KR100533130B1 - 엑시머레이저조사에대한광학부재의내구성예측방법및석영글래스광학부재의선택방법 - Google Patents

엑시머레이저조사에대한광학부재의내구성예측방법및석영글래스광학부재의선택방법 Download PDF

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Abstract

광학부재의 포화흡수를 고려한, 정확하고 간편한 엑시머레이저 조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법을 제공한다.
광학부재중의 수소농도 및/또는 염소농도, 조사하는 엑시머레이저의 에너지 밀도 및 적산 펄스수를 고려한 광학부재의 흡수계수와 조사하는 엑시머레이저의 적산펄스수의 관계가 직선으로 근사가능한 직선영역에 있어서의 흡수계수의 변화와, 광학부재중의 수소농도 및/또는 염소농도와 조사하는 엑시머레이저의 에너지 밀도를 고려한, 광학부재의 흡수가 포화상태가 된 포화영역에 있어서의 흡수계수의 값을 구하고, 이 양자에 의하여 구하여지는 투과율 변화로부터, 그 광학부재의 내구성 예측이 가능하게 된다.

Description

엑시머레이저 조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법 및 석영글래스 광학부재의 선택방법
본 발명은, 광학소재, 특히 KrF(248nm) 또는 ArF(193nm) 엑시머레이저 리소그래피 조명계 렌즈·투영렌즈, 엑시머레이저 가공기 등의 광학계 렌즈의 열화예측법 및 내용(耐用) 펄스수의 예측법에 관한 것이다.
실리콘 등의 웨이퍼상에 직접회로의 미세패턴을 노광·전사하는 광리소그래피기술에 있어서는, 스텝퍼라 불리는 노광장치가 사용된다. 이 스텝퍼의 광원은 최근의 LSI의 고집적화에 따라 g선에서 i선으로 단파장화가 진행되었고, 계속 이어진 LSI의 고집적화에 따라, 스텝퍼의 광원은 KrF나 ArF 엑시머레이저로 이행되고 있다. 또한 이와 같은 엑시머레이저 스텝퍼의 조명계 또는 투영렌즈에는, 이미 일반 광학글래스는 사용할 수 없으며, 석영글래스나 형석 등의 광학부재로 한정된다.
이와 같은 엑시머레이저 스텝퍼의 조명계 또는 투영렌즈에 사용되는 석영글래스나 형석에 있어서도, 일반 광학글래스와 마찬가지로, 그 내부투과율은 0.995cm-1 또는 0.998cm-1 이상이 요구되고 있고, 자외광영역에서의 상기 광학소재의 고투과율화를 목표로 한 개발이 진행되고 있다. 이 중에서, 결상성능에 영향을 미치는 광학부재의 광학적 열화의 진행, 즉 엑시머레이저의 단파장성 및 섬광성에 기인하는 조사에 의한 광학부재의 시간 경과에 따른 변화(예를 들면, 솔라리제이션이나 콤팩션)가 큰 문제이고, 이 광학적 열화의 진행을 조사하는 것이 중요하게 되었다.
특히 10mJ/cm2·펄스 이하의 에너지로 조사하여 사용되는 석영글래스 부재의 열화의 진행을 알아보기 위해서는, 실(實)에너지 밀도로 조사하여 투과율, 굴절율, 면변화 등의 물성변화를 확인하는 것이 가장 바람직하나, 조사 에너지밀도가 낮은 영역에서는 조사펄스당 각 물성 변화가 미소하므로, 이 물성의 변화율을 확인하는데는 조사펄스수를 늘릴 필요가 있다(즉, 측정기간이 상당히 길어진다). 그러나, 실제로는 인적, 경제적, 시간적인 제약으로부터, 하나의 샘플에 대하여 수년간 계속 측정하는 것은 곤란하고, 또한 고가의 석영글래스제의 축소투영렌즈와 같이, 십수년간 그 성능을 보증하는 것이 필요한 것에 대하여는 그 측정이 더욱 더 곤란하였다.
이와 같은 상황에서, 수년간에 걸쳐서 광학부재의 열화의 진행(물성의 변화율)을 실제로 측정하는 방법을 대신하여 엄밀한 수명예측(내구성 예측)을 실시하는 방법이 필요하게 되었으나, 종래의 예측방법은, 특히 투과율 저하가 적산펄스수와의 관계가 직선영역에서만 성립하는 것이었다. 이는 투영렌즈와 같은 극히 저에너지 영역에서의 예측에는 지장이 없으나, 조명계와 같이, 수mJ/cm2·펄스 내지 수십mJ/cm2·펄스의 조사에너지 밀도로, 1×109 펄스 이상의 적산 펄스수의 투과율 변화를 예측할 때에는 투과율 저하량을 극히 크게 어림잡을 가능성이 있었다. 이 때문에 광학부재의 수명을 정확하게 예측할 수 없었다.
또한 엑시머레이저를 광원으로 한 엑시머레이저 스텝퍼, 가공기 등의 제품의 광학계의 수명예측을 실시하는 데는, 렌즈재료의 엑시머레이저 조사에 의한 엄밀한 예측식이 필요하게 된다. 이를 위하여 엑시머레이저 광학부재인 석영글래스 및 기타 광학부재의 열화가 무엇에 기인하는 지를 정밀하게 실험적으로 조사할 필요가 있음에도 불구하고, 이러한 것으로 단편적 또는 정성적으로 조사된 문헌이 있고, 약간의 연구가 이루어졌을 뿐, 엄밀한 정량성을 가진 예측식이 제시된 적은 없었다.
