KR100567121B1 - 액상 자외선 경화형 수지 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액상 자외선 경화형 수지 조성물에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로폴리에테르계 폴리올, 폴리에스터 폴리올, 디이소시아네이트 화합물 및 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물로부터 합성된 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머 30∼80중량%, 분자 내에 자외선 경화반응기를 포함하는 반응성 모노머 희석제 19∼60 중량% 및 광개시제 0.5∼10 중량%를 포함하는 액상 자외선 경화형 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 액상 자외선 경화형 수지 조성물은 고경도, 고신장율의 특성을 가지며 경화물의 강인성을 용이하게 조절할 수 있고, 수현산성이 향상되어 후렉소 인쇄 수지판 용으로 적합한 장점이 있다.
후렉소 인쇄, 액상수지, 자외선 경화형, 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머, 수현상

Description

액상 자외선 경화형 수지 조성물{UV curable liquid resin composition}
본 발명은 액상 자외선 경화형 수지 조성물에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는, 분자량이 높은 폴리에테르 폴리올과 수분산 극성기를 갖는 폴리에스터 폴리올을 첨가하여 합성한 폴리우레탄계 올리고머를 사용하여 경도, 강인성 및 수현산성이 향상된 액상 자외선 경화형 수지 조성물에 관한 것이다.
일반적으로 인쇄판용 수지 조성물로서 요구되어지는 특성은 다음과 같다.
(1) 경화속도가 빠르고 생산성이 좋을것,
(2) 경화물이 충분한 경도와유연성을 갖을 것, 즉 높은 영율과 신장율을 갖을 것,
(3) 온도에 따른 물성변화가 적을 것,
(4) 장기 신뢰성이 있을 것,
(5) 내약품성 및 내수성이 있을 것 등이다.
특히 후렉소(flexo) 인쇄 수지판의 제판작업 및 제판의 설치작업 등에서 나타나는 외부압력, 즉 측압 및 구부림 등에 충분히 대응하기 위하여 요구되어지는 특성으로, 경화물이 충분한 경도와 유연성을 가져야 한다.
일반적으로, 경도를 높이기 위한 방법으로 반응성 모노머 희석제 중 2관능성 및 3관능성의 모노머를 조성물 중에 첨가하여 경화시키는 방법을 사용하고 있으나 경화물의 경도 증가에 따라 신장율이 떨어지는 경향이 있고, 신장율을 증가시키면 경도가 떨어지는 경향이 있다. 따라서 신장율의 저하가 적고 경도를 높일 수 있는 방법으로 2관능 또는 3관능성의 특별한 아크릴레이트 올리고머 등을 합성 첨가하는 방법 등이 제안되었으나(미국특허 제 4690501호, 미국특허 제 4690502호, 미국특허 제 4472019호, 일본특개평 제 3-166217호, 일본특개소 제 62-78132호, 일본특개소 제 62-78131호, 일본특개소 제 61-227948호 참조), 내용제성, 내수성, 수축율, 혼화성 등의 특성저하가 수반되고, 고경도 고신장율의 특성, 즉 강인성을 자유롭게 증가시킬 수 있는 방법으로는 충분한 정도에 이르지 못하고 있다.
이에 본 발명에서는 상술한 문제를 해결하기 위한 연구를 수행한 결과, 고분자량의 폴리에테르 폴리올과 수분산 극성기를 함유한 폴리에스터 폴리올을 혼합하여 제조한 폴리우레탄 (메타)아크레이트 올리고머를 반응성 모노머 희석제 및 광개시제와 혼합하여 고경도, 고신장율의 특성을 갖으며 경화물의 강인성을 용이하게 조절할 수 있고, 수현산성이 향상된 후렉소 인쇄 수지판용 액상 자외선 경화형 수지 조성물을제조하였고, 본 발명은 이를 기초로 완성되었다.
