KR100559807B1 - 노즐 막힘 검출 장치, 액체방울 토출 장치, 전기 광학장치, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전자 기기 - Google Patents

노즐 막힘 검출 장치, 액체방울 토출 장치, 전기 광학장치, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전자 기기 Download PDF

Info

Publication number
KR100559807B1
KR100559807B1 KR1020030094508A KR20030094508A KR100559807B1 KR 100559807 B1 KR100559807 B1 KR 100559807B1 KR 1020030094508 A KR1020030094508 A KR 1020030094508A KR 20030094508 A KR20030094508 A KR 20030094508A KR 100559807 B1 KR100559807 B1 KR 100559807B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
nozzle
droplet
discharged
droplets
piezoelectric element
Prior art date
Application number
KR1020030094508A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20040057946A (ko
Inventor
가미야마노부아키
Original Assignee
세이코 엡슨 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세이코 엡슨 가부시키가이샤 filed Critical 세이코 엡슨 가부시키가이샤
Publication of KR20040057946A publication Critical patent/KR20040057946A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100559807B1 publication Critical patent/KR100559807B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01—Ink jet
    • B41J2/135—Nozzles
    • B41J2/165—Prevention or detection of nozzle clogging, e.g. cleaning, capping or moistening for nozzles
    • B41J2/16579—Detection means therefor, e.g. for nozzle clogging
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00—Metal working
    • Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002—Electrical device making

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Ink Jet (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

헤드(20)는 제어 장치(10)에 의한 제어에 따라 노즐 그룹(21)의 각 노즐로부터 액체방울(22)을 토출한다. 계측 수단(33)은 수정(水晶) 진동자(31)의 공진 주파수를 전기적으로 측정하여 제어 장치(10)에 출력한다. 제어 장치(10)는 액체방울(22)의 토출 전후에서의 수정 진동자의 공진 주파수 계측 결과에 의거하여, 노즐 막힘의 유무(有無)를 판정한다.
헤드, 제어 장치, 수정 진동자, 공진 주파수, 노즐 막힘