또한, 광학부재가 석영글래스인 경우, 그 투과율의 저하가 3%/cm 이상 발생한 경우에는, 그 석영글래스의 광학성능이 발열에 의하여 열화되는 것도 생각할 수 있으나, 이와 같은 발열에 의한 열화를 일으키지 않는 것을 보증할 필요가 있는 경우에는, 투과율의 저하가 3%/cm 이하인 것을 선택할 필요가 있다.
본 발명은, 이와 같은 문제를 고려하여 이루어진 것으로, 엑시머레이저 조사에 대한 광학부재의 내구성 예측 방법 및 이 예측방법에 의하여 투과율 저하가 3%/cm 이하인 석영글래스 광학부재의 선택방법을 제공한다.
상기 목적을 달성하기 위하여는, 본 발명에 관한 엑시머레이저 조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법은, 광학부재의 흡수계수와 조사하는 엑시머레이저의 적산펄스수와의 관계가 직선으로 근사가능한 직선영역에 있어서, 제1 소정 조사에너지 밀도(예를 들면, 0.01 내지 10000mJ/cm2·펄스)의 엑시머레이저를 광학부재에 조사한 때의 광학부재중의 수소농도 및/또는 염소농도와 흡수계수와의 상관과, 조사에너지 밀도 및 적산 펄스수와 흡수계수와의 상관을 구하고, 이러한 상관으로부터 직선영역에서의 흡수계수와 수소농도 및/또는 염소농도, 조사에너지 밀도 및 적산 펄스수의 제1 관계식을 구하는 제1 공정과, 광학부재의 포화흡수계수를 고려한 포화영역에 있어서, 제1 소정 조사에너지 밀도의 엑시머레이저를 광학부재에 조사한 때의 포화흡수계수와 조사에너지 밀도와의 상관과 광학부재중의 수소농도 및/또는 염소농도와의 상관을 구하고, 이러한 상관으로부터 포화영역에서의 흡수계수와 조사에너지 밀도와 수소농도 및/또는 염소농도의 제2 관계식을 구하는 제2 공정과, 광학부재중의 수소농도 및 염소농도와 조사하는 엑시머레이저의 조사에너지 밀도와 적산펄스수를 제1 관계식에 대입하여 얻어지는 직선영역에서의 흡수계수의 변화와 광학부재중의 수소농도 및/또는 염소농도와, 조사하는 엑시머레이저의 조사에너지 밀도를 제2 관계식에 대입하여 얻어지는 포화영역에서의 흡수계수의 값을 구하고, 이에 의하여 구하는 제2의 소정 조사에너지 밀도(예를 들면, 0.00001 내지 100mJ/cm2·펄스)의 엑시머레이저에 대한 광학부재의 투과율 변화로부터 광학부재의 내구성을 예측하는 제3 공정을 가진다.
또한 이 공정에 있어서, 구조의 인자, 불소, OH기 및 광원인 엑시머레이저광의 펄스폭의 영향을 통계학적으로 구한 계수에 의하여 제1 관계식을 보정하여도 된다. 또한 이 엑시머레이저 조사 내구성 예측의 시험방법에 의하여, 제2의 소정 조사에너지 밀도(실사용조건. 예를 들면 0.00001 내지 100mJ/cm2·펄스)의 엑시머레이저에 대한 투과율 변화가 3%/cm 이하인 석영글래스 광학부재를 선택할 수 있다.
이하 본 발명의 바람직한 실시형태에 대하여 도를 참조하여 설명한다. 도 1에, 엑시머레이저조사실험의 측정장치를 도시한다. 이 측정장치는 엑시머레이저 광원(1)과 조사샘플(3)(석영글래스)의 사이에 빔 정형을 겸한 호모저나이저(homogenizer) 광학계(2)가 배치되고, 조사샘플(3)의 ArF 엑시머레이저 광원(1)과 반대측에는 에너지 모니터(4)가 설치되어 있다. 또한 ArF 엑시머레이저 광원(1)으로부터 레이저 빔(5)를 발하고, 호모저나이저 광학계(2) 및 조사 샘플(3)을 통과한 후의 조사 에너지를 에너지 모니터(4)로 모니터하고, 조사 샘플(3)의 흡수계수의 변화를 측정한다.
본 발명의 엑시머레이저 조사에 대한 광학부재의 내구성 예측에 있어서는, 먼저 상기 측정장치를 이용하여, 대상이 되는 광학부재에 대하여 여러 조건에서 엑시머레이저조사를 실시하고 실험데이터를 얻는다. 또한 얻어진 실험데이터를 기초로 통계적 수법 및 이론적 수법을 이용하여 흡수계수의 변화 관계식을 산출하고, 적산 펄스수에 대하여 직선으로 근사가능한 영역(직선영역)에 있어서의 예측식과 그 광학부재의 흡수가 포화한 영역(포화영역)에 있어서의 예측식을 구하여 양자를 조합하는 순서를 밟는다.
또한, 상기 실험데이터를 얻기 위하여 조사하는 엑시머레이저의 조사에너지 밀도를 이 측정에 최적인 0.01 내지 10000mJ/cm2·펄스의 범위로 한 경우에는, 가속시험에 의하여, 예측하는 대상인 엑시머레이저 조사에너지 밀도는 0.00001 내지 100mJ/cm2·펄스의 범위에 대응한다. 이에 의거하여 실험데이터를 얻는 측정에 있어서, 0.01 내지 10000mJ/cm2·펄스의 범위의 조사에너지 밀도를 이용함으로써, 0.00001 내지 100mJ/cm2·펄스라는 극히 낮은 조사에너지 밀도에서의 내구성을 예측할 수 있다.