따라서, 본 발명의 목적은경도, 강인성 및 수현산성이 향상된 후렉소 인쇄 수지판용 액상 자외선 경화형 수지 조성물을 제공하는 데 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본발명의 액상 자외선 경화형 수지 조성물은 폴 리에테르계 폴리올, 폴리에스터 폴리올, 디이소시아네이트 화합물 및 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물로부터 합성된 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머 30∼80중량%, 분자 내에 자외선 경화반응기를 포함하는 반응성 모노머 희석제 19∼60 중량% 및 광개시제 0.5∼10 중량%를 포함한다.
이하 본 발명을 좀 더 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 조성물은 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머, 반응성 모노머 희석제및 광개시제를 포함한다.
본 발명에서 사용되는 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머는 디이소시아네이트, 폴리올 및 (메타)아크릴레이트를 반응시켜 제조된다.
본 발명에서 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머를 제조하는 방법은 디이소시아네이트와 폴리올을 반응시켜 양말단에 이소시아네이트기를 갖는 폴리우레탄 프리폴리머(prepolymer)를 합성하고, 여기에 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 반응시켜 제조하거나 또는 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트와 과량의 디이소시아네이트를 반응시켜 이소시아네이트기가 한쪽 말단에 잔존하는 폴리우레탄 프리폴리머를 합성하고, 여기에 폴리에테르계 폴리올 및 단분자 디올의 혼합 디올을 반응시켜서 제조할 수 있다.
상기 디이소시아네이트 화합물과 폴리올의 혼합 비율은 1∼3몰 : 1몰이 바람직하다.
본 발명에서는 경도 및 강인성을 부여하기 위해 분자량이 높은 폴리에테르계 폴리올을 사용하는데 에틸렌 옥사이드, 프로필렌 옥사이드, 부틸렌옥사이드, 테트라하이드로퓨란 등의 알킬렌 옥사이드를 개환(공)중합해서 얻어지는 폴리에테르 폴리올, 예를 들면, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라메틸렌글리콜, 폴리부틸렌글리콜, 프로필렌옥사이드와 테트라하이드로퓨란과의 공중합체 폴리올, 에틸렌옥사이드와 테트라하이드로퓨란과의 공중합체 폴리올, 에틸렌옥사이드와 프로필렌옥사이드와의 공중합체 폴리올 등을 들 수 있고, 단독 또는 2종 이상 병용해도 좋다. 이중에서 특히 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라메틸렌글리콜, 에틸렌 옥사이드와 프로필렌옥사이드와의 개환 공중합체 등이 바람직하며, 분자량이 2500∼3500 범위인 것을 사용한다.
본 발명에서는 상기 폴리에테르 폴리올과 함께 수분산 극성기를 갖는 폴리에스터 폴리올을 함께 사용하게 되는데 이는 폴리에테르 폴리올만을 사용할 경우 경화물의 경도와 강인성은 확보되나, 수현산성이 저하되는 문제점을 해결하기 위해서 이다.
상기 폴리에스터 폴리올은 이염기산과 글리콜로 부터 합성시켜 제조되는데 글리콜로서는 에틸렌 글리콜, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 네오펜틸글리콜을 사용하고, 이염기산으로는 테레프탈산 또는 이소프탈산 등의 방향족 이염기산과 아디프산 또는 아젤라산 등의 지방족 이염기산, 및 설포이소프탈산 및 이의 금속염으로부터 하나 또는 그 이상을 사용하되 수지판의 경도에 따라 방향족 이염기산은 조정하여야 한다.