Description

노즐 막힘 검출 장치, 액체방울 토출 장치, 전기 광학 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전자 기기{NOZZLE CLOGGING DETECTION DEVICE, LIQUID DROPLET DISCHARGING DEVICE, ELECTROOPTICAL DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF ELECTROOPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS}
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액체방울 토출 장치의 구성도.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에서의 헤드와 전극의 위치 관계를 나타내는 도면.
도 3은 본 발명의 제 1 실시예에서의 노즐 막힘 검출 처리의 플로차트.
도 4는 본 발명의 제 1 실시예에서의 수정(水晶) 진동자의 공진 주파수 변화의 예시도.
도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정 표시 장치의 예시도.
도 6은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 휴대 전화기의 예시도.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
10 제어 장치
10a 내부 메모리
20 헤드
21 노즐 그룹
22 액체방울
23 캐리지
24 제 1 가이드 레일
30 QCM
31 수정 진동자
31a, 31b 전극
32 전원
33 계측 수단
40 토출 대상물
41 테이블
42 제 2 가이드 레일
본 발명은 액체방울을 토출하는 노즐의 막힘을 검출하는 노즐 막힘 검출 장치, 상기 장치를 갖는 액체방울 토출 장치, 상기 액체방울 토출 장치를 사용한 전기 광학 장치의 제조 방법, 상기 방법을 사용하여 제조된 전기 광학 장치, 및 상기 전기 광학 장치를 탑재한 전자 기기에 관한 것이다.
예를 들면, 유기 EL(Electro Luminescence)의 발광층 재료로서 기대되는 고분자 재료의 성막 등 공업상의 다양한 분야에 액체방울 토출 장치가 이용되고 있 다.
액체방울 토출 장치는 헤드라고 불리는 액체방울 토출 기구를 갖고, 상기 헤드에 규칙적으로 배열한 복수의 노즐에 의해, 용도에 따른 재료를 액체방울 형상으로 토출하는 구조를 갖는 것이 일반적이다.
일반적으로 액체방울을 토출하는 노즐 직경은 매우 작다. 따라서, 예를 들어, 토출하는 재료의 점성(粘性) 등에 기인하는 노즐 막힘은 어느 정도 불가피한 문제이지만, 노즐 막힘을 방치하면 최악의 경우, 상기 노즐로부터 아무것도 토출되지 않는 이른바 「도트 빠짐」이라는 현상을 유발한다. 도트 빠짐은 제품의 품질 열화(劣化)와 직결되기 때문에, 종래의 액체방울 토출 장치에서는, 레이저광을 이용하여, 노즐로부터 토출되는 액체방울이 상기 레이저를 횡단할 때의 광량(光量) 변화를 검출하여, 노즐 막힘이 발생하고 있는지의 여부를 판단하고 있었다.
그러나, 이 방법에서는, 액체방울이 낙하하는 과정에서 그리는 궤적과 레이저광의 광로(光路)가 적절히 교차하도록 레이저를 설치할 필요가 있었다. 또한, 검출 정밀도의 문제 때문에 1노즐당 복수 방울의 토출이 필요하고, 또한, 헤드나 검출 장치를 이동시키면서 노즐 막힘을 검출하고 있었기 때문에, 처리 부하(負荷)가 높아지며, 토출되는 재료가 매우 고가(高價)일 경우에는, 경제적인 문제도 무시할 수 없었다.
본 발명은 상술한 사정을 감안하여 안출된 것으로서, 설치상의 제약이 적고, 고정밀도이며, 또한, 처리 부하를 경감할 수 있는 노즐 막힘 검출 장치, 상기 장치 를 갖는 액체방울 토출 장치, 상기 액체방울 토출 장치를 사용한 전기 광학 장치의 제조 방법, 상기 방법을 사용하여 제조된 전기 광학 장치, 및 상기 전기 광학 장치를 탑재한 전자 기기를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 액체방울을 토출하는 노즐의 막힘을 검출하는 장치로서, 2개의 전극에 삽입되고, 상기 전극에 전압이 인가됨으로써 일정한 주파수로 공진하는 압전 소자와, 상기 압전 소자의 공진 주파수를 계측(計測)하는 계측 수단과, 노즐로부터 상기 압전 소자에 액체방울이 토출되어야 할 시점 전후의 상기 압전 소자의 공진 주파수를 상기 계측 수단으로부터 취득하여, 상기 공진 주파수의 차분(差分)이 미리 정해진 값 이하일 경우에, 상기 액체방울을 토출한 노즐에 노즐 막힘이 발생하고 있다고 판정하는 판정 수단을 갖는 노즐 막힘 검출 장치를 제공한다.
