KR100557835B1 - 탄화수소 스트림용 흡착제 및 방법 - Google Patents

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Abstract

탄화수소 가스 스트림, 바람직하게는 올레핀계 또는 파라핀계 스트림으로부터 미량 원소인 황, 비소, 수은, 이들 원소를 함유한 화합물 또는 금속 하이드라이드의 흡착을 위한 흡착제, 여기서 흡착제는 지지체 물질상, 바람직하게는 알루미늄 옥사이드상에 놓인 철 옥사이드 및 망간 옥사이드임. 또한 탄화수소 가스 스트림, 바람직하게는 올레핀계 또는 파라핀계 가스 스트림으로부터 미량 원소인 비소, 수은 및 황 또는 이들 원소를 함유한 화합물 또는 금속 하이드라이드를 제거하는 흡착제의 사용방법이 기재됨.
탄화수소 스트림으로부터 미량 원소를 제거하는 흡착제, 이의 사용방법

Description

탄화수소 스트림용 흡착제 및 방법{AN ADSORBENT FOR A HYDROCARBON STREAM AND PROCESS}
본 발명은 탄화수소 스트림으로부터 미량 원소를 제거하는 흡착제 및 이의 사용방법에 관한 것이다. 좀더 구체적으로 말하면, 본 발명은 탄화수소 스트림, 바람직하게는 올레핀계 또는 파라핀계 스트림으로부터 수은, 비소, 황, 금속 하이드라이드 및 관련 화합물을 흡착하는 흡착제 및 이의 사용방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 흡착제의 제조방법에 관한 것이다.
가스 스트림으로부터 미량 원소 또는 불순물의 제거는 각종 탄화수소 산물의 제조에 있어 중요하다. 미량 원소 또는 불순물, 예를 들어 황, 비소, 수은 또는 금속 하이드라이드 및 이들 원소를 함유한 화합물은 가스 스트림으로부터 제거되어야 하는데, 그렇지 않은 경우 이들이 탄화수소 최종 산물의 생성을 방해한다. 가스 스트림으로부터 이들 미량 원소 또는 불순물을 제거하기 위해, 보통은 두가지 타입의 상이한 산물이 사용된다: (a) 이들 불순물을 흡착하는 흡착제 또는 (b) 이들 불순물이 화학적으로 반응되는 촉매.
이러한 타입의 흡착제는 DE-A-2 319 532에 기재되어 있다. 이 참고문헌은 수소 설파이드, 황 디옥사이드 및 분진형 황을 소량 함유하고 있는 폐 가스를 정제하 는 방법에 관해 기재하고 있다. 폐 가스는 알루미늄 옥사이드 또는, 알루미늄 옥사이드와 실리콘 디옥사이드 조합물을 포함하는 흡착제 위를 통과한다.
독일 특허 출원 DE-A-3 719 138은 연소 유닛에 관해 기재하고 있는데, 여기서는 데녹스 촉매의 활성을 보존하기 위해, 흡착제가 촉매의 상류에 놓인다. 흡착제는 가스 스트림으로부터 비소 옥사이드를 제거하기 위해 고안되었다. 흡착제는 단독 또는 기타 산물과 함께 사용될 수 있다. 실리카 겔, 철 옥사이드, 망간 옥사이드, 티타늄 옥사이드, 몰리브덴 옥사이드, 알칼리 토 옥사이드 및 제올라이트가 흡착제의 성분으로 사용될 수 있다.
DE-A-3 029 197과 DE-A-3 029 188은 탄화수소를 함유한 가스 혼합물로부터 수소 설파이드를 제거하는 방법에 관해 기재하고 있으며, 여기서는 탄소-함유 분자체 또는 활성탄이 흡착제로 사용된다.
DE-A-2 822 235는 석유 증류액으로부터 머캅탄을 제거하는 방법에 관해 기재하고 있으며 증류액은 약 염기성 음이온 교환 수지로 처리된다.