본 발명에서는 수현산성을 향상시키기 위해 상기 이염기산 성분으로 설포이 소프탈산 및 이의 금속염을 사용하는 것이 바람직하다. 설포이소프탈산 및 이의 금속염은 제조된 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트에 1∼5몰%가 포함되도록 사용하게 된다. 상기 설포이소프탈산 및 이의 금속염의 함량이 1몰% 미만이면 수현산성의 개선 효과가 없고, 5몰% 이상이면 내수성이 저하되어 인쇄공정에서 수지판의 내구성이 제한이 된다. 이와 같이 제조된 폴리에스터 폴리올은 그 분자량이 500∼3000 범위인 것을 사용한다
상기 디이소시아네이트 화합물은 2,4-톨루엔 디이소시아네이트, 2,6-톨루엔디이소시아네이트, 1,3-크실렌디이소시아네이트, 1,4-크실렌디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, m-페닐렌디이소시아네이트, P-페닐렌디이소시아네이트, 3,3'-디메틸-4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 4.4'-비스페닐렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 아이소포론디이소시아네이트, 수첨디페닐메탄디이소시아네이트 등을 들 수 있고, 바람직하게는 2,4-톨루엔디이소시아네이트, 2,6-톨루엔디이소시아네이트, 수첨 디페닐메탄디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트 등을 들 수 있고 단독 또는 2종 이상 병용해도 좋다.
한편, 상기 수산기 함유 (메타)아크릴레이트에는 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페닐옥시프로필(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올모노(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 알킬(메타)아크릴로일포스페이트, 4-하이드록시싸이클로헥실(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올모노(메타)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜모노(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄디(메타)아크릴레이트 등이 있고 단독으로사용하거나 2종 이상 병용할 수 있다.
이렇게 제조된 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머의 사용량은 30 내지 80중량%가 바람직하다. 이때, 상기 올리고머의 사용량이 30중량% 미만이면 액상수지의 점도가 저하되어 제판작업이 어렵고, 기계적 강도, 경도, 유연성 및 수현산성이 저하되는 문제점이 있고, 80중량%를 초과하면 액상수지의 점도가 상승하여 인쇄판으로 성형하는 작업성이 저하되어 실용적이지 못하다.
한편, 상기 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머는 그 자체가 점도가 높아서 성형성이 나쁘기 때문에 본 발명에서는 이를 해결하기 위해반응성 모노머 희석제를 혼합하여 사용한다. 따라서 반응성 모노머 희석제는 상기 올리고머의 점도를 낮추는 역할과 아울러 가교성 모노머를 병용하여 경화물의 물성을 조절하는 역할을 한다.
본 발명에서 사용되는 반응성 모노머 희석제에는, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 테트라하이드로퍼퓨릴(메타)아크릴레이트, 부톡시 에틸(메타)아크릴레이트, 에틸디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 2-에틸텍실(메 타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 디싸이클로펜타디엔(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메틸트리에틸렌디글리콜(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, N-비닐피로리돈, N-비닐카프 로락탐, 디아세톤아크릴아마이드, 이소부톡시메틸(메타)아크릴아마이드, N,N-디메틸(메타)아크릴아마이드, t-옥틸(메타)아크릴아마이드, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 아크릴로일몰포린, 디싸이클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리옥시에틸(메타)아크릴레이트, 트리싸이클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트, 디싸이클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디싸이클로펜탄디(메타)아크릴레이트, 디싸이클로펜타디엔디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
이들 중 바람직한 것은 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디 (메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메닐올프로판트리(메타)아크릴레이트 등이 있고, 이들 중 단독 또은 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 반응성 모노머 희석제의 사용량은 19 내지 60중량%가 바람직하며, 19중량% 미만이면 액상수지의 점도를 낮추는 효과가 저하되어 제조된 액상수지의 점도가 높아져서 제판 작업성이 실용적이지 못하고, 60중량%를 초과하면 액상수지의 점도가 저하되어 제판작업이 어렵고, 기계적 강도, 경도, 유연성 및 수현산성이 저하 되는 문제점이 있다.
본 발명의 수지 조성물은자외선 경화 할 때 광개시제를 필요로 하는데, 광개시제는, 예를 들면, 1-하이드록시싸이클로헥실페닐 케톤, 2,2-디메톡시-2-페닐-아세토페논, 잔톤, 벤즈알데히드, 안트라퀴논, 3-메틸아세토페논, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디메톡시 벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 벤조인 프로필 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 1-(4-이소프로필-페놀)-2-히드록시-2-메틸 프로판-1-온, 티옥잔톤 등을 사용 할 수 있으며, 상업용으로 공급되는 제품중 Irgacure184, 369, 651, 819, 907, 1700, 1800(시바가이기사) 등과 Darocure 1173, 1116(머크사), Ubecyl-936(유씨비사)등이 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 상기 광개시제의 사용량은 0.5 내지 10중량%가 바람직하다.
