JP2000081367A - 光透過性光学部材、その製造方法、その評価方法、および光リソグラフィー装置 - Google Patents
光透過性光学部材、その製造方法、その評価方法、および光リソグラフィー装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 真空紫外光を光源とした光リソグラフィー装
置に有用な光透過性光学部材を提供すること。 【解決手段】 ２００ｎｍ以下の特定波長の光を透過す
る光透過性光学部材であって、前記光学部材は主にカリ
ウム含有量が０．５ｐｐｍ以下のフッ化カルシウム結晶
からなり、２００ｎｍ以下の特定波長の光を一定時間照
射したときの照射前後の透過率の差が５％以下であるこ
とを特徴とする光透過性光学部材を提供する。
置に有用な光透過性光学部材を提供すること。 【解決手段】 ２００ｎｍ以下の特定波長の光を透過す
る光透過性光学部材であって、前記光学部材は主にカリ
ウム含有量が０．５ｐｐｍ以下のフッ化カルシウム結晶
からなり、２００ｎｍ以下の特定波長の光を一定時間照
射したときの照射前後の透過率の差が５％以下であるこ
とを特徴とする光透過性光学部材を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、２００ｎｍ以下の
波長の光、例えばＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ2レーザ
ー、固体レーザー等を光源とする装置、例えばリソグラ
フィー装置、ＣＶＤ装置、レーザー加工装置などの光学
系に用いられるレンズ、プリズム、プレート等の光透過
性光学部材に関する。また、本発明は、光透過性光学部
材の製造方法、評価方法に関するものであり、さらに光
リソグラフィー装置に関するものである。
波長の光、例えばＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ2レーザ
ー、固体レーザー等を光源とする装置、例えばリソグラ
フィー装置、ＣＶＤ装置、レーザー加工装置などの光学
系に用いられるレンズ、プリズム、プレート等の光透過
性光学部材に関する。また、本発明は、光透過性光学部
材の製造方法、評価方法に関するものであり、さらに光
リソグラフィー装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩは高集積化が進み、光を用いた露
光が行われている。光リソグラフィー工程では、マスク
上に描かれたパターンをレンズでウエハ上に転写する方
法が主に行われている。一般に、転写パターンの解像力
はレンズの開口数、および露光する光の波長の逆数に、
それぞれ比例して上昇する。しかし、レンズの開口数を
上げるには大口径のレンズが必要となり製造に限界があ
る。そこで、光リソグラフィーの解像力を向上させるた
めには、光源の波長を短くすることが有効である。
光が行われている。光リソグラフィー工程では、マスク
上に描かれたパターンをレンズでウエハ上に転写する方
法が主に行われている。一般に、転写パターンの解像力
はレンズの開口数、および露光する光の波長の逆数に、
それぞれ比例して上昇する。しかし、レンズの開口数を
上げるには大口径のレンズが必要となり製造に限界があ
る。そこで、光リソグラフィーの解像力を向上させるた
めには、光源の波長を短くすることが有効である。
【０００３】光リソグラフィーに用いる光源としては、
これまで、高圧水銀灯のｉ線（３６５ｎｍ）、より短い
光源としてはＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）など
の紫外線が実現されてきた。特にこのＫｒＦエキシマレ
ーザは高出力、高繰り返し発振が可能であるため、光リ
ソグラフィーには効率的な光源として、研究開発、実用
化が進められてきた。現在では、光リソグラフィー用光
源として広く使用されるようになり、この光源を利用し
た光リソグラフィー装置も一般に良く実用化されるよう
になった。また、この光リソグラフィー装置を構成する
光学系には、紫外線の光透過性の高い光学レンズが使用
されてきた。
これまで、高圧水銀灯のｉ線（３６５ｎｍ）、より短い
光源としてはＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）など
の紫外線が実現されてきた。特にこのＫｒＦエキシマレ
ーザは高出力、高繰り返し発振が可能であるため、光リ
ソグラフィーには効率的な光源として、研究開発、実用
化が進められてきた。現在では、光リソグラフィー用光
源として広く使用されるようになり、この光源を利用し
た光リソグラフィー装置も一般に良く実用化されるよう
になった。また、この光リソグラフィー装置を構成する
光学系には、紫外線の光透過性の高い光学レンズが使用
されてきた。
【０００４】近年、さらに解像度を向上させるため、よ
り波長の短い真空紫外光を光源とした光リソグラフィー
装置も期待されてきている。
り波長の短い真空紫外光を光源とした光リソグラフィー
装置も期待されてきている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光リソグラフィー装置の光学系に使用できた光透過性の
高い光学レンズであっても、２００ｎｍ以下の、より波
長の短い真空紫外光を光源とすると、光リソグラフィー
装置として実用的な光透過性を維持し続けることができ
なかった。このため、真空紫外光を光源とした光リソグ
ラフィー装置が実現できないという課題があった。
光リソグラフィー装置の光学系に使用できた光透過性の
高い光学レンズであっても、２００ｎｍ以下の、より波
長の短い真空紫外光を光源とすると、光リソグラフィー
装置として実用的な光透過性を維持し続けることができ
なかった。このため、真空紫外光を光源とした光リソグ
ラフィー装置が実現できないという課題があった。
【０００６】本発明は、この問題を解決し、真空紫外光
を光源とした光リソグラフィー装置に有用な光透過性光
学部材を提供することを目的とする。
を光源とした光リソグラフィー装置に有用な光透過性光
学部材を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】２００ｎｍ以下の真空紫
外光を光源とした光リソグラフィー装置に要求される条
件は、光学レンズの光透過性に優れていること、つま
り、光リソグラフィー装置として実用的な光透過性を維
持することが不可欠である。前記真空紫外光は6.2eV以
上の高いエネルギーを有する。そのため、光学レンズが
露光する光における光透過性が劣っていると、レジスト
を露光する光量が不足する他にも光学レンズが熱膨張す
ることによりウエハ上での結像性能が悪化する原因にな
る。
外光を光源とした光リソグラフィー装置に要求される条
件は、光学レンズの光透過性に優れていること、つま
り、光リソグラフィー装置として実用的な光透過性を維
持することが不可欠である。前記真空紫外光は6.2eV以
上の高いエネルギーを有する。そのため、光学レンズが
露光する光における光透過性が劣っていると、レジスト
を露光する光量が不足する他にも光学レンズが熱膨張す
ることによりウエハ上での結像性能が悪化する原因にな
る。
【０００８】このための光学材料には、短波長側吸収端
（カットオフ波長）の小さな、フッ化物光学結晶材料を
使用できるのではないかとの推定ができる。たとえば、
フッ化リチウム結晶（ＬｉＦ）、フッ化マグネシウム結
晶（ＭｇＦ2）、フッ化カルシウム結晶（ＣａＦ2）など
である。しかしながら、フッ化リチウム結晶には著しい
潮解性があるため、光学レンズとしては実用的でない。
また、フッ化マグネシウム結晶は光学的異方性により複
屈折現象を示すことが知られている。このため、レンズ
などの光学部品には不適当である。
（カットオフ波長）の小さな、フッ化物光学結晶材料を
使用できるのではないかとの推定ができる。たとえば、
フッ化リチウム結晶（ＬｉＦ）、フッ化マグネシウム結
晶（ＭｇＦ2）、フッ化カルシウム結晶（ＣａＦ2）など
である。しかしながら、フッ化リチウム結晶には著しい
潮解性があるため、光学レンズとしては実用的でない。
また、フッ化マグネシウム結晶は光学的異方性により複
屈折現象を示すことが知られている。このため、レンズ
などの光学部品には不適当である。
【０００９】一方、フッ化カルシウム結晶はカットオフ
波長が１２４ｎｍであり、このような著しい潮解性、光
学的異方性がなく、真空紫外光を良く透過するため、上
記真空紫外光を光源とした光リソグラフィー装置の光学
材料としての使用が期待される。したがって、本発明者
は特に、真空紫外光に対する光透過性が光リソグラフィ
ー装置として使用可能なレベルで維持できるようにする
ことを観点として、検討を行った。すなわち、光学材料
に真空紫外光を透過させる（照射する）前の光透過性
と、透過（照射）により劣化した光透過性の両方の光透
過性、つまり光透過耐久性が必要となる。特に、光照射
前の透過率と、光照射後の透過率との差、すなわち透過
率低下量が小さい材料が、光リソグラフィー用光学部材
として優れていることを見いだした。
波長が１２４ｎｍであり、このような著しい潮解性、光
学的異方性がなく、真空紫外光を良く透過するため、上
記真空紫外光を光源とした光リソグラフィー装置の光学
材料としての使用が期待される。したがって、本発明者
は特に、真空紫外光に対する光透過性が光リソグラフィ
ー装置として使用可能なレベルで維持できるようにする
ことを観点として、検討を行った。すなわち、光学材料
に真空紫外光を透過させる（照射する）前の光透過性
と、透過（照射）により劣化した光透過性の両方の光透
過性、つまり光透過耐久性が必要となる。特に、光照射
前の透過率と、光照射後の透過率との差、すなわち透過
率低下量が小さい材料が、光リソグラフィー用光学部材
として優れていることを見いだした。
【００１０】そこで本発明は、光透過性光学部材の評価