먼저, 상기 측정계에 의하여 얻어진 직선영역에 있어서의 흡수계수에 대하여 설명한다. 도 2에 흡수계수의 조사에너지 의존성, 즉 조사에너지 밀도에 대한 193.4nm 흡수계수(/cm)의 변화를 조사한 결과를 도시한다. 여기서는 동일한 조사샘플(3)을 이용하여 조사하는 에너지 밀도만을 변화시키고, 다른 조건은 일정하게 하였다. 조사에너지 밀도는, 25, 50, 100, 200(mJ/cm2 per pulse)으로 하였다. 또한 각각의 적산 펄스수 1E6펄스 시 및 3E6펄스 시의 흡수계수를 측정하였다. 조사샘플(3)의 용존 수소농도는, 1E18(분자/cm3)로 하였다. 이 결과를 근거로 최소 자승법으로 산출한 ArF 엑시머레이저에 대한 샘플(3)의 흡수계수의 에너지 밀도 의존식을 식(1)에 나타내었다.
이 때, E: 에너지밀도(mJ/cm2 per pulse), a: 에너지밀도 의존성,a= 2±0.2(3σ), K1: 정수이다.
[수학식 1]
193.4nm 흡수계수 (/cm) = K1 × Ea …(1)
일반적으로, ArF 및 KrF 엑시머레이저에서 발생하는 흡수대 생성의 원인은, 2광자 흡수과정에서 생성한 E'센터(215nm대), O3, NBOHC(260nm 흡수대)를 주원인으로 한 복합 피크이다.
다음으로, 도 3에 흡수계수의 적산 펄스수 의존성, 즉 적산 펄스수에 대한 193.4nm 흡수계수(/cm)의 변화를 조사한 결과를 나타내었다. 여기서도 조사에너지 밀도를 25, 50, 100, 200(mJ/cm2 per pulse)으로 하고, 각 도 6에 나타내는 각 적산 펄스수에 있어서 흡수계수를 측정하였다. 또한 도 중의 5E6 등의 표시는, 5 × 106을 의미한다(이후, 도면에서 또는 명세서에 있어서는 이와 같은 약식 기호를 이용하여 표시한다.) 도 3의 결과를 근거로 최소 자승법으로 산출한 ArF 엑시머 적산 펄스수 의존식을 식(2)에 나타낸다. 이 때, P : 적산 펄스수(pulse), b : 적산 펄스수 의존성, b=0.998±0.1(3σ), K2 : 정수이다.
[수학식 2]
193.4nm 흡수계수(/cm) = K2 × Pb … (2)
또한, 이 의존식은 흡수계수가 거의 0.2까지 밖에 성립하지 않는다. 이 이상의 흡수계수영역에서는 적산 펄스수 의존성 b는 0.998부터 차츰 작아져 마침내 포화된다.
다음으로, 흡수계수의 용존 H2 농도 의존성, 즉 용존 H2 농도에 대한 193.4nm 흡수계수(/cm)의 변화를 조사한 결과를 나타낸다. 도 4에, 조사에너지 밀도 100(mJ /cm2 per pulse)로 적산 펄스수 1E6 펄스 조사후의 용존 H2 농도(1E17 내지 3E18 분자/cm3의 범위)와 193.4 흡수계수(/cm)의 관계를 나타낸다. 최소 자승법으로 산출한 의존식을 식(3)에 나타내었다. 이 때, H: 용존 H2 농도(분자/cm3), c: 용존 H2 농도 의존성, K3: 정수이다.
[수학식 3]
193.4nm 흡수계수(/cm) = K3 × Hc … (3)
식(3)에 있어서, 상관계수 r=0.92이고 c=-0.38이다. 상관계수 r=0.92가 나타내는 바와 같이, 석영글래스의 ArF 엑시머레이저 조사에 대한 내구성(즉 흡수 생성)을 결정하는 주원인은, 용존하는 H2 분자 농도가 상당히 지배적 요인이라고 생각된다.
이상에 의하여, 흡수계수의 에너지 밀도 의존성, 적산 펄스수 의존성, 용존 H2 농도 의존성을 나타내는 3식 (1), (2), (3)으로부터, 조사 샘플(3)의 직선영역에서의 흡수계수의 예측식을 산출하였다. 이를 식(4)에 나타내었다. 이 때, 정수는 K: 5.54 × 10-6, a : 2 ± 0.2(3σ), b : 0.998 ± 0.1(3σ), c : -0.38 ± 0.1(3σ)이다.
[수학식 4]
직선영역 흡수계수(/cm) = K × Ea ×Pb × Hc × d … (4)
식(4)에 있어서 d는 조사종료후의 실온 브리치 현상의 보정계수이고, 투과율 측정치가 조사중의 것이면 d=1이 된다. 또한, 조사종료 시간과 함께 지수함수적으로 증가하고, 예를 들어 조사종료 10분후의 측정치이면 d=2가 된다.
또한, ArF 파장 193.4nm에서는 광자에너지가 6.4eV이고, KrF 엑시머 파장 248.3nm의 5eV에 대하여 상당히 높고, 따라서 조사되는 광자 에너지가 증가하여 글래스 구조중의 밴드간 천이확률이 증가하므로, Si-Cl결합이 끊어져 Si E'센터 등의 결함이 생성될 확률이 증가한다. 이 때 ArF 엑시머 파장에서는 KrF 엑시머 조사에서는 그다지 문제가 되지 않았던 Si-Cl 구조가 영향을 미치므로, ArF 엑시머 내구성 예측에는 불순물인 염소 농도 의존성을 구할 필요가 있다.