아울러 디에틸 아민과 같은 광증감제도 소량 첨가될 수 있으나 반드시 필요한 것은 아니다.
또한, 본 발명에서는 수지 조성물의 용액물성, 경화특성, 경화물의 물성 등을 조절하기 위하여, 첨가제가 추가될 수 있고, 이에는 산화방지제, 광안정제, 가소제, 커플링제, 열중합금지제, 평활제, 계면활성제 등이 있다.
본 발명을 하기의 제조예 및 실시예를 통해 좀 더 구체적으로 설명하나, 이에 본 발명의 범주가 한정되는 것은 아니다.
제조예 1
폴리에스터 폴리올 PES-A 제조
온도조절기, 교반기, 냉각기가 열결된 1000㎖ 플라스크에 아디픽산 90몰%, 5-소디움술포디메틸이소프탈레이트 10몰%, 에틸렌글리콜 40몰%, 네오펜틸글리콜 60몰%를 투입한 후 상온에서 250℃까지 서서히 승온시켜 부산물인 물이나 메탄올이 이론 유출량까지 유출되면, 진공하에서 250℃, 약 3시간 동안 반응시켜 폴리에스터 폴리올 PES-A을 얻었다. 얻어진 폴리올은 산가(Acid Value)가 0.3이하, OH가(OH Value)가 55∼65이며 분자량이 1700∼2000이었다.
제조예 2
폴리에스터 폴리올 PES-B 제조
아디픽산 85몰%, 5-소디움술포디메틸이소프탈레이트 15몰%로 바꾼 것을 제외하고는 제조예 1과 같이 폴리에스터 폴리올을 제조하여 폴리에스터 폴리올 PES-B를 얻었다.
제조예 3
폴리우레탄 (메타)아크릴레이트 UA-1
2,4-톨루엔디이소시아네이트 47중량부를 질소개스 도입관, 교반기 및 냉각기가 장치되어있는 1리터 용량의 반응용기에 넣고, 0.1중량부의 디부틸틴디라우릴레이트를 첨가한 후 반응온도를 60℃로 유지하면서 수평균분자량이 3000인 에틸렌옥사이드와 프로필렌옥사이드 공중합체 680중량부와 제조예 1에서 제조한 폴리에스터 폴리올 A 50중량부를 투입하였다. 투입후 추가로 70℃ 에서 2시간 동안 반응한 후 96중량부의 하이드록시프로필(메타)아크릴레이트와 41중량부의 폴리프로필렌(메타)아크릴레이트를 투입하여 3시간 동안 반응시켜 폴리우레탄아크릴레이트 올리고머 UA-1를 얻었다.
제조예 4∼7
폴리우레탄 (메타)아크릴레이트 UA-2∼5
수평균분자량이 3000인 에틸렌옥사이드와 프로필렌옥사이드 공중합체와 폴리에스터 폴리올의 비율을 조정한 것을 제외하고는 제조예 3과 같이 폴리우레탄아크릴레이트 올리고머를 얻었다. 하기 표 1에 합성된 폴리우레탄아크릴레이트 올리고머의 성분을 나타내었다.
제조예 3 4 5 6 7
폴리우레탄 (메타)아크릴레이트 UA-1 UA-2 UA-3 UA-4 UA-5
폴리에스터 폴리올 종류 PES-A PES-A PES-B PES-B 미사용
설포이소프탈산염 함량(몰%) 10 10 15 15 -
폴리에테르 공중합체(중량부) 680 567 545 314 690
폴리에스터 폴리올(중량부) 50 163 185 416 0
폴리우레탄 (메타)아크릴레이트중의 설포이소프탈산염 함량(몰%) 1.0 3.0 5.0 10 0
이하 본 발명의 후렉소인쇄판용 수지 조성물의 실시예 및 비교예를 나타낸다. 제조된 수지의 물성평가는 다음과 같이 실시하였다.