方法、すなわち「光透過性光学部材の光照射前の透過率
を測定する第１の透過率測定工程と、前記２００ｎｍ以
下の特定波長か該波長よりも短い波長の光を、光透過性
光学部材の透過率変化がなくなるのに充分な時間、照射
する光照射工程と、前記透過率変化がなくなったときの
透過率を測定する第２の透過率測定工程と、第１の透過
率と第２の透過率との差すなわち透過率低下量を求め、
該透過率低下量が光透過性光学部材として使用可能な値
であるかを判定する光学部材の評価工程」とからなる評
価方法を提供する。
方法、すなわち「光透過性光学部材の光照射前の透過率
を測定する第１の透過率測定工程と、前記２００ｎｍ以
下の特定波長か該波長よりも短い波長の光を、光透過性
光学部材の透過率変化がなくなるのに充分な時間、照射
する光照射工程と、前記透過率変化がなくなったときの
透過率を測定する第２の透過率測定工程と、第１の透過
率と第２の透過率との差すなわち透過率低下量を求め、
該透過率低下量が光透過性光学部材として使用可能な値
であるかを判定する光学部材の評価工程」とからなる評
価方法を提供する。
【００１１】さらに本発明者は、２００ｎｍ以下の真空
紫外光の波長域において光透過耐久性を支配する要因を
実験的に検討した。光透過性の劣化はフッ化カルシウム
結晶に含まれる不純物に起因する点欠陥が原因であると
考えられるため、結晶の製造過程に特定不純物を添加す
る成長実験を行って検証した。この結果、真空紫外光を
照射した際の透過率の低下は、フッ化カルシウム結晶に
含まれる極微量な不純物のうち、カリウム成分によって
引き起こされることを突き止めた。
紫外光の波長域において光透過耐久性を支配する要因を
実験的に検討した。光透過性の劣化はフッ化カルシウム
結晶に含まれる不純物に起因する点欠陥が原因であると
考えられるため、結晶の製造過程に特定不純物を添加す
る成長実験を行って検証した。この結果、真空紫外光を
照射した際の透過率の低下は、フッ化カルシウム結晶に
含まれる極微量な不純物のうち、カリウム成分によって
引き起こされることを突き止めた。
【００１２】そこで本発明は、２００ｎｍ以下の特定波
長の光を透過する光透過性光学部材であって、前記光学
部材は主にカリウム含有量が０．５ｐｐｍ以下のフッ化
カルシウム結晶からなり、２００ｎｍ以下の特定波長の
光を一定時間照射したときの照射前後の透過率の差が５
％以下であることを特徴とする光透過性光学部材を提供
する。
長の光を透過する光透過性光学部材であって、前記光学
部材は主にカリウム含有量が０．５ｐｐｍ以下のフッ化
カルシウム結晶からなり、２００ｎｍ以下の特定波長の
光を一定時間照射したときの照射前後の透過率の差が５
％以下であることを特徴とする光透過性光学部材を提供
する。
【００１３】また、本発明者は、カリウム含有量が少な
く、光透過耐久性に優れた光学部材を製造する方法とし
て、「フッ化カルシウム原料を結晶育成用のるつぼ内で
溶融した後、徐々に冷却し結晶を育成させる結晶育成工
程と、該結晶成長して得られたフッ化カルシウム結晶を
高温に保持した後、徐々に冷却する熱処理工程と、を有
する光透過性光学部材の製造方法」において、(1)フッ
化カルシウム原料として、カリウム含有量の少ない原料
を使用すること、(2)原料に対して高温維持（加熱）処
理を実施すること、(3)結晶成長でカリウムを低減する
こと、以上の３つの手段が有効であることを見いだし
た。
く、光透過耐久性に優れた光学部材を製造する方法とし
て、「フッ化カルシウム原料を結晶育成用のるつぼ内で
溶融した後、徐々に冷却し結晶を育成させる結晶育成工
程と、該結晶成長して得られたフッ化カルシウム結晶を
高温に保持した後、徐々に冷却する熱処理工程と、を有
する光透過性光学部材の製造方法」において、(1)フッ
化カルシウム原料として、カリウム含有量の少ない原料
を使用すること、(2)原料に対して高温維持（加熱）処
理を実施すること、(3)結晶成長でカリウムを低減する
こと、以上の３つの手段が有効であることを見いだし
た。
【００１４】本発明の製造方法においては、これらの３
つの手段のいずれか１つを用いても効果的であり、これ
らを組み合わせることにより、さらに光透過耐久性に優
れた光学部材が提供される。上述したような本発明の光
学部材、あるいは本発明の製造方法により製造され、あ
るいは本発明の評価方法により評価された光学部材は、
光リソグラフィー装置に使用される光学部材として適し
ている。
つの手段のいずれか１つを用いても効果的であり、これ
らを組み合わせることにより、さらに光透過耐久性に優
れた光学部材が提供される。上述したような本発明の光
学部材、あるいは本発明の製造方法により製造され、あ
るいは本発明の評価方法により評価された光学部材は、
光リソグラフィー装置に使用される光学部材として適し
ている。
【００１５】そこで、本発明は、投影光学系を用いてマ
スクのパターン像を基板上に投影露光する光リソグラフ
ィー装置であって、２００ｎｍ以下の特定波長の光を露
光光としてマスクを照射する照明光学系と、前記マスク
のパターン像を基板上に形成する投影光学系と、を有す
る光リソグラフィー装置において、前記照明光学系及び
／または投影光学系に、カリウム含有量が０．５ｐｐｍ
以下のフッ化カルシウム結晶からなり前記特定波長の光
を一定時間照射したときの照射前後の透過率の差が５％
以下である光透過性光学部材を含む光リソグラフィー装
置を提供する。
スクのパターン像を基板上に投影露光する光リソグラフ
ィー装置であって、２００ｎｍ以下の特定波長の光を露
光光としてマスクを照射する照明光学系と、前記マスク
のパターン像を基板上に形成する投影光学系と、を有す
る光リソグラフィー装置において、前記照明光学系及び
／または投影光学系に、カリウム含有量が０．５ｐｐｍ
以下のフッ化カルシウム結晶からなり前記特定波長の光
を一定時間照射したときの照射前後の透過率の差が５％
以下である光透過性光学部材を含む光リソグラフィー装
置を提供する。
【００１６】
【発明の実施の形態】まず、本発明の光学部材の光透過
耐久性の評価方法について述べる。光透過耐久性は、光
学材料に真空紫外光リソグラフィー装置で実用的な光源
の光を、使用時のエネルギー密度、または使用時よりも
大きなエネルギー密度で照射し、照射前後の透過率を実
測して比較する評価方法（耐久テスト）で評価される。
耐久性の評価方法について述べる。光透過耐久性は、光
学材料に真空紫外光リソグラフィー装置で実用的な光源
の光を、使用時のエネルギー密度、または使用時よりも
大きなエネルギー密度で照射し、照射前後の透過率を実
測して比較する評価方法（耐久テスト）で評価される。
【００１７】評価を行う際、実用的な光源としてはＡｒ
Ｆレーザ光（１９３ｎｍ）、Ｘｅ2ランプ光（１７２ｎ
ｍ）、Ｆ2レーザ光（１５７ｎｍ）、Ｋｒ2ランプ光（１
４６ｎｍ）、あるいは固体レーザ光を挙げることができ
る。光リソグラフィー装置で使用される光源の波長に合
致させて、評価（耐久性テスト）にも同じ波長の光源を
選定すれば良い。また、比較的波長の短いＫｒ2ランプ
光を使用して評価を行っても良い。
Ｆレーザ光（１９３ｎｍ）、Ｘｅ2ランプ光（１７２ｎ
ｍ）、Ｆ2レーザ光（１５７ｎｍ）、Ｋｒ2ランプ光（１
４６ｎｍ）、あるいは固体レーザ光を挙げることができ
る。光リソグラフィー装置で使用される光源の波長に合
致させて、評価（耐久性テスト）にも同じ波長の光源を
選定すれば良い。また、比較的波長の短いＫｒ2ランプ
光を使用して評価を行っても良い。
【００１８】本発明の測定方法（耐久性テスト）では、
真空紫外光の光源として、このような光源を使用して検
討を進めたが、特にこれらの特定の光源に限定する必要
はない。さらに実際の光リソグラフィー装置に使用する
光源についても、これらの光源に限定する必要がないこ
とはいうまでもない。フッ化カルシウム結晶に２００ｎ
ｍ以下の真空紫外光を、一定のエネルギー密度で照射す
ると、透過率は徐々に低下し、その後一定値に収束す
る。本発明の評価方法においては、一定値に収束するま
での一定時間、光を照射する。この収束時間は、高いエ
ネルギー密度で照射する程短い傾向にあることから、一
般的には、照射時間は１時間程度で充分である。
真空紫外光の光源として、このような光源を使用して検
討を進めたが、特にこれらの特定の光源に限定する必要
はない。さらに実際の光リソグラフィー装置に使用する
光源についても、これらの光源に限定する必要がないこ
とはいうまでもない。フッ化カルシウム結晶に２００ｎ
ｍ以下の真空紫外光を、一定のエネルギー密度で照射す
ると、透過率は徐々に低下し、その後一定値に収束す
る。本発明の評価方法においては、一定値に収束するま
での一定時間、光を照射する。この収束時間は、高いエ
ネルギー密度で照射する程短い傾向にあることから、一
般的には、照射時間は１時間程度で充分である。
【００１９】また、照射前後の透過率を測定する試料
は、単結晶であろうと多結晶であろうと結晶性の品質に
よらずにフッ化カルシウム結晶を厚さが０．３ｃｍ〜５
ｃｍ程度となるように機械的に加工して、平行２面に鏡
面研磨を施した成形品とするのが好ましい。さらに、こ
の試料に湿式洗浄処理を行うことによって、精密に透過
率を測定するのに必要な表面清浄性が確保されるので好
ましい。
は、単結晶であろうと多結晶であろうと結晶性の品質に
よらずにフッ化カルシウム結晶を厚さが０．３ｃｍ〜５
ｃｍ程度となるように機械的に加工して、平行２面に鏡
面研磨を施した成形品とするのが好ましい。さらに、こ
の試料に湿式洗浄処理を行うことによって、精密に透過
率を測定するのに必要な表面清浄性が確保されるので好
ましい。
【００２０】本発明の評価方法においては、はじめに前
記試料の真空紫外光を照射する前の分光透過率を測定す
る。これを第１の透過率とする。次に、この試料に所望
のエネルギー密度の真空紫外光を照射し、透過率低下が
一定値に収束した後、照射した部分、つまり照射光が透
過した部分の分光透過率を測定し、これを第２の透過率
