KR100562733B1 - 페놀 및 비페놀의 회수방법 - Google Patents

페놀 및 비페놀의 회수방법 Download PDF

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Abstract

반응 유출액 중에 함유된 벤젠, H20 및 페놀을 제거한 후, 술포란으로부터 비페놀의 분리를 위해 알칼리성 용액 및 벤젠을 사용하는 것을 기초로 한, 벤젠, 술포란 및 물을 함유하는 페놀 및 비페놀 균질 혼합물로부터의 페놀 및 비페놀의 회수 방법이 기재되어 있다.
본 방법은, 벤젠의 직접 산화를 위해 반응기 공급에 필요한 벤젠, 물 중의 비페놀 및 순수 페놀을 함유하는 정화된 용매를 직접 수득하며, 술포란 중에 용해된 페놀 및 비페놀 부산물의 회수를 가능하게 한다.

Description

페놀 및 비페놀의 회수방법{PROCESS FOR THE RECOVERY OF PHENOL AND BIPHENOLS}
도 1 은 본 발명의, H2O2 를 통하여 벤젠으로부터 생성된 페놀의 정제 방법에 대한 블록선도를 나타낸다.
본 발명은 페놀 및 비페놀 부산물을 이들을 함유하는 용액으로부터 회수하는 방법에 관한 것이다.
특히, 본 발명은 벤젠, 술포란 및 물을 함유하는, 페놀 및 비페놀 부산물의 균질 혼합물로부터 이들을 회수하는 방법에 관한 것이다.
페놀은 합성 수지, 살충제 및 산화방지제의 제조에 유용한 생성물이다.
산업에서, 페놀은 보통 프로필렌으로 사용한 벤젠의 알킬화하여 이소프로필 벤젠을 수득하고, 대응 tert-하이드로퍼록사이드로의 산화, 및 산 촉매 존재 하에서의 페놀 및 아세톤으로의 순차적인 분열 (cleavage)로 인해 제조된다.
잔류 산을 중성화 한 후, 반응 혼합물을 일련의 순차적인 증류에 투입하여 반응에 재순환되는, 비전환된 시약들로부터 생성물 및 부산물을 분리한다.
반응 용매로서, 술포란 존재 하의 액상 중에서 조작되는, 티타늄 실리칼리트 (titanium silicalite) 의 존재 하에, 과산화수소를 사용한 벤젠의 직접 산화에 의한 페놀 생산방법이 최근 제안되었다 (US 6,133,487 호)
상기 방법은 벤젠의 산화로, 높은 수율로 페놀을 수득하는 것을 가능하게 하며, 반응 조건에 따라 변화하는 농도의 폴리 히드록실화 생성물 (주로 비페놀)의 형성을 일으키는 순차적인 반응이 항상 수반된다.
결국 반응 유출액은 생산된 페놀, 비페놀 및 타르에 추가하여, 술포란 용매, 비전환된 벤젠, 생성된 물 및 희석 과산화수소와 함께 도입된 물을 함유한다.
이러한 경우, 가장 휘발성인 생성물들 (벤젠, 물 및 페놀)의 분리 후, 술포란의 증류에 용매보다 높은 비등점을 갖는 부산물을 제거하는 것이 요구되기 때문에, 각종 성분들의 순차적 증류를 포함하는, 통상적인 정제 방법의 적용은 적합하지 않다.
이러한 해결책은 비경제적일 뿐만 아니라, 예로서 카테콜과 같은 비페놀은 술포란과 함께 최고 온도의 공비 혼합물을 형성하여, 분리되지 않는다.
이러한 경우, 술포란은 물과 모든 비율에서 혼화되기 때문에, 수용액 (US 5,338,453 호) 중에서 소다를 사용한 단순 추출 방법에 의지하는 방법도 가능하지 않다.
이제, 본 발명의 방법에 의해 공지 기술의 상기 언급된 문제점들을 극복하는 것이 가능하다는 것을 발견하였으며, 이는 반응 유출액에 함유된 벤젠, H2O 및 페놀을 제거한 후, 알칼리성 용액 및 벤젠을 비페놀과 술포란의 분리에 사용하는 것에 기초한다.