상기 염소농도 의존성을 구하는 예를 이하에 도시한다. 조사에너지 밀도 200(mJ/cm2 per pulse), 적산 펄스수 1E6펄스 조사후의 Cl 농도와 193.4nm 흡수계수(/cm)의 관계를 조사하였다. 이 때, Cl=50ppm의 석영글래스와 Cl이 들어있지 않은 석영글래스의 직선영역의 흡수계수 변화를 조사한 결과, 염소농도 50ppm의 흡수계수는 염소가 없는 석영글래스의 약 1.3배였다. 다른 염소 농도의 석영글래스의 거동도 조사하였으나, 약 200ppm까지는 이 경향은 비례관계에 있었다. 이 결과를 기초로 최소 자승법으로 산출한 흡수계수의 염소농도에 대한 의존식을 식으로 나타낸다. 이 때 Cl: Cl 농도(ppm), Z: 염소가 들어 있지 않은 제품의 흡수계수이다.
[수학식 5]
193.4nm 흡수계수(/cm) = Z × (1 + Cl ×0.006) … (5)
상관계수 r = 0.90이 도시하는 바와 같이, 석영글래스가 함유하는 Cl농도가 석영글래스의 ArF엑시머 레이저에 대한 내구성(즉 흡수생성)을 결정하는 요인의 하나라고 생각된다.
상기한 흡수계수의 에너지 밀도 의존성, 적산 펄스수 의존성 및 용존 H2 농도 의존성의 식 (1), (2), (3)과 마찬가지로 하여, Cl 농도 의존성의 식(5)에 있어서 계수 Z를 구함으로써, 흡수 계수의 예측식(4)에 Cl 농도의 의존성을 포함시키는 것도 가능하다.
이와 같이 실험 및 통계적인 수법을 사용한 식의 적용으로, 다른 인자, 예를 들면 불소농도, OH기 농도, Si - O - Si 기본구조의 인자, 광원인 엑시머광의 펄스폭의 영향을 통계학적으로 구한 계수를 예측식 (4)에 포함시켜 보정하는 것도 가능하다. 또한, 생성하는 흡수는 엑시머광의 펄스폭과 반비례 관계에 있다는 것도 확인하였다. 그러나, 이러한 식에 의한 예측은 어디까지나 엑시머레이저조사에 의한 흡수계수가 적산펄스수에 대하여 직선적으로 증가, 즉 투과율이 직선적으로 저하되는 영역에 있어서만 성립한다.
다음으로, 포화영역에 있어서 흡수계수에 대하여 설명한다. 먼저, 흡수계수의 ArF 엑시머 레이저에 대한 조사에너지 밀도 의존성을 조사하였다. 염소농도 50ppm으로 또한 탈수소 처리한 샘플, 염소농도 1ppm 이하이고, 또한 탈수소 처리한 샘플을 사용하여 각각 조사에너지 밀도 25, 50, 100, 200(mJ/cm2 per pulse)에서의 의존성을 구하였다. 엑시머조사는 투과율의 거동이 포화될 때까지 실시하였다. 그 결과를 도 5에 도시한다.
또한, 염소농도가 50ppm과 1ppm이하에서 각각 용존 수소 농도가 1E18(분자/cm3)인 샘플을 사용하여 적산 펄스수와 투과율변화의 함수를 조사하면, 도 6에 도시하는 바와 같이, 포화치에 이르는 직선역의 거동은 다르나, 포화치는 거의 같아진다는 것을 알았다. 이와 같이, ArF 엑시머레이저에서는, 포화흡수치는 수소농도에 거의 의존하지 않는다. 그러나, KrF에서는 영향을 미치는 흡수대가 다르므로, 이 포화치는 수소농도에 의존한다. KrF의 경우에는 이 의존성도 수식화할 필요가 있다. 이 순서는 다른 인자의 식화(式化)와 거의 동일하므로 여기서는 설명을 생략한다.
도 5를 기초로 최소 자승법으로 산출한 포화흡수계수의 에너지 밀도 의존식은, 탈수소처리 샘플, 수소분자농도 1E18(분자/cm3) 샘플이 모두 식(6)과 같았다. 이 때, 에너지 밀도의존성은, e = 0.43 ± 0.2(3σ)였다. K4의 값은 염소농도 및 수소분자농도에 의존한다(특히 KrF).
[수학식 6]
193.4nm 흡수계수 (/cm) = K4 × Ee … (6)
다음으로, 포화영역에 있어서 흡수계수의 염소농도 의존성을 조사하였다. 탈수소처리한 석영글래스 샘플 및, 염소농도 0 내지 120(ppm)의 석영글래스 샘플에 대하여, 각각 조사에너지 밀도 200(mJ/cm2 per pulse)에서의 의존성을 구하였다. 엑시머 조사는 투과율의 거동이 포화될 때까지 조사를 하였다. 그 결과를 도 7에 도시하고, 도 7을 기초로 최소 자승법으로 산출한 흡수계수의 염소농도 의존식을 식(7)에 도시한다. 이 때 Cl은 석영글래스 중의 염소농도(ppm)이고, K5는 에너지밀도에 의존하는 정수이다.
[수학식 7]
193.4nm 흡수계수(/cm) = K5 × ((-2E-6)×Cl2 + (5E-4)×Cl + 0.01) … (7)
이상의 의존식을 조합하여 보면, 식(8)로 표시할 수 있다. 이 때, d는 상기한 조사종료후의 실온 브리치현상의 보정계수이다.