とする。
記試料の真空紫外光を照射する前の分光透過率を測定す
る。これを第１の透過率とする。次に、この試料に所望
のエネルギー密度の真空紫外光を照射し、透過率低下が
一定値に収束した後、照射した部分、つまり照射光が透
過した部分の分光透過率を測定し、これを第２の透過率
とする。
【００２１】耐久性の評価は、照射前後の透過率（第１
の透過率及び第２の透過率）を比較して、透過率低下が
小さければ「光透過耐久性が良好である」あるいは「光
透過耐久性が優れている」という。逆に、照射前後の透
過率を比較して透過率低下が大きければ「光透過耐久性
が劣っている」という。これらの指標は定量的な表現も
可能であって、照射前後の透過率の差をとれば良い。
の透過率及び第２の透過率）を比較して、透過率低下が
小さければ「光透過耐久性が良好である」あるいは「光
透過耐久性が優れている」という。逆に、照射前後の透
過率を比較して透過率低下が大きければ「光透過耐久性
が劣っている」という。これらの指標は定量的な表現も
可能であって、照射前後の透過率の差をとれば良い。
【００２２】以上のように透過率の評価を複数の試料に
対して行い、光透過耐久性に関する検討を進めた結果、
照射前の透過率が優れていたにもかかわらず、多くの試
料で照射後の透過率が低下してしまうことを明らかにし
た。このことから、真空紫外光を照射する前は高い透過
率を有したフッ化カルシウム結晶であっても、真空紫外
光を照射すると、光透過性が劣化してしまうこと、従来
の照射前の透過率が良好なだけのフッ化カルシウム結晶
では真空紫外光リソグラフィー装置における光学レンズ
としては光透過耐久性が不充分であることがわかった。
対して行い、光透過耐久性に関する検討を進めた結果、
照射前の透過率が優れていたにもかかわらず、多くの試
料で照射後の透過率が低下してしまうことを明らかにし
た。このことから、真空紫外光を照射する前は高い透過
率を有したフッ化カルシウム結晶であっても、真空紫外
光を照射すると、光透過性が劣化してしまうこと、従来
の照射前の透過率が良好なだけのフッ化カルシウム結晶
では真空紫外光リソグラフィー装置における光学レンズ
としては光透過耐久性が不充分であることがわかった。
【００２３】本発明者は、真空紫外光を照射する前の透
過率が良好であれば真空紫外光を照射した後の透過率も
良好であると考えられがちであるが、必ずしも相関がな
いことを明らかにした。そこで、本発明の光学部材は、
透過率低下量が５％以下であることを特徴とする。すな
わち本発明者は、透過率低下量が５％以下であれば、光
学部材の光透過耐久性が良好であるため、真空紫外光リ
ソグラフィー装置に使用可能であることを見いだした。
過率が良好であれば真空紫外光を照射した後の透過率も
良好であると考えられがちであるが、必ずしも相関がな
いことを明らかにした。そこで、本発明の光学部材は、
透過率低下量が５％以下であることを特徴とする。すな
わち本発明者は、透過率低下量が５％以下であれば、光
学部材の光透過耐久性が良好であるため、真空紫外光リ
ソグラフィー装置に使用可能であることを見いだした。
【００２４】次に、２００ｎｍ以下の真空紫外光の波長
域において光透過耐久性を支配する要因を実験的に検討
した。光透過性の劣化はフッ化カルシウム結晶に含まれ
る不純物に起因する点欠陥が原因であると考えられるた
め、結晶の製造過程に特定不純物を添加する成長実験を
行って検証した。この結果、真空紫外光を照射した際の
透過率の低下は、フッ化カルシウム結晶に含まれる極微
量な不純物のうち、カリウム成分によって引き起こされ
ることを突き止めた。
域において光透過耐久性を支配する要因を実験的に検討
した。光透過性の劣化はフッ化カルシウム結晶に含まれ
る不純物に起因する点欠陥が原因であると考えられるた
め、結晶の製造過程に特定不純物を添加する成長実験を
行って検証した。この結果、真空紫外光を照射した際の
透過率の低下は、フッ化カルシウム結晶に含まれる極微
量な不純物のうち、カリウム成分によって引き起こされ
ることを突き止めた。
【００２５】図１に含まれるカリウム成分が０．３ｐｐ
ｍのフッ化カルシウム結晶の照射前後の多重反射含みの
透過率曲線を、図２に含まれるカリウム成分が１．６ｐ
ｐｍのフッ化カルシウム結晶の照射前後の多重反射含み
の透過率曲線を示す。これらの測定結果から照射前の透
過率が等しく高いフッ化カルシウム結晶であっても結晶
のカリウム成分の含有量により光透過耐久性が異なるこ
とは明らかである。
ｍのフッ化カルシウム結晶の照射前後の多重反射含みの
透過率曲線を、図２に含まれるカリウム成分が１．６ｐ
ｐｍのフッ化カルシウム結晶の照射前後の多重反射含み
の透過率曲線を示す。これらの測定結果から照射前の透
過率が等しく高いフッ化カルシウム結晶であっても結晶
のカリウム成分の含有量により光透過耐久性が異なるこ
とは明らかである。
【００２６】次に含有するカリウム成分の異なるフッ化
カルシウム結晶から作製した試料に対して、耐久性テス
トを実施した。この結果、真空紫外光に対するフッ化カ
ルシウム結晶の光透過耐久性を向上させるためには、フ
ッ化カルシウム結晶に含有するカリウム成分を低減する
ことが良いといえる。フッ化カルシウム結晶中のカリウ
ム成分を低減する方法としては、(1)カリウム低減原料
を使用すること、(2)原料に対して高温維持処理（加熱
処理）を実施すること、(3)結晶成長でカリウムを低減
すること、が有効である。フッ化カルシウム結晶中のカ
リウム成分を低減する方法としては、これらの方法をす
べて実施することが望ましいが、このうちひとつの方
法、または２つ以上の方法を選択して実施しても良い。
カルシウム結晶から作製した試料に対して、耐久性テス
トを実施した。この結果、真空紫外光に対するフッ化カ
ルシウム結晶の光透過耐久性を向上させるためには、フ
ッ化カルシウム結晶に含有するカリウム成分を低減する
ことが良いといえる。フッ化カルシウム結晶中のカリウ
ム成分を低減する方法としては、(1)カリウム低減原料
を使用すること、(2)原料に対して高温維持処理（加熱
処理）を実施すること、(3)結晶成長でカリウムを低減
すること、が有効である。フッ化カルシウム結晶中のカ
リウム成分を低減する方法としては、これらの方法をす
べて実施することが望ましいが、このうちひとつの方
法、または２つ以上の方法を選択して実施しても良い。
【００２７】カリウム低減原料を使用する方法について
述べる。成長後の結晶の光学的特性を向上させるには、
高純度な原料から出発することが望ましい。ただし、単
にフッ化カルシウムの純度を９９％から９９．９％、９
９．９９％などのように向上させた表記の原料を使用す
るだけでは不充分である。真空紫外光に対する光透過耐
久性に優れたフッ化カルシウム結晶を実現するには、特
定成分であるカリウム成分に着目して高純度化した原料
を用いることが良い。つまり、フッ化カルシウム原料中
に含有するカリウム濃度が小さな方が良く、望ましくは
０．５ｐｐｍ程度以下が良い。粉末原料中のカリウム濃
度は、原子吸光分析法により、定量を実施した。
述べる。成長後の結晶の光学的特性を向上させるには、
高純度な原料から出発することが望ましい。ただし、単
にフッ化カルシウムの純度を９９％から９９．９％、９
９．９９％などのように向上させた表記の原料を使用す
るだけでは不充分である。真空紫外光に対する光透過耐
久性に優れたフッ化カルシウム結晶を実現するには、特
定成分であるカリウム成分に着目して高純度化した原料
を用いることが良い。つまり、フッ化カルシウム原料中
に含有するカリウム濃度が小さな方が良く、望ましくは
０．５ｐｐｍ程度以下が良い。粉末原料中のカリウム濃
度は、原子吸光分析法により、定量を実施した。
【００２８】原料に対して高温維持処理を実施する方法
について述べる。フッ化カルシウム原料を、真空雰囲気
中において、いったん温度を上げ、望ましくは融点以下
のできるだけ高い温度に維持すると良い。高温維持処理
の温度は８００℃〜１３００℃の範囲で任意に設定可能
である。粉末状態のフッ化カルシウムについては比較的
低い温度である１０００℃程度でも良い。粉砕状態のカ
レットや、大きな塊では融点以下のできるだけ高温が望
ましく１３００℃程度が良い。高温維持処理の温度が８
００℃以上であればカリウムの除去が充分に行われるの
で好ましく、また１３００℃以下であれば原料が溶融さ
れてカリウムが残存してしまうことがないので好まし
い。
について述べる。フッ化カルシウム原料を、真空雰囲気
中において、いったん温度を上げ、望ましくは融点以下
のできるだけ高い温度に維持すると良い。高温維持処理
の温度は８００℃〜１３００℃の範囲で任意に設定可能
である。粉末状態のフッ化カルシウムについては比較的
低い温度である１０００℃程度でも良い。粉砕状態のカ
レットや、大きな塊では融点以下のできるだけ高温が望
ましく１３００℃程度が良い。高温維持処理の温度が８
００℃以上であればカリウムの除去が充分に行われるの
で好ましく、また１３００℃以下であれば原料が溶融さ
れてカリウムが残存してしまうことがないので好まし
い。
【００２９】また、高温維持処理の維持時間は１時間程
度であれば効果があり、さらに長時間の処理を行っても
効果があることはいうまでもない。特に粉砕状態のカレ
ットや、大きな塊では比較的長い維持時間、たとえば１
０時間程度以上であることが好ましい。この処理によ
り、フッ化カルシウム原料中のカリウム成分が除去され
る。
度であれば効果があり、さらに長時間の処理を行っても
効果があることはいうまでもない。特に粉砕状態のカレ
ットや、大きな塊では比較的長い維持時間、たとえば１
０時間程度以上であることが好ましい。この処理によ
り、フッ化カルシウム原料中のカリウム成分が除去され
る。
【００３０】結晶成長でカリウムを低減する方法につい
て述べる。結晶成長の方法には、融液から固化させる方
法をとることが良い。この際、固液界面付近の温度勾配
は８℃／ｃｍ程度以上の大きな値を設定すると良い。こ
のように温度勾配が大きな設定であれば、フッ化カルシ
ウム融液が固化する際（結晶化）に、フッ化カルシウム
結晶中に取り込まれるカリウム成分の量が非常に少なく
なる。逆に、温度勾配が８℃／ｃｍ程度より小さいと、
融液中に存在したカリウム成分がフッ化カルシウム結晶
中に取り込まれてしまうのである。温度勾配は８℃／ｃ
ｍよりも大きい方が好ましいが、、装置の構成が複雑に
なったり、装置の価格が大きくなることなどを考慮する
と、適正な温度勾配の範囲は８〜２０℃／ｃｍ程度であ
る。
て述べる。結晶成長の方法には、融液から固化させる方
法をとることが良い。この際、固液界面付近の温度勾配
は８℃／ｃｍ程度以上の大きな値を設定すると良い。こ
のように温度勾配が大きな設定であれば、フッ化カルシ
ウム融液が固化する際（結晶化）に、フッ化カルシウム
結晶中に取り込まれるカリウム成分の量が非常に少なく
なる。逆に、温度勾配が８℃／ｃｍ程度より小さいと、
融液中に存在したカリウム成分がフッ化カルシウム結晶
中に取り込まれてしまうのである。温度勾配は８℃／ｃ
ｍよりも大きい方が好ましいが、、装置の構成が複雑に
なったり、装置の価格が大きくなることなどを考慮する
と、適正な温度勾配の範囲は８〜２０℃／ｃｍ程度であ
る。
【００３１】このように、カリウム成分の量は、結晶成
長の際の温度勾配により低減できるが、より好ましくは
原料のカリウム成分の量を少なくする。また、真空紫外
光リソグラフィー装置を実現する上で、カリウム含有量
により、使用する光学系を選択することは有効である。
すなわち、リソグラフィー装置の光学レンズにフッ化カ
ルシウム結晶を使用する場合には、カリウム含有量と、
真空紫外光の強度（密度）とを考慮すると良い。真空紫
外光の強度は、光学レンズの口径に関連している。つま
り光学レンズの口径が小さいと、真空紫外光は狭い範囲
に集光されることになるため、よりカリウム濃度が小さ
いことが必要である。光学レンズの口径が大きいと、真
空紫外光は狭い範囲に集光されることはないため、カリ
ウム濃度はそれほど小さくなくて済むのである。
長の際の温度勾配により低減できるが、より好ましくは
原料のカリウム成分の量を少なくする。また、真空紫外
光リソグラフィー装置を実現する上で、カリウム含有量
により、使用する光学系を選択することは有効である。
すなわち、リソグラフィー装置の光学レンズにフッ化カ
ルシウム結晶を使用する場合には、カリウム含有量と、
真空紫外光の強度（密度）とを考慮すると良い。真空紫
外光の強度は、光学レンズの口径に関連している。つま
り光学レンズの口径が小さいと、真空紫外光は狭い範囲
に集光されることになるため、よりカリウム濃度が小さ
いことが必要である。光学レンズの口径が大きいと、真
空紫外光は狭い範囲に集光されることはないため、カリ
ウム濃度はそれほど小さくなくて済むのである。
【００３２】以下に、本発明の光リソグラフィー装置の
一例を示す。図４に、光リソグラフィ装置の基本構成を
示す。この装置には、表面３ａに感光剤を塗布した基板
（ウエハ）Ｗを置くことの可能なステージ３０、露光光
として用意された２００ｎｍ以下の特定波長の光、例え
ばＡｒＦエキシマレーザ光を集積回路パターンが描かれ
ているマスク（レチクル）Ｒに均一に照射するための照
明光学系１０、照明光学系１０に露光光を供給するため
の光源１００、基板Ｗ上にマスクＲのパターンを縮小投
影するためにマスクＲが配された最初の表面Ｐ１（物体
面）と基板Ｗの表面と一致させた２番目の表面Ｐ２（像
面）との間に設置された投影光学系５０、を含んでい
る。照明光学系１０は、マスクＲと基板Ｗとの間の相対
位置を調節するためのアライメント光学系１１０も含ん
でおり、マスクＲはウエハステージ３０の表面に対して
平行に動くことができるレチクルステージ２０に配置さ
れる。レチクル交換系２００は、レチクルステージ２０
にセットされたレチクルＲを交換、運搬する。レチクル
交換系２００はウエハステージ３０の表面３ａに対して
レチクルステージを平行に動かすためのステージドライ
バーを含んでいる。投影光学系５０は、スキャンタイプ
の装置に応用されるアライメント光学系を持っている。
一例を示す。図４に、光リソグラフィ装置の基本構成を
示す。この装置には、表面３ａに感光剤を塗布した基板
（ウエハ）Ｗを置くことの可能なステージ３０、露光光
として用意された２００ｎｍ以下の特定波長の光、例え
ばＡｒＦエキシマレーザ光を集積回路パターンが描かれ
ているマスク（レチクル）Ｒに均一に照射するための照
明光学系１０、照明光学系１０に露光光を供給するため
の光源１００、基板Ｗ上にマスクＲのパターンを縮小投
影するためにマスクＲが配された最初の表面Ｐ１（物体
面）と基板Ｗの表面と一致させた２番目の表面Ｐ２（像
面）との間に設置された投影光学系５０、を含んでい
る。照明光学系１０は、マスクＲと基板Ｗとの間の相対
位置を調節するためのアライメント光学系１１０も含ん
でおり、マスクＲはウエハステージ３０の表面に対して
平行に動くことができるレチクルステージ２０に配置さ
れる。レチクル交換系２００は、レチクルステージ２０
にセットされたレチクルＲを交換、運搬する。レチクル
交換系２００はウエハステージ３０の表面３ａに対して
レチクルステージを平行に動かすためのステージドライ
バーを含んでいる。投影光学系５０は、スキャンタイプ
の装置に応用されるアライメント光学系を持っている。
【００３３】本発明の光リソグラフィー装置としては、
マスクと基板とを同期移動してマスクのパターンを露光
する走査型の露光装置に適用可能であるほか、マスクと
基板とを静止した状態でマスクのパターンを露光し、基
板を順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピー
ト型の露光装置にも適用可能である。本発明の光リソグ
ラフィー装置に用いられる光源としては、２００ｎｍ以
下の真空紫外域の光であって、例えばＡｒＦ（１９３ｎ
ｍ）エキシマレーザ、Ｆ2（１５７ｎｍ）レーザなどが
用いられる。
マスクと基板とを同期移動してマスクのパターンを露光
する走査型の露光装置に適用可能であるほか、マスクと
基板とを静止した状態でマスクのパターンを露光し、基
板を順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピー
ト型の露光装置にも適用可能である。本発明の光リソグ
ラフィー装置に用いられる光源としては、２００ｎｍ以
下の真空紫外域の光であって、例えばＡｒＦ（１９３ｎ
ｍ）エキシマレーザ、Ｆ2（１５７ｎｍ）レーザなどが
用いられる。
【００３４】本発明の光リソグラフィー装置は、上記照
明光学系１０及び／または投影光学系５０として、カリ
ウム含有量が０．５ｐｐｍ以下のフッ化カルシウム結晶
からなり、２００ｎｍ以下の特定波長の光を一定時間照
射したときの照射前後の透過率の差が５％以下である光
学部材が用いられる。このような光学部材は、特に照明
光学系に用いることが効果的である。これは、照明光学
系が光源に近く、しかも光束幅の比較的狭い光がレンズ
に照射されることによって各レンズ部材に照射される光
のエネルギー密度が高くなり、より高い光透過耐久性が
要求されるという理由による。
明光学系１０及び／または投影光学系５０として、カリ
ウム含有量が０．５ｐｐｍ以下のフッ化カルシウム結晶
からなり、２００ｎｍ以下の特定波長の光を一定時間照
射したときの照射前後の透過率の差が５％以下である光
学部材が用いられる。このような光学部材は、特に照明
光学系に用いることが効果的である。これは、照明光学
系が光源に近く、しかも光束幅の比較的狭い光がレンズ
に照射されることによって各レンズ部材に照射される光
のエネルギー密度が高くなり、より高い光透過耐久性が
要求されるという理由による。
【００３５】さらに好ましくは、含有カリウム濃度が
０．１ｐｐｍ以下のフッ化カルシウム結晶は光透過耐久
性に非常に優れているため、レンズ口径が１００ｍｍま
での光学レンズに限定して使用する。これは、真空紫外
光が集光されて、エネルギー密度が大きくなり、より強
い真空紫外光が照射されるためである。なお、このフッ
化カルシウム結晶はレンズ口径によらず、どんな口径の
光学レンズにも使用可能であることはいうまでもない。
０．１ｐｐｍ以下のフッ化カルシウム結晶は光透過耐久
性に非常に優れているため、レンズ口径が１００ｍｍま
での光学レンズに限定して使用する。これは、真空紫外
光が集光されて、エネルギー密度が大きくなり、より強
い真空紫外光が照射されるためである。なお、このフッ
化カルシウム結晶はレンズ口径によらず、どんな口径の
光学レンズにも使用可能であることはいうまでもない。
【００３６】含有カリウム濃度が０．５ｐｐｍまでのフ
ッ化カルシウム結晶は、レンズ口径が１００ｍｍ以上、
好ましくはレンズ口径が２００ｍｍ以上の比較的大きな
光学レンズに使用すると良い。なお、含有カリウム濃度
が０．５ｐｐｍまでのフッ化カルシウム結晶は、光透過
耐久性に優れているため、レンズ口径によらず、やはり
どんな口径の光学レンズにも使用可能であることはいう
までもない。
ッ化カルシウム結晶は、レンズ口径が１００ｍｍ以上、
好ましくはレンズ口径が２００ｍｍ以上の比較的大きな
光学レンズに使用すると良い。なお、含有カリウム濃度
が０．５ｐｐｍまでのフッ化カルシウム結晶は、光透過
耐久性に優れているため、レンズ口径によらず、やはり
どんな口径の光学レンズにも使用可能であることはいう
までもない。
【００３７】含有カリウム濃度が０．５ｐｐｍより大き
なフッ化カルシウム結晶は、真空紫外光の光透過耐久性
に劣るため、実用的なレベルの光強度を有する光リソグ
ラフィー装置の光学レンズとしては使用することはでき
ない。本発明の光リソグラフィー装置は、上述のように
光透過耐久性に優れたフッ化カルシウム結晶を光学部材
として用いることにより、従来の光リソグラフィー装置
と比較してより短い波長の光を使用することが可能とな
った。
なフッ化カルシウム結晶は、真空紫外光の光透過耐久性
に劣るため、実用的なレベルの光強度を有する光リソグ
ラフィー装置の光学レンズとしては使用することはでき
ない。本発明の光リソグラフィー装置は、上述のように
光透過耐久性に優れたフッ化カルシウム結晶を光学部材
として用いることにより、従来の光リソグラフィー装置
と比較してより短い波長の光を使用することが可能とな
った。
【００３８】以下に、実施例を用いて本発明を詳細に説
明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００３９】
【実施例】[比較例１]フッ化カルシウム結晶を製造する
にあたって原料には、含有カリウム濃度が１．８ｐｐｍ
であるフッ化カルシウム粉末を使用した。粉末原料中の
カリウム濃度は、原子吸光分析で定量を実施した。
にあたって原料には、含有カリウム濃度が１．８ｐｐｍ
であるフッ化カルシウム粉末を使用した。粉末原料中の
カリウム濃度は、原子吸光分析で定量を実施した。
【００４０】この粉末原料に対しては高温維持処理を実
施しなかった。結晶成長の方法には、垂直ブリッジマン
法を用いた。固液界面における温度勾配を可変可能にす
るため、加熱手段には、異なる温度が設定および制御可
能な、上下２回路の独立した発熱体を用いた。それぞれ
の発熱体の温度は、放射温度計により計測可能である。
これら温度計により計測される発熱体の計測位置の間隔
は１０ｃｍである。したがって、たとえば上下の発熱体
の温度差を５０℃とすれば、温度勾配は５℃／ｃｍであ
るということになる。粉末原料を充填し、真空排気し
た。精密な温度制御で温度を上昇させ、いったん融解し
た。温度勾配は５℃／ｃｍとした。この後、高温帯から
低温帯に、１時間あたり１ｍｍで引下げることにより結
晶化させた。
施しなかった。結晶成長の方法には、垂直ブリッジマン
法を用いた。固液界面における温度勾配を可変可能にす
るため、加熱手段には、異なる温度が設定および制御可
能な、上下２回路の独立した発熱体を用いた。それぞれ
の発熱体の温度は、放射温度計により計測可能である。
これら温度計により計測される発熱体の計測位置の間隔
は１０ｃｍである。したがって、たとえば上下の発熱体
の温度差を５０℃とすれば、温度勾配は５℃／ｃｍであ
るということになる。粉末原料を充填し、真空排気し
た。精密な温度制御で温度を上昇させ、いったん融解し
た。温度勾配は５℃／ｃｍとした。この後、高温帯から
低温帯に、１時間あたり１ｍｍで引下げることにより結
晶化させた。
【００４１】こうして得られたフッ化カルシウム結晶か
ら、耐久性テストの試料を作製した。試料は直径５．０
８ｃｍ（２インチ）、厚さ２．５４ｃｍ（１インチ）と
した。厚さの加工精度は±０．０１ｃｍであった。また
平行２面の平行度は３０秒以内であった。さらに、鏡面
研磨は表面粗さＲＭＳ表示で５以下であった。鏡面研磨
を施した試料の表面処理には、有機溶剤による超音波洗
浄と純水によるすすぎ、さらにイソプロピルアルコール
蒸気による乾燥、による表面洗浄処理を実施した。
ら、耐久性テストの試料を作製した。試料は直径５．０
８ｃｍ（２インチ）、厚さ２．５４ｃｍ（１インチ）と
した。厚さの加工精度は±０．０１ｃｍであった。また
平行２面の平行度は３０秒以内であった。さらに、鏡面
研磨は表面粗さＲＭＳ表示で５以下であった。鏡面研磨
を施した試料の表面処理には、有機溶剤による超音波洗
浄と純水によるすすぎ、さらにイソプロピルアルコール
蒸気による乾燥、による表面洗浄処理を実施した。
【００４２】この試料の１４０ｎｍ〜２００ｎｍにおけ
る分光透過率を測定した。耐久性テストの光源には中心
波長１４６ｎｍの真空紫外光を用いた。照射装置はヘッ
ドオン型バリア放電ランプである。このランプより照射
される真空紫外光の照射強度は１５ｍＷ／ｃｍ2であ
る。耐久性テストの際には、酸素による吸収を防ぐた
め、真空紫外光の光路はすべて窒素パージした。試料
に、真空紫外光を１時間照射した後、再度１４０ｎｍ〜
２００ｎｍにおける分光透過率を測定した。真空紫外光
を照射する前後の分光透過率（多重反射含み）を図２に
示した。真空紫外光を照射する前の透過率は優れている
にもかかわらず、真空紫外光を照射すると大きな透過率
低下を起こすことがわかる。この試料に含有するカリウ
ム成分の濃度を原子吸光分析で定量したところ１．６ｐ
ｐｍであった。 [実施例１]フッ化カルシウム結晶を製造するにあたって
原料には、含有カリウム濃度が０．５ｐｐｍであるフッ
化カルシウム粉末を使用した。粉末原料中のカリウム濃
度は、原子吸光分析で定量を実施した。
る分光透過率を測定した。耐久性テストの光源には中心
波長１４６ｎｍの真空紫外光を用いた。照射装置はヘッ
ドオン型バリア放電ランプである。このランプより照射
される真空紫外光の照射強度は１５ｍＷ／ｃｍ2であ
る。耐久性テストの際には、酸素による吸収を防ぐた
め、真空紫外光の光路はすべて窒素パージした。試料
に、真空紫外光を１時間照射した後、再度１４０ｎｍ〜
２００ｎｍにおける分光透過率を測定した。真空紫外光
を照射する前後の分光透過率（多重反射含み）を図２に
示した。真空紫外光を照射する前の透過率は優れている
にもかかわらず、真空紫外光を照射すると大きな透過率
低下を起こすことがわかる。この試料に含有するカリウ
ム成分の濃度を原子吸光分析で定量したところ１．６ｐ
ｐｍであった。 [実施例１]フッ化カルシウム結晶を製造するにあたって
原料には、含有カリウム濃度が０．５ｐｐｍであるフッ
化カルシウム粉末を使用した。粉末原料中のカリウム濃
度は、原子吸光分析で定量を実施した。
【００４３】次にこの粉末原料に対して、高温維持処理
を実施した。高温維持処理を実施するには、以下の項目
を満たしていることが必要である。まず、真空排気装置
が必要である。到達真空度は高温維持処理中に０．００
１気圧以下であることが必要である。このため、油拡散
ポンプを使用した。次に、フッ化カルシウム粉末を収容
する容器が必要である。容器の材質には、当然のことな
がら、カリウム成分が含まれないこと、１３００℃程度
の高温状態でも劣化しないこと、フッ化カルシウムと化
学反応を起こさないこと、高温のフッ化カルシウムを固
着しないことが必要である。本発明では、グラファイト
カーボンからなる収容容器を使用した。また加熱手段も
必要である。グラファイトカーボンからなる発熱体を収
容容器の周囲に配置し、通電加熱することによりフッ化
カルシウム粉末を高温で維持した。この際、収容容器の
温度を熱電対により測定し、温度制御をしながら、昇
温、高温維持、降温のスケジュールを実施した。粉末原
料１０ｋｇを収容容器に収容し、高温維持処理装置内の
所定の位置に設置した。次に真空排気を開始して、１時
間後に真空度が０．００１気圧以下に到達したことを確
認した。１０００℃まで１時間で昇温し、３時間高温維
持した後、室温まで１０分間で降温した。粉末原料の温
度を室温付近まで低下させるため５時間経過させ、真空
排気を解除し、粉末原料を取り出した。
を実施した。高温維持処理を実施するには、以下の項目
を満たしていることが必要である。まず、真空排気装置
が必要である。到達真空度は高温維持処理中に０．００
１気圧以下であることが必要である。このため、油拡散
ポンプを使用した。次に、フッ化カルシウム粉末を収容
する容器が必要である。容器の材質には、当然のことな
がら、カリウム成分が含まれないこと、１３００℃程度
の高温状態でも劣化しないこと、フッ化カルシウムと化
学反応を起こさないこと、高温のフッ化カルシウムを固
着しないことが必要である。本発明では、グラファイト
カーボンからなる収容容器を使用した。また加熱手段も
必要である。グラファイトカーボンからなる発熱体を収
容容器の周囲に配置し、通電加熱することによりフッ化
カルシウム粉末を高温で維持した。この際、収容容器の
温度を熱電対により測定し、温度制御をしながら、昇
温、高温維持、降温のスケジュールを実施した。粉末原
料１０ｋｇを収容容器に収容し、高温維持処理装置内の
所定の位置に設置した。次に真空排気を開始して、１時
間後に真空度が０．００１気圧以下に到達したことを確
認した。１０００℃まで１時間で昇温し、３時間高温維
持した後、室温まで１０分間で降温した。粉末原料の温
度を室温付近まで低下させるため５時間経過させ、真空
排気を解除し、粉末原料を取り出した。
【００４４】結晶成長の方法には、垂直ブリッジマン法
を用いた。固液界面における温度勾配を可変可能にする
ため、加熱手段には、異なる温度が設定および制御可能
な、上下２回路の独立した発熱体を用いた。それぞれの
発熱体の温度は、放射温度計により計測可能である。こ
れら温度計により計測される発熱体の計測位置の間隔は
１０ｃｍである。したがって、たとえば上下の発熱体の
温度差を１００℃とすれば、温度勾配は１０℃／ｃｍで
あるということになる。ルツボに高温維持処理を実施し
た粉末原料を充填し、真空排気した。精密な温度制御で
温度を上昇させ、いったん融解した。上下の発熱体の温
度差は大きく設定することが望ましいため、温度勾配は
１０℃／ｃｍとした。この後、高温帯から低温帯に、１
時間あたり１ｍｍで引下げることにより結晶化させた。
を用いた。固液界面における温度勾配を可変可能にする
ため、加熱手段には、異なる温度が設定および制御可能
な、上下２回路の独立した発熱体を用いた。それぞれの
発熱体の温度は、放射温度計により計測可能である。こ
れら温度計により計測される発熱体の計測位置の間隔は
１０ｃｍである。したがって、たとえば上下の発熱体の
温度差を１００℃とすれば、温度勾配は１０℃／ｃｍで
あるということになる。ルツボに高温維持処理を実施し
た粉末原料を充填し、真空排気した。精密な温度制御で
温度を上昇させ、いったん融解した。上下の発熱体の温
度差は大きく設定することが望ましいため、温度勾配は
１０℃／ｃｍとした。この後、高温帯から低温帯に、１
時間あたり１ｍｍで引下げることにより結晶化させた。
【００４５】こうして得られたフッ化カルシウム結晶か
ら、耐久性テストの試料を作製した。試料は直径５．０
８ｃｍ（２インチ）、厚さ２．５４ｃｍ（１インチ）と
した。厚さの加工精度は±０．０１ｃｍであった。また
平行２面の平行度は３０秒以内であった。さらに、鏡面
研磨は表面粗さＲＭＳ表示で５以下であった。鏡面研磨
を施した試料の表面処理には、有機溶剤による超音波洗
浄と純水によるすすぎ、さらにイソプロピルアルコール
蒸気による乾燥、による表面洗浄処理を実施した。
ら、耐久性テストの試料を作製した。試料は直径５．０
８ｃｍ（２インチ）、厚さ２．５４ｃｍ（１インチ）と
した。厚さの加工精度は±０．０１ｃｍであった。また
平行２面の平行度は３０秒以内であった。さらに、鏡面
研磨は表面粗さＲＭＳ表示で５以下であった。鏡面研磨
を施した試料の表面処理には、有機溶剤による超音波洗
浄と純水によるすすぎ、さらにイソプロピルアルコール
蒸気による乾燥、による表面洗浄処理を実施した。
【００４６】この試料の１４０ｎｍ〜２００ｎｍにおけ
る分光透過率を測定した。耐久性テストの光源には中心
波長１４６ｎｍの真空紫外光を用いた。照射装置はウシ
オ電機（株）製のヘッドオン型バリア放電ランプであ
る。このランプより照射される真空紫外光の半値幅は１
３ｎｍ、照射強度は１５ｍＷ／ｃｍ2である。耐久性テ
ストの際には、酸素による吸収を防ぐため、真空紫外光
の光路はすべて窒素パージした。試料に、真空紫外光を
１時間照射した後、再度１４０ｎｍ〜２００ｎｍにおけ
る分光透過率を測定した。真空紫外光を照射する前後の
分光透過率（多重反射含み）を図１に示した。真空紫外
光を照射してもほとんど透過率低下は起こらないことが
わかる。この試料に含有するカリウム成分の濃度を原子
吸光分析で定量したところ０．３ｐｐｍと得られた。 [参考例１]参考までに、真空紫外光を照射した際の透過
率の低下がフッ化カルシウム結晶に含まれる微量なカリ
ウム成分による、ということをことを明らかにするため
に、カリウムを添加して成長実験を行った。
る分光透過率を測定した。耐久性テストの光源には中心
波長１４６ｎｍの真空紫外光を用いた。照射装置はウシ
オ電機（株）製のヘッドオン型バリア放電ランプであ
る。このランプより照射される真空紫外光の半値幅は１
３ｎｍ、照射強度は１５ｍＷ／ｃｍ2である。耐久性テ
ストの際には、酸素による吸収を防ぐため、真空紫外光
の光路はすべて窒素パージした。試料に、真空紫外光を
１時間照射した後、再度１４０ｎｍ〜２００ｎｍにおけ
る分光透過率を測定した。真空紫外光を照射する前後の
分光透過率（多重反射含み）を図１に示した。真空紫外
光を照射してもほとんど透過率低下は起こらないことが
わかる。この試料に含有するカリウム成分の濃度を原子
吸光分析で定量したところ０．３ｐｐｍと得られた。 [参考例１]参考までに、真空紫外光を照射した際の透過
率の低下がフッ化カルシウム結晶に含まれる微量なカリ
ウム成分による、ということをことを明らかにするため
に、カリウムを添加して成長実験を行った。
【００４７】フッ化カルシウム結晶を製造するにあたっ
て、原料には、含有カリウム濃度が０．５ｐｐｍである
フッ化カルシウム粉末を使用した。粉末原料中のカリウ
ム濃度は、原子吸光分析で定量を実施した。次にこの粉
末原料に対して、高温維持処理を実施した。粉末原料１
０ｋｇを収容容器に収容し、高温維持処理装置内の所定
の位置に設置した。次に真空排気を開始して、１時間後
に真空度が０．００１気圧以下に到達したことを確認し
た。１０００℃まで１時間で昇温し、３時間高温維持し
た後、室温まで１０分間で降温した。粉末原料の温度を
室温付近まで低下させるため５時間経過させ、真空排気
を解除し、粉末原料を取り出した。
て、原料には、含有カリウム濃度が０．５ｐｐｍである
フッ化カルシウム粉末を使用した。粉末原料中のカリウ
ム濃度は、原子吸光分析で定量を実施した。次にこの粉
末原料に対して、高温維持処理を実施した。粉末原料１
０ｋｇを収容容器に収容し、高温維持処理装置内の所定
の位置に設置した。次に真空排気を開始して、１時間後
に真空度が０．００１気圧以下に到達したことを確認し
た。１０００℃まで１時間で昇温し、３時間高温維持し
た後、室温まで１０分間で降温した。粉末原料の温度を
室温付近まで低下させるため５時間経過させ、真空排気
を解除し、粉末原料を取り出した。
【００４８】結晶成長の方法には、垂直ブリッジマン法
を用いた。ルツボに高温維持処理を実施した粉末原料を
充填し、さらにフッ化カリウム試薬を４ｇ添加した。真
空排気した後、精密な温度制御で温度を上昇させ、いっ
たん融解した。カリウム濃度を低減する目的であれば、
上下の発熱体の温度差は大きく設定することが望ましい
が、ここでは、添加したカリウム成分をフッ化カルシウ
ム結晶中に残留させるために温度勾配は８℃／ｃｍと小
さくした。この後、高温帯から低温帯に、１時間あたり
１ｍｍで引下げることにより結晶化させた。
を用いた。ルツボに高温維持処理を実施した粉末原料を
充填し、さらにフッ化カリウム試薬を４ｇ添加した。真
空排気した後、精密な温度制御で温度を上昇させ、いっ
たん融解した。カリウム濃度を低減する目的であれば、
上下の発熱体の温度差は大きく設定することが望ましい
が、ここでは、添加したカリウム成分をフッ化カルシウ
ム結晶中に残留させるために温度勾配は８℃／ｃｍと小
さくした。この後、高温帯から低温帯に、１時間あたり
１ｍｍで引下げることにより結晶化させた。
【００４９】こうして得られたフッ化カルシウム結晶か
ら、耐久性テストの試料を作製した。試料は直径５．０
８ｃｍ（２インチ）、厚さ２．５４ｃｍ（１インチ）と
した。厚さの加工精度は±０．０１ｃｍであった。また
平行２面の平行度は３０秒以内であった。さらに、鏡面
研磨は表面粗さＲＭＳ表示で５以下であった。鏡面研磨
を施した試料の表面処理には、有機溶剤による超音波洗
浄と純水によるすすぎ、さらにイソプロピルアルコール
蒸気による乾燥、による表面洗浄処理を実施した。
ら、耐久性テストの試料を作製した。試料は直径５．０
８ｃｍ（２インチ）、厚さ２．５４ｃｍ（１インチ）と
した。厚さの加工精度は±０．０１ｃｍであった。また
平行２面の平行度は３０秒以内であった。さらに、鏡面
研磨は表面粗さＲＭＳ表示で５以下であった。鏡面研磨
を施した試料の表面処理には、有機溶剤による超音波洗
浄と純水によるすすぎ、さらにイソプロピルアルコール
蒸気による乾燥、による表面洗浄処理を実施した。
【００５０】この試料の１４６ｎｍにおける反射含み透
過率を測定した。耐久性テストの光源には中心波長１４
６ｎｍの真空紫外光を用いた。照射装置はウシオ電機
（株）製のヘッドオン型バリア放電ランプであり、照射
光の強度は１５ｍＷ／ｃｍ2である。照射の際には、酸
素による吸収を防ぐため、真空紫外光の光路はすべて窒
素パージした。試料に、真空紫外光を１時間照射した
後、再度１４６ｎｍにおける反射含み透過率を測定し
た。照射前の透過率から照射後の透過率を差し引いた値
が、照射による透過率低下であり、この試料の耐久性テ
ストでは１７．８％であった。また、この試料に含有す
るカリウム成分の濃度を原子吸光分析で定量したところ
２．８ｐｐｍと得られた。
過率を測定した。耐久性テストの光源には中心波長１４
６ｎｍの真空紫外光を用いた。照射装置はウシオ電機
（株）製のヘッドオン型バリア放電ランプであり、照射
光の強度は１５ｍＷ／ｃｍ2である。照射の際には、酸
素による吸収を防ぐため、真空紫外光の光路はすべて窒
素パージした。試料に、真空紫外光を１時間照射した
後、再度１４６ｎｍにおける反射含み透過率を測定し
た。照射前の透過率から照射後の透過率を差し引いた値
が、照射による透過率低下であり、この試料の耐久性テ
ストでは１７．８％であった。また、この試料に含有す
るカリウム成分の濃度を原子吸光分析で定量したところ
２．８ｐｐｍと得られた。
【００５１】さらに、透過率低下量とフッ化カルシウム
結晶中のカリウム含有量との関係を定量的に調べるため
に、結晶化させる際に添加するフッ化カリウム試薬の量
を変化させて、複数の試料を作製した。これらの試料に
ついて耐久性テストとカリウム成分の濃度を定量した。
この結果を図３に示した。真空紫外光を照射した際の透
過率の低下が、フッ化カルシウム結晶に含まれる微量な
カリウム成分によるということが明らかとなった。特に
含有カリウム濃度が０．５ｐｐｍ以下のフッ化カルシウ
ム結晶は、光透過耐久性に非常に優れているため、真空
紫外光を光源とした光リソグラフィー装置の光学レンズ
に使用することが可能となった。 [実施例２]次に、Ｆ2レーザーを光源とする光リソグラ
フィー装置に用いるフッ化カルシウム結晶の製造の好ま
しい例を以下に示す。
結晶中のカリウム含有量との関係を定量的に調べるため
に、結晶化させる際に添加するフッ化カリウム試薬の量
を変化させて、複数の試料を作製した。これらの試料に
ついて耐久性テストとカリウム成分の濃度を定量した。
この結果を図３に示した。真空紫外光を照射した際の透
過率の低下が、フッ化カルシウム結晶に含まれる微量な
カリウム成分によるということが明らかとなった。特に
含有カリウム濃度が０．５ｐｐｍ以下のフッ化カルシウ
ム結晶は、光透過耐久性に非常に優れているため、真空
紫外光を光源とした光リソグラフィー装置の光学レンズ
に使用することが可能となった。 [実施例２]次に、Ｆ2レーザーを光源とする光リソグラ
フィー装置に用いるフッ化カルシウム結晶の製造の好ま
しい例を以下に示す。
【００５２】フッ化カルシウム結晶を製造するにあたっ
て、原料には、含有カリウム濃度が０．３ｐｐｍである
フッ化カルシウム粉末を使用した。粉末原料中のカリウ
ム濃度は、原子吸光分析で定量を実施した。この粉末原
料に対して、高温維持処理を実施した。粉末原料１００
ｋｇを収容容器に収容し、高温維持処理装置内の所定の
位置に設置した。次に真空排気を開始して、３時間後に
真空度が０．００１気圧以下に到達したことを確認し