본 발명의 방법은 물 중에 용해된 비페놀 및 순수 페놀에 추가하여, 술포란 중에 용해된 비페놀 부산물의 회수를 가능하게 하여, 벤젠의 직접 산화를 위하여 반응기로의 공급에 요구되는 벤젠 함유 정화 용매를 직접 수득할 수 있게 한다.
상기에 따른 본 발명의 목적은, 하기 단계들을 포함하는, 벤젠, 술포란 및 물을 함유하는 페놀 및 비페놀의 균질 혼합물로부터 페놀 및 비페놀을 회수하는 방법이다:
(a) 벤젠, 물, 페놀, 술포란 및 반응 부산물 (비페놀)을 함유하는 반응 혼합물을 둘 이상으로 이루어지는 증류 단위로 공급하여, 상부 (head)에서 본질적으로 벤젠-물 공비 혼합물 및 페놀로 이루어지는 하나 이상의 생성물을 수득하고, 바닥에서 술포란, 페놀 및 반응 부산물로 이루어지는 생성물을 수득하는 단계;
(b) 벤젠-물 공비 혼합물을 일련의, 하나 이상의 응축기로 이루어지는 응축계에 공급하여, 여기에서 탈혼합 후, 수상 및 벤젠 상이 분리되고, 벤젠상은 부분적으로 환류로서 증류 단위로 되돌아가는 반면, 수상은 완전히 수합되는 단계;
(c) 단계 (a) 의 증류 단위로부터의 바닥 생성물, 염기성 수용액 및 벤젠을 하나 이상의 혼합기 및 분리기 (D311)로 공급하여, 페놀을 염화하고, 계가 탈혼합 되어 벤젠 및 술포란으로 이루어지는 유기상 및 물, 페놀염 및 술포란 일부로 이루어지는 수상을 수득하는 단계;
(d) 혼합기/분리기 (D311) 로부터의 수상 및 벤젠을 액체/액체 추출컬럼 (C310) 으로 공급하여, 상부에서 벤젠 및 술포란을 함유하는, 물로 포화된 유기 추출물, 및 바닥에서 수용액 중에 페놀염을 함유하는 정제 (refined) 생성물을 수득하는 단계;
(e) 단계 (c) 및 (d) 로부터의 유기상들을 혼합/탈혼합계 (D312)로 공급하여, 술포란, 벤젠 및 물을 함유하는 유기 스트림 및 추출 컬럼 (C310) 으로 보내어지는, 유기 생성물로 포화된 수성 스트림을 수득하는 단계;
(f) 단계 (e) 로부터의 유기상을 증류 컬럼 (C320) 으로 공급하여, 여기에서 최고 압력으로 비균질한 벤젠-물 공비 혼합물을 상부에서 분리하고, 술포란, 벤젠 및 잔류수로 이루어지는 생성물을 바닥에서 분리하는 단계;
(g) 단계 (f) 에서 수득된 공비 혼합물을 하나 이상의 응축기로 이루어지는 응축계로 공급하여, 여기에서 수상은 분리되어 완전히 제거되서 페놀의 염화에 채용되는 염기성 수용액의 제조에 사용되고, 벤젠상은 환류로서 컬럼으로 되돌아가는 단계;
(h) 추출 컬럼 (C310) 에서 나오는 정제 생성물을 혼합기에 공급하고, 무기산 또는 CO2 로 산성화하여 페놀 염들로부터 페놀을 유리하는 단계;
(i) 단계 (h) 에서 수득된 염 수용액 및 추출제를 추출 컬럼 (C410) 으로 공 급하여, 상부에서 비페놀을 함유하는 추출물을 수득하고, 바닥에서 염수로 이루어지는 정제 생성물을 수득하는 단계;
(l) 상기 정제 생성물을 증류 컬럼 (C430) 으로 공급하여, 상부에서 물과 함께 잔류 추출제를 수득하고, 바닥에서 폐기 (disposal) 또는 회수를 위해 보내어지는 염 용액을 수득하는 단계;
(m) 컬럼 (C410) 에서 나오는 추출물 및 컬럼 (C430) 의 상부 생성물을 증류 컬럼 (C420) 으로 공급하여, 상부에서 H2O-추출 용매의 비균질한 공비 혼합물을 수득하고, 바닥에서 물 및 비페놀을 함유하는 용액을 수득하는 단계;
(n) 상부 생성물을 하나 이상의 응축기로 이루어지는 응축계로 공급하여, 여기에서 환류로서 단계 (m) 의 컬럼 (C420) 으로 보내어지는 수성상과 함께, 추출제를 함유하는 유기상을 수득하는 단계;
(o) 응축기로부터의 유기상 일부를 증류 컬럼 (C440) 으로 공급하여, 상부에서 단계 (a) 로 재순환되는 벤젠-물 혼합물을 수득하고, 바닥에서 분리 컬럼 (C410) 으로 직접 공급되는 추출제를 수득하는 단계.