[수학식 8]
포화영역 흡수계수(/cm) = K×Ee ×(-2E-6)×Cl2 + (5E-4)×Cl + 0.01 … (8)
다음으로, 직선영역과 포화영역을 조합한다. 도 8의 실선은 식(4) 및 식(8)로부터 얻어지는 투과율 변화이고, 적산 펄스수에 대하여 투과율이 감소하는 영역이 직선영역에 대응하고, 적산 펄스수에 대하여 투과율이 일정치를 취하는 영역이 포화영역에 대응한다. 또한, 도 8의 점선은 실제의 투과율 변화이다. 즉, 투과율은 적산펄스수의 증가와 함께 저하되고, 또는 펄스수에 있어서 포화에 달하면, 그 이후는 일정치를 취하는 것으로 근사(近似)된다.
이하, 본 발명의 예측방법을 적용한 실시예에 대하여 설명한다. 샘플이 되는 광학부재의 고순도 석영글래스 잉고트는 원료로서 고순도의 4염화 규소를 사용하고, 석영글래스제 버너에서 산소가스 및 수소가스를 혼합·연소시켜 중심부에서 원료가스를 담체가스(통상 산소가스 또는 수소가스)로 희석하여 분출시키고, 타겟상에 퇴적, 용융하여 합성하였다. 이에 의하여, 직경 180mm, 길이 550mm의 석영글래스 잉고트를 얻었다.
(실시예 1)
상기 석영글래스 잉고트로부터 절취하여 ArF 엑시머레이저 스텝퍼용 조명계 광학렌즈 부품을 제작하고, 일부 물성측정용 샘플도 제작하였다. 그 샘플을 이용하여 엑시머레이저 조사실험을 실시하고, 흡수계수에 관한 식(4), 식(8)을 구하였다. 이 광학 석영글래스 부재의 H2 농도는, 1 × 1018mole/cm3, Cl 농도 20ppm이었다.
또한, 이 부재를 사용하여 제조된 렌즈의 사용조건은, 레이저 가공기이므로, 조사에너지 밀도 5mJ/cm2 per pulse, 반복주파수 500Hz이고, 가동율을 70%로 하면 1일당 적산펄스수는 3 × 107펄스이고, 내부 흡수 사양은 5%/cm이하이다. 투과율의 산출은, 예측식 (4) 및 식(8)을 이용하여 구한 흡수계수로부터 식(9)를 이용하여 산출한다.
[수학식 9]
투과율(%) = exp (-(흡수계수) × 렌즈 두께(cm)) × 100 …(9)
이에 의하여 구하여진 상기 사용조건에서의 내부투과율의 저하는 -3.8%/cm가 되었다. 이 투과율 저하는 포화영역에 달하여 있으므로, 적산 펄스수에 의하지 아니하고, 사양을 충족시키는 것을 보증할 수 있다. 또한, 상기 사용조건에서 상기 품질의 석영글래스의 포화투과율은, 96.2%/cm인 것을 알 수 있다. 또한 광학계 전체의 투과율에 대하여는, 각 부품마다 투과율을 계산하고, 단순한 곱셈을 함으로써 산출할 수 있다.
(실시예 2)
상기 석영글래스 잉고트로부터 절출하여 ArF 엑시머레이저 스텝퍼용 광학렌즈부품을 만들고, 일부 물성 측정용 샘플도 제작하였다. 이 광학석영글래스 부재의 H2 농도는 1 × 1018mole/cm3, Cl 농도는 5ppm이었다. 또한 이 렌즈부품은 ArF 엑시머레이저 스텝퍼 투영광학계의 일부이고, 요구되는 내부흡수 사양은 0.1%/cm이하이었다. 또한, 이 렌즈의 사용조건은, 조사에너지 밀도 0.1mJ/cm2 per pulse, 반복주파수 500Hz이고, 가동율을 70%로 하면, 1일당 적산펄스수는 3 × 107펄스이다.
예측식 (4) 및 식(8)을 이용하여 상기 실시예1과 마찬가지로 계산하면, 상기 사용조건에서 내부투과율 저하는 7×1010 펄스로 -0.1%/cm가 되었다. 이는 직선영역에 있어서의 것으로, 렌즈의 내용(耐用)년수는 약 6년으로 예측할 수 있고, 이것에 의하여 6년간은 사양을 충족시키는 것을 보증할 수 있다. 또한 이 사용조건으로, 상기 품질의 석영글래스의 포화투과율은, 99.5%/cm임도 알 수 있다.
(실시예 3)
실시예 1, 실시예 2와 마찬가지로 석영글래스 잉고트로부터 절취하여 ArF 엑시머레이저 스텝퍼용 광학렌즈 부품을 제작하고, 일부 물성측정용 샘플도 제작하였다. 이 광학 석영글래스 부재의 H2 농도는 2 × 1018mole/cm3, Cl 농도는 1ppm 이하였다. 이 렌즈 부품은 ArF 엑시머레이저 스텝퍼 투영광학계의 일부이고, 요구되는 내부흡수 사양은 0.1%/cm이하이다. 또한 이 렌즈의 사용조건은, 조사에너지 밀도 0.1mJ/cm2 per pulse, 반복 주파수 500Hz이고, 가동율을 70%로 하면, 1일당 적산펄스수는 3×107 펄스이다.
