1997-11-14 | ||
CH2637/97 | 1997-11-14 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR19990045006A KR19990045006A (ko) | 1999-06-25 |
KR100567183B1 true KR100567183B1 (ko) | 2006-06-13 |
Family
ID=4238243
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019980047165A KR100567183B1 (ko) | 1997-11-14 | 1998-11-04 | 포르밀이미다졸의제조방법 |
Country Status (17)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6040457A (ko) |
EP (1) | EP0916659B1 (ko) |
JP (1) | JP4423685B2 (ko) |
KR (1) | KR100567183B1 (ko) |
CN (1) | CN1115335C (ko) |
AT (1) | ATE218128T1 (ko) |
CA (1) | CA2253901C (ko) |
CZ (1) | CZ291601B6 (ko) |
DE (1) | DE59804233D1 (ko) |
DK (1) | DK0916659T3 (ko) |
ES (1) | ES2174376T3 (ko) |
HU (1) | HU228231B1 (ko) |
IL (1) | IL127024A (ko) |
NO (1) | NO309979B1 (ko) |
PL (1) | PL197850B1 (ko) |
PT (1) | PT916659E (ko) |
SK (1) | SK282701B6 (ko) |
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---|---|---|---|---|
CA2334901C (en) | 1998-06-15 | 2009-03-17 | Lonza Ag | Procedure for producing formyl imidazoles |
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WO2006110037A2 (en) | 2005-04-15 | 2006-10-19 | Dishman Pharmaceuticals And Chemicals Ltd. | Preparation of 2-substituted 4-chl0r0-5-f0rmylimidaz0les by vilsmeier reaction of the condensation product of glycine and an imido ester with a formamide in the presence of a triflate (trifluormethanξsulphonate) catalyst |
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-
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- 1998-11-04 KR KR1019980047165A patent/KR100567183B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-11-06 SK SK1538-98A patent/SK282701B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1998-11-09 JP JP31777998A patent/JP4423685B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-11-10 DE DE59804233T patent/DE59804233D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-11-10 AT AT98121384T patent/ATE218128T1/de active
- 1998-11-10 EP EP98121384A patent/EP0916659B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-11-10 CA CA002253901A patent/CA2253901C/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-11-10 ES ES98121384T patent/ES2174376T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1998-11-10 DK DK98121384T patent/DK0916659T3/da active
- 1998-11-10 PT PT98121384T patent/PT916659E/pt unknown
- 1998-11-11 CZ CZ19983665A patent/CZ291601B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1998-11-12 PL PL329669A patent/PL197850B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1998-11-12 IL IL12702498A patent/IL127024A/en not_active IP Right Cessation
- 1998-11-13 NO NO985296A patent/NO309979B1/no not_active IP Right Cessation
- 1998-11-13 CN CN98124192A patent/CN1115335C/zh not_active Expired - Fee Related
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ES2174376T3 (es) | 2002-11-01 |
CA2253901A1 (en) | 1999-05-14 |
HUP9802646A3 (en) | 2001-11-28 |
CA2253901C (en) | 2009-01-20 |
CN1115335C (zh) | 2003-07-23 |
DE59804233D1 (de) | 2002-07-04 |
NO985296L (no) | 1999-05-18 |
IL127024A0 (en) | 1999-09-22 |
NO309979B1 (no) | 2001-04-30 |
HU228231B1 (en) | 2013-02-28 |
PL197850B1 (pl) | 2008-05-30 |
CZ291601B6 (cs) | 2003-04-16 |
NO985296D0 (no) | 1998-11-13 |
EP0916659A1 (de) | 1999-05-19 |
HUP9802646A2 (hu) | 1999-06-28 |
EP0916659B1 (de) | 2002-05-29 |
PT916659E (pt) | 2002-10-31 |
JPH11228544A (ja) | 1999-08-24 |
HU9802646D0 (en) | 1999-01-28 |
KR19990045006A (ko) | 1999-06-25 |
CN1222513A (zh) | 1999-07-14 |
SK153898A3 (en) | 1999-06-11 |
ATE218128T1 (de) | 2002-06-15 |
DK0916659T3 (da) | 2002-09-09 |
PL329669A1 (en) | 1999-05-24 |
US6040457A (en) | 2000-03-21 |
CZ366598A3 (cs) | 1999-06-16 |
JP4423685B2 (ja) | 2010-03-03 |
SK282701B6 (sk) | 2002-11-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
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FPAY | Annual fee payment |
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