DE-A-2 530 091은 탄화수소로부터 수소 설파이드를 선택적으로 제거하는 방법에 관해 기재하고 있으며 결정질 제올라이트를 포함하는 분자체가 사용된다.
DE-A-2 356 519는 탄화수소 혼합물의 탈방향족화 및 탈황법에 관해 기재하고 있으며 염기성 질소 화합물로 변형된 양이온 교환기가 사용된다.
DE-A-3 512 352는 액화 탄화수소 공급물로부터 카보닐 설파이드를 제거하는 방법에 관해 기재하고 있다. 이 방법에 따르면, 공급물은 아미노 작용기를 지닌 음이온 교환 수지로 이루어진 흡착제 위를 통과한다.
비소 화합물은 일반적으로 흡착에 의해 가스 혼합물로부터 제거된다. 과거에는, 일반적으로 활성탄이 이러한 목적에 이용되었다. 비소 화합물을 위한 좀더 새로운 흡착제는 폐 가스로부터 비소 화합물을 제거하는 방법이 제시된 DE-C-3 816 599에 기재되어 있으며 여기서는 비소-함유 폐 가스가 큰 표면적을 지닌 흡착제 위를 통과한다. 흡착제는 티타늄 옥사이드를 기초로 하고 부가적으로는 바나듐 및/또는 몰리브덴, 또는 텅스텐 옥사이드와 같은 전이 금속 옥사이드를 함유할 수 있다. 아울러, 흡착제는 또한 지르코늄 옥사이드 및/또는 점토 또는 실리카 및/또는 알루모실리케이트 및/또는 알루미늄 옥사이드를 함유할 수 있다.
미국 특허 4,729,889는 재생가능한 수소 설파이드 흡착제에 관해 기재하고 있다. 이 산물에 포함되는 바람직한 금속은 아연과 철, 구리와 철, 구리와 알루미늄, 및 구리, 몰리브덴 및 철을 포함한다.
가스 스트림으로부터 각종 타입의 불순물을 제거하기 위한 흡착제 이외에, 탄화수소 스트림으로부터 수소 설파이드를 포함한 황 화합물과 같은 물질을 제거하는 촉매에 관해서도 기재되어 있다. 이들 촉매는 예를 들면 DE-A-2 617 649에 기재되어 있으며 이는 철, 니켈 및/또는 코발트로 함침될 수 있는 알루미나 촉매에 관해 기재하고 있다.
JP 71-021362는 망간염 및 제일철염 수용액과 알루미늄염을 혼합하여 제조된 망간 페라이트를 이용하여 가스 스트림을 탈황시켜 유기-무기산의 망간염과 제일철염의 공침물을 형성하는 산물에 관해 기재하고 있다.
JP 71-020688은 감마-철 옥사이드-기본제를 이용하는 가스 탈황제에 관해 기 재하고 있다.
미국 특허 4,489,047은 고체 수용체를 이용하여 특정 공정 가스로부터 수소 설파이드를 제거하는 공정에 관해 기재하고 있는데, 여기서 수용체는 망간 옥사이드 또는 철 옥사이드와 같은 금속 옥사이드가 놓이는 알루미나 산물로 구성되고, 금속은 수용체의 2 내지 20%, 바람직하게는 7 내지 10%를 차지한다.
액화 탄화수소 공급물로부터 카보닐 설파이드의 제거방법에 관해서는 DE-A-2 526 153에 기재되어 있다. 이 방법에서, 알루미늄 옥사이드와 같은 담체상에 침착되는 니켈이 촉매로 사용된다.
DE-A-2 439 234는 작은 표면적을 지닌 성형 내열성 기질상에 전이 금속 옥사이드층을 두는 촉매에 의해 가스로부터 황 옥사이드를 제거하는 방법에 관해 기재하고 있다. 기질과 옥사이드층 모두 알루미늄 옥사이드로 구성될 수 있다. 황 디옥사이드에 의한 설페이트화로 인해 바람직하게는 구리 옥사이드가 활성 물질로 이용된다.