① 수지판 성형
후렉소 인쇄판용 수지 조성물을 수지제판기(IDEAL PLATEMAKING SYSTEM MODEL PP-2200, M&R MARKING INC.)를 사용하여 성형하였다. 먼저 경화기의 유리판 위에 투명한 폴리프로필렌 커버 필름을 덮고 진공을 적용하여 주름을 없앤 후 스폰지 테이프로 적당한 크기의 틀을 만들고 그 안에 버블을 제거한 상온보관중인 수지를 부어 2㎜의 두께가 되도록 하였다. 수지 위에 폴리에스터 베이스 필름을 덮고 두께가 일정해 지도록 천천히 퍼뜨린 후, 약 1.0J/㎠으로 4분간 조사하여 수지판을 제조하였다.
② 인장강도 및 신율 측정
성형된 수지판으로 ASTM 638-IV dumbbell을 다이(Die) C를 사용하여 5개 이상 만들었다. 인스트론 테스터(Instron tester)의 크로스헤드(crosshead) 속도를 500㎜/분, 로드 범위(load range)를 200㎏f로 하여 ASTM D412의 방법에 따라 인장강도와 신율을 측정하여 평균값을 구하였다.
③ 경도 측정
경화된 수지판을 두께가 6㎜ 이상이 되도록 블록을 쌓은 후 ASTM D 2240에 따라 250g의 로드(load)를 적용한 Shore A 듀로미터(Durometer)를 사용하여 경도를 측정하였다. 이때 최초의 최대경도와 10초 후의 경도를 기록하였다.
④ 수현산성 측정
수지제판기의 유리판에 네가티브 필름을 놓고 수지판 성형과 같이 수지를 붓는다. 수지의 두께는 7㎜ 이상이 되도록 하고 폴리에스터 베이스 필름을 덮고 마스킹(Masking) 시간을 4분, 릴리프(Relief) 시간을 3분, 베이스(Base) 시간을 30초간 조사한 후 경화되지 않은 부분을 현상 유니트(IDEAL PLATEMAKING SYSTEM MODEL PP-2200)를 사용하여 40℃, 6분간 세척하여 제거한다. 현상된 수지판은 수중에서 수분간 후노광 및 건조 유니트(IDEAL PLATEMAKING SYSTEM MODEL PP-2200)에서 수 분간 건조한 후 육안으로 관찰하였다.
실시예 1
교반기가 부착된 반응기에 제조예 3에서 합성한 폴리우레탄 메타아크릴레이트 UA-1를 76중량부를 투입한 후, 반응성 모노머 희석제로 라우릴 메타아크릴레이 트 10중량부, 폴리프로필렌글리콜 모노메타아크릴레이트 10.5중량부, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트 1.5중량부, 트리메틸올프로판 트리메타아크릴레이트 1.5중량부, 그리고 광개시제로 Irgacure 651(시바가이기사) 0.5중량부를 투입하여 상온에서 2시간 동안 400rpm으로 교반하고, 방치하여 기포가 제거된 점도 35000cps의 투명한 혼합액을 얻었다. 얻어진 액체 조성물은 상술한 방법으로 수지판을 성형하여 그 물성을 측정하였다. 하기 표 2에 다음의 물성들을 나타내었다.