이러한 노즐 막힘 검출 장치에 의하면, 전극에 액체방울이 부착되기만 하면 압전 소자의 공진 주파수 변화를 검출할 수 있기 때문에, 상기 장치를 설치함에 있어서의 제약이 적고, 설치에 부수되는 부하를 대폭으로 경감할 수 있다.
또한, 이러한 노즐 막힘 검출 장치에 의하면, 압전 소자의 공진 주파수 변화는 전극 위에 액체방울이 1방울 부착됨으로써 검출할 수 있기 때문에, 노즐로부터 복수 방울의 액체방울을 토출할 필요가 없어, 경제적인 부하가 대폭으로 경감된다.
또한, 본 발명은 상기 노즐 막힘 검출 장치를 갖는 액체방울 토출 장치를 제공한다.
또한, 본 발명에 따른 액체방울 토출 장치는 배선, 컬러 필터, 포토레지스트, 마이크로 렌즈 어레이, 일렉트로루미네선스 재료, 생체 물질 중 어느 하나의 패턴 형성을 용도로 하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 액체방울 토출 장치를 사용하여, 전기 광학 장치를 제조하는 방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 액체방울 토출 장치에 의해 제조된 전기 광학 장치를 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 전기 광학 장치를 탑재한 전자 기기를 제공한다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대해서 설명한다.
(제 1 실시예)
도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 것이며, 노즐 막힘 검출 장치를 갖는 액체방울 토출 장치의 구성을 나타낸 도면이다. 도 1에 있어서, 제어 장치(10)는 상기 액체방울 토출 장치의 동작을 제어한다. 또한, 제어 장치(10)는 내부 메모리(10a)를 갖고 있어, 후술하는 계측 수단의 측정값 등을 기억할 수 있다.
헤드(20)는 노즐 그룹(21)을 갖고, 제어 장치(10)에 의한 제어에 따라, 노즐 그룹(21)을 구성하는 각 노즐로부터 액체방울(22)을 토출한다. 액체방울(22)은, 예를 들어, 나노그램 단위의 중량을 가진 미소(微小)한 액체방울이다. 캐리지(23)는 헤드(20)를 유지한다. 제 1 가이드 레일(24)은 도면 중의 X축 방향으로 곧게 연장되고, 캐리지(23)를 상기 방향으로 이동 가능한 상태로 유지한다. 따라서, 헤드(20)도 X축 방향으로 이동할 수 있게 된다.
토출 대상물(40)은, 유기 EL 패널의 제조 과정을 예로 들면, 발광층을 형성시키는 기판에 상당하고, 액체방울(22)을 토출시키는 대상물이다. 테이블(41)은 토출 대상물(40)을 탑재한다. 제 2 가이드 레일(42)은 도면 중의 X축, 및 Z축 방향과 직교하는 Y축(도 1 중에서는 도시 생략) 방향으로 곧게 연장되고, 테이블(41)을 Y축 방향으로 이동 가능한 상태로 유지한다. 따라서, 토출 대상물(40)도 Y축 방향으로 이동할 수 있게 된다.
수정 진동자(31)는, 교류 전압이 인가되면, 역압전(逆壓電) 효과에 의해 고유의 주파수로 공진하는 성질을 가진 압전 소자이다. 전극(31a, 31b)은 평판(平板) 형상을 갖고, 수정 진동자(31)를 사이에 끼우도록 설치되어 있다. 또한, 전극(31a)은 노즐 그룹(21)과 대향하고, 각 노즐로부터 토출되는 액체방울이 부착되도록 되어 있다. 전원(32)은 전극(31a, 31b)을 통하여 수정 진동자(31)에 교류 전압을 인가한다. 계측 수단(33)은 수정 진동자(31)의 공진 주파수를 전기적으로 측정하여 제어 장치(10)에 출력한다.
여기서, 수정 진동자(31), 전극(31a, 31b), 전원(32), 계측 수단(33), 및 제어 장치(10)는 노즐 그룹(21)을 구성하는 각 노즐의 막힘을 검출하는 QCM(Quartz Crystal Micro balancer)(30)을 구성한다. QCM(30)은 전극(31a)에 액체방울(22)이 부착된 것을 계측 수단(33)에 의해 수정 진동자(31)의 공진 주파수 변화로서 검출할 수 있다. QCM(30)은 대략 몇나노그램의 중량 변화를 1㎐의 주파수 변화로서 검출할 수 있고, 본 실시예에서 노즐 막힘 검출 장치로서 동작한다.
도 2는, 도 1에 있어서, 헤드(20)를 A-A'선 위로부터 Z축 아래쪽을 향하여 내려다 본 경우의 경우의 개략 구성도이다. 편의상 노즐 그룹(21)을 기재한다. 노즐 그룹(21)은 헤드(20)의 하면(下面), X축과 Y축의 방향으로 각각 복수 배치된 합계 N개의 노즐 Nk(k=1, 2, …, N)로 구성되어 있다. 또한, 전극(31a)은 헤드(20)의 노즐 Nk의 배열 영역보다도 큰 영역을 갖고 있다.
도 3은 본 실시예에 따른 노즐 막힘 검출 처리를 설명한 플로차트이다. 상기 플로차트를 이용하여 상기 검출 처리를 설명한다.