본 발명의 예측식(4), 식(8)을 이용하여 계산하면, 상기 사용조건에서 내부 투과율은 1×1011 펄스로 -0.1%/cm가 되었다. 이것도 실시예 2와 마찬가지로 직선영역에 있어서의 것으로, 렌즈의 내용 년수는 약 10년으로 예측할 수 있고, 이것에 의하여 약 10년간은 사양을 충족시킬 것을 보증할 수 있다. 또한 이 사용조건으로, 상기 품질의 석영글래스의 포화투과율은 99.6%/cm인 것을 알 수 있다. 만약, 내부흡수의 규격에 0.2/cm가 허용되면, 렌즈의 수명은 약 2배가 된다.
또한, 광학부재의 투과율 저하가 3%/cm이상 발생한 경우에는, 그 광학부재의 광학성능이 발열에 의하여 열화되고 있다는 것을 생각할 수 있으나, 이 예측방법을 이용하여 투과율의 저하는 3%/cm이하인 것을 나타냄으로써, 발열에 의한 열화를 일으키고 있지 않음이 보증된 석영글래스를 얻을 수 있다.
이상과 같이, 직선영역과 포화영역을 조합함으로써, 적산 펄스수에 대한 투과율의 저하를 크게 어림잡지않고, 정확하고도 간편하게 석영글래스 광학부재의 투과율 변화 즉 내구성을 예측할 수 있다. 또한, 상기 실시예에 있어서는 석영글래스에 대하여 개시하였으나, 이 내구성의 예측방법은, 석영글래스 뿐만 아니라, 다른 엑시머레이저 광학계에 사용되는 광학부재에 대하여서도 마찬가지로 사용할 수 있다. 또한 이 예측방법에 의하면, 엑시머레이저 광학계의 수명예측, 내용년수의 산출도 가능하다. 또한, 다른 광원에 대하여도 또는 광학 박막에 대하여도, 동일한 내구성 예측을 할 수 있다. 또한 이 예측방법을 사용함으로써, 투과율 저하가 3%/cm이하인 석영글래스를 얻을 수 있다.
본 발명의 엑시머 레이저 조사내구성의 예측방법에 의하면, 적산펄스수와 석영글래스 광학부재의 흡수계수와의 관계가 직선으로 근사가능한 적산 펄스수 영역에 있어서 흡수계수의 변화와 함께, 석영글래스 광학부재중의 포화흡수 계수가 고려되므로, 투과율 저하량을 크게 어림잡지 않고, 정확하고도 간편하게 석영글래스 광학부재의 투과율 변화 즉 내구성을 예측할 수 있다. 또한, 이에 의하여 투과율 저하가 3%/cm이하인 석영글래스를 얻을 수 있다.
또한, 이 예측방법은 석영글래스 뿐만이 아니라, 다른 엑시머레이저 광학계에 사용되는 광학부재에 대하여도 마찬가지로 사용할 수 있다. 이 예측방법에 의하여, 엑시머레이저 광학계의 수명예측, 내용년수의 산출도 가능하다. 또한 다른 광원에 대하여도, 또한, 광학박막에 관하여도, 동일한 내구성 예측이 가능하다.
도 1은 엑시머 조사 실험장치의 개략도.
도 2는 ArF 엑시머레이저 조사에 의하여 유기되는 석영글래스의 직선영역 193.4nm 흡수계수의 에너지밀도 의존성을 도시한 도.
도 3은 ArF 엑시머레이저 조사에 의하여 유기되는 석영글래스의 직선영역 193.4nm 흡수계수의 적산펄스수 의존성을 도시한 도.
도 4는 ArF 엑시머레이저 조사에 의하여 유기되는 석영글래스의 직선영역 193.4nm 흡수계수의 석영글래스 중의 용존 수소분자 농도 의존성을 도시한 도.
도 5는 ArF 엑시머레이저 조사에 의하여 유기되는 석영글래스의 193.4nm 포화흡수계수의 에너지 밀도 의존성을 도시한 도.
도 6은 용존 수소분자 농도에 의한 ArF 엑시머레이저 적산펄스수와 석영글래스의 투과율의 관계를 도시하는 도.
도 7은 ArF 엑시머레이저 조사에 의하여 유기되는 석영글래스의 193.4nm 포화흡수계수의 석영글래스 중의 용존 염소농도 의존성을 도시하는 도.
도 8은 본 발명의 예측식에 근거한 ArF 엑시머레이저 적산 펄스수에 대한 석영글래스의 투과율 변화를, 실제의 투과율 변화와 비교하여 도시하는 도.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
1 ArF 엑시머레이저 광원
2 호모저나이저(homogenizer) 광학계
3 조사 샘플
4 에너지 모니터
5 레이저 빔

Claims (16)

  1. 광학부재의 흡수계수와 조사하는 엑시머레이저의 적산펄스수와의 관계가 직선으로 근사가능한 직선영역에 있어서, 제1 소정 조사 에너지 밀도의 엑시머레이저를 상기 광학부재에 조사한 때의 상기 광학부재중의 수소농도 및 염소농도와 흡수계수와의 상관과, 조사에너지 밀도 및 적산 펄스수와 흡수계수와의 상관을 구하고 이러한 상관으로부터 상기 직선영역에서의 흡수계수와 수소농도 및 염소농도, 조사에너지 밀도 및 적산 펄스수와의 제1 관계식을 구하는 제1 공정과;
    상기 광학부재의 포화흡수계수를 고려한 포화영역에 있어서 상기 제1의 소정 조사에너지밀도의 엑시머레이저를 상기 광학부재에 조사한 때의 포화흡수계수와 조사에너지 밀도와의 상관과 상기 광학부재중의 수소농도 및 염소농도와의 상관을 구하고, 이러한 상관으로부터 상기 포화영역에서의 흡수계수와 조사에너지 밀도와 수소농도 및 염소농도와의 제2 관계식을 구하는 제2 공정과;
    상기 광학부재중의 수소농도 및 염소농도와 실사용 조건인 제2의 소정 조사 에너지 밀도를 상기 제1 관계식에 대입하여 구한, 상기 제2의 소정 에너지 밀도의 엑시머레이저를 상기 광학 부재에 소정 적산 펄스수 조사하였을 때의 흡수계수와, 상기 광학 부재 중의 수소 농도 및 염소농도와 상기 제2의 소정 조사 에너지 밀도를 상기 제2 관계식에 대입하여 구한, 상기 제2의 소정 조사에너지 밀도의 엑시머레이저를 상기 광학 부재에 조사하였을 때의 포화 흡수계수를 비교하여,
    작은 쪽의 흡수계수를, 상기 제2의 소정 조사 에너지 밀도의 엑시머레이저를 상기 광학부재에 상기 소정 펄스수 조사하였을 때의 흡수계수의 예측치로 하는 제3공정을
    가지는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1의 소정 조사에너지 밀도가 0.01 내지 10000mJ/cm2·펄스이고, 상기 제2의 소정 조사에너지 밀도가 0.00001 내지 100mJ/cm2·펄스인 것을 특징으로 하는 엑시머레이저조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 광학부재가 석영글래스인 것을 특징으로 하는 엑시머레이저 조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    구조인자, 불소, OH기 및 엑시머레이저의 펄스폭의 영향을 통계학적으로 구한 계수로 상기 제1 관계식을 보정하는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저 조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법.
  5. 제3항에 기재한 엑시머레이저 조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법에 의하여, 제2의 소정 조사 에너지 밀도가 0.00001 내지 100mJ/cm2·펄스인 엑시머레이저에 대한 투과율 변화가 3%/cm 이하인 석영글래스 광학부재를 선택하는 것을 특징으로 하는 석영글래스 광학부재의 선택방법.
  6. 제3항에 있어서,
    구조인자, 불소, OH기 및 엑시머레이저의 펄스폭의 영향을 통계학적으로 구한 계수로 상기 제1 관계식을 보정하는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저 조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법.
  7. 제4항에 기재된 엑시머레이저 조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법에 의하여, 제2의 소정 조사 에너지 밀도가 0.00001 내지 100mJ/cm2·펄스인 엑시머레이저에 대한 투과율 변화가 3%/cm 이하인 석영글래스 광학부재를 선택하는 것을 특징으로 하는 석영글래스 광학부재의 선택방법.
  8. 제6항에 기재된 엑시머레이저 조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법에 의하여, 제2의 소정 조사 에너지 밀도가 0.00001 내지 100mJ/cm2·펄스인 엑시머레이저에 대한 투과율 변화가 3%/cm 이하인 석영글래스 광학부재를 선택하는 것을 특징으로 하는 석영글래스 광학부재의 선택방법.
  9. 광학부재의 흡수계수와 조사하는 엑시머레이저의 적산펄스수와의 관계가 직선으로 근사가능한 직선영역에 있어서, 제1 소정 조사 에너지 밀도의 엑시머레이저를 상기 광학부재에 조사한 때의 상기 광학부재중의 수소농도 또는 염소농도와 흡수계수와의 상관과, 조사에너지 밀도 및 적산 펄스수와 흡수계수와의 상관을 구하고 이러한 상관으로부터 상기 직선영역에서의 흡수계수와 수소농도 또는 염소농도, 조사에너지 밀도 및 적산 펄스수와의 제1 관계식을 구하는 제1 공정과;
    상기 광학부재의 포화흡수계수를 고려한 포화영역에 있어서 상기 제1의 소정 조사에너지 밀도의 엑시머레이저를 상기 광학부재에 조사한 때의 포화흡수계수와 조사에너지 밀도와의 상관과 상기 광학부재중의 수소농도 또는 염소농도와의 상관을 구하고, 이러한 상관으로부터 상기 포화영역에서의 흡수계수와 조사에너지 밀도와 수소농도 또는 염소농도와의 제2 관계식을 구하는 제2 공정과;
    상기 광학부재중의 수소농도 또는 염소농도와 실사용 조건인 제2의 소정 조사 에너지 밀도를 상기 제1 관계식에 대입하여 구한, 상기 제2의 소정 에너지 밀도의 엑시머레이저를 상기 광학 부재에 소정 적산 펄스수 조사하였을 때의 흡수계수와, 상기 광학 부재 중의 수소 농도 또는 염소농도와 상기 제2의 소정 조사 에너지 밀도를 상기 제2 관계식에 대입하여 구한, 상기 제2의 소정 조사에너지 밀도의 엑시머레이저를 상기 광학 부재에 조사하였을 때의 포화 흡수계수를 비교하여,
    작은 쪽의 흡수계수를, 상기 제2의 소정 조사 에너지 밀도의 엑시머레이저를 상기 광학부재에 상기 소정 펄스수 조사하였을 때의 흡수계수의 예측치로 하는 제3 공정을
    가지는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 제1의 소정 조사에너지 밀도가 0.01 내지 10000mJ/cm2·펄스이고, 상기 제2의 소정 조사에너지 밀도가 0.00001 내지 100mJ/cm2·펄스인 것을 특징으로 하는 엑시머레이저조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법.
  11. 제9항에 또는 제10항에 있어서,
    상기 광학부재가 석영글래스인 것을 특징으로 하는 엑시머레이저 조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법.
  12. 제9항 또는 제10항에 있어서,
    구조인자, 불소, OH기 및 엑시머레이저의 펄스폭의 영향을 통계학적으로 구한 계수로 상기 제1 관계식을 보정하는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저 조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법.