た。１２００℃まで１時間で昇温し、５時間高温維持し
た後、室温まで３０分間で降温した。粉末原料の温度を
室温付近まで低下させるため１０時間経過させ、真空排
気を解除し、粉末原料を取り出した。
て、原料には、含有カリウム濃度が０．３ｐｐｍである
フッ化カルシウム粉末を使用した。粉末原料中のカリウ
ム濃度は、原子吸光分析で定量を実施した。この粉末原
料に対して、高温維持処理を実施した。粉末原料１００
ｋｇを収容容器に収容し、高温維持処理装置内の所定の
位置に設置した。次に真空排気を開始して、３時間後に
真空度が０．００１気圧以下に到達したことを確認し
た。１２００℃まで１時間で昇温し、５時間高温維持し
た後、室温まで３０分間で降温した。粉末原料の温度を
室温付近まで低下させるため１０時間経過させ、真空排
気を解除し、粉末原料を取り出した。
【００５３】結晶成長の方法には、垂直ブリッジマン法
を用いた。上下２回路の独立した発熱体を用いた。それ
ぞれの発熱体の温度は、放射温度計により計測および制
御可能である。収容容器には高温維持処理を実施した粉
末原料を充填し、真空排気した。１４００℃まで温度を
上昇させ、粉末原料をいったん融解した。上下の発熱体
の温度差は大きく設定することが望ましいため、温度勾
配は１５℃／ｃｍとした。この後、高温帯から低温帯
に、１時間あたり１ｍｍで引下げることにより結晶化さ
せた。
を用いた。上下２回路の独立した発熱体を用いた。それ
ぞれの発熱体の温度は、放射温度計により計測および制
御可能である。収容容器には高温維持処理を実施した粉
末原料を充填し、真空排気した。１４００℃まで温度を
上昇させ、粉末原料をいったん融解した。上下の発熱体
の温度差は大きく設定することが望ましいため、温度勾
配は１５℃／ｃｍとした。この後、高温帯から低温帯
に、１時間あたり１ｍｍで引下げることにより結晶化さ
せた。
【００５４】こうして得られたフッ化カルシウム結晶か
ら分析用試料を採取し含有するカリウム成分の濃度を原
子吸光分析で定量したところ０．０９ｐｐｍであった。
このフッ化カルシウム結晶より光学レンズを作製し、波
長１５７ｎｍの真空紫外光（Ｆ2レーザー）を光源とし
た光リソグラフィー装置の光学レンズとして使用したと
ころ、実用上充分な光透過性及び光透過耐久性が得られ
た。 [実施例３]次に、ＡｒＦエキシマレーザーを光源とする
光リソグラフィー装置に用いるフッ化カルシウム結晶の
製造の好ましい例を以下に示す。
ら分析用試料を採取し含有するカリウム成分の濃度を原
子吸光分析で定量したところ０．０９ｐｐｍであった。
このフッ化カルシウム結晶より光学レンズを作製し、波
長１５７ｎｍの真空紫外光（Ｆ2レーザー）を光源とし
た光リソグラフィー装置の光学レンズとして使用したと
ころ、実用上充分な光透過性及び光透過耐久性が得られ
た。 [実施例３]次に、ＡｒＦエキシマレーザーを光源とする
光リソグラフィー装置に用いるフッ化カルシウム結晶の
製造の好ましい例を以下に示す。
【００５５】フッ化カルシウム結晶を製造するにあたっ
て原料には、含有カリウム濃度が０．３ｐｐｍであるフ
ッ化カルシウム粉末を使用した。粉末原料中のカリウム
濃度は、原子吸光分析で定量を実施した。この粉末原料
に対して、高温維持処理を実施した。粉末原料１００ｋ
ｇを収容容器に収容し、高温維持処理装置内の所定の位
置に設置した。次に真空排気を開始して、３時間後に真
空度が０．００１気圧以下に到達したことを確認した。
１２００℃まで１時間で昇温し、５時間高温維持した
後、室温まで３０分間で降温した。粉末原料の温度を室
温付近まで低下させるため１０時間経過させ、真空排気
を解除し、粉末原料を取り出した。
て原料には、含有カリウム濃度が０．３ｐｐｍであるフ
ッ化カルシウム粉末を使用した。粉末原料中のカリウム
濃度は、原子吸光分析で定量を実施した。この粉末原料
に対して、高温維持処理を実施した。粉末原料１００ｋ
ｇを収容容器に収容し、高温維持処理装置内の所定の位
置に設置した。次に真空排気を開始して、３時間後に真
空度が０．００１気圧以下に到達したことを確認した。
１２００℃まで１時間で昇温し、５時間高温維持した
後、室温まで３０分間で降温した。粉末原料の温度を室
温付近まで低下させるため１０時間経過させ、真空排気
を解除し、粉末原料を取り出した。
【００５６】結晶成長の方法には、垂直ブリッジマン法
を用いた。上下２回路の独立した発熱体を用いた。それ
ぞれの発熱体の温度は、放射温度計により計測および制
御可能である。収容容器には高温維持処理を実施した粉
末原料を充填し、真空排気した。１４００℃まで温度を
上昇させ、粉末原料をいったん融解した。上下の発熱体
の温度差は大きく設定することが望ましいため、温度勾
配は２０℃／ｃｍとした。この後、高温帯から低温帯
に、１時間あたり１ｍｍで引下げることにより結晶化さ
せた。
を用いた。上下２回路の独立した発熱体を用いた。それ
ぞれの発熱体の温度は、放射温度計により計測および制
御可能である。収容容器には高温維持処理を実施した粉
末原料を充填し、真空排気した。１４００℃まで温度を
上昇させ、粉末原料をいったん融解した。上下の発熱体
の温度差は大きく設定することが望ましいため、温度勾
配は２０℃／ｃｍとした。この後、高温帯から低温帯
に、１時間あたり１ｍｍで引下げることにより結晶化さ
せた。
【００５７】こうして得られたフッ化カルシウム結晶か
ら分析用試料を採取し含有するカリウム成分の濃度を原
子吸光分析で定量したところ０．０７ｐｐｍであった。
このフッ化カルシウム結晶より光学レンズを作製し、波
長１９３ｎｍの真空紫外光（ＡｒＦエキシマレーザー）
を光源とした光リソグラフィー装置の光学レンズとして
使用したところ、実用上充分な光透過性及び光透過耐久
性が得られた。
ら分析用試料を採取し含有するカリウム成分の濃度を原
子吸光分析で定量したところ０．０７ｐｐｍであった。
このフッ化カルシウム結晶より光学レンズを作製し、波
長１９３ｎｍの真空紫外光（ＡｒＦエキシマレーザー）
を光源とした光リソグラフィー装置の光学レンズとして
使用したところ、実用上充分な光透過性及び光透過耐久
性が得られた。
【００５８】
【発明の効果】本発明により、真空紫外光において実用
的な光透過性を有する光学レンズが可能となり、真空紫
外光を光源とした光リソグラフィー装置が実現できた。
的な光透過性を有する光学レンズが可能となり、真空紫
外光を光源とした光リソグラフィー装置が実現できた。
【図１】図１は、本発明の実施例１によりカリウム濃度
の低減されたフッ化カルシウム結晶が、真空紫外光の照
射によっても実用的な光透過性を維持することを示した
グラフである。
の低減されたフッ化カルシウム結晶が、真空紫外光の照
射によっても実用的な光透過性を維持することを示した
グラフである。
【図２】図２は、比較例１により得られるカリウム濃度
が高いフッ化カルシウム結晶が、真空紫外光の照射によ
り光透過性が劣化することを示したグラフである。
が高いフッ化カルシウム結晶が、真空紫外光の照射によ
り光透過性が劣化することを示したグラフである。
【図３】図３は、１４６ｎｍ真空紫外光照射による光透
過耐久性テストの結果と、含有カリウム濃度との関係を
示したグラフである。
過耐久性テストの結果と、含有カリウム濃度との関係を
示したグラフである。
【図４】図４は、本発明にかかる光リソグラフィー装置
の概念図である。
の概念図である。
１０ 照明光学系 ２０ レチクルステージ ３０ ウエハステージ ５０ 投影光学系 １００ 光源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 1/02 Ｇ０２Ｂ 1/02 Ｇ０３Ｆ 7/20 ５２１ Ｇ０３Ｆ 7/20 ５２１ // Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｄ
Claims (9)
- 【請求項１】２００ｎｍ以下の特定波長の光を透過する
光透過性光学部材の評価方法であって、光透過性光学部
材の光照射前の透過率を測定する第１の透過率測定工程
と、前記２００ｎｍ以下の特定波長か該波長よりも短い
波長の光を、光透過性光学部材の透過率変化がなくなる
のに充分な時間、照射する光照射工程と、前記透過率変
化がなくなったときの透過率を測定する第２の透過率測
定工程と、第１の透過率と第２の透過率との差すなわち
透過率低下量を求め、該透過率低下量が光透過性光学部
材として使用可能な値であるかを判定する評価工程と、
を含むことを特徴とする光透過性光学部材の評価方法。 - 【請求項２】請求項１に記載の光透過性光学部材の評価
方法であって、前記評価工程において、光透過性光学部
材として使用可能な値が、透過率低下量５％以下である
ことを特徴とする光透過性光学部材の評価方法。 - 【請求項３】２００ｎｍ以下の特定波長の光を透過する
光透過性光学部材であって、前記光学部材は主にカリウ
ム含有量が０．５ｐｐｍ以下のフッ化カルシウム結晶か
らなり、２００ｎｍ以下の特定波長の光を一定時間照射
したときの照射前後の透過率の差が５％以下であること
を特徴とする光透過性光学部材。 - 【請求項４】請求項３に記載の光透過性光学部材におい
て、前記２００ｎｍ以下の特定波長の光が、波長１５７
ｎｍのＦ2レーザー光であることを特徴とする光透過性
光学部材。 - 【請求項５】カリウム含有量が０．５ｐｐｍ以下のフッ
化カルシウム原料を結晶育成用のるつぼ内で溶融した
後、徐々に冷却し結晶を育成させる結晶育成工程と、該
結晶成長して得られたフッ化カルシウム結晶を高温に保
持した後、徐々に冷却する熱処理工程と、を有すること
を特徴とする請求項３に記載の光透過性光学部材を製造
する方法。 - 【請求項６】フッ化カルシウム原料を、８００℃以上１
３００℃以下の範囲内の所定の温度で１時間以上保持し
た後、徐々に冷却し加熱処理品を得る加熱処理工程と、
該加熱処理品を結晶育成用のるつぼ内で溶融した後、徐
々に冷却し結晶を育成させる結晶育成工程と、該結晶成