노즐 막힘 검출 처리가 개시되면, 제어 장치(10)는 헤드(20)와 전극(31a)이 도 2에 나타낸 위치 관계로 되도록 헤드(20)를 이동시킨다(스텝 S101). 다음으로, 제어 장치(10)는 수정 진동자(31)에 전압을 공급한다(스텝 S102). 전압이 공급됨으로써 수정 진동자(31)는 일정한 주파수로 공진한다.
다음으로, 제어 장치(10)는 변수 k에 「1」을 세트한다(스텝 S103). 여기서, 변수 k는 노즐 번호를 나타내고 있으며, 예를 들어, k=1이면, 노즐 N1을 나타내는 것으로 한다. 다음으로, 제어 장치(10)는 노즐 Nk에 대해서 액체방울을 1방울 토출하는 지시를 보내는(스텝 S104) 동시에, 그 시점에서 계측 수단(33)에 의해 측정되고 있는 주파수의 값 Ff를 내부 메모리(10a)에 기억한다(스텝 S105). 이어서, 제어 장치(10)는, 액체방울의 토출 지시가 보내진 후, 미리 정해진 시간이 경과된 시점에서 계측 수단(33)에 의해 측정된 주파수 Fb를 내부 메모리(10a)에 기억한다(스텝 S106). 내부 메모리(10a)에 Ff 및 Fb가 기억되면, 제어 장치(10)는 변수 z에 Ff와 Fb의 차분의 절대값을 세트한다(스텝 S107). 그리고, 제어 장치(10)는 변수 z가 미리 정해진 값 h 이상인지의 여부를 판정한다(스텝 S108).
도 4는 수정 진동자(31)의 공진 주파수 변화를 예시한 도면이다. 도 4에 있어서, 시각 T1에서 스텝 S104가 실행되고, 시각 T2에 액체방울(22)이 전극(31a)에 부착되면, 상기 주파수는 순식간에 Ff로부터 F'로 변화된다. 그러나, 상기 주파수는 F'로 안정되지 않고, 시각 T1로부터 시간 ΔT를 경과한 시각 T4에서 주파수 Fb로 되어 대략 시간적으로 안정된다. 도 4에서는 ΔT가 상술한 「미리 정해진 경과 시간」이며, 시각 T4가 스텝 S105의 실행 타이밍이다.
또한, h의 값으로서는, 액체방울 1방울에 대한 수정 진동자(31)의 공진 주파수 변화량 z보다도 충분히 작은 값을 설정하여 둔다.
스텝 S108의 판정 결과가 긍정적이면, 노즐 Nk로부터 정상적으로 액체방울이 토출된 것으로 되어, 제어 장치(10)는 처리를 스텝 S109로 이행(移行)시킨다. 상기 판정 결과가 부정적이면, 제어 장치(10)는 노즐 Nk로부터 액체방울이 토출되지 않았다고 판단하여, 변수 k의 값, 즉, 액체방울이 토출되지 않은 노즐의 번호를 내부 메모리(10a)에 기억한다(스텝 S11O).
스텝 S109에서는 전체 노즐에 대하여 노즐 막힘의 검출 처리가 실행되었는지를 판정한다. 노즐 막힘 검출 처리가 실행되지 않은 노즐이 존재할 경우, 즉, 변수 k의 값이 노즐 수 N과 동일하지 않을 경우, 스텝 S109의 판정 결과는 부정적으로 되어, 제어 장치(10)는 변수 k를 「1」 인크리먼트(increment)하고, 노즐 번호를 갱신하여(스텝 S111), 처리를 S104까지 되돌려, N개의 전체 노즐에 대하여 스텝 S104로부터 스텝 S109에 이르는 처리를 반복한다. N개의 노즐에 대해서 노즐 막힘의 검출 처리가 종료되면, 스텝 S109의 판정 결과는 긍정적으로 되어, 노즐 막힘 검출 처리는 종료된다.
본 실시예에 따른 액체방울 토출 장치에 있어서, QCM(30)은 상술한 바와 같이 노즐의 배열 영역보다도 큰 영역을 가진 전극(31a)을 갖고 있으며, 노즐 막힘 검출 처리 개시 시에, 헤드(20)가 도 2에 나타낸 바와 같은 검출 위치까지 이동하면, 노즐 그룹(21)으로부터 토출되는 액체방울은 모두 전극(31a)에 부착되도록 구성되어 있다. 따라서, 상기 검출 처리 중에 헤드(20)를 이동시킬 필요가 없어, 레이저광을 이용한 종래 기술과 같이 헤드 또는 검출 장치를 이동시켜야만 하는 경우와 비교하여, 상기 처리에 부수되는 제어 장치(10)의 부하를 대폭으로 경감할 수 있다.
또한, 본 실시예에서 노즐 막힘 검출 장치로서 기능하는 QCM(30)은, 전극(31a)에 액체방울이 부착되기만 하면, 수정 진동자(31)의 공진 주파수 변화로서 이것을 인식할 수 있기 때문에, 레이저광을 이용한 종래 기술과 비교하여, 설치상의 제약이 적으며, 1방울의 액체방울 토출에 의해 노즐 막힘을 검출하는 것이 가능해진다.
또한, 본 실시예에서는 전극(31a)이 노즐의 배열 영역보다도 큰 영역을 갖고 있는 구성으로 했지만, 전극(31a)은 노즐의 배열 영역보다 작을 수도 있다. 이 경우, 노즐 막힘의 검출 처리에 헤드(20) 또는 전극(31a)의 이동을 수반하여, 제어 장치(10)의 처리 부하는 증가하지만, 1방울의 액체방울 토출에 의해 노즐 막힘의 검출이 가능하다는 효과는 유지된다. 또한, 레이저광을 이용한 종래 기술과 비교하여, 설치상의 제약이 적다는 효과도 손상되지 않는다.