본 발명의 구현예에 따라, 본 방법은 하기를 포함한다:
(a) 벤젠, 물, 페놀, 술포란 및 반응 부산물들을 함유하는 반응 혼합물을 제 1 증류 컬럼 (C210) 으로 공급하여 상부에서 벤젠-물 공비 혼합물로 이루어지는 생성물을 수득하고, 바닥에서 잔류 벤젠 및 물, 술포란, 페놀 및 부산물들을 포함하는 생성물을 수득하는 단계:
(b) 벤젠-물 공비 혼합물을 일련의 하나 이상의 응축기들로 이루어지는 응축계로 공급하며, 여기에서 탈 혼합 후, 수상 및 벤젠상이 분리되고, 벤젠상은 부분적으로 환류로서 증류 컬럼으로 되돌아가는 반면, 수상은 완전히 수합되는 단계;
(c) 컬럼 (C210) 에서 나오는 바닥 생성물을 제 2 증류 컬럼 (C220) 에 공급하여, 벤젠, 물 및 미량의 페놀을 함유하며, 단계 (a) 로 재순환되는 상부 생성물 및 페놀, 술포란 및 비페놀로 이루어지는 말단 (tail) 생성물을 수득하는 단계;
(d) 증류 컬럼 (C220) 으로부터의 말단 생성물을 제 3 증류 컬럼 (C230) 으로 공급하여, 사이드 컷 (side cut)으로서 순수 페놀을 수득하고, 상부에서 가능한 가벼운 생성물들 (벤젠 및 물)을 함유하는 증류 생성물 및 말단에서 페놀 및 비페놀 잔류물들을 함유하는 술포란으로 이루어지는 유출액을 수득하는 단계:
(e) 컬럼 (C230) 에서 나오는 말단 유출액, 염기성 수용액 및 벤젠을 하나 이상의 혼합기/분리기 (D311)로 공급하여 페놀의 염화물을 수득하고, 술포란 및 벤젠으로 이루어지는 유기상, 및 페놀 염 및 술포란 일부를 함유하는 수용액으로의 계의 탈 혼합을 일으킬 수 있는 양으로 벤젠을 공급하는 단계;
(f) 혼합기/분리기 (D311)에서 나오는 수상 및 벤젠을 액체/액체 추출 컬럼 (C310)으로 공급하여, 상부에서 벤젠 및 술포란을 함유하는, 물로 포화된 유기 추출물을 수득하고, 바닥에서 수용액 중의 페놀 염을 함유하는 정제 생성물을 수득하는 단계;
(g) 단계 (e) 및 (f) 로부터의 유기상 및 물을 혼합/탈혼합계 (D312)에 공급하여, 술포란, 벤젠 및 물을 함유하는 유기 스트림을 수득하고, 추출 컬럼 (C310) 으로 보내어지는 유기 생성물로 포화된 수성 스트림을 수득하는 단계;
(h) 단계 (g) 로부터의 유기상을 증류 컬럼 (C320) 으로 공급하고, 여기에서 최고 압력으로 비균질한 벤젠-물 공비 혼합물이 상부에서 분리되고, 술포란, 벤젠 및 잔류수로 이루어지는 생성물이 바닥에서 분리되는 단계;
(i) 단계 (h) 에서 수득된 공비 혼합물을 하나 이상의 응축기로 이루어지는 응축계에 공급하고, 여기에서 환류로서 컬럼으로 되돌아가는 벤젠 상과 함께, 수상이 분리 및 완전 제거되어, 페놀의 염화에 채용되는 염기성 수용액을 제조하는데 사용되는 단계;
(l) 추출 컬럼 (C310) 에서 나오는 정제 생성물을 혼합기로 공급하고, 유기산 또는 CO2 로 산성화하여 페놀 염들로부터 페놀을 유리하는 단계;
(m) 단계 (l) 에서 수득된 염 수용액 및 추출제를 추출 컬럼 (C410) 에 공급하여, 상부에서 비페놀을 함유하는 추출물을 수득하고, 바닥에서 염수로 이루어지는 정제 생성물을 수득하는 단계;
(n) 정제 생성물을 증류 컬럼 (C430) 에 공급하여, 상부에서 물과 함께 잔류 추출제를 수득하고, 바닥에서 폐기 또는 회수를 위해 보내어지는 염 용액을 수득하는 단계;
(o) 컬럼 (C410) 으로부터의 추출물 및 컬럼 (C430) 의 상부 생성물을 증류 컬럼 (C420) 으로 공급하여, 상부에서 비균질한 H20-추출 용매 공비 혼합물을 수득하고, 바닥에서 물 및 비페놀을 함유하는 용액을 수득하는 단계;
(p) 상부 생성물을 하나 이상의 응축기들로 이루어지는 응축계로 공급하여, 여기에서 추출제를 함유하는 유기상과 함께, 환류로서 단계 (o)의 컬럼 (C420) 으로 보내어지는 수상을 수득하는 단계;
(q) 응축기로부터의 유기상 일부를 증류 컬럼 (C440) 으로 공급하여, 단계 (a) 로 재순환되는 벤젠-물 혼합물을 상부에서 수득하고, 분리 컬럼 (C410) 으로 직접 공급되는 추출제를 바닥에서 수득하는 단계.
본 발명의 방법의 구현예에 따라, 반응 유출액은, 증류 단위에 공급되기 전에, 용해된 대부분의 불활성 기체들을 제거하기 위하여 플래쉬 (flash) (D210) 중에서 탈기시킬 수 있다.
상기 플래쉬는 20 내지 100 ℃ 범위의 온도 및 0.1 내지 0.9 바 (bar) 의 압력에서, 바람직하게는 40 내지 70 ℃ 범위의 온도 및 0.4 내지 0.7 바의 압력에서 조작된다.
플래쉬로부터의 스트림은 순차적으로 증류계로 공급된다.
컬럼 (C210), (C220) 및 (C230) 은 바닥에서는 실질적으로 동일한 온도 조건하에, 즉, 약 150 내지 200 ℃ 에서 조작되지만, 상부에서는 상이한 압력 및 온도에서 조작된다.
특히, 컬럼 (C210) 은 0.1 내지 0.9 바 범위의 압력 및 상부에서 20 내지 100 ℃ 범위의 온도에서 조작되며, 컬럼 (C220) 은 0.05 내지 0.1 바 범위의 압력 및 상부에서 30 내지 100 ℃ 범위의 온도에서 조작되는 반면, 컬럼 (C230) 은 0.01 내지 0.1 바 범위의 압력 및 30 내지 90 ℃ 범위의 온도에서 조작된다.
컬럼 (C210) 은 상부에서 벤젠 및 H2O 를 분리하는 기능을 한다. 응축된 생성물은 탈혼합 후, 수상 및 벤젠상으로 분리된다. 벤젠상은 부분적으로 환류로서 컬럼으로 되돌아가는 반면, 수상은 완전히 수합된다.
컬럼의 말단 유출액은 잔류 벤젠 및 H2O 를 함유하여, 보일러 내의 과도한 온도 상승을 피할 수 있다.
(C210) 의 말단 스트림 중에 함유된 잔류 벤젠 및 H2O 의 방출 (exhaustion)은, 선행 컬럼에서의 압력에 대해 보다 낮은 압력에서 조작되는 제 2 컬럼 (C220)에서 일어나며, 페놀도 함유하는 이의 증류물은 (C210) 으로 재순환된다.
컬럼 (C220) 의 말단 잔류물은 순차적인 증류 컬럼 (C230) 으로 보내어지고, 여기에서 순수한 페놀이 6 번째 단계에서 사이드 컷으로서 수득되는 반면, 임의의 가능한 가벼운 생성물들은 상부에서 증류물 중에 농축되어 (C210) 으로 재순환된다.