실시예 2 및 3
제조예에서 제조한 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트 UA-2∼4로 대체시킨 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
비교예 1 및 2
제조예 6∼7에서 제조한 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트 UA-4∼5로 대체시킨 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
구분 실시예1 실시예2 실시예3 비교예1 비교예2
수지에 사용된 올리고머 UA-1 UA-2 UA-3 UA-4 UA-5
설포이소프탈산염 함량(몰%) 1 3 5 10 0
인장강도 (gf/㎟) 744 601 526 394 880
신율 (%) 274 328 313 309 268
경도 (초기/10초후) 41 /32 39 / 30 36 / 27 30 / 19 44 / 35
수현산성 평가 양호 양호 우수 불량 불량
실시예 1∼3에서의 결과와 같이 설포이소프탈산 금속염이 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트중 1∼5몰%를 사용한 본 발명의 수지조성물은 기계적 물성 뿐 아니라 수현산성을 향상시키는데 있어 매우 탁월한 방법으로 후렉소 인쇄 수지판의 신뢰성을 확보 할 수 있는 효과적인 자외선 경화형 수지 조성물임을 알 수 있다. 비교예 1은 인장강도가 저하될 뿐아니라 내수성이 저하되고, 비교예 2는 수현산성이 저하되어 적절한 수지 제판이 불가하였다.
상기 실시예 및 비교예에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 수지 조성물은 경도,강인성등의 기계적 물성 및 수현산성이 향상되어 후렉소 인쇄 수지판용으로 탁월한 장점이 있다.

Claims (9)

  1. 폴리에테르계 폴리올, 수분산 극성기를 갖는 폴리에스터 폴리올, 디이소시아네이트 화합물 및수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물로부터 합성된 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머 30∼80중량%, 분자 내에 자외선 경화반응기를 포함하는 반응성 모노머 희석제 19∼60 중량% 및 광개시제 0.5∼10 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 후렉소 인쇄 수지판용 액상 자외선 경화형수지 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 폴리에테르 계 폴리올은 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라메틸렌글리콜, 폴리부틸렌글리콜, 프로필렌옥사이드와 테트라하이드로퓨란과의 공중합체 폴리올, 에틸렌옥사이드와 테트라하이드로퓨란과의 공중합체 폴리올, 및 에틸렌옥사이드와 프로필렌옥사이드의 공중합체 폴리올로부터 하나 또는 그 이상 선택되며 분자량이 2500∼3500 범위인 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 폴리에스터 폴리올은 이염기산 및 글리콜로 합성된 분자량이 500∼3000 범위인 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 상기 글리콜은 에틸렌 글리콜, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 1,4-시클로헥산디메탄올 또는 네오펜틸글리콜로부터 선택되며, 상기 이염기산 은 테레프탈산 및 이소프탈산의 방향족 이염기산, 아디프산 및 아젤라산의 지방족 이염기산, 및 설포이소프탈산 및 이의 금속염으로부터 하나 또는 그 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 상기 이염기산은 설포이소프탈산 및 이의 금속염이며, 이의 사용량은 총 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트에 대해 1 내지 5몰%인 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 상기 디이소시아네이트는 2,4-톨루엔 디이소시아네이트, 2,6-톨루엔디이소시아네이트, 1,3-크실렌디이소시아네이트, 1,4-크실렌디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, m-페닐렌디이소시아네이트, P-페닐렌디이소시아네이트, 3,3'-디메틸-4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 4.4'-비스페닐렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 아이소포론디이소시아네이트, 수첨디페닐메탄디이소시아네이트 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 상기 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물은 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페닐옥시프로필(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올모노(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 알킬(메타)아크릴로일포스페이 트, 4-하이드록시싸이클로헥실(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올모노(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜모노(메타)아크릴레이트, 트리메칠올프로판디(메타)아크릴레이트, 트리메칠올에탄디(메타)아크릴레이트 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 상기 반응성 모노머 희석제는 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디 (메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메닐올프로판트리(메타)아크릴레이트 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 상기 광개시제는 1-하이드록시싸이클로헥실페닐 케톤, 2,2-디메톡시-2-페닐-아세토페논, 잔톤, 벤즈알데히드, 안트라퀴논, 3-메틸아세토페논, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디메톡시 벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 벤조인 프로필 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 1-(4-이소프로필-페놀)-2-히드록시-2-메틸 프로판-1-온, 티옥잔톤 또는이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
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