DE-A-4 109 312는 지지체 물질상에 침착된 니켈을 함유한 액화 탄화수소 화합물로부터 안티몬 하이드라이드를 제거하는 촉매에 관해 기재하고 있다.
DE-C-4 224 676은 가스를 산화 촉매와 접촉시켜 연도 가스(flue gas)로부터 수은을 제거하는 방법에 관해 기재하고 있다. 금속성 수은부는 산화되고 이온성 수은부는 세척수에 용해되어 차후 침전 또는 흡착에 의해 세척수로부터 제거된다. 일반적으로, 데녹스 촉매가 산화 촉매로 이용된다. 아세틸렌-알콜의 수소화를 위한 추가 촉매는 수소화 촉매가 금속 니켈, 구리, 몰리브덴 및 알루미늄 및/또는 철의 옥사이드를 함유하고 망간 옥사이드를 함유하거나 함유할 수 없는 공정에 의해 제조된다.
다수의 이들 산물이 가스 스트림으로부터 수소 설파이드와 같은 황 산물을 제거하는 데 이용될 수 있지만, 탄화수소 스트림, 특히 올레핀계 가스 스트림으로부터 광범위한 불순물을 제거하는 데는 간단하면서도, 값싼 흡착제의 개발이 중요하다.
따라서, 본 발명의 일 측면은 탄화수소 스트림, 특히 올레핀계 가스 스트림으로부터 미량의 황, 수은, 비소, 금속 하이드라이드 및 이들 원소 또는 화합물을 함유한 화합물을 제거하는 흡착제를 제공하는 데 있다.
본 발명의 추가 측면은 가스 스트림내에 사용된 백금과 팔라듐 촉매의 성능에 악영향을 미칠 수 있는 촉매독을 제거하는 흡착제를 개발하는 데 있다.
본 발명의 추가 측면은 가스 스트림으로부터 미량의 황, 수은, 비소, 금속 하이드라이드 및 이들의 혼합물을 제거하는 흡착제의 제조방법에 관해 기재하고 있다.
본 발명의 추가 측면은 가스 스트림, 특히 올레핀계 또는 파라핀계 가스 스트림으로부터 미량 원소인 비소, 황, 수은, 금속 하이드라이드 및 이들의 혼합물을 제거하는 방법에 관해 기재하고 있다.
본 발명의 부가적인 측면은 C1-C12 올레핀계 또는 파라핀계 가스 스트림으로부터 불순물을 제거하는 방법에 관해 기재하고 있다.
이들 및 기타 측면은 본 발명에 기재된 공정 및 산물에 의해 얻어질 수 있 다.
발명의 요약
본 발명에 따르면 탄화수소 스트림, 바람직하게는 올레핀계 또는 파라핀계 가스 스트림, 좀더 바람직하게는 C1-C12 탄화수소 가스 스트림으로부터 미량 원소인 수은, 비소, 황, 금속 하이드라이드 및 이들 원소 또는 화합물을 함유한 화합물을 제거하는 데 유용한 흡착제가 제공되며, 흡착제는 약 40 내지 약 65% 철 옥사이드, 약 15 내지 약 50% 망간 옥사이드 및 약 10 내지 약 20% 담체를 포함하고, 담체는 바람직하게는 알루미나, 티타니아, 실리카, 또는 이들의 혼합물이다.
본 발명은 또한 철과 망간염 용액을 담체상으로 공침시켜 예비 산물을 만드는 단계를 포함하는, 미량 원소인 수은, 황, 비소, 금속 하이드라이드 및 이들 원소 또는 화합물을 함유한 화합물을 제거하는 흡착제의 제조방법으로서, 예비 산물은 세척, 건조 및 하소되어 약 40 내지 65% 철 옥사이드, 약 15 내지 약 50% 망간 옥사이드 및 약 10 내지 약 20% 지지체 물질을 포함하는 흡착제 최종 산물을 만든다. 다른 방법으로, 철 옥사이드와 망간 옥사이드 흡착제는 금속 옥사이드를 지지체 물질상으로 함침시켜 제조될 수 있다.