또한, 본 실시예에 따른 액체방울 토출 장치는, 수정 진동자(31)가 갖는 물리적 성질을 이용하여, 1방울의 액체방울 토출에 의해 노즐 막힘을 검출하는 것이 가능해지기 때문에, 종래와 같이 복수 방울의 토출을 필요로 하지 않아, 경제적 부하의 경감 및 자원의 효과적인 이용을 실현할 수 있다.
또한, 본 실시예에 있어서, 노즐 막힘 검출 처리는, 예를 들어, 일정 기간마다 제어 장치(10)에 의해 자동적으로 실행되게 하여도 되고, 사용자가 상기 처리를 실행하고 싶은 임의의 시각에서 제어 장치(10)에 상기 처리의 실행을 지시할 수 있게 하여도 된다.
또한, 본 실시예에 있어서 제어 장치(10)는, 액체방울 토출 후의 수정 진동자의 공진 주파수로서, 도 4에 나타낸 시각 T4에서의 시간적으로 안정된 주파수 Fb를 기억하고 있지만, 시간적으로 안정되지 않은, 시각 T1로부터 시간 ΔT'(＜ΔT)를 경과한 시각 T3에서의 주파수 Fb'를 기억할 수도 있다.
또한, 제어 장치(10)는, 시각 T3과 같은, 수정 진동자의 공진 주파수가 시간적으로 불안정한 시간 영역에서 액체방울의 토출을 지시할 수도 있다. 이렇게 함으로써, 노즐 막힘 검출 처리에 필요한 시간을 단축할 수 있다.
또한, 본 실시예에 따른 액체방울 토출 장치는, 액체방울(22) 및 토출 대상물(40)을 선택함으로써, 상술한 EL 재료의 토출 이외의 다양한 용도에 응용할 수 있다. 예를 들면, 배선, 컬러 필터, 포토레지스트, 마이크로 렌즈 어레이, 생체 물질 칩 등의 용도에 응용할 수 있다.
(제 2 실시예)
도 5는 본 발명의 제 2 실시예로서, 본 발명에 따른 액체방울 토출 장치를 사용하여 제조된 컬러 필터를 탑재한 액정 표시 장치의 구성을 예시하는 사시도이다. 본 실시예에 따른 액정 표시 장치(400)는 액정 구동용 IC(도시 생략), 배선류(도시 생략), 광원(光源)(470), 지지체(도시 생략) 등의 부대 요소가 장착되어 있다.
액정 표시 장치(400)의 구성을 간단하게 설명한다. 액정 표시 장치(400)는 서로 대향하도록 배치된 컬러 필터(460) 및 유리 기판(414)과, 이들 사이에 삽입된 액정층(도시 생략)과, 컬러 필터(460)의 상면 측(관찰자 측)에 부설(附設)된 편광판(416)과, 유리 기판(414)의 하면 측에 부설된 편광판(도시 생략)을 주체(主體)로 하여 구성되어 있다. 컬러 필터(460)는 투명한 유리로 이루어지는 기판(461)을 구비하고, 관찰자 측에 설치된 기판이며, 유리 기판(414)은 그 반대쪽에 설치되는 투명한 기판이다.
기판(461)의 하측에는 흑색 감광성 수지막으로 이루어지는 격벽(隔壁)(462)과, 착색부(463) 및 오버코트층(464)이 차례로 형성되고, 오버코트층(464)의 하측에 구동용 전극(418)이 더 형성되어 있다. 또한, 실제의 액정 장치에서는, 전극(418)을 덮어 액정층 측과 유리 기판(414) 측의 후술하는 전극(432) 위에 배향막이 설치되지만, 도시 및 설명을 생략한다.
컬러 필터(460)의 액정층 측에 형성된 액정 구동용 전극(418)은, ITO(Indium Tin Oxide) 등의 투명 도전 재료를 오버코트층(464)의 전면(全面)에 형성시킨 것이다.
유리 기판(414) 위에는 절연층(425)이 형성되고, 이 절연층(425) 위에는 스위칭 소자로서의 TFT(Thin Film Transistor)와 화소 전극(432)이 형성되어 있다.
유리 기판(414) 위에 형성된 절연층(425) 위에는, 매트릭스 위에 주사선(451)과 신호선(452)이 형성되고, 주사선(451)과 신호선(452)으로 둘러싸인 영역마다 화소 전극(432)이 설치된다. 각 화소 전극(432)의 코너(corner) 부분과 주사선(451)과 신호선(452) 사이의 부분에는 TFT가 일체로 구성되어 있고, 주사선(451)과 신호선(452)에 대한 신호의 인가에 의해 TFT는 온(on) 또는 오프(off)의 상태로 되어 화소 전극(432)으로의 통전(通電)이 제어되도록 되어 있다.
(제 3 실시예)
도 6은 본 발명의 제 3 실시예로서, 상기 제 2 실시예에 따른 액정 표시 장치를 사용한 전자 기기의 일례로서의 휴대 전화기의 구성을 예시하는 사시도이다. 도 6에 있어서, 휴대 전화기(92)는 복수의 조작 버튼(921) 이외에, 수화구(922) 및 송화구(923)와 함께, 상술한 액정 표시 장치(400)를 구비하는 것이다.
본 발명에 따르면, 설치상의 제약이 적고, 고정밀도이며, 또한, 처리 부하를 경감할 수 있는 노즐 막힘 검출 장치, 상기 장치를 갖는 액체방울 토출 장치, 상기 액체방울 토출 장치를 사용한 전기 광학 장치의 제조 방법, 상기 방법을 사용하여 제조된 전기 광학 장치, 및 상기 전기 광학 장치를 탑재한 전자 기기를 제공할 수 있다.