  13. 제11항에 기재된 엑시머레이저 조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법에 의하여, 제2의 소정 조사 에너지 밀도가 0.00001 내지 100mJ/cm2·펄스인 엑시머레이저에 대한 투과율 변화가 3%/cm 이하인 석영글래스 광학부재를 선택하는 것을 특징으로 하는 석영글래스 광학부재의 선택방법.
  14. 제11항에 있어서,
    구조인자, 불소, OH기 및 엑시머레이저의 펄스폭의 영향을 통계학적으로 구한 계수로 상기 제1 관계식을 보정하는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저 조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법.
  15. 제12항에 기재된 엑시머레이저 조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법에 의하여, 제2의 소정 조사 에너지 밀도가 0.00001 내지 100mJ/cm2·펄스인 엑시머레이저에 대한 투과율 변화가 3%/cm 이하인 석영글래스 광학부재를 선택하는 것을 특징으로 하는 석영글래스 광학부재의 선택방법.
  16. 제14항에 기재된 엑시머레이저 조사에 대한 광학부재의 내구성 예측방법에 의하여, 제2의 소정 조사 에너지 밀도가 0.00001 내지 100mJ/cm2·펄스인 엑시머레이저에 대한 투과율 변화가 3%/cm 이하인 석영글래스 광학부재를 선택하는 것을 특징으로 하는 석영글래스 광학부재의 선택방법.
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000081367A (ja) 1998-09-07 2000-03-21 Nikon Corp 光透過性光学部材、その製造方法、その評価方法、および光リソグラフィー装置
JP2000143278A (ja) 1998-11-10 2000-05-23 Nikon Corp 耐久性の向上された投影露光装置及び結像光学系の製造方法
JP2001270731A (ja) * 2000-03-28 2001-10-02 Nikon Corp 合成石英ガラス部材及びこれを用いた光リソグラフィー装置
JPWO2003091175A1 (ja) * 2002-04-23 2005-09-02 旭硝子株式会社 光学部材用合成石英ガラス、投影露光装置および投影露光方法
DE10221386A1 (de) * 2002-05-14 2003-11-27 Zeiss Carl Smt Ag Projektionsbelichtungssystem
DE10225842A1 (de) * 2002-06-04 2003-12-24 Zeiss Carl Smt Ag Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Strahlungsbeständigkeit eines optischen Materials
DE10331589B3 (de) * 2003-07-09 2005-03-24 Schott Ag Verfahren zur quantitativen Bestimmung der Pulslaserbeständigkeit von synthetischem Quarzglas
DE10337877A1 (de) * 2003-08-18 2005-03-17 Basf Ag Verfahren zur Detektion der durch einen Umwelteinfluss hervorgerufenen Eigenschaftsänderung einer Probe
DE102004062256A1 (de) 2004-12-23 2006-07-13 Basf Ag Hochempfindliches Verfahren zur Detektion von Unterschieden zwischen den physikalisch messbaren Eigenschaften einer Probe und einer Referenz
DE102006038902A1 (de) * 2006-08-18 2008-02-21 Schott Ag Verfahren zur Bestimmung der Laserstabilität von optischen Material sowie damit erhaltene Kristalle und deren Verwendung
JP5026186B2 (ja) * 2007-08-03 2012-09-12 学校法人常翔学園 光学材料のレーザ損傷耐性推定方法及びレーザ損傷耐性推定装置
DE102009042989A1 (de) * 2009-09-25 2011-04-21 Hellma Materials Gmbh & Co. Kg Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Laserstabilität eines optischen Elements
CN104297153B (zh) * 2014-10-10 2017-01-11 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 用于确定光学材料激光辐照老化寿命的加速实验方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04137575A (ja) * 1990-09-27 1992-05-12 Anritsu Corp 周波数安定化レーザ光源
JPH04303981A (ja) * 1991-03-29 1992-10-27 Anritsu Corp 狭い線幅の発振周波数スペクトルをもつ周波数安定化光源
US5673114A (en) * 1995-06-27 1997-09-30 Nikon Corporation Apparatus for measuring optical absorption of sample and sample holder applicable to the same
US5770954A (en) * 1995-10-09 1998-06-23 Sgs-Thomson Microelectronics, S.R.L. Current comparator with intrinsic limitation of absorption to the lowest current level

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3663753B2 (ja) * 1996-07-01 2005-06-22 株式会社ニコン エキシマレ−ザ照射耐久性の予測方法 及び石英ガラス部材

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04137575A (ja) * 1990-09-27 1992-05-12 Anritsu Corp 周波数安定化レーザ光源
JPH04303981A (ja) * 1991-03-29 1992-10-27 Anritsu Corp 狭い線幅の発振周波数スペクトルをもつ周波数安定化光源
US5673114A (en) * 1995-06-27 1997-09-30 Nikon Corporation Apparatus for measuring optical absorption of sample and sample holder applicable to the same
US5770954A (en) * 1995-10-09 1998-06-23 Sgs-Thomson Microelectronics, S.R.L. Current comparator with intrinsic limitation of absorption to the lowest current level

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Publication number Publication date
CN1123766C (zh) 2003-10-08
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KR19990036828A (ko) 1999-05-25
DE69836668T2 (de) 2007-10-31
EP0908716A1 (en) 1999-04-14
TW409184B (en) 2000-10-21
DE69836668D1 (de) 2007-02-01
JP3716574B2 (ja) 2005-11-16
CN1213774A (zh) 1999-04-14
JPH11108839A (ja) 1999-04-23
US6075607A (en) 2000-06-13

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