본 발명은 또한 탄화수소 스트림, 바람직하게는 올레핀계 또는 파라핀계 스트림으로부터 미량 원소인 비소, 황, 수은, 금속 하이드라이드 또는 이들 원소 또는 화합물을 함유한 화합물을 제거하는 방법으로서, 가스 스트림을 흡착제와 접촉시키는 단계를 포함하며, 흡착제는 약 40 내지 약 65% 철 옥사이드, 약 15 내지 약 50% 망간 옥사이드 및 약 10 내지 약 20% 지지체 물질, 바람직하게는 알루미늄 옥사이드, 티타늄 옥사이드, 실리카 옥사이드, 또는 이들의 혼합물을 포함한다.
발명의 상세한 설명
본 발명의 흡착제는 바람직하게는 하기의 성분들: 철 옥사이드, 망간 옥사이드 및 지지체 물질로 구성된다.
철 옥사이드:망간 옥사이드의 비는 약 3:1 내지 약 1:3 범위여야 한다. 지지체 물질상에 금속 옥사이드의 최적 로딩은 약 50 내지 약 90% 범위여야 한다. 보다 적은 금속 로딩은 가스 스트림에서 불순물의 제거에 효과적이지 않다. 그러나, 가스 스트림에서 불순물의 부분 흡수성은 약 2%만큼 낮은 금속 로딩으로도 얻어질 수 있다.
바람직한 양태에서, 흡착제 성분들의 퍼센티지는 약 40 내지 약 65% 철 옥사이드, 15 내지 약 50% 망간 옥사이드, 및 약 10 내지 약 20% 지지체 물질이다. 좀더 바람직한 양태에서, 흡착제는 약 50 내지 60% 철 옥사이드, 20 내지 약 30% 망간 옥사이드, 및 약 10 내지 약 20% 지지체 물질을 함유한다. 지지체 물질은 바람직하게는 티타니아, 실리카, 알루미나, 또는 이들의 혼합물, 좀더 바람직하게는 알루미나이다.
본 발명에 따라 사용된 흡착제는 공침, 분해, 함침 및 기계적 혼합과 같이, 이러한 타입의 흡착제를 생성하는 통상적인 공정에 의해 제조될 수 있다. 바람직하게는 흡착제 물질은 공침 또는 분해에 의해 생성된다. 선택된 방법은 성분들을 강하게 혼합할 수 있어야 한다.
함침 공정을 이용하여 생성된 지지체 물질의 퍼센티지는 약 95 중량%로 높을 수 있지만, 공침 공정을 이용하여 생성된 흡착제의 비율은 흡착제 물질의 약 25 중량%를 초과하지 않을 것이다. 공침에서 촉매는 약 6 내지 9 범위의 pH와 주위 내지 약 80℃의 온도에서 철, 망간 및 알루미나의 산성 금속 염, 바람직하게는 나이트레이트 또는 설페이트를 염기성 비카보네이트 용액과 혼합하여 침전물을 만들고, 주위 내지 약 50℃ 범위의 온도에서 침전물을 세척하며, 주위 온도에서 침전물을 여과하고, 약 100 내지 160℃ 범위의 온도에서 침전물을 건조시키며, 약 170 내지 500℃ 범위의 온도에서 침전물을 하소시킨 다음 마지막으로 통상적인 공정, 예를 들어 압출 및 정제화에 의해 원하는 크기 및 형상으로 산물을 형성하여 제조된다.
다르게는, 산물은 본원에서 참고로 인용된 US 3,615,217에서와 같은 분해법에 의해 제조될 수 있다. 분해법을 이용하는 제조에서, 철과 망간 착물은 적절한 형태의 지지체 물질과 혼합된다. 예를 들어, 지지체 물질이 알루미늄 옥사이드이면, 이는 철과 망간 착물과 혼합된다. 용액은 진공 또는 대기압의 용기에서 약 120℃로 가열되고 얻어진 산물은 후처리된다. 후처리 과정은 공침법에 사용된 과정과 유사하다.
지지체상으로 용액의 함침은 제조 동안 임의 단계에서 수행될 수 있다. 바람직하게는, 에이징, 세척, 여과 또는 건조 후 지지체의 슬러리상으로 산물을 함유한 용액을 분무 또는 혼합함이 유리하다.
흡착제의 BET 표면은 적어도 약 50 ㎡/g 내지 약 250 ㎡/g이다. Hg 다공도측정법에 의해 측정된 흡착제의 고유 세공 부피는 바람직하게는 약 0.3 cc/g 내지 약 0.55 cc/g이다. 고유 세공 부피는 문헌[참조:J. van Brekel et al. Powder Technology, 29, p.1, (1981)]에 기재된 수은 침투법에 따라 측정된다. 부가적으로 흡착제는 바람직하게는 약 0.4 내지 1.1 g/cc의 조밀한 벌크 밀도를 가진다.
일단 물질이 이러한 예비 산물 형태이면, 최종 흡착제를 형성하는 데는 펠릿화 및 압출과 같은 공지방법이 사용될 수 있다. 흡착제는 바람직하게는 약 1/16 인치 내지 약 3/8 인치 범위의 폭을 지닌 특히 구형 또는 펠릿 형태로 성형된다.
흡착제는 바람직하게는 탄화수소 가스 스트림, 바람직하게는 올레핀계 또는 파라핀계 가스 스트림으로부터 미량 원소인 수은, 비소 및 황, 또는 이러한 원소를 함유한 화합물을 PH3, SbH3, 및 SiH4와 같은 금속 하이드라이드와 함께 제거하는 공정에 이용되며, 바람직하게는 백금 또는 팔라듐 촉매가 공정에 이용된다. 바람직하게는, 흡착제는 수소화 반응기로 도입되기 이전에 에틸렌, 프로필렌, 부텐 및 분해된 원료 가스 스트림을 정제하는 데 사용될 수 있다. 가스 스트림의 온도 범위는 바람직하게는 약 주위 내지 약 500℃이다. 가스 스트림으로부터 제거될 불순물은 흡착제에 부착된다. 가스 스트림에서 불순물의 잔류량은 가스 스트림에서 본래의 불순물 농도에 좌우될 것이다. 예를 들어, 약 2.3 mg/㎥에 이르는 수은 수준은 약 0.1 mg/㎥로 감소될 수 있다. 약 100 용적 ppm에 이르는 COS 수준은 약 0.5 ppm으로 감소될 수 있다. 약 100 용적 ppm에 이르는 아르신 수준은 약 0.1 ppm으로 감소될 수 있다.
본 발명의 흡착능력을 표 1에서 설명하고 있으며 여기서는 본 발명 산물을 시판중인 6종의 흡착제와 비교하고 있다. 7종의 흡착제를 입수해 실험실 규모의 흡착 장치에 두고 COS, Hg 및 AsH3를 흡착하는 능력을 평가한다. 이들 흡착제의 조성은 표 1에 제시되고 있다.
흡착제 물질 중 4종을 전처리없이 사용한다. 흡착제 중 2종, C28 R&S 및 G-132D R&S를 흡착 실험 이전에 수소를 이용하여 "현장에서" 환원시킨다. 수소 스트림을 이용하여 150℃에서 2시간 동안 환원시킨다.
모든 흡착 연구를 실온 및 대기압에서 흡착제 층을 이용하여 수행한다.
본 발명 흡착제의 제조:
흡착제를 하기의 방법으로 제조한다:
탈이온수 40 리터에 Fe(NO3)3·9H2O 22.04 kg을 용해시켜 혼합 금속 나이트레이트 용액을 제조한다. 이 용액을 15.5 중량% Mn인 Mn(NO3)2 용액 7.6 리터와 혼합한다. 탈이온수 105 리터에 21.1 kg을 용해시켜 Na2CO3 제 2 용액을 제조한다. 혼합 금속 용액을 침전조에 둔다. 용액을 교반하면서 140℉(60℃)로 가열한다. 140℉(60℃)에서 Na2CO3 용액을 1.2 리터/분의 속도로 혼합 금속 나이트레이트 용액으로 펌핑한다. Na2CO3 첨가 말미에, pH는 7.4이다. 침전물을 140℉(60℃)에서 30분간 에이징한다. 슬러리를 필터 프레스와 같은 적절한 장치를 통해 여과한다. 필터 케이크를 재슬러리화하고 세척하여 과량의 나트륨을 제거한다. 나트륨 수준을 낮추는 데는 2회의 와싱이 적절하다. 필터 케이크를 700℉(370℃)에서 3시간 동안 건조시킨다. 이 시점에서 필터 케이크를 분말로 분쇄하여 정제 또는 압출물을 만든다.
흡착제의 시험
실험 개략도는 표 2에 나타나 있다. 표 2A에서는 표 2에 포함된 용어를 설명한다. 각종 흡착제의 흡착 능력을 시험하기 위해, 흡착될 소량의 미량 원소(들)을 헬륨 스트림으로 도입한다. 도입된 미량 원소는 COS 및 AsH3를 포함한다. COS 및 AsH3의 농도는 약 100 ppm이다. 미량 원소를 지닌 가스가 흡착층을 통과한 후, 미량 원소의 잔류량을 측정한다. 수은에 대한 시험에서는, 가스 스트림을 우선 25 nm 트레딩 디스크(25-50 마이크론)가 장착되어 있고 가드층 앞에 ACS 등급 수은 약 75 ㎖로 채워진 Sherer 집진 장치(275 ㎖)로 통과시키면, 가스 스트림에는 2.3 mg/㎥ 수은이 함유된다.
흡착제용 지지체는 스테인레스강 와이어 메쉬이고, 이는 연구될 흡착제로 패킹되어 시험에 따라 L/D의 경우 7 또는 15에 이르는 대략적인 층 부피를 제공한다. 흡착제가 놓이면, 전체 시스템을 헬륨으로 플러싱한다. 헬륨 플러시 후, 미량 원소를 지닌 시험 가스는 상이한 흡착제를 통과한다.
수은 흡착 연구 결과는 표 1에 제시되고 있다. 모든 흡착제는 약간의 수은 흡착 능력을 보여준다. 그러나, 본 발명에 따라 생성된 흡착제는 수은 흡착에 있어 명백히 최상의 흡착제이다.
비소 흡착 시험 결과도 또한 표 1에 제시되고 있으며, 본 발명의 촉매가 여기서도 상당한 효용을 보여준다.
COS 흡착 시험 결과도 표 1에 제시되어 있으며, 본 발명의 촉매가 여기서도 상당한 효용을 보여준다.
실험 결과, 본 발명의 흡착제가 가스 스트림, 특히 올레핀계 가스 스트림을 오염시키는 비소 및 수은과 같은 특정 타입의 미량 원소를 제거하는 데 굉장한 효용을 지님이 명확해 진다.
표 1
Figure 112000014385375-pct00001
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표 2A
표 2의 용어 설명
CH2CHCl - 비닐 클로라이드
COS - 카보닐 설파이드
AsH3 - 아르신
He - 헬륨
UHP He - 초 고순도 헬륨
(0 - 25 SCCM) MFC - (1-25 표준 ㎤/분 범위) 매스 플로우 조절기
(0 - 250 SCCM) MFC -(0-250 표준 ㎤/분 범위) 매스 플로우 조절기
Hg 버블러 - 25 nm 핏팅 디스크(20-50 마이크론)가 갖춰지고 ACS 등급 수은 75 mL로 채워진 Sherer 집진 장치(275 mL)를 통과하는 초 고순도 헬륨
ECD GC - 아르신 검출을 위한 전자 포착 검출기 및 카보닐 설파이드 검출을 위한 체 화학형광 황 검출기가 갖춰진 가스 크로마토그래프
인디케이터 튜브 - 수은 검출을 위한 Matheson-Kitagawa Precision Detector 튜브

Claims (18)

  1. 철 옥사이드, 망간 옥사이드, 및 지지체 물질을 포함하는 탄화수소 스트림으로부터 미량 원소인 수은, 황, 비소, 금속 하이드라이드 또는 이들 원소 또는 화합물을 함유한 화합물 제거용 흡착제로서,
    흡착제 내의 철 옥사이드 및 망간 옥사이드의 중량 퍼센티지가 50% 이상이고, 철 옥사이드:망간 옥사이드의 중량비가 3:1 내지 1:3인 흡착제.
  2. 제 1 항에 있어서, 40 내지 65% 철 옥사이드; 15 내지 50% 망간 옥사이드 및 10 내지 20% 지지체 물질을 포함하는 흡착제.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 지지체 물질이 알루미늄 옥사이드, 실리콘 옥사이드, 티타늄 옥사이드 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹 중에서 선택되는 흡착제.
  4. 철과 망간염 용액을 지지체 물질상에 침전시켜 예비 산물을 제조하는 단계; 및
    예비 산물을 세척, 건조 및 하소시킨 후에, 50% 이상의 철 옥사이드와 망간 옥사이드 및 50% 이하의 지지체 물질을 포함하고 철 옥사이드:망간 옥사이드의 중량비가 3:1 내지 1:3이 되도록 흡착제를 제조하는 단계
    를 포함하는,
    미량 원소인 수은, 황, 비소, 금속 하이드라이드 또는 이들 원소 또는 화합물을 함유한 화합물 제거용 흡착제의 제조방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    흡착제가 하소 후에 40 내지 65%의 철 옥사이드, 15 내지 50% 망간 옥사이드 및 10 내지 20% 지지체 물질을 포함하는 방법.
  6. 50% 이상의 철 옥사이드 및 망간 옥사이드와 50% 이하의 지지체 물질을 포함하고 철 옥사이드:망간 옥사이드의 비가 3:1 내지 1:3 범위인 흡착제 물질과 탄화수소 가스 스트림을 접촉시키는 단계를 포함하는,
    미량 원소인 비소, 황, 수은, 금속 하이드라이드 또는 이들 원소 또는 화합물을 함유한 화합물을 탄화수소 가스 스트림으로부터 제거하는 방법.
  7. 제 6 항에 있어서, 40 내지 65% 철 옥사이드, 15 내지 50% 망간 옥사이드 및 10 내지 20% 지지체 물질을 포함하는 흡착제 물질과 탄화수소 가스 스트림을 접촉시키는 단계를 포함하는 방법.
  8. 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서, 탄화수소 가스 스트림이 주위 내지 500℃의 온도에서 유지되는 방법.
  9. 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서, 탄화수소 가스 스트림이 1 ppm 이하의 산소를 함유하는 방법.
  10. 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서, 탄화수소 스트림이 올레핀계 또는 파라핀계 가스 스트림을 포함하는 방법.
  11. 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서, 지지체 물질이 알루미늄 옥사이드, 실리콘 옥사이드, 티타늄 옥사이드, 또는 이들의 혼합물로 구성된 그룹 중에서 선택되는 방법.
  12. 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서, 올레핀계 가스 스트림이 가스상 또는 액상의 C1-C12 탄화수소를 함유하는 방법.
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