Claims (11)

  1. 액체방울을 토출하는 노즐의 막힘을 검출하는 장치로서,
    2개의 전극 사이에 삽입되어, 상기 전극에 전압이 인가됨으로써 공진(共振)하는 압전 소자와,
    상기 압전 소자의 공진 주파수를 계측(計測)하는 계측 수단과,
    노즐로부터 상기 압전 소자에 액체방울이 토출되어야 할 시점 전후의 상기 압전 소자의 공진 주파수를 상기 계측 수단에서 취득하여, 상기 공진 주파수의 차분(差分)이 미리 정해진 값 이하일 경우에, 상기 액체방울을 토출한 노즐에 노즐 막힘이 발생하고 있다고 판정하는 판정 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 노즐 막힘 검출 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 압전 소자에 대하여 액체방울을 토출할 수 있는 위치에 상기 노즐을 이동시키는 이동 기구를 갖는 노즐 막힘 검출 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 판정 수단은, 상기 노즐로부터 액체방울이 토출되어야 할 시점 전후의 공진 주파수를 얻기 위해, 상기 노즐로부터 액체방울을 1방울 토출시키는 지시가 발생한 시점에서의 공진 주파수와 그 시점으로부터 소정 시간 경과된 후의 공진 주 파수를 상기 계측 수단에 의해 계측하는 노즐 막힘 검출 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 노즐 막힘 검출 장치는 복수의 노즐의 막힘을 검출하는 장치이며,
    상기 판정 수단은,
    상기 복수의 노즐로부터 액체방울을 차례로 토출시키고, 각 노즐로부터 액체방울이 토출되어야 할 시점 전후의 공진 주파수를 상기 계측 수단에서 취득하여, 상기 공진 주파수의 차분이 미리 정해진 값 이하일 경우에, 상기 액체방울을 토출한 노즐에 노즐 막힘이 발생하고 있다고 판정하는 노즐 막힘 검출 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 판정 수단은, 상기 2개의 전극에 전압이 인가된 상태에서, 상기 복수의 노즐의 막힘 판정을 차례로 실행하는 노즐 막힘 검출 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 압전 소자는 수정(水晶) 진동자인 노즐 막힘 검출 장치.
  7. 제 1 항에 기재된 노즐 막힘 검출 장치를 갖는 것을 특징으로 하는 액체방울 토출 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    배선, 컬러 필터, 포토레지스트, 마이크로 렌즈 어레이, 일렉트로루미네선스 재료, 생체 물질 중 어느 하나의 패턴을 형성하는 액체방울 토출 장치.
  9. 제 7 항에 기재된 액체방울 토출 장치를 사용하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
  10. 제 9 항에 기재된 제조 방법을 사용하여 제조된 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
  11. 제 10 항에 기재된 전기 광학 장치를 탑재한 것을 특징으로 하는 전자 기기.
KR1020030094508A 2002-12-25 2003-12-22 노즐 막힘 검출 장치, 액체방울 토출 장치, 전기 광학장치, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전자 기기 KR100559807B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2002-00374774 2002-12-25
JP2002374774A JP2004207485A (ja) 2002-12-25 2002-12-25 ノズル詰まり検出装置、液滴吐出装置、電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040057946A KR20040057946A (ko) 2004-07-02
KR100559807B1 true KR100559807B1 (ko) 2006-03-15