(C230) 의 말단 유출액은 잔류 페놀 및 비페놀을 함유하는 술포란으로 이루어지며, 비페놀 분리 구역으로 보내어, 여기에서 먼저 과량의 염기성 수용액으로 처리하여 존재하는 페놀을 염화시킨다. 보통 NaOH, KOH, Na2CO3, K2CO 3, Na3PO4, K3PO4 용액이 사용된다. NaOH 용액이 바람직하게 채용된다.
이어서, 페놀의 알칼리 염 및 술포란 일부를 함유하는 수상 및 술포란과 물로 포화된 벤젠으로 이루어지는 유기상으로의 계의 탈혼합을 일으키기에 적합한 양 으로, 벤젠과 혼합시킨다.
분리 후, 수상을 액체-액체 추출 컬럼 (C310) 으로 보내고, 여기에서 이를 벤젠으로 처리하여 그 안에 함유된 술포란을 추출하여, 벤젠 및 술포란으로 이루어지는, 물로 포화된 추출 생성물, 및 수용액 중에 알칼리성 페네이트 (phenate)를 함유하는 정제 생성물을 수득한다.
추출 용매의 일부는 (C210) 의 상부로부터 유래하며, 나머지는 반응 중에 소비된 양을 다시 채우기 위한 새로운 벤젠의 공급물로 이루어진다.
(D311) 및 (C310) 으로부터의 유기상들은 분산된 H2O 중에 함유된 임의의 가능한 미량 염들을 제거하기 위하여 먼저 (D312) 중에서 H2O 로 세정하고, 과량의 물을 분리하기 위하여 증류 컬럼 (C320)으로 보내어진다. 상기 조작에 의해 상부에서 최고 압력으로 비균질한 벤젠-H2O 공비 혼합물이 분리된다.
탈혼합 후, 응축물을 수상 및 벤젠상으로 분리한다. 벤젠상은 환류로서 컬럼으로 완전히 되돌아가는 반면, 수상은 완전히 수합되어 염화에 사용되는 알칼리성 용액의 제조에 재사용된다.
컬럼 (C320) 의 말단 유출액은, 혼합물을 반응에 재순환시키기에 적당한 농도의 술포란, 벤젠 및 H2O 으로 이루어진다.
수용액 중에 나트륨 페네이트를 함유하는 정제 생성물을, 산, 바람직하게는 H2SO4 와 함께 혼합기에 공급하여, 그들의 염으로부터 페놀을 유리한다. 이렇게 수득된 술페이트 수용액, 및 방향족 탄화수소, 알코올, 케톤, 비수용성 또는 부분 수용성인 에스테르 또는 에테르, 특히 큐멘, 벤젠, tert-아밀 알코올, 이소프로필 에테르, 3-펜타논, 디이소프로필 케톤, 부틸 아세테이트, 메틸 이소부틸 케톤, 바람직하게는 메틸 이소부틸 케톤 (MIK)으로부터 선택되는 추출제를 추출 컬럼으로 공급하여, 유기 용매 중에 비페놀을 함유하는 추출물 및 상기 용매로 포화된 술페이트 수용액으로 이루어지는 정제 생성물을 생성한다.
추출 컬럼에서 나오는 정제 생성물을 잔류 용매 제거용 증류 컬럼으로 공급하여, 말단에서 술페이트 수용액을 수득하며, 이는 폐기한다.
용매 제거를 위해 (C210) 의 상부로부터의 H2O 스트림도 (C430) 으로 보낸다. 상기 컬럼에도 부분 응축기가 설치되어, 여기에서 응축된 생성물은 모두 환류로서 컬럼으로 다시 보내어진다.
추출 용매의 회수는 (C410) 의 추출물 및 컬럼 (C430) 의 상부에서의 증기를 동일한 증류 컬럼 (C420)으로 보냄으로써 이루어지며, 여기에서 최고 압력으로 H2O-용매의 비균질한 공비 혼합물을 상부에서 수득한다.
응축 후, 증류물을 유기상 및 수상으로 분리한다. 수상은 환류로서 전부 컬럼으로 되돌아가는 반면, 물로 포화된 유기 용매로 이루어지는 유기상은 (C410) 에서의 추출을 위해 재순환된다.
마지막으로, 비페놀 수용액을 말단에서 수득한다.
(C420) 에서 증류된 유기 용매는 이전 조작으로부터의 벤젠을 소량 함유하기 때문에, 벤젠이 제거되어 추출 루프 (loop)에서 이의 축적을 막기 위해, 용매 일부 (약 5 %)는 증류 컬럼 (C440) 에서 증류되어야 한다.
이러한 방법으로 벤젠 및 H2O 로 이루어지는 증류물을 컬럼 상부에서 수득하고, 이를 (C210) 으로 재순환시키는 반면, 벤젠이 없는 유기 용매가 말단에서 수득된다.
본 발명의 방법은 도 1 의 블록선도를 참조하여 보다 잘 이해할 수 있을 것이며, 이는 본 발명의 구현예를 예시적인 구현예이지 한정적인 것은 아니다.
하기의 조작 예는 단지 예시적이며 비제한적인 목적으로 제공된다.
실시예 1
하기로부터 출발하여, 페놀 및 비페놀의 회수를 위하여 도 1 의 그림을 따랐다:
- 36 중량% 의 벤젠, 2 중량% 의 물, 4 중량% 의 페놀, 0.4 중량% 의 비페놀 및 57.6 중량% 의 술포란으로 이루어지는 페놀 생성 플랜트로부터의 스트림;
- 페놀의 염화를 수득하고, 술포란 일부 뿐만 아니라 페놀의 나트륨염을 함유하는 수상, 및 술포란 및 벤젠으로 이루어지는 유기상으로의 각각의 계의 탈혼합을 일으킬 수 있는 양으로, 혼합기/분리기 (D311) 로 공급되는 NaOH 및 벤젠의 수용액;
- 페놀의 염들로부터 페놀을 유리하기 위하여 혼합기로 공급되는 98 중량% 의 황산 함유 용액 ;
단일 스트림에 대한 양 및 데이타를 하기 표 1 에 나타내었다.
Figure 112003018610643-pat00001
본 발명은 벤젠의 직접 산화를 위해 반응기 공급에 필요한 벤젠, 물 중의 비페놀 및 순수 페놀을 함유하는 정제화된 용매를 직접 수득하며, 술포란 중에 용해된 페놀 및 비페놀 부산물의 회수를 가능하게 한다.

Claims (9)

  1. 하기 단계들을 포함하는, 벤젠, 술포란 및 물을 함유하는 페놀 및 비페놀의 균질 혼합물로부터의 페놀 및 비페놀 회수방법:
    (a) 벤젠, 물, 페놀, 술포란 및 반응 부산물 (비페놀)을 함유하는 반응 혼합물을 둘 이상으로 이루어지는 증류 단위로 공급하여, 상부에서 본질적으로 벤젠-물 공비 혼합물 및 페놀로 이루어지는 하나 이상의 생성물을 수득하고, 바닥 부분에서 술포란, 페놀 및 반응 부산물로 이루어지는 생성물을 수득하는 단계;
    (b) 벤젠-물 공비 혼합물을 일련의, 하나 이상의 응축기로 이루어지는 응축계에 공급하여, 여기에서 탈혼합 후, 수상 및 벤젠 상이 분리되고, 벤젠상은 부분적으로 환류로서 증류 단위로 되돌아가는 반면, 수상은 완전히 수합되는 단계;
    (c) 단계 (a) 의 증류 단위로부터의 바닥 생성물, 염기성 수용액 및 벤젠을 혼합기/분리기로 공급하여, 페놀을 염화하고, 계가 탈혼합되어 벤젠 및 술포란으로 이루어지는 유기상, 및 물, 페놀염 및 술포란 일부로 이루어지는 수상을 수득하는 단계;
    (d) 혼합기/상 분리기 (D311) 로부터의 수상 및 벤젠을 액체/액체 추출컬럼 (C310) 으로 공급하여, 상부에서 벤젠 및 술포란을 함유하는, 물로 포화된 유기 추출물, 및 바닥에서 수용액 중에 페놀염을 함유하는 정제 생성물을 수득하는 단계;
    (e) 단계 (c) 및 (d) 로부터의 유기상들을 혼합/탈혼합계 (D312)로 공급하여, 상부에서 술포란, 벤젠 및 물을 함유하는 유기 스트림 및 추출 컬럼 (C310) 으로 보내어지는 유기 생성물로 포화된 수성 스트림을 수득하는 단계;
    (f) 단계 (e) 로부터의 유기상을 증류 컬럼 (C320) 으로 공급하여, 여기에서 최고 압력으로 비균질한 벤젠-물 공비 혼합물을 상부에서 분리하고, 술포란, 벤젠 및 물로 이루어지는 생성물을 바닥에서 분리하는 단계;