長して得られたフッ化カルシウム結晶を高温に保持した
後、徐々に冷却する熱処理工程と、を有することを特徴
とする請求項３に記載の光透過性光学部材を製造する方
法。 - 【請求項７】フッ化カルシウム原料を結晶育成用のるつ
ぼ内で溶融した後、固液界面の温度勾配を８℃／ｃｍ以
上２０℃／ｃｍ以下の範囲内に維持しつつ徐々に冷却し
結晶を育成させる結晶育成工程と、該結晶成長して得ら
れたフッ化カルシウム結晶を高温に保持した後、徐々に
冷却する熱処理工程と、を有することを特徴とする請求
項３に記載の光透過性光学部材を製造する方法。 - 【請求項８】投影光学系を用いてマスクのパターン像を
基板上に投影露光する光リソグラフィー装置であって、
２００ｎｍ以下の特定波長の光を露光光としてマスクを
照射する照明光学系と、カリウム含有量が０．５ｐｐｍ
以下のフッ化カルシウム結晶からなり前記特定波長の光
を一定時間照射したときの照射前後の透過率の差が５％
以下である光透過性光学部材を含み、前記マスクのパタ
ーン像を基板上に形成する投影光学系と、を有すること
を特徴とする光リソグラフィー装置。 - 【請求項９】投影光学系を用いてマスクのパターン像を
基板上に投影露光する光リソグラフィー装置であって、
カリウム含有量が０．５ｐｐｍ以下のフッ化カルシウム
結晶からなり前記特定波長の光を一定時間照射したとき
の照射前後の透過率の差が５％以下である光透過性光学
部材を含み、２００ｎｍ以下の特定波長の光を露光光と
してマスクを照射する照明光学系と、前記マスクのパタ
ーン像を基板上に形成する投影光学系と、を有すること
を特徴とする光リソグラフィー装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10252554A JP2000081367A (ja) | 1998-09-07 | 1998-09-07 | 光透過性光学部材、その製造方法、その評価方法、および光リソグラフィー装置 |
| US09/389,462 US6226128B1 (en) | 1998-09-07 | 1999-09-03 | Light-transmitting optical member, manufacturing method thereof, evaluation method therefor, and optical lithography apparatus using the optical member |
| EP99117664A EP0987538A1 (en) | 1998-09-07 | 1999-09-07 | Light-transmitting optical element for optical lithography apparatus |
| US09/791,892 US6320700B2 (en) | 1998-09-07 | 2001-02-26 | Light-transmitting optical member, manufacturing method thereof, evaluation method therefor, and optical lithography apparatus using the optical member |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10252554A JP2000081367A (ja) | 1998-09-07 | 1998-09-07 | 光透過性光学部材、その製造方法、その評価方法、および光リソグラフィー装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000081367A true JP2000081367A (ja) | 2000-03-21 |
Family
ID=17238994
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10252554A Pending JP2000081367A (ja) | 1998-09-07 | 1998-09-07 | 光透過性光学部材、その製造方法、その評価方法、および光リソグラフィー装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6226128B1 (ja) |
| EP (1) | EP0987538A1 (ja) |
| JP (1) | JP2000081367A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003532610A (ja) * | 2000-05-09 | 2003-11-05 | コーニング インコーポレイテッド | フッ化物結晶光学リソグラフィーレンズ素子素材 |
| CN103592265A (zh) * | 2013-11-19 | 2014-02-19 | 南京祥中生物科技有限公司 | 一种生物芯片的透射式扫描方法 |
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| JP3466948B2 (ja) * | 1999-03-11 | 2003-11-17 | キヤノン株式会社 | フッ化物結晶の熱処理方法及び光学部品の作製方法 |
| TW480372B (en) * | 1999-11-05 | 2002-03-21 | Asm Lithography Bv | Lithographic projection apparatus, method of manufacturing a device using the apparatus, and device manufactured according to the method |
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| RU2002121259A (ru) * | 2002-08-12 | 2004-03-20 | Корнинг Инкорпорейтед (US) | Способ обнаружения уровней содержания свинцовой примеси, составляющих менее миллионной доли, в оптическом фторидном кристалле, способ измерения этих уровней, способ изготовления оптического элемента, способ изготовления оптического фторидного кристалла и оптический фторидный кристалл |
| US20040099205A1 (en) * | 2002-09-03 | 2004-05-27 | Qiao Li | Method of growing oriented calcium fluoride single crystals |
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| DE102005044697B4 (de) * | 2005-09-19 | 2011-07-21 | Hellma Materials GmbH & Co. KG, 07745 | Verfahren zur Herstellung von CAF2-Einkristalle mit erhöhter Laserstabilität, CAF2-Einkristalle mit erhöhter Laserstabilität und ihre Verwendung |
| DE102009042989A1 (de) * | 2009-09-25 | 2011-04-21 | Hellma Materials Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Laserstabilität eines optischen Elements |
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| US5045507A (en) | 1990-01-22 | 1991-09-03 | Infrared Fiber Systems, Inc. | In-situ quenched fluoride glasses |
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- 1998-09-07 JP JP10252554A patent/JP2000081367A/ja active Pending
-
1999
- 1999-09-03 US US09/389,462 patent/US6226128B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-07 EP EP99117664A patent/EP0987538A1/en not_active Withdrawn
-
2001
- 2001-02-26 US US09/791,892 patent/US6320700B2/en not_active Expired - Lifetime
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|---|---|
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| EP0987538A1 (en) | 2000-03-22 |
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| US6226128B1 (en) | 2001-05-01 |
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