Family

ID=32812694

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030094508A KR100559807B1 (ko) 2002-12-25 2003-12-22 노즐 막힘 검출 장치, 액체방울 토출 장치, 전기 광학장치, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전자 기기

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7070254B2 (ko)
JP (1) JP2004207485A (ko)
KR (1) KR100559807B1 (ko)
CN (1) CN1297405C (ko)
TW (1) TWI228080B (ko)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10120756C1 (de) * 2001-04-27 2002-12-05 Evotec Ag Verfahren zur Verbesserung der Betriebssicherheit von Dosiereinrichtungen
US8277760B2 (en) 2003-09-19 2012-10-02 Applied Biosystems, Llc High density plate filler
US20050232821A1 (en) * 2003-09-19 2005-10-20 Carrillo Albert L High density plate filler
US7998435B2 (en) 2003-09-19 2011-08-16 Life Technologies Corporation High density plate filler
US20070014694A1 (en) * 2003-09-19 2007-01-18 Beard Nigel P High density plate filler
JP2006076067A (ja) * 2004-09-08 2006-03-23 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器
KR20060082641A (ko) 2005-01-13 2006-07-19 삼성전자주식회사 액정 적하량 측정 시스템 및 이를 이용한 액정 적하량측정 방법
US7246515B2 (en) * 2005-03-15 2007-07-24 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Filtration tester
JP4953703B2 (ja) * 2006-06-19 2012-06-13 キヤノン株式会社 記録装置及びインク吐出不良検出方法
JP5145822B2 (ja) * 2007-08-20 2013-02-20 セイコーエプソン株式会社 噴射検査装置、印刷装置及び噴射検査方法
JP2011152689A (ja) * 2010-01-27 2011-08-11 Seiko Epson Corp 印刷装置、印刷装置のメンテナンス方法
EP2742387B1 (en) 2012-03-07 2015-04-01 ASML Netherlands B.V. Radiation source and lithographic apparatus
US9636913B2 (en) 2012-04-09 2017-05-02 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Nozzle ejection trajectory detection
JP6278556B2 (ja) * 2014-01-06 2018-02-14 株式会社ミマキエンジニアリング インクジェットプリンター
CN106068184B (zh) * 2014-02-24 2017-11-14 株式会社理光 图像形成设备和排出检测单元
WO2015174536A1 (ja) * 2014-05-16 2015-11-19 株式会社ミマキエンジニアリング ノズルの詰まり判定装置
WO2016095987A1 (en) * 2014-12-17 2016-06-23 Widex A/S Method of operating a hearing aid system and a hearing aid system
CN205523068U (zh) * 2015-11-12 2016-08-31 北京奥托米特电子有限公司 一种喷墨打印机喷头故障检测装置和喷墨打印机
CN107175261B (zh) * 2017-06-08 2019-01-22 唐山钢铁集团有限责任公司 一种热轧带钢工作辊冷却工作状态的在线检测方法
JP6867271B2 (ja) * 2017-10-30 2021-04-28 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 荷重測定装置および荷重測定方法
CN111239850A (zh) * 2020-03-12 2020-06-05 北京农业智能装备技术研究中心 一种喷头堵塞检测装置及方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS564370A (en) * 1979-06-22 1981-01-17 Toshiba Corp Nozzle clogging detector for injection of molten metal
JPS58217365A (ja) * 1982-06-11 1983-12-17 Fujitsu Ltd インクジエツトプリンタにおけるヘツドのノズル目詰まり検出装置
JPS59216050A (ja) * 1983-05-23 1984-12-06 Toyota Motor Corp スプレ−ガンのノズル詰まり検出装置
JPH11125638A (ja) * 1997-10-21 1999-05-11 Srl:Kk 分注装置
JP2001212970A (ja) * 2000-02-01 2001-08-07 Seiko Epson Corp 印刷装置に関する不動作ノズル検出方法および印刷装置、並びにそのためのプログラムを記録した記録媒体

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5689288A (en) * 1994-06-17 1997-11-18 Tektronix, Inc. Ink level sensor
US6044694A (en) * 1996-08-28 2000-04-04 Videojet Systems International, Inc. Resonator sensors employing piezoelectric benders for fluid property sensing
JPH11104535A (ja) * 1997-08-04 1999-04-20 Omron Corp ノズル詰まり検知方法およびノズル詰まり検知装置
US6247354B1 (en) * 1998-05-13 2001-06-19 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Techniques for sensing the properties of fluids with resonators
US6260408B1 (en) * 1998-05-13 2001-07-17 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Techniques for sensing the properties of fluids with a resonator assembly
JP3621041B2 (ja) * 2000-11-06 2005-02-16 日本碍子株式会社 液滴吐出装置
JP4045396B2 (ja) * 2000-11-08 2008-02-13 オムロン株式会社 プリンタヘッドの検査方法
JP2002221616A (ja) * 2000-11-21 2002-08-09 Seiko Epson Corp カラーフィルタの製造方法及び製造装置、液晶装置の製造方法及び製造装置、ｅｌ装置の製造方法及び製造装置、インクジェットヘッドの制御装置、材料の吐出方法及び材料の吐出装置、並びに電子機器