    (g) 단계 (f) 에서 수득된 공비 혼합물을 하나 이상의 응축기로 이루어지는 응축계로 공급하여, 여기에서 수상은 분리 및 완전 제거되어, 페놀의 염화에 채용되는 염기성 수용액의 제조에 사용되고, 벤젠상은 환류로서 컬럼으로 되돌아가는 단계;
    (h) 추출 컬럼 (C310) 에서 나오는 정제 생성물을 혼합기에 공급하고, 산성화 매질로 산성화하여 페놀 염들로부터 페놀을 유리하는 단계;
    (i) 단계 (h) 에서 수득된 염 수용액 및 추출제를 추출 컬럼 (C410) 으로 공급하여, 상부에서 비페놀을 함유하는 추출물을 수득하고, 바닥에서 염수로 이루어지는 정제 생성물을 수득하는 단계;
    (l) 상기 정제 생성물을 증류 컬럼 (C430) 으로 공급하여 상부에서 물과 함께 잔류 추출제를 수득하고, 바닥에서 폐기 (disposal) 또는 회수를 위해 보내어지는 염 용액을 수득하는 단계;
    (m) 컬럼 (C410) 으로부터의 추출물 및 컬럼 (C430) 의 상부 생성물을 증류 컬럼 (C420) 으로 공급하여, 상부에서 H2O-추출 용매의 비균질한 공비 혼합물을 수득하고, 바닥에서 물 및 비페놀을 함유하는 용액을 수득하는 단계;
    (n) 상부 생성물을 하나 이상의 응축기로 이루어지는 응축계로 공급하여, 여기에서 환류로서 단계 (m) 의 컬럼 (C420) 으로 보내어지는 수성상, 및 추출제를 함유하는 유기상을 수득하는 단계;
    (o) 응축기로부터의 유기상 일부를 증류 컬럼 (C440) 으로 공급하여, 상부에서 단계 (a) 로 재순환되는 벤젠-물 혼합물을 수득하고, 바닥에서 분리 컬럼 (C410) 으로 직접 공급되는 추출제를 수득하는 단계.
  2. 제 1 항에 있어서, 단계 (a)에서, 증류 단위가 바닥에서 150 내지 200 ℃ 의 범위의 온도에서 조작되고, 상부에서는 상이한 압력 및 온도에서 조작되는 세 개의 컬럼 (C210), (C220) 및 (C230) 으로 이루어지는 방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 컬럼 (C210) 이 0.1 내지 0.9 바 (bar) 범위의 압력, 및 상부에서 20 내지 100 ℃ 의 온도에서 조작되는 방법.
  4. 제 2 항에 있어서, 컬럼 (C220) 이 0.05 내지 0.1 바 범위의 압력, 및 상부에서 30 내지 100 ℃ 의 온도에서 조작되는 방법.
  5. 제 2 항에 있어서, 컬럼 (C230) 이 0.01 내지 0.1 바 범위의 압력, 및 상부에서 30 내지 90 ℃ 의 온도에서 조작되는 방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 단계 (c)에서, 염기성 용액이 NaOH, KOH, Na2CO3, K2CO 3, Na3PO4 및 K3PO4 로부터 선택되는 방법.
  7. 제 1 항에 있어서, 단계 (h)에서 산성화 매질이 무기산 또는 CO2 인 방법.
  8. 제 1 항에 있어서, 단계 (i) 에서 추출제가 방향족 탄화수소, 알코올, 케톤, 비수용성 또는 부분 수용성 에스테르 또는 에테르, 특히 큐멘, 벤젠, tert-아밀 알코올, 이소프로필 에테르, 3-펜타논, 디이소프로필 케톤, 부틸 아세테이트, 메틸 이소부틸 케톤으로부터 선택되는 방법.
  9. 제 8 항에 있어서, 추출제가 메틸 이소부틸 케톤인 방법.
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