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS564370A (en) * 1979-06-22 1981-01-17 Toshiba Corp Nozzle clogging detector for injection of molten metal
JPS58217365A (ja) * 1982-06-11 1983-12-17 Fujitsu Ltd インクジエツトプリンタにおけるヘツドのノズル目詰まり検出装置
JPS59216050A (ja) * 1983-05-23 1984-12-06 Toyota Motor Corp スプレ−ガンのノズル詰まり検出装置
JPH11125638A (ja) * 1997-10-21 1999-05-11 Srl:Kk 分注装置
JP2001212970A (ja) * 2000-02-01 2001-08-07 Seiko Epson Corp 印刷装置に関する不動作ノズル検出方法および印刷装置、並びにそのためのプログラムを記録した記録媒体

Also Published As

Publication number Publication date
TW200426038A (en) 2004-12-01
KR20040057946A (ko) 2004-07-02
TWI228080B (en) 2005-02-21
US7070254B2 (en) 2006-07-04
CN1297405C (zh) 2007-01-31
JP2004207485A (ja) 2004-07-22
CN1509879A (zh) 2004-07-07
US20040206179A1 (en) 2004-10-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100559807B1 (ko) 노즐 막힘 검출 장치, 액체방울 토출 장치, 전기 광학장치, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전자 기기
KR100690539B1 (ko) 액체 방울 토출 장치, 전기 광학 장치, 전기 광학 장치의제조 방법 및 전자 기기
KR100569691B1 (ko) 디스플레이 제조 장치 및 디스플레이 제조 방법
US8366232B2 (en) Method of measuring landed dot, measuring apparatus for landed dot, liquid droplet ejection apparatus, method of manufacturing electro-optic apparatus, electro-optic apparatus, and electronic apparatus
JP4479751B2 (ja) 吐出量調整方法、液状体の吐出方法、カラーフィルタの製造方法、液晶表示装置の製造方法、及び電気光学装置の製造方法
KR100897877B1 (ko) 액적 토출 장치 및 전기 광학 장치의 제조 방법
US7393553B2 (en) Droplet information measuring method and apparatus therefor, film pattern forming method, device manufacturing method, droplet discharge apparatus, electro-optical apparatus, and electronic apparatus
KR20050036755A (ko) 체적 측정 방법, 체적 측정 장치 및 이것을 구비한 액체방울 토출 장치, 및 전기 광학 장치의 제조 방법, 전기광학 장치 및 전자 기기
US20090092761A1 (en) Discharge method, continuous film formation method, alignment film formation method, method for forming liquid crystal display device, head unit, droplet discharge device, and electronic apparatus
KR20060047348A (ko) 액적 토출 장치, 전기 광학 장치, 전자 기기 및 액적 토출방법
JP2005502453A (ja) インクジェット成膜装置
KR20080073230A (ko) 성막 방법 및 배향막 형성 방법
KR100912642B1 (ko) 액적 토출 장치, 액상체의 토출 방법, 컬러 필터의 제조 방법
JP2004299097A (ja) 液滴吐出装置、電気光学装置、電子機器、電気光学装置の製造方法、液滴吐出装置の吐出制御方法
KR100927362B1 (ko) 액상체 배치 방법 및 액상체 토출 장치
JP2009291757A (ja) 液滴吐出装置、液滴吐出方法、パターン形成方法、パターン形成部材、電気光学装置、電子機器
KR20100012950A (ko) 액정방울수 카운팅 방법
KR100801567B1 (ko) 액상체 배치 방법, 전기 광학 장치의 제조 방법, 전기 광학장치, 및 전자 기기
JP2004216339A (ja) 液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器
JP3705281B2 (ja) 液滴情報測定方法、膜パターン形成方法及び膜パターンの製造装置、デバイス製造方法、電気光学装置製造方法、並びに電子機器製造方法
JP2010247077A (ja) 吐出量測定方法、液滴吐出方法、カラーフィルターの製造方法、および液滴吐出装置
US20040125159A1 (en) Liquid drop ejecting device and liquid drop ejecting method, layer forming device and layer forming method, manufacturing method for device, and electronic apparatus
JP2006082046A (ja) 液滴吐出装置及び方法並びにデバイス製造方法及びデバイス
JP3687664B2 (ja) 液滴情報測定装置、液滴吐出装置、膜パターン形成方法、デバイス製造方法、電気光学装置の製造方法、及び電子機器の製造方法
JP2008149258A (ja) 液滴吐出方法、重量測定方法、液滴吐出装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